JPS627132B2 - - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 36
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 32
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 21
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 claims description 18
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 claims description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 15
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 27
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 11
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- GALOTNBSUVEISR-UHFFFAOYSA-N molybdenum;silicon Chemical compound [Mo]#[Si] GALOTNBSUVEISR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000002459 porosimetry Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
本発明は高ケイ酸多孔質ガラスの製造方法に関
し、より詳細には細孔構造内にゲル状シリカの沈
殿を含まない高ケイ酸多孔質ガラスの製造方法に
関する。 従来、高ケイ酸多孔質ガラスは、SiO2、
B2O3、およびNa2Oの3成分より成る原料ガラス
を、微細にからみ合つたホウ酸ナトリウム相とシ
リカ相とに分相させ、ホウ酸ナトリウム相を酸に
溶出させ、酸に不溶のシリカ相から成る3次元網
目状の多孔体とする方法によつて製造されてい
た。 しかしながら、この製造方法では、分相によつ
て生じたホウ酸ナトリウム相に少量含有されるシ
リカ成分が、酸溶出の際にゲル状シリカとなつて
多孔体の孔中に沈殿する欠点があつた。 ゲル状シリカは分相構造に由来する多孔構造を
乱し、細孔容積を減少させ、流体の多孔体透過速
度を低下させるので、多孔体を分離膜および過
材として使用するときのように細孔特性の精密な
制御が必要である場合や、流体の透過速度が大き
いことが必要である場合には、大きな障害となつ
た。 かかる欠点を回避するため、(イ)SiO2含有量の
低いホウケイ酸ナトリウムガラスを原料ガラスと
する方法や、(ロ)酸溶出後の多孔質ガラスをアルカ
リ液で洗浄してゲル状シリカを除去する方法が提
案された。 しかし(イ)の方法では、分相時にシリカ相が十分
強固に結合した網目構造を作ることができないの
で、得られた多孔体の機械的強度が小さい問題点
があつた。したがつて、一定の形状、寸法を有す
る成形体を得ることが極めて困難であり、また、
分離膜、過膜に要求される機械的強度を保持す
ることも不可能であつた。また(ロ)は、ゲル状シリ
カと多孔体との組成が近似するため、アルカリ洗
浄時に同時に多孔体そのものが侵食され、十分に
大きな強度を有する成形体を製造するのには不適
当であつた。 そこで本発明は、かかる従来の欠点を解消すべ
くなされたものであり、ゲル状シリカを含まず、
任意の形状、寸法、十分な機械的強度、および制
御された細孔径を有する高ケイ酸ガラス体を得る
ことができ、かかるガラス体は混合物からの物質
分離、濃縮、過等を目的とした多孔膜として好
適であるなどの特長を有するものである。 すなわち本第1の発明は、重量%でSiO240〜
62%、B2O328〜50%およびNa2O9〜13%から成
る主成分と、これに添加した2〜13%のMoO3と
