JPS6272636A - ジメチルエ−テル、酢酸メチルまたはメタノ−ルのカルボニル化の際得られたカルボニル化生成物からヨウ素およびその化合物を分離する方法 - Google Patents

ジメチルエ−テル、酢酸メチルまたはメタノ−ルのカルボニル化の際得られたカルボニル化生成物からヨウ素およびその化合物を分離する方法

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JPS6272636A
JPS6272636A JP61225064A JP22506486A JPS6272636A JP S6272636 A JPS6272636 A JP S6272636A JP 61225064 A JP61225064 A JP 61225064A JP 22506486 A JP22506486 A JP 22506486A JP S6272636 A JPS6272636 A JP S6272636A
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/42Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C51/487Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to chemical modification
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/54Preparation of carboxylic acid anhydrides
    • C07C51/573Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はヨウ素含有触媒の存在での、ジメチルエーテル
、酢酸メチルまたはメタノールのカルボニル化の際得ら
れたカルボニル化生成物酢酸、無水酢酸またはエチリデ
ンジアセテートからヨウ素およびその化合物を分離する
方法に関し、その際カルボニル化生成物全不純にする総
ヨウ素量t−20ppbより少ないヨウ素含量に減少す
る友めに、カルボニル化生成vIJ’に50〜2000
Cで、触媒として元素の周期表第■族の貴金属少なくと
も1種の存在で水素で処理し、触媒から分1雅する。
従来の技術 この種の方法は既に西ドイツ国特許第 3331548号明細書から公知である。この方法では
触媒がその活性で著しく急速に衰え、そこで満足できる
ヨウ素分離のさらなる達成のために処理塩度および/ま
たは触媒量をさらに高めねばならない。この手段はヨウ
素で不純にされた無水酢酸のH2−処理の際、副生成物
、たとえばアセトアルデヒド、酢酸およびエチリデンジ
アセテートの所望でない形成に導く。
発明が解決しようとする問題点 本発明は西ドイツ国特許第3331548号明細書の方
法の挙げられた欠点を削除することを可能にする、方法
全記載する。
問題点全解決するための手段 驚異的にも反応系/貴金属への一酸化炭素の少量の添加
により、たとえばアセトアルデヒド、酢酸およびエチリ
デンジアセテートのような副生成物の形成を強く抑圧し
、触媒の著しくより長い作用全達成することに成功する
。この方法ではまた元素のような、結合された形の種類
でのヨウ素を精製すべきカルボニル化生成物から方法技
術的に容易な方法で分離する。
詳しくは、本発明の方法はカルボニル化生成物を水素お
よび一酸化炭素から成る混合物で処理すること全特徴と
する。カルボニル化生成物1モル毎に有利に水素および
一酸化炭素各々0.001〜1モルを使用する。
西ドイツ国特許第3331548号明細書と同様に本発
明の方法でも有利におよび選択的にa)100ppm、
J:り少ない全ヨウ素’kWするカルボニル化生成物全
使用し、 b)貴金属全支持体上微細な分配の形で使用し、C)カ
ルボニル化生成物の処理? 0.2〜6時間実施し、 d)カルボニル化生成物の処理全0.5〜10バールの
圧力下に実施し、 e)使用されたカルボニル化生成物に対し、責合a o
、o o i〜1質量%全触媒として使用する。
ヨウ素含有不純物の定着のために、有利に全カルざニル
化工程の最後の精製工程から除去された、およびこれま
で未処理の生成物に、有利に触媒支持体上に微細に分割
されて存在する、貴金属全添加する。支持体の貴金属に
定着されたヨウ素含有化合物は有利に、触媒の濾別によ
