JPH10168031A - ジアセトキシブテンの製造方法 - Google Patents
ジアセトキシブテンの製造方法Info
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- JPH10168031A JPH10168031A JP8329475A JP32947596A JPH10168031A JP H10168031 A JPH10168031 A JP H10168031A JP 8329475 A JP8329475 A JP 8329475A JP 32947596 A JP32947596 A JP 32947596A JP H10168031 A JPH10168031 A JP H10168031A
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- acetic acid
- diacetoxybutene
- monoacetoxybutene
- reaction
- catalyst
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アセトキシ化反応において、回収酢酸を用い
ても触媒活性の低下なしに長期間安定的に反応を行うこ
とができるジアセトキシブテンの製造方法の提供。 【解決手段】 貴金属系触媒の存在下、ブタジエンを酢
酸及び酸素と反応させてジアセトキシブテンを製造する
方法において、アセトキシ化反応に循環再使用される酢
酸中のモノアセトキシブテンの含有量が２．５重量％以
下に調節する。
ても触媒活性の低下なしに長期間安定的に反応を行うこ
とができるジアセトキシブテンの製造方法の提供。 【解決手段】 貴金属系触媒の存在下、ブタジエンを酢
酸及び酸素と反応させてジアセトキシブテンを製造する
方法において、アセトキシ化反応に循環再使用される酢
酸中のモノアセトキシブテンの含有量が２．５重量％以
下に調節する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ジアセトキシブテ
ンの製造方法に関する。詳しくは、ブタジエンをアセト
キシ化してジアセトキシブテンを製造する方法の改良に
関する。ジアセトキシブテンは、ポリウレタン等の原料
である１，４−ブタンジオール及び高性能溶剤であるテ
トラヒドロフランの重要な中間体である。
ンの製造方法に関する。詳しくは、ブタジエンをアセト
キシ化してジアセトキシブテンを製造する方法の改良に
関する。ジアセトキシブテンは、ポリウレタン等の原料
である１，４−ブタンジオール及び高性能溶剤であるテ
トラヒドロフランの重要な中間体である。
【０００２】
【従来の技術】１，４−ブタンジオールの中間体である
ジアセトキシブテンは、貴金属系触媒の存在下、ブタジ
エン、酢酸及び酸素を反応させて製造される（特開昭５
２−７９０７号公報等）。得られたジアセトキシブテン
は、次いでパラジウム系又はニッケル系触媒等を用いて
水添されてジアセトキシブタンとなり、更に加水分解さ
れてブタンジオールとなる（特開昭５２−１３３９１２
号公報等）。
ジアセトキシブテンは、貴金属系触媒の存在下、ブタジ
エン、酢酸及び酸素を反応させて製造される（特開昭５
２−７９０７号公報等）。得られたジアセトキシブテン
は、次いでパラジウム系又はニッケル系触媒等を用いて
水添されてジアセトキシブタンとなり、更に加水分解さ
れてブタンジオールとなる（特開昭５２−１３３９１２
号公報等）。
【０００３】このブタジエンを原料とする方法では、工
程中で多量の酢酸及び水を使用し、且つ副生するため、
製品純度を保持しながら、これらを回収してリサイクル
する各種の提案がなされており（上記各公報参照）、こ
れらの方法では、通常、目的物と副生酢酸との分離は蒸
留によりなされている。即ち、アセトキシ化反応生成物
は、未反応ブタジエン等の脱ガス処理した後、第１蒸留
塔で、水、酢酸を塔頂から留去し塔底液としてジアセト
キシブテンを含む成分を得ており、ジアセトキシブタン
を加水分解して得られる反応生成物は、水と酢酸及び他
の軽沸物を留去させた塔底液としてブタンジオールを含
む成分を得ている。
程中で多量の酢酸及び水を使用し、且つ副生するため、
製品純度を保持しながら、これらを回収してリサイクル
する各種の提案がなされており（上記各公報参照）、こ