から成る原料ガラスを製造し、この原料ガラスを
軟化、変形を生じさせない温度範囲で熱処理して
ホウ酸ナトリウム相とシリカ相とに分相させ、前
記ホウ酸ナトリウム相を酸で溶出することを特徴
とするものである。 また、本第2の発明は重量%でSiO240〜62
%、B2O328〜50%およびNa2O9〜13%から成る
主成分と、これに添加した2〜13%のMoO3、お
よびAl2O3、ZrO2、Fe2O3、MgO、TiO2、ZnOか
ら成る群から選ばれた少くとも一つの調整成分の
10%以下とから成る原料ガラスを製造し、この原
料ガラスを軟化、変形を生じさせない温度範囲で
熱処理してホウ酸ナトリウム相とシリカ相とに分
相させ、前記酸ナトリウム相を酸で溶出すること
を特徴とするものである。 まず本発明では、原料ガラスを製造する。この
原料ガラスは重量%でSiO240〜62%、B2O328〜
50%、およびNa2O9〜13%から成る主成分と、こ
の主成分100重量部に対して2〜13重量%の
MoO3とを調合し、通常の方法で溶融することに
より製造される。 SiO2調合量が40重量%に満たない場合又は
B2O3が50重量%を越える場合は、シリカ相が十
分強固に結合した網目構造を作ることができない
ので、得られる多孔体の機械的強度が不十分とな
る。また、SiO2の量が62重量%を越えるか、あ
るいはB2O3が28重量%に満たないと、分相速度
が大きすぎるので細孔径の精密な制御が困難とな
る。更に、Na2Oの量が9重量%に満たないと酸
による溶出時に著しい伸びが、また13重量%を越
えると溶出時に著しい縮みが生じ、いずれも製品
が破損する。 かかる主成分100重量部に対するMoO3の添加
量が2重量%に満たないとMoO3添加の効果が不
十分で、ゲル状シリカを含まない多孔質ガラスは
得られない。また、MoO3の添加量が13重量%を
越えると分相速度が大きすぎて細孔径の精密な制
御ができず、その上主成分の組成によつては
MoO3のガラスへの溶解度を越える。 本発明において、主成分に対して添加される
MoO3は分相の際に全量が酸に可溶性のホウ酸ナ
トリウム相に移行し、酸溶出の過程でホウ酸ナト
リウム相に含まれるシリカと反応してケイモリブ
テン醋体を形成し、この醋体が溶出液に溶解す
る。したがつて、シリカがゲル状になつて沈殿す
ることが防止されるのである。 またMoO3は添加により原料ガラスを後述のよ
うに分相させたときのシリカ相の体積分率を増加
し、網目構造を強化させる機能を有するものであ
る。したがつてMoO3の添加により、SiO2含有率
がかなり低い原料ガラス組成からでも機械的強度
の大きい多孔質ガラスが得られる。 なお本発明におけるMoO3の添加は、ゲル状シ
リカを含まない多孔質ガラスを製造するのに有効
なので前述した組成の範囲外であつても吸着剤な
ど粉状で使用する場合、あるいは精密な細孔径の
制御を必要としない場合に適用できる。 次に本発明では、上述のように製造した原料ガ
ラスを目的に応じた種々の形状に成形したのち、
軟化、変形を生じさせないような温度範囲で熱処
理し、分相せしめる。通常では熱処理の温度は
450〜700℃であり、また熱処理時間は目的とする
多孔質ガラスの細孔径に応じて1時間ないし数十
日の範囲である。熱処理時間が長くなるほど一般
的には細孔径が増大するので、細孔径を制御する
ことができる。 熱処理に際して原料ガラスが軟化、変形すると
成形体の形状、寸法が狂い、また著しい場合には
ガラスの融着などが生じるので好ましくない。更
に、熱処理時に原料ガラスが軟化、変形すること
を避けながら分相構造を成長させるため、分相構
造の発達につれて徐々に温度を上昇させたり、ま
たホウ酸ナトリウム相に含まれるシリカの含有量
を減少させるため、分相が終了したのち、500℃
付近の低温で熱処理を続行することが好ましい。
かかる熱処理の結果、原料ガラスはホウ酸ナトリ
ウム相とシリカ相とに分相し、かつこれら両相は
相互に複雑にからみ合つた状態となる。 次いで本発明では酸溶出を行ない、ホウ酸ナト
リウム相を溶出させると、多孔質ガラスが得られ