り純生成物から分離される。その負荷度に応じて、貴金
属は再び新たな使用に導き戻されるか、新たな触媒に代
えられる。
もちろんヨウ素含有不純物の除去のために必要な貴金属
触媒および水素/−酸°化炭素混合物は、また、高沸点
残渣ないしは低沸点成分がカルボニル化生成物から除去
される、最後のないしは最後から2番目の精製工程前に
添加される。
本発明の方法により、処理されたカルボニル化生成物中
の全ヨウ素含量は< 5 ppb (=カルボニル化生
成物10億(109) 重量部当りヨウ素5重量部)の
検出限界より下に低下する。
触媒の製造は本発明の対象でない。選択された支持体全
最初に貴金属塩溶液に浸し、引続きアンモニア性のヒド
ラジン溶液で処理することにより、有利に貴金属を特に
微細に分割されたおよび触媒作用性の形で支持体材料上
に塗布する。その際貴金属が非常に微細に分割され良形
で、支持体上に沈殿し、中性点までの洗浄および引続く
乾燥後、使用準備する。高められた塩度で水素を用いる
還元による貴金属の遊離も可能である。
貴金属の支持体としてと9わけケイ酸または水酸化アル
ミニウム全使用する。支持体の粒径は使用種類、たとえ
ば固定床−または流動床触媒として、に応じて変化し、
それに応じてo、oi〜101mである。同じようにそ
の内部表面(BBTKヨり1i4i定1jl 〜700
 m27g)範囲を包含する。支持体上に塗布された貴
金属の濃度の変化幅は有利にしかし0.5〜5質量%に
保たれる。貴金属触媒からの、カルボニル化生成物の分
離は特に濾過により行う。
使用される水素および一酸化炭素は有利に純粋な形で使
用する。双方のガスはしかしまたたとえば窒素、アルゴ
ンおよび他の不活性成分により不純にされていてよい。
貴金属としてルテニウム、オスミニウム、イリジウム、
特にしかしロジウム、パラジウムおよび白金が適してい
る。本発明の方法は不連続的作業方法でも連続的作業方
法でも実施できる。
全ヨウ素の分析的確定はセリウムの測光末端分析を用い
て、ヒ累−およびセリウムイオン間のヨウ素触媒反応に
より行う。
実施例 例  1 総ヨウ素2 ppmで不純にされた、酢酸(19,1質
量係)、無水酢酸(80,7質量%)およびエチリデン
ジアセテート(0,2質量%)から成るカルボニル化生
成物200gに、5i02109(粒径0.01〜0.
2 ays、BET−表面350 m2/g)上に微細
に分割されて塗布された、パラジウムo、isg’e加
え、水素50容貴%および一酸化炭素50容量%から成
る混合物ff18 l/hで1200Gの温度で吹き込
んだ。5時間の吹込み時間後、水素−/−酸化炭素混合
物の供給を中断し、カルボニル化生成物を濾過および分
析する。< 5 ppbの総ヨウ素値が見出され、これ
から> 99.8%のヨウ素分離が算出される。ガスク
ロマトグラフィー(GC)−分析は酢酸19.15質量
%、無水酢酸80.6質量係およびエテリデンジアセテ
ー) 0.25質量係で、処理された生成物の本来の組
成の重要でないずれを示す。無水酢酸の収率損失は0.
1%のみである。
例  2 例1で使用されるP(1−触媒″fI:2[10時間の
作業時間にわたって、全ヨウ素2 ppmで不純にされ
る、酢酸19.1質−ji%、無水酢酸80.7質量係
およびエチリデンジアセテート0.2質量係の組成のカ
ルボニに化生成物あわせて8 kgならびに水素5 [
] Vo1%および一酸化炭素5 Q VOI係から成
るガス混合物81/hと120°Cで撹拌する。処理お
よび濾過されたカルボニル化生成物全100時間のまた
200時間の作業時間抜分析する。その際、七のつと<
 5 ppbの全ヨウ素値が生じ、これは> 99.8
係のヨウ素除去に相当する。aC−記載により確定され
た組成は酢酸19.15質量係、無水酢酸80.6質量
%およびエチリデンジアセテート0.25質量係で、全
作業時間にわたって、一定の値全示す。
例6(比較例) 総ヨウ素2 ppmで不純にされた、酢酸(19−1質
量%)、無水酢酸(80−7゛質量係〕およびエチリデ
ンジアセテート(0,2質量係)から成るカルボニル化
混会物200gに5iQ2(粒径0.01〜0.2ax
XBIT−表面350−”/、9)10g上に分割され
て貼9つけられたパラジウム0.159全加え、4 l
/h水累水素20°Cの温度で吹き込む。5時間の吹込
み時間後水素供給を中止し、カルボニル化生成物全濾過