れらの方法では、通常、目的物と副生酢酸との分離は蒸
留によりなされている。即ち、アセトキシ化反応生成物
は、未反応ブタジエン等の脱ガス処理した後、第１蒸留
塔で、水、酢酸を塔頂から留去し塔底液としてジアセト
キシブテンを含む成分を得ており、ジアセトキシブタン
を加水分解して得られる反応生成物は、水と酢酸及び他
の軽沸物を留去させた塔底液としてブタンジオールを含
む成分を得ている。
【０００４】そして、これらの分離された水、酢酸留分
は酢酸回収工程に送られ、酢酸ブチル等を共沸剤とした
共沸蒸留によって脱水すると同時に、含まれる軽沸物を
分離し、塔底より酢酸を回収してアセトキシ化工程にリ
サイクルしている。一方、回収酢酸中に含まれるある種
の不純物がこの反応を阻害することが従来から知られて
いる。例えば特開昭５６−７１０４０号公報には、回収
酢酸中のフラン、アクロレインの濃度がある量を越える
と触媒活性が急激に低下すると述べられており、また、
特開平８−８１４１３号公報には、水分が反応速度を低
下させると述べられている。
は酢酸回収工程に送られ、酢酸ブチル等を共沸剤とした
共沸蒸留によって脱水すると同時に、含まれる軽沸物を
分離し、塔底より酢酸を回収してアセトキシ化工程にリ
サイクルしている。一方、回収酢酸中に含まれるある種
の不純物がこの反応を阻害することが従来から知られて
いる。例えば特開昭５６−７１０４０号公報には、回収
酢酸中のフラン、アクロレインの濃度がある量を越える
と触媒活性が急激に低下すると述べられており、また、
特開平８−８１４１３号公報には、水分が反応速度を低
下させると述べられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、回収酢
酸中のこれらの不純物を除去しても、長期間の運転にお
いて、なお、触媒活性が低下するという問題がある。本
発明の課題は、アセトキシ化工程に回収酢酸を用いても
長期間の運転において触媒活性の低下を抑制することが
できる改良されたアセトキシ化方法を提供することにあ
る。
酸中のこれらの不純物を除去しても、長期間の運転にお
いて、なお、触媒活性が低下するという問題がある。本
発明の課題は、アセトキシ化工程に回収酢酸を用いても
長期間の運転において触媒活性の低下を抑制することが
できる改良されたアセトキシ化方法を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、アセトキシ化工程
に循環再使用される酢酸中に蓄積される不純物の中、モ
ノアセトキシブテンの含有量を２．５重量％以下に調節
することにより、長期間の運転においても触媒活性の低
下を防止できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
を解決するために鋭意検討した結果、アセトキシ化工程
に循環再使用される酢酸中に蓄積される不純物の中、モ
ノアセトキシブテンの含有量を２．５重量％以下に調節
することにより、長期間の運転においても触媒活性の低
下を防止できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【０００７】即ち、本発明は、貴金属系触媒の存在下、
ブタジエンを酢酸及び酸素と反応させてジアセトキシブ
テンを製造する方法において、アセトキシ化反応に循環
再使用される酢酸中のモノアセトキシブテンの含有量が
２．５重量％以下であることを特徴とするジアセトキシ
ブテンの製造方法、にある。以下、本発明について詳細
に説明する。
ブタジエンを酢酸及び酸素と反応させてジアセトキシブ
テンを製造する方法において、アセトキシ化反応に循環
再使用される酢酸中のモノアセトキシブテンの含有量が
２．５重量％以下であることを特徴とするジアセトキシ
ブテンの製造方法、にある。以下、本発明について詳細
に説明する。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の方法においては、加水分
解工程における副生酢酸を含むアセトキシ化反応に循環
再使用される酢酸中のモノアセトキシブテンの含有量を
２．５重量％以下とすることの他は、従来公知の、ブタ
ジエンを酢酸及び酸素と反応させてジアセトキシブテン
を得、次いで水添反応させて得られるジアセトキシブタ
ンを加水分解してブタンジオールを得る方法が適宜採用
される。
解工程における副生酢酸を含むアセトキシ化反応に循環