る。この多孔質ガラスの細孔直径は、通常数十Å
から数千Åの広い範囲に及ぶ。ただし、切削、研
摩などの水を使用する加工は、加工面に生じた変
質層が熱処理によつてガラス内部と異なる構造を
とり、酸溶出を妨害する恐れがあるので、かかる
加工は熱処理後に行なうことが好ましい。 本発明によれば酸溶出時のゲル状シリカの生成
量は、原料ガラスの組成や、熱処理条件のみなら
ず、酸溶出の条件によつても左右され、酸溶出時
のガラスの厚さが大きく、溶出時の酸性が強く、
また、ガラス単位重量あたりの酸の量が少ない程
多くなる傾向にある。したがつて、好ましくは
0.1〜2規定の強酸、通常では硫酸、塩酸などの
無機酸を用い、たとえば60〜100℃で溶出され
る。また、ガラス単位重量あたりの酸の量は、原
料ガラスの組成、熱処理条件、原料ガラスの形
状、寸法、使用目的などによつて異なるが、通常
では100ml/g以上である。酸溶出によつて得ら
れた多孔質ガラスは一般には水洗、乾燥し、また
必要により表面処理、熱処理、加工などを経て製
品となる。 更に本発明においては、MoO3の添加によつて
過大になりがちの分相傾向を抑え、酸溶出時のガ
ラスの伸縮を調整して望ましい状態を維持するた
めに、Al2O3、ZrO2、Fe2O3、MgO、TiO2および
ZnOからなる群から選ばれた少くとも一つの調整
成分を添加することができる。かかる調整成分の
添加量は主成分100重量部に対して10重量%以下
である。調整成分の添加量が主成分の10重量%を
越えると、ガラスの安定性がそこなわれ、失透や
過大な分相等が生じる。 かかる本発明によれば、MoO3が分相の際に酸
に可溶性のホウ酸ナトリウム相に移行し、シリカ
と反応して酸溶出時にケイモリブデン醋体を形成
するので、ゲル状シリカの生成が防止される。ま
た、ホウ酸ナトリウム相の分離効率が高まるの
で、シリカ相の体積分率が増加し、網目構造が強
化される。 したがつて、本発明によれば、機械的強度に優
れた、ゲル状シリカを含まない多孔質ガラスを得
ることができる。この多孔質ガラスは高ケイ酸ガ
ラス質であるので、特に化学的安定性、耐熱性に
優れ、有機液体中、腐食性雰囲気、高温、高圧な
どの過酷な条件下での使用が可能である。また、
数十〜数千Åの広い範囲で細孔直径を制御するこ
とができるので、物質の分離、濃縮、過等を目
的とした板状、管状、毛細管状の多孔膜の製造に
好適である。 以下、本発明を実施例にもとづき詳細に説明す
る。 実施例 1 下記第1表に示す組成の3種類の原料ガラス
を、この表に示すように処理して多孔性ガラスと
したのち、窒素吸着法および水銀ポロシメータ法
によつて細孔径分布を測定し、MoO3添加の効果
を調べた。なお第1表において試料No.1は本発
明の範囲外であるが比較のために示した。細孔径
分布の測定結果を第1図に示す。 第1図から、MoO3の添加によつてゲル状シリ
カに由来する微細孔がなくなり、代つて分相構造
に由来する半径の大きい孔が検出されることが理
解できる。試料No.1、2では多孔体内にゲル状
シリカが沈殿しており、このような大きい孔は検
出されない。また、第1表の原料ガラスを直径約
4.5mmの棒状に成形し、分相後に95℃の1規定硫
酸で溶出して溶出時の伸縮を測定した。この結
果、試料No.1および2は0.06および0.08%の伸び
を、試料No.3は0.12%の縮みを示したが、いずれ
も溶出中に破損することなく、十分な強度の多孔
体が得られた。
し、より詳細には細孔構造内にゲル状シリカの沈
殿を含まない高ケイ酸多孔質ガラスの製造方法に
関する。 従来、高ケイ酸多孔質ガラスは、SiO2、
B2O3、およびNa2Oの3成分より成る原料ガラス
を、微細にからみ合つたホウ酸ナトリウム相とシ
リカ相とに分相させ、ホウ酸ナトリウム相を酸に
溶出させ、酸に不溶のシリカ相から成る3次元網
目状の多孔体とする方法によつて製造されてい
た。 しかしながら、この製造方法では、分相によつ
て生じたホウ酸ナトリウム相に少量含有されるシ
リカ成分が、酸溶出の際にゲル状シリカとなつて
