JPS62183043A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光記録媒体に関し、特に光学的に情報の記録及
び再生か可能であると共にキャッシュカードやクレジッ
トカードあるいはＩＤカードのような携帯型の情報記録
媒体に適した光記録媒体に関する。

［従来の技術］ 従来、携帯型の情報記録媒体としてはキャッシュカード
やクレジットカードのように磁気的に情報の記録及び再
生を行なう方式か一般的に用いられている。

しかし、レーザービーム等により光学的に情報の記録及
び再生を行なう方式では、従来の磁気記録方式に比較す
ると同一面積あたり数千倍の情報密度が容易に達成でき
る。

即ち、従来の情報カードの面積に光学的情報記録を行な
うことにより、数Ｍバイトの記憶容量を付与することが
可能であり、この結果情報カードの適用範囲や形態の拡
張が可能となる。

一方、　ＩＣカートとの比較ては光情報記録媒体はＩｃ
内のＩＣカードに比べ低コストで供給できる可能性が大
きいことが利点である。

しかし、光情報記録媒体の従来例では光反射層として金
属を真空蒸着する例が多い０例えば特開昭５６−１５４
０８７号公報、特開昭５６−１５４０８６号公報、特開
昭５７−１０９６９６号公報、特開昭５８−６２０９：
１号公報、特開昭５８−６２０９４号公報等にはＴｅ等
の金属を真゛空蒸若するタイプの光情報記録媒体が報告
されている。しかし、この真空蒸着による方法は連続生
産が困難て大量生産には不向でありコストが高い。

また、光情報記録媒体の従来例として、例えば特開昭５
９−８２６４５号公報等には有機色素やｙ１華性染料を
塗布し、光照射部分にピットを形成する例か報告されて
いる。しかし、これらの方法ては書き込み時の感度か悪
く大出力レーザーか必要となり、半導体レーザー等の低
出力のレーザーによる書き込みには不向である。

さらに上記の例では、レーザー照射部分か熱によって融
点以上になり、その一部分は蒸発するが大部分は表面張
力によりピットの周辺に移動し、ふちがちり上る現象、
所謂リムが起こり、これが再生蒔のＳ／Ｎ比の値を低下
させ、信頼性を落す原因となっていた。

［発明か解決しようとする問題点］ 本発明の目的は、上述の如き従来の欠点を解決した光記
録媒体を提供するものである。さらに本発明は記録感度
か高く、またラミネートによっても感度が低下せず、Ｓ
／Ｎ比の値の良好な記録再生情報の信頼性の高い光記録
媒体を提供するものである。

［問題点を解決するための手段］ 即ち、本発明は光エネルギーを受けて溶融する低融点物
質層と、該溶融した低融点物質か侵透可能な多孔質層と
からなる積層を有することを特徴とする光記録媒体であ
る。

以下、本発明の詳細な説明Ｊる。

第１図は本発明の光記録媒体の１例を示す断ｉｉ’＋；
図である。１ｉＪ第１図において、本発明の光記録媒体
は光エネルギーを受けて溶融する低融点物質層３と、該
溶融した低融点物質か浸透可能な多孔質層２とからなる
積層を基板１上に設けてなるものである。

第２図は本発明の光記録媒体の他の例を示す断面図であ
り、低融点物質層３と多孔質層２とからなる積層を形成
し、前記低融点物質層３ど反射側の多孔質層２に隣接し
てＡＩ等の光反射薄膜からなる反射層４を設けて基板ｌ
上に積層してなるものである。

第３図はさらに他の例を示すものであり、多孔質層２に
強度を有する材質で、十分に厚いものを使用し、基板と
して用いた光記録媒体を示すものである。

また、上記の各低融点物質層３の外面を保護層で被覆す
ることもできる。

本発明において、光エネルギーを受けて溶融する低融点
物質層を形成する低融点物質には融点が３００℃以下、
好ましくは５０〜２５０°Ｃのものが用いられ、具体的
には低融点金属またはその合金、有機金属化合物、色素
、高分子等が挙げられる。