再使用される酢酸中のモノアセトキシブテンの含有量を
２．５重量％以下とすることの他は、従来公知の、ブタ
ジエンを酢酸及び酸素と反応させてジアセトキシブテン
を得、次いで水添反応させて得られるジアセトキシブタ
ンを加水分解してブタンジオールを得る方法が適宜採用
される。
【０００９】アセトキシ化反応は、ブタジエン、酢酸、
及び分子状酸素を、パラジウム系触媒の存在下、反応さ
せる公知の方法により行われる。パラジウム系触媒とし
ては、パラジウム金属又はその塩（例えば、塩化パラジ
ウム、硝酸パラジウム、酢酸パラジウム等の無機又は有
機酸塩）を単独で、或いは、助触媒としてビスマス、セ
レン、アンチモン、テルル、銅等の金属又はその塩（例
えば、酸化ビスマス、セレン酸、酸化テルル、塩化アン
チモン、塩化銅等）を組み合わせて用いられる。触媒
は、シリカ、アルミナ、活性炭等の担体に担持させて用
いることが好ましく、担持触媒中の触媒金属量は、通
常、パラジウム金属が０．１〜２０重量％、他の助触媒
金属を使用する場合は当該金属が０．０１〜３０重量％
の範囲で選定される。
及び分子状酸素を、パラジウム系触媒の存在下、反応さ
せる公知の方法により行われる。パラジウム系触媒とし
ては、パラジウム金属又はその塩（例えば、塩化パラジ
ウム、硝酸パラジウム、酢酸パラジウム等の無機又は有
機酸塩）を単独で、或いは、助触媒としてビスマス、セ
レン、アンチモン、テルル、銅等の金属又はその塩（例
えば、酸化ビスマス、セレン酸、酸化テルル、塩化アン
チモン、塩化銅等）を組み合わせて用いられる。触媒
は、シリカ、アルミナ、活性炭等の担体に担持させて用
いることが好ましく、担持触媒中の触媒金属量は、通
常、パラジウム金属が０．１〜２０重量％、他の助触媒
金属を使用する場合は当該金属が０．０１〜３０重量％
の範囲で選定される。
【００１０】アセトキシ化反応は、公知の固定床方式、
流動床方式、触媒懸濁方式等の任意の方法で実施され、
反応は４０〜１８０℃、好ましくは６０〜１５０℃の温
度範囲で、常圧以上、通常、３００ｋｇ／ｃｍ2 （２
９．４ＭＰａ）以下、好ましくは３０〜１５０ｋｇ／ｃ
ｍ2 （２．９４〜１４．７ＭＰａ）の圧力下で実施され
る。
流動床方式、触媒懸濁方式等の任意の方法で実施され、
反応は４０〜１８０℃、好ましくは６０〜１５０℃の温
度範囲で、常圧以上、通常、３００ｋｇ／ｃｍ2 （２
９．４ＭＰａ）以下、好ましくは３０〜１５０ｋｇ／ｃ
ｍ2 （２．９４〜１４．７ＭＰａ）の圧力下で実施され
る。
【００１１】このようにして得られるアセトキシ化の反
応生成物には、未反応のブタジエン等が含まれているの
で、脱ガス処理した後、蒸留してジアセトキシブテンを
得るのが一般的であり、通常、第１蒸留塔で、水、酢
酸、モノアセトキシブテン等を塔頂から留去し、その塔
底液を第２蒸留塔に供給し、塔頂からジアセトキシブテ
ンを得、ジアセトキオクタジエンを含む高沸物を塔底か
ら抜き出す。
応生成物には、未反応のブタジエン等が含まれているの
で、脱ガス処理した後、蒸留してジアセトキシブテンを
得るのが一般的であり、通常、第１蒸留塔で、水、酢
酸、モノアセトキシブテン等を塔頂から留去し、その塔
底液を第２蒸留塔に供給し、塔頂からジアセトキシブテ
ンを得、ジアセトキオクタジエンを含む高沸物を塔底か
ら抜き出す。
【００１２】第１蒸留塔は、通常、理論段４〜１０段
で、塔頂圧力３０〜３００ｍｍＨｇ（４〜４０ｋＰ
ａ）、塔底温度１９０℃以下、還流比０〜０．１で操作
され、また、第２蒸留塔は、理論段通常、１０〜１５段
で、塔頂圧力２〜１００ｍｍＨｇ（０．３〜１３．３ｋ
Ｐａ）、塔底温度１９０℃以下、還流比０〜１で操作さ
れる。
で、塔頂圧力３０〜３００ｍｍＨｇ（４〜４０ｋＰ
ａ）、塔底温度１９０℃以下、還流比０〜０．１で操作
され、また、第２蒸留塔は、理論段通常、１０〜１５段
で、塔頂圧力２〜１００ｍｍＨｇ（０．３〜１３．３ｋ
Ｐａ）、塔底温度１９０℃以下、還流比０〜１で操作さ
れる。
【００１３】第１蒸留塔の塔頂から回収される水、酢酸
を主成分とする留分は、ジアセトキシブテンの水添で発
生する酢酸ブチルを若干含んでいるが、酢酸精製工程に
送られ、先に述べた、アセトキシ化反応から回収される
酢酸と共に、精製される。酢酸精製工程は、酢酸より水
を分離する工程であるが、水と酢酸は分離が困難であ
り、好ましくは共沸剤を使用した共沸蒸留により行われ