多孔体の孔中に沈殿する欠点があつた。 ゲル状シリカは分相構造に由来する多孔構造を
乱し、細孔容積を減少させ、流体の多孔体透過速
度を低下させるので、多孔体を分離膜および過
材として使用するときのように細孔特性の精密な
制御が必要である場合や、流体の透過速度が大き
いことが必要である場合には、大きな障害となつ
た。 かかる欠点を回避するため、(イ)SiO2含有量の
低いホウケイ酸ナトリウムガラスを原料ガラスと
する方法や、(ロ)酸溶出後の多孔質ガラスをアルカ
リ液で洗浄してゲル状シリカを除去する方法が提
案された。 しかし(イ)の方法では、分相時にシリカ相が十分
強固に結合した網目構造を作ることができないの
で、得られた多孔体の機械的強度が小さい問題点
があつた。したがつて、一定の形状、寸法を有す
る成形体を得ることが極めて困難であり、また、
分離膜、過膜に要求される機械的強度を保持す
ることも不可能であつた。また(ロ)は、ゲル状シリ
カと多孔体との組成が近似するため、アルカリ洗
浄時に同時に多孔体そのものが侵食され、十分に
大きな強度を有する成形体を製造するのには不適
当であつた。 そこで本発明は、かかる従来の欠点を解消すべ
くなされたものであり、ゲル状シリカを含まず、
任意の形状、寸法、十分な機械的強度、および制
御された細孔径を有する高ケイ酸ガラス体を得る
ことができ、かかるガラス体は混合物からの物質
分離、濃縮、過等を目的とした多孔膜として好
適であるなどの特長を有するものである。 すなわち本第1の発明は、重量%でSiO240〜
62%、B2O328〜50%およびNa2O9〜13%から成
る主成分と、これに添加した2〜13%のMoO3と
から成る原料ガラスを製造し、この原料ガラスを
軟化、変形を生じさせない温度範囲で熱処理して
ホウ酸ナトリウム相とシリカ相とに分相させ、前
記ホウ酸ナトリウム相を酸で溶出することを特徴
とするものである。 また、本第2の発明は重量%でSiO240〜62
%、B2O328〜50%およびNa2O9〜13%から成る
主成分と、これに添加した2〜13%のMoO3、お
よびAl2O3、ZrO2、Fe2O3、MgO、TiO2、ZnOか
ら成る群から選ばれた少くとも一つの調整成分の
10%以下とから成る原料ガラスを製造し、この原
料ガラスを軟化、変形を生じさせない温度範囲で
熱処理してホウ酸ナトリウム相とシリカ相とに分
相させ、前記酸ナトリウム相を酸で溶出すること
を特徴とするものである。 まず本発明では、原料ガラスを製造する。この
原料ガラスは重量%でSiO240〜62%、B2O328〜
50%、およびNa2O9〜13%から成る主成分と、こ
の主成分100重量部に対して2〜13重量%の
MoO3とを調合し、通常の方法で溶融することに
より製造される。 SiO2調合量が40重量%に満たない場合又は
B2O3が50重量%を越える場合は、シリカ相が十
分強固に結合した網目構造を作ることができない
ので、得られる多孔体の機械的強度が不十分とな
る。また、SiO2の量が62重量%を越えるか、あ
るいはB2O3が28重量%に満たないと、分相速度
が大きすぎるので細孔径の精密な制御が困難とな
る。更に、Na2Oの量が9重量%に満たないと酸
による溶出時に著しい伸びが、また13重量%を越
えると溶出時に著しい縮みが生じ、いずれも製品
が破損する。 かかる主成分100重量部に対するMoO3の添加
量が2重量%に満たないとMoO3添加の効果が不
十分で、ゲル状シリカを含まない多孔質ガラスは
得られない。また、MoO3の添加量が13重量%を
越えると分相速度が大きすぎて細孔径の精密な制
御ができず、その上主成分の組成によつては
MoO3のガラスへの溶解度を越える。 本発明において、主成分に対して添加される
MoO3は分相の際に全量が酸に可溶性のホウ酸ナ
トリウム相に移行し、酸溶出の過程でホウ酸ナト
リウム相に含まれるシリカと反応してケイモリブ
テン醋体を形成し、この醋体が溶出液に溶解す
る。したがつて、シリカがゲル状になつて沈殿す
ることが防止されるのである。 またMoO3は添加により原料ガラスを後述のよ
うに分相させたときのシリカ相の体積分率を増加