低融点金属としては、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐｂ、
Ｓｅ等が挙げられ、またこれらの金属の合金としては２
種以上を組合せて成る低融点合金が用いられる。例えば
Ｓｎ：Ｂｉ：Ｐｂ：Ｃｄ　＝　１：２：４：ｌ（’１ｆ
ｆｉ比）で混合した合金は融点か６０〜７０°Ｃ付近で
あり、低い出力のレーザービームでも溶融せしめること
か可１Ｆａである。

また、有機金属化合物としては、融点３００℃以下の低
融点の有機の金属化合物か用いられ１例えば融点８６℃
の（Ｃ６１１５）２Ｓｉ　（ＣＮ）２、融点５６°Ｃの
（Ｃ６１１ｓ）：＋ＰｂＣミＣ（Ｃ６Ｉ＋　５＞　、ま
た融点１１５℃の（Ｃ６１１５）、ｌ１ｂＳｂ（Ｃ６１
１５）２等か好ましい。

色素は、特に限定されず低融点のものてあれば如何なる
ものでも適用可能であるか、その具体例を示すとアニリ
ン系色素、ナフトール系色素、ピリジン系色素、オキサ
ジン系色素等が挙げられる。

高分子としては低融点のものであればよく、例えばパラ
フィン、ポリスチレン、ポリエステル等が適用できる。

低融点物質層の厚さは０．Ｏ１〜ｉｏｏμｍ、好ましく
は０．１〜ｌＯル履か望ましく、０．１延ｍ未満てはバ
ーコーターやロールコータ−等のように連続生産に適し
た塗工方法による膜厚の制御か困難てあり、　１００　
ｇ　ｔｍをこえると感度か低下する。

一方、本発明に用いる溶融した低融ξ、゛う、物質かス
、声透可能な多孔質層は空隙率か高く、また孔の大きさ
か記録ピットの大きさと比べて十分小さい多孔質の物質
から構成される。

このような条件を満足する多孔質層を形成するには、下
記の方法により得られる多孔質■りを用いることか９！
ましい。

（１）高分子材料をキャスティング等の方法て成膜しつ
つ膨潤剤を作用させて得られるポーラスな膜。

（２）金属、例えばテルルやアルミニウム等またはこれ
らの硫化物や酸化物等の微粉末を焼結して得られるポー
ラスな膜。

（３）非結晶質の無機物、例えばガラス等に発泡剤を作
用させて得られるポーラスな膜。

（４）高分子材料に発泡剤１例えばアゾジカルボンアミ
ド、ジニトロペンタメチレンテトラミン等を作用させて
得られるポーラスな膜。

〔５）ラテックス膜に溶剤を作用させて得られるポーラ
スな膜。但しラテックス膜には例えばＰＶＡ−アクリロ
ニトリル系グラフト重合膜、ＰＶＡ−アクリル系クラフ
ト重合膜、アクリル酸エチル−メタクリル酸メチル共重
合膜等を用いることかできる。また溶剤としては例えば
水、トルエン、アセトン、ベンゼン、メチルエチルケト
ン等を用いることがてきる。

（６）ジアゾ化合物膜、例えばｐ−シアソエチルアミノ
ヘンゼンクロリト・ＺｎＣｌ２．４−モルフオリノベン
ゼンジアゾニウムクロリト・ＺｎＣＬ’１９に光処理を
施して得られるポーラスな膜。

多孔質層の厚さは０．１〜１０００　ｇ　ｒｎ　、好ま
しくは１〜１００ルｌか望ましく、該低融点物質層の１
〜１０倍の厚さが望ましい。

また多孔質層を基板として使用する場合には厚みのある
ものが好ましく、通常厚さ０．１ｍｍ以上あればよい。

本発明において多孔質層および低融点物質層はバーコー
ターやロールコータ−、ドクターブレードコーター等に
よる成膜法により作製することがてきる。

本発明において、基板には通常の記録媒体の基板として
使用されているものであれば如何なるものでも用いるこ
とができ、例えばガラス板、ポリカーボネート、アクリ
ル等のプラスチック板やプラスチックフィルム等が挙げ
られる。

本発明において、レーザービーム等による光学的な情報
の記録及び再生は低融点物質層で行なわれ、記録時に、
レーザービーム照射部分の透過率及び反射率を変化させ
再生時にこれらを光学的に検出する。