る。水と共沸する物質としては、ベンゼン、トルエン等
の炭化水素化合物、酢酸ブチル等のエステル類、クロロ
ホルム等の塩素系化合物が例示されるが、本発明では、
アセトキシ化工程から回収される酢酸中のモノアセトキ
シブテン、及び加水分解工程で回収される酢酸中に含ま
れる、水添工程で生成した酢酸ブチルが特に好適に使用
できる。
を主成分とする留分は、ジアセトキシブテンの水添で発
生する酢酸ブチルを若干含んでいるが、酢酸精製工程に
送られ、先に述べた、アセトキシ化反応から回収される
酢酸と共に、精製される。酢酸精製工程は、酢酸より水
を分離する工程であるが、水と酢酸は分離が困難であ
り、好ましくは共沸剤を使用した共沸蒸留により行われ
る。水と共沸する物質としては、ベンゼン、トルエン等
の炭化水素化合物、酢酸ブチル等のエステル類、クロロ
ホルム等の塩素系化合物が例示されるが、本発明では、
アセトキシ化工程から回収される酢酸中のモノアセトキ
シブテン、及び加水分解工程で回収される酢酸中に含ま
れる、水添工程で生成した酢酸ブチルが特に好適に使用
できる。
【００１４】酢酸精製塔は、常圧又は減圧で運転され、
塔底からは純度９０％以上の酢酸が回収され、塔頂から
は、水、酢酸ブチル、モノアセトキシブテン等の軽沸物
が留出する。留出物は冷却後、静置すると油相と水相に
分離するので、油相の一部は蒸留塔に還流され、残部は
排出される。水相は加水分解工程に送られ使用される。
回収された酢酸は、アセトキシ化反応にリサイクル使用
される。
塔底からは純度９０％以上の酢酸が回収され、塔頂から
は、水、酢酸ブチル、モノアセトキシブテン等の軽沸物
が留出する。留出物は冷却後、静置すると油相と水相に
分離するので、油相の一部は蒸留塔に還流され、残部は
排出される。水相は加水分解工程に送られ使用される。
回収された酢酸は、アセトキシ化反応にリサイクル使用
される。
【００１５】リサイクルされる酢酸中には、微量の水、
酢酸ブチル、モノアセトキシブテン等が含まれる。水
は、特開平８−８１４１３号公報に記載されているよう
に、アセトキシ化反応を阻害するので、２重量％以下に
する必要がある。これを達成するためには、酢酸精製塔
において、共沸剤である酢酸ブチルやモノアセトキシブ
テンを含む留出油相の還流を多くして、運転する必要が
ある。このような運転では、酢酸中の水分を低下させる
ことが出来るが、酢酸ブチルやモノアセトキシブテン等
の不純物濃度は増加する。
酢酸ブチル、モノアセトキシブテン等が含まれる。水
は、特開平８−８１４１３号公報に記載されているよう
に、アセトキシ化反応を阻害するので、２重量％以下に
する必要がある。これを達成するためには、酢酸精製塔
において、共沸剤である酢酸ブチルやモノアセトキシブ
テンを含む留出油相の還流を多くして、運転する必要が
ある。このような運転では、酢酸中の水分を低下させる
ことが出来るが、酢酸ブチルやモノアセトキシブテン等
の不純物濃度は増加する。
【００１６】モノアセトキシブテンは、数種類の異性体
が存在するが、ブタジエンのアセトキシ化反応で主に生
成するのは、１−アセトキシ−ブテン−２（１−ＭＡＢ
Ｅ−２）及び３−アセトキシブテン−１（３−ＭＡＢＥ
−１）である。これらの化合物は、沸点が酢酸ブチルと
ほぼ同じであり、又水と共沸することから、酢酸精製塔
（理論段２３〜３０段）は、通常、常圧から若干の加圧
下で、塔底温度２００℃以下、還流比１〜４で運転され
るが、これらの中、特に還流比を例えば３〜４に調節す
ることにより、回収酢酸中の濃度を、コントロールする
ことは可能である。しかしながら、１重量％以下に下げ
ようとすると多大なエネルギーが必要で、工業的には困
難である。しかしながら、モノアセトキシブテンの濃度
を２．５重量％以下、好ましくは２重量％程度にすれ
ば、実用上の触媒性能はあまり影響を受けないことが分
かった。アセトキシブテンの濃度を２重量％程度にする
のは、それほど困難なことでなく、エネルギーコストの
上昇も殆ど無い。
が存在するが、ブタジエンのアセトキシ化反応で主に生
成するのは、１−アセトキシ−ブテン−２（１−ＭＡＢ
Ｅ−２）及び３−アセトキシブテン−１（３−ＭＡＢＥ
−１）である。これらの化合物は、沸点が酢酸ブチルと
ほぼ同じであり、又水と共沸することから、酢酸精製塔
（理論段２３〜３０段）は、通常、常圧から若干の加圧
下で、塔底温度２００℃以下、還流比１〜４で運転され