し、網目構造を強化させる機能を有するものであ
る。したがつてMoO3の添加により、SiO2含有率
がかなり低い原料ガラス組成からでも機械的強度
の大きい多孔質ガラスが得られる。 なお本発明におけるMoO3の添加は、ゲル状シ
リカを含まない多孔質ガラスを製造するのに有効
なので前述した組成の範囲外であつても吸着剤な
ど粉状で使用する場合、あるいは精密な細孔径の
制御を必要としない場合に適用できる。 次に本発明では、上述のように製造した原料ガ
ラスを目的に応じた種々の形状に成形したのち、
軟化、変形を生じさせないような温度範囲で熱処
理し、分相せしめる。通常では熱処理の温度は
450〜700℃であり、また熱処理時間は目的とする
多孔質ガラスの細孔径に応じて1時間ないし数十
日の範囲である。熱処理時間が長くなるほど一般
的には細孔径が増大するので、細孔径を制御する
ことができる。 熱処理に際して原料ガラスが軟化、変形すると
成形体の形状、寸法が狂い、また著しい場合には
ガラスの融着などが生じるので好ましくない。更
に、熱処理時に原料ガラスが軟化、変形すること
を避けながら分相構造を成長させるため、分相構
造の発達につれて徐々に温度を上昇させたり、ま
たホウ酸ナトリウム相に含まれるシリカの含有量
を減少させるため、分相が終了したのち、500℃
付近の低温で熱処理を続行することが好ましい。
かかる熱処理の結果、原料ガラスはホウ酸ナトリ
ウム相とシリカ相とに分相し、かつこれら両相は
相互に複雑にからみ合つた状態となる。 次いで本発明では酸溶出を行ない、ホウ酸ナト
リウム相を溶出させると、多孔質ガラスが得られ
る。この多孔質ガラスの細孔直径は、通常数十Å
から数千Åの広い範囲に及ぶ。ただし、切削、研
摩などの水を使用する加工は、加工面に生じた変
質層が熱処理によつてガラス内部と異なる構造を
とり、酸溶出を妨害する恐れがあるので、かかる
加工は熱処理後に行なうことが好ましい。 本発明によれば酸溶出時のゲル状シリカの生成
量は、原料ガラスの組成や、熱処理条件のみなら
ず、酸溶出の条件によつても左右され、酸溶出時
のガラスの厚さが大きく、溶出時の酸性が強く、
また、ガラス単位重量あたりの酸の量が少ない程
多くなる傾向にある。したがつて、好ましくは
0.1〜2規定の強酸、通常では硫酸、塩酸などの
無機酸を用い、たとえば60〜100℃で溶出され
る。また、ガラス単位重量あたりの酸の量は、原
料ガラスの組成、熱処理条件、原料ガラスの形
状、寸法、使用目的などによつて異なるが、通常
では100ml/g以上である。酸溶出によつて得ら
れた多孔質ガラスは一般には水洗、乾燥し、また
必要により表面処理、熱処理、加工などを経て製
品となる。 更に本発明においては、MoO3の添加によつて
過大になりがちの分相傾向を抑え、酸溶出時のガ
ラスの伸縮を調整して望ましい状態を維持するた
めに、Al2O3、ZrO2、Fe2O3、MgO、TiO2および
ZnOからなる群から選ばれた少くとも一つの調整
成分を添加することができる。かかる調整成分の
添加量は主成分100重量部に対して10重量%以下
である。調整成分の添加量が主成分の10重量%を
越えると、ガラスの安定性がそこなわれ、失透や
過大な分相等が生じる。 かかる本発明によれば、MoO3が分相の際に酸
に可溶性のホウ酸ナトリウム相に移行し、シリカ
と反応して酸溶出時にケイモリブデン醋体を形成
するので、ゲル状シリカの生成が防止される。ま
た、ホウ酸ナトリウム相の分離効率が高まるの
で、シリカ相の体積分率が増加し、網目構造が強
化される。 したがつて、本発明によれば、機械的強度に優
れた、ゲル状シリカを含まない多孔質ガラスを得
ることができる。この多孔質ガラスは高ケイ酸ガ
ラス質であるので、特に化学的安定性、耐熱性に
優れ、有機液体中、腐食性雰囲気、高温、高圧な
どの過酷な条件下での使用が可能である。また、
数十〜数千Åの広い範囲で細孔直径を制御するこ
とができるので、物質の分離、濃縮、過等を目
的とした板状、管状、毛細管状の多孔膜の製造に
好適である。 以下、本発明を実施例にもとづき詳細に説明す