および分析する。< 5 ppbの総ヨウ素値が見出さ
れ、これから> 99.8%のヨウ累分離全算出する。
GC−分析はしかし、酢酸20.0質量係、無水酢酸7
7.7質量係およびエチリデンジアセテート2.6質量
係で、無水酢酸言置の減少および酢酸−およびエチリデ
ンジアセテート−含量の増加およびそれにより本来の組
成のずれを示す。
無水酢酸の収率損失はこの処理時間後3.0%である。
例4(比較例) 例3で使用されたPd−触媒全200時間の作業時間に
わたって、総ヨウ素2 ppmで不純にされている、組
成酢酸19.1質量係、無水酢酸80.7質量係および
エチリデンジアセテート0.2質量係のカルボニル化生
成物あわせて8 kgならびに水素41/hと120°
Cの温度で撹拌する。処理および濾過され友カルボニル
化生成物を100および200時間の作業時間抜分析す
る。その際既に100時間の作業時間後ヨウ素含量は8
0%の除去割合に相当して、0.4ppmだけに下がる
。より良いヨウ素除去の達成のために従って、100時
間の作業時間後、反応器中の温度を160℃に高める。
これは96.5%のヨウ素除去に相当して、70ppb
の値までの、反応生成物中のヨウ素含量の減少を生じる
さらに100時間の作業時間後(200時間の全試験時
間に相当)試験を終了し、濾過された生成物全分析する
。この時間後のヨウ累含量が、85係のヨウ素除去に相
当して、2ppmから0.3 ppmに減少する一方、
GC−分析は使用されるカルボニル化生成物の明らかな
変化金示す。
組成は酢酸20.5質量係、無水酢酸76.0質量係、
エチリデンジアセテート6.5質量係およびアセトアル
デヒド600 ppmである。この処理方法後の無水物
の損失は、使用に関して4.7係である。
例  5 0.6 Ppm総ヨウ素で不純にされ友、無水酢酸20
0 gに、シリカゲル(粒径0.01〜0.2 mW、
BET−表面580rrL2/g)上に微細ニ分配すし
て貼合されているパラジウム0.15.1−加え、10
1/hで水素95 Vo1%および一酸化炭゛累5 V
o1%から成る混合物’1ioo’cの温度で吹き込む
。6時間の吹込み時間後、無水酢酸を触媒、から濾別お
よび分析する。< 5 ppbの見出されたヨウ素値か
ら> 99.2%のヨウ素分離を算出する。G(’−分
析により無水酢酸中、たとえばエチリデンジアセテート
のような副生放物形成は確定されない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ヨウ素含有触媒の存在で、ジメチルエーテル、酢酸
    メチルまたはメタノールのカルボニル化の際得られたカ
    ルボニル化生成物酢酸、無水酢酸またはエチリデンジア
    セテートからヨウ素およびその化合物を分離する方法、
    その際カルボニル化生成物を不純にする総ヨウ素の量を
    ヨウ素含量20ppbより下に減少するために、カルボ
    ニル化生成物を水素を用いて、50〜200℃の温度で
    、触媒として元素の周期表第VIII族からの貴金属少なく
    とも1種の存在で処理し、触媒から分離する、において
    、カルボニル化生成物を水素および一酸化炭素から成る
    混合物で処理することを特徴とする、ジメチルエーテル
    、酢酸メチルまたはメタノールのカルボニル化の際得ら
    れたカルボニル生成物からヨウ素およびその化合物を分
    離する方法。 2、カルボニル化生成物1モル毎に水素および一酸化炭
    素0.001〜1モルずつを使用する特許請求の範囲第
    1項記載の方法。
JP61225064A 1985-09-25 1986-09-25 ジメチルエ−テル、酢酸メチルまたはメタノ−ルのカルボニル化の際得られたカルボニル化生成物からヨウ素およびその化合物を分離する方法 Expired - Lifetime JPH0825929B2 (ja)

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DE3534070A1 (de) 1987-04-02
AU585647B2 (en) 1989-06-22
EP0217182A1 (de) 1987-04-08
BR8604600A (pt) 1987-05-26
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