るが、これらの中、特に還流比を例えば３〜４に調節す
ることにより、回収酢酸中の濃度を、コントロールする
ことは可能である。しかしながら、１重量％以下に下げ
ようとすると多大なエネルギーが必要で、工業的には困
難である。しかしながら、モノアセトキシブテンの濃度
を２．５重量％以下、好ましくは２重量％程度にすれ
ば、実用上の触媒性能はあまり影響を受けないことが分
かった。アセトキシブテンの濃度を２重量％程度にする
のは、それほど困難なことでなく、エネルギーコストの
上昇も殆ど無い。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例を挙げ、更に
具体的に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限
り実施例に限定されるものではない。
具体的に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限
り実施例に限定されるものではない。
【００１８】（触媒の調製例）粒子の直径が２．４〜
４．０ｍｍの富士シリシア社製シリカ担体（商品名：Ｃ
ＡＲＩＡＣＴ−１５）５６ｇに、パラジウムを金属とし
て１０重量％含有する硝酸パラジウム水溶液５７ｇ及び
二酸化テルル２．６ｇを硝酸に溶解して得られた水溶液
１４０ｇを添加し、３０℃に２時間保持した後、５時間
放冷した。これを濾過して溶液を除去し、更に遠心分離
器で脱液する事により湿潤固体１３６ｇを得た。この湿
潤固体を、内径２．５ｃｍのパイレックス製ガラス管中
で、窒素気流中６５℃において６時間、次いで１００℃
に昇温して２時間乾燥した。次に１５０℃に昇温した
後、水素ガスを３３０ＮＬ／時の流量で流通させなが
ら、毎時５０℃の割合で昇温し、３００℃に４時間保持
した後、窒素気流下で冷却し、活性化処理した触媒６０
ｇを得た。この触媒は、パラジウム４．８６重量％及び
テルル１．７６重量％を含有していた。
４．０ｍｍの富士シリシア社製シリカ担体（商品名：Ｃ
ＡＲＩＡＣＴ−１５）５６ｇに、パラジウムを金属とし
て１０重量％含有する硝酸パラジウム水溶液５７ｇ及び
二酸化テルル２．６ｇを硝酸に溶解して得られた水溶液
１４０ｇを添加し、３０℃に２時間保持した後、５時間
放冷した。これを濾過して溶液を除去し、更に遠心分離
器で脱液する事により湿潤固体１３６ｇを得た。この湿
潤固体を、内径２．５ｃｍのパイレックス製ガラス管中
で、窒素気流中６５℃において６時間、次いで１００℃
に昇温して２時間乾燥した。次に１５０℃に昇温した
後、水素ガスを３３０ＮＬ／時の流量で流通させなが
ら、毎時５０℃の割合で昇温し、３００℃に４時間保持
した後、窒素気流下で冷却し、活性化処理した触媒６０
ｇを得た。この触媒は、パラジウム４．８６重量％及び
テルル１．７６重量％を含有していた。
【００１９】（添加物の調製例）酢酸に添加するモノア
セトキシブテン類は、１−ヒドロキシブテン−２又は、
３−ヒドロキシブテン−１を１．２モル倍量の無水酢酸
を用いて酢酸エステルとし、過剰の無水酢酸を水で分解
後、酢酸を水洗で除去し、２０段のガラス製オールダシ
ョウ型蒸留塔を用いて精製し、下記組成の純度９５％以
上の試料として用いた。なお、これらの組成はガスクロ
マトグラフィー及びカールフィッシャー法（水分）によ
り求めた。
セトキシブテン類は、１−ヒドロキシブテン−２又は、
３−ヒドロキシブテン−１を１．２モル倍量の無水酢酸
を用いて酢酸エステルとし、過剰の無水酢酸を水で分解
後、酢酸を水洗で除去し、２０段のガラス製オールダシ
ョウ型蒸留塔を用いて精製し、下記組成の純度９５％以
上の試料として用いた。なお、これらの組成はガスクロ
マトグラフィー及びカールフィッシャー法（水分）によ
り求めた。
【００２０】１−アセトキシブテン−２；純度９９．２
％（３−アセトキシブテン−１；０．５％、水；０．１
％その他不明不純物含有） ３−アセトキシブテン−１；純度９９．１％（１−アセ
トキシブテン−２；０．６％、水；０．１％その他不明
不純物含有）。
％（３−アセトキシブテン−１；０．５％、水；０．１
％その他不明不純物含有） ３−アセトキシブテン−１；純度９９．１％（１−アセ
トキシブテン−２；０．６％、水；０．１％その他不明
不純物含有）。
【００２１】実施例１〜３、比較例１〜２及び参照例 上記のように調製した触媒４ｇを内径１２ｍｍのステン