第４図は第１図の光記録媒体に情報を記録した状態を示
す断面図であり、レーザービームを照射して記録ピット
５を形成した状態を示すものである。

同第４図において、記録ピット５か形成された部分に存
在していた低融点物質はレーザービームの照射により溶
融し、下層の多孔質層２中に侵透して行くために低融点
物質層に形成された記録ピット５の周縁には凸状の突起
が形成されることかない。

［作用］ 本発明の光記録媒体は、記録層か低融点物質層よりなる
ため記録感度か良く、低出力レーザーによる記録が可能
てあり、該溶融した低融点物質かその下層の多孔質内に
浸透するため、記録ピット周辺の盛り上がりか起こらず
Ｓ／Ｎ比の値か良好となり、情報の信頼性が高く、さら
に低融点物質層及び多孔質層をロールコート、ドクター
ブレードコート、バーコード塗布等により形成すること
ができるため、大量生産が容易で低コストの供給か可能
である。

［実施例］ 次に実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。

実施例Ｉ Ｎ−ビニルカルバゾールポリマーをバーコーター塗布に
より、たて　５３．９８ｃｍ、よこ　８５．７２ｃｍ、
厚さ０．：１５ｍｍのポリエチレンテレフタレート基板
（東し製、商品名ルミラー）上に成膜し、キシレン溶液
中に浸漬した後、乾燥させて厚さ３ｇｍの多孔質膜を得
た。

次に、ローダミン６　Ｇ（ＩｌＡＳＦ製）とカーボンフ
ラッフ（コロンビアカーボン製）を重量比１０：１の割
合て混合して５０％エタノール溶液としたものを、該多
孔質膜上にバーコーター塗布し、乾燥時に３ｇ＋ｎの膜
厚を形成した。

この記録層に半導体レーザーを波長８：ｌＯｎｍ、ビー
ム径７　ｇｍ　、記録部とてのパワー７ｍＷて照射を行
なったところ、ビーム照射部分のみ半導体レーザー光の
反射光量か減少し、光学的な記録、再生か可能てあった
。反射光量は記録前後て４：１の良好なコントラストを
得た。該ビーム照射部分を走査電子顕微鏡て観察したと
ころピ、ント周辺部の盛り上がりは見られず、またピ・
シト径はＦ３ｇｔｎであった。

実施例ま たて　５３．９８ｃｍ、よこ　８５．７２ｃｍ、厚さ０
．５ｍｍの多孔質ガラス（コーニンク製、１７９００ハ
イコールガラス）基板を用意した。次に、ＮＫ−２０１
４（日本感光ＳＪ）をポリビニルアルコール中にｇＬφ
比ｌ、５の割合て分散させ、４０％メタノール溶液とし
たものを、該ガラス基板に：１１０００ｒｐ　、２分間
の条件下でスピンナー塗布し、１．５　）ｔｔａの膜厚
を得た。

この記録媒体に実施例１と同様の条件でレーザービーム
を照射したところ、反射光量は記録前後て５：１となっ
た。

該ビーム照射部分を走査電子ＷＪ微鏡て観察したところ
ビット周辺部の盛り−１−かりは見られず、またピット
経は６ル巾であった。

［発明の効果コ 本発明の光記録媒体は、低融点物質層と、溶融した低融
点物質が浸透１１Ｔ能な多孔質層とからなる積層を有す
ることによって、レーザービームを照射したとき、低融
点物質層のビット近辺の盛り上がりを防ぎ、情報の信頼
性を向上し、また低融点物質の１択により低出力レーザ
ーによる記録かｏｆ能となり、さらに連続生産か可能で
あるため低コストで供給できる等の利点かある。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は各々本発明の光記録媒体の実施態様を
示す断面図、第４図は第１図の光記録媒体に情報を記録
した状態を示す断面図である。 ｌ・・・・・・基板　　　　　　２・・・・・・多孔質
層３・・・・・・低融点物質層　　４・−・・・・反射
層５・・・・・・記録ピット

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光エネルギーを受けて溶融する低融点物質層と、該溶融
   した低融点物質が浸透可能な多孔質層とからなる積層を
   有することを特徴とする光記録媒体。