る。 実施例 1 下記第1表に示す組成の3種類の原料ガラス
を、この表に示すように処理して多孔性ガラスと
したのち、窒素吸着法および水銀ポロシメータ法
によつて細孔径分布を測定し、MoO3添加の効果
を調べた。なお第1表において試料No.1は本発
明の範囲外であるが比較のために示した。細孔径
分布の測定結果を第1図に示す。 第1図から、MoO3の添加によつてゲル状シリ
カに由来する微細孔がなくなり、代つて分相構造
に由来する半径の大きい孔が検出されることが理
解できる。試料No.1、2では多孔体内にゲル状
シリカが沈殿しており、このような大きい孔は検
出されない。また、第1表の原料ガラスを直径約
4.5mmの棒状に成形し、分相後に95℃の1規定硫
酸で溶出して溶出時の伸縮を測定した。この結
果、試料No.1および2は0.06および0.08%の伸び
を、試料No.3は0.12%の縮みを示したが、いずれ
も溶出中に破損することなく、十分な強度の多孔
体が得られた。
【表】
実施例 2
前記第1表の試料No.2の原料ガラスを直径420
〜590μmの粒状とし、565℃で25時間、熱処理し
て分相させた。次いで0.25規定の硫酸をガラス1
gについて1使用し、98℃で2日間処理して多
孔体とした。この多孔体の比表面積は103m2/g
であり、細孔径分布は第2図に示すとおりであつ
た。 実施例 3 前記第1表の試料No.3の原料ガラスを酸量/
ガラス量=500ml/gで酸溶出した。その他の条
件は、すべて実施例1と同一である。水銀ポロシ
メータ法により得られた多孔体の細孔径分布は第
3図に示すとおりであり、ゲル状シリカの沈殿に
よる微細孔は認められなかつた。また比表面積は
34m2/gであつた。 実施例 4 下記第2表に示す組成の原料ガラスを棒状に成
形し、500℃で2日間熱処理したのち、試料No.4
〜7では1N硫酸、試料No.8では1N塩酸を使用し
て夫々95℃で溶出し、溶出時の伸縮を測定した。
第2表では伸びを+、縮みを−で示し、いずれの
場合も溶出により破損することなく多孔質成形体
が得られた。
〜590μmの粒状とし、565℃で25時間、熱処理し
て分相させた。次いで0.25規定の硫酸をガラス1
gについて1使用し、98℃で2日間処理して多
孔体とした。この多孔体の比表面積は103m2/g
であり、細孔径分布は第2図に示すとおりであつ
た。 実施例 3 前記第1表の試料No.3の原料ガラスを酸量/
ガラス量=500ml/gで酸溶出した。その他の条
件は、すべて実施例1と同一である。水銀ポロシ
メータ法により得られた多孔体の細孔径分布は第
3図に示すとおりであり、ゲル状シリカの沈殿に
よる微細孔は認められなかつた。また比表面積は
34m2/gであつた。 実施例 4 下記第2表に示す組成の原料ガラスを棒状に成
形し、500℃で2日間熱処理したのち、試料No.4
〜7では1N硫酸、試料No.8では1N塩酸を使用し
て夫々95℃で溶出し、溶出時の伸縮を測定した。
第2表では伸びを+、縮みを−で示し、いずれの
場合も溶出により破損することなく多孔質成形体
が得られた。
【表】
実施例 5
前記第2表の試料No.4の原料ガラスを、530℃
で20時間熱処理して分相させた後、粉砕して直径
125〜250μmの粒状とした。次いで0.25規定の硫
酸をガラス1gについて1使用し、98℃で20時
間処理して多孔体とした。この多孔体の細孔径分
布は第4図に示すとおりであり、また全細孔容積
は0.85ml/gであつた。
で20時間熱処理して分相させた後、粉砕して直径
125〜250μmの粒状とした。次いで0.25規定の硫
酸をガラス1gについて1使用し、98℃で20時
間処理して多孔体とした。この多孔体の細孔径分
布は第4図に示すとおりであり、また全細孔容積
は0.85ml/gであつた。
第1図、第2図、第3図および第4図は細孔直
径と細孔容積との関係を示す図である。
径と細孔容積との関係を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 重量%でSiO240〜62%、B2O328〜50%、お