レス製反応管に充填し、反応圧力６ＭＰａ、反応温度８
０℃において１，３ブタジエン０．１２２モル／時、表
−１に示す濃度のモノアセトキシブテンを添加した工業
用酢酸２．５モル／時、及び酸素６容量％を含有する窒
素９６ＮＬ／時の流量で流通して反応を実施した。反応
開始後、２４時間後の生成液をガスクロマトグラフィー
分析し、触媒１ｇについて１時間当りのジアセトキシブ
テンの生成量を求めた。その結果を表−１に示す。分析
は、ガスクロマトグラフィーにより実施した。
レス製反応管に充填し、反応圧力６ＭＰａ、反応温度８
０℃において１，３ブタジエン０．１２２モル／時、表
−１に示す濃度のモノアセトキシブテンを添加した工業
用酢酸２．５モル／時、及び酸素６容量％を含有する窒
素９６ＮＬ／時の流量で流通して反応を実施した。反応
開始後、２４時間後の生成液をガスクロマトグラフィー
分析し、触媒１ｇについて１時間当りのジアセトキシブ
テンの生成量を求めた。その結果を表−１に示す。分析
は、ガスクロマトグラフィーにより実施した。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、貴金属系触媒を用いて
ブタジエンからジアセトキシブテンを生成するアセトキ
シ化反応において、回収酢酸を用いても触媒活性の低下
なしに長期間安定的に運転を行うことができる。
ブタジエンからジアセトキシブテンを生成するアセトキ
シ化反応において、回収酢酸を用いても触媒活性の低下
なしに長期間安定的に運転を行うことができる。
Claims (3)
- 【請求項１】 貴金属系触媒の存在下、ブタジエンを酢
酸及び酸素と反応させてジアセトキシブテンを製造する
方法において、アセトキシ化反応に循環再使用される酢
酸中のモノアセトキシブテンの含有量が２．５重量％以
下であることを特徴とするジアセトキシブテンの製造方
法。 - 【請求項２】 モノアセトキシブテンが１−アセトキシ
−ブテン−２又は３−アセトキシ−ブテン−１である請
求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 貴金属系触媒がパラジウム系触媒である
請求項１又は２に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8329475A JPH10168031A (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | ジアセトキシブテンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8329475A JPH10168031A (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | ジアセトキシブテンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10168031A true JPH10168031A (ja) | 1998-06-23 |
Family
ID=18221802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8329475A Pending JPH10168031A (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | ジアセトキシブテンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10168031A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000107748A (ja) * | 1998-10-02 | 2000-04-18 | Nippon Refine Kk | 排水処理法 |
-
1996
- 1996-12-10 JP JP8329475A patent/JPH10168031A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000107748A (ja) * | 1998-10-02 | 2000-04-18 | Nippon Refine Kk | 排水処理法 |
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