よびNa2O9〜13%から成る主成分と、これに添加
した2〜13%のMoO3とから成る原料ガラスを製
造し、この原料ガラスを軟化、変形を生じさせな
い温度範囲で熱処理してホウ酸ナトリウム相とシ
リカ相とに分相させ、該ホウ酸ナトリウム相を酸
で溶出することを特徴とする高ケイ酸多孔質ガラ
スの製造方法。 2 重量%でSiO240〜62%、B2O328〜50%、お
よびNa2O9〜13%から成る主成分と、これに添加
した2〜13%のMoO3、およびAl2O3、ZrO2、
Fe2O3、MgO、TiO2、ZnOから成る群から選ば
れた少くとも一つの調整成分の10%以下とから原
料ガラスを製造し、この原料ガラスを軟化、変形
を生じさせない温度範囲で熱処理してホウ酸ナト
リウム相とシリカ相とに分相させ、該ホウ酸ナト
リウム相を酸で溶出することを特徴とする高ケイ
酸多孔質ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2299482A JPS58140341A (ja) | 1982-02-15 | 1982-02-15 | 高ケイ酸多孔質ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2299482A JPS58140341A (ja) | 1982-02-15 | 1982-02-15 | 高ケイ酸多孔質ガラスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58140341A JPS58140341A (ja) | 1983-08-20 |
JPS627132B2 true JPS627132B2 (ja) | 1987-02-16 |
Family
ID=12098078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2299482A Granted JPS58140341A (ja) | 1982-02-15 | 1982-02-15 | 高ケイ酸多孔質ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58140341A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61106437A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-24 | Asahi Glass Co Ltd | 多孔質ガラス用組成物及び多孔質ガラスの製造法 |
JPS61204006A (ja) * | 1985-03-07 | 1986-09-10 | Ngk Insulators Ltd | 分離膜及びその製造方法 |
JP5688880B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2015-03-25 | 日本電気硝子株式会社 | 点火プラグ用抵抗体形成用ガラス組成物 |
JP5569942B2 (ja) * | 2009-10-27 | 2014-08-13 | 学校法人東京理科大学 | 発光ガラス、当該発光ガラスを備えた発光装置及び発光ガラスの製造方法 |
WO2013133357A1 (ja) * | 2012-03-08 | 2013-09-12 | 日本山村硝子株式会社 | 球状粒子の製造方法 |
WO2021246345A1 (ja) * | 2020-06-03 | 2021-12-09 | Agc株式会社 | 高ケイ酸ガラス基板の製造方法、高ケイ酸ガラス基板及び多孔質ガラス |
-
1982
- 1982-02-15 JP JP2299482A patent/JPS58140341A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58140341A (ja) | 1983-08-20 |
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