JPS6270354A - 置換−2−オキソアゼチジン化合物 - Google Patents
置換−2−オキソアゼチジン化合物Info
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
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- A61P31/04—Antibacterial agents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は抗微生物活性、特に抗かび活性を有する新規
なセファロスポリン類縁化合物を製造するだめの中間体
として有用な一般式 [式中、Xは一層−または−S−3R1はアミノ基また
はアシルアミノ基、R2はカルボキシ基または保護され
たカルボキシ基、Rはヒドロキシメチル基、保護された
ヒドロキシメチル基またはポルミル基、R′が水素原子
で、R″がヒドロキシ基、ハロゲン原子、もしくは式ニ
ーP(OR’)(式中、R4は低級アルキル基を意味す
る)で示される基であるか、またはR′およびR’が一
緒になって式20または=P(R)3(式中、Rは低級
アルキル基、アリール基またはジ(低級)アルキルアミ
ノ基を意味する)で示される基をそれぞれ意味する] で示される新規な置換−2−オキソアゼチジン化合物お
よびその塩類に関するものである。
なセファロスポリン類縁化合物を製造するだめの中間体
として有用な一般式 [式中、Xは一層−または−S−3R1はアミノ基また
はアシルアミノ基、R2はカルボキシ基または保護され
たカルボキシ基、Rはヒドロキシメチル基、保護された
ヒドロキシメチル基またはポルミル基、R′が水素原子
で、R″がヒドロキシ基、ハロゲン原子、もしくは式ニ
ーP(OR’)(式中、R4は低級アルキル基を意味す
る)で示される基であるか、またはR′およびR’が一
緒になって式20または=P(R)3(式中、Rは低級
アルキル基、アリール基またはジ(低級)アルキルアミ
ノ基を意味する)で示される基をそれぞれ意味する] で示される新規な置換−2−オキソアゼチジン化合物お
よびその塩類に関するものである。
この発明の目的化合物である置換−2〜才キンアゼチジ
ン化合物(I)は例えば次の反応式で示す方法により製
造することができる。
ン化合物(I)は例えば次の反応式で示す方法により製
造することができる。
3一
方法A−1)
またはその塩類 またはその塩類またはその
塩類 またはその塩類 またはその塩類 またはその塩類ま
たはその塩類 またはその塩類(XX
[Vb ) またはその塩類 またはその塩類 またはその塩類 友人旦 またはその塩類 またはその塩類ま
たはその塩類 またはその塩類またはその塩
類 またはその塩類(If) またはその塩類 [式中、RおよびR7はそれぞれ低級アルキル7′ 基、Rはアルキリテン基、R8およびR9はそれぞれヒ
ドロキシ基の保護基、R18はアシルアミ10
、 ノ基、Rはアシル基、Yはハロゲン、R38が水3b
II 素原子でRが式ニーP(OR4) で示される基であ
るか、またはR3aとR3bが一緒になって式:R、R
およびR5はそれぞれ前と同じ意味]化合物(III
)−(X X )、(XXI[[>、(XXIV)、(
XXIVa)、(X X IV、b)、(Id)、(I
a’ )、(I b)、(Ibl、(Ic>、(Id
)、(Ie)および(If)の塩類としては、酢酸塩、
マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルボン酸塩、トル
エンスルホン酸塩等の有機酸との塩、塩酸塩、臭化水素
酸塩、硫酸塩、りん酸塩等の無機酸との塩等の酸付加塩
、またはナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マ
グネシウム塩等の金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基
との塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン
塩等の有機アミン塩なとが挙げられる。
塩類 またはその塩類 またはその塩類 またはその塩類ま
たはその塩類 またはその塩類(XX
[Vb ) またはその塩類 またはその塩類 またはその塩類 友人旦 またはその塩類 またはその塩類ま
たはその塩類 またはその塩類またはその塩
類 またはその塩類(If) またはその塩類 [式中、RおよびR7はそれぞれ低級アルキル7′ 基、Rはアルキリテン基、R8およびR9はそれぞれヒ
ドロキシ基の保護基、R18はアシルアミ10
、 ノ基、Rはアシル基、Yはハロゲン、R38が水3b
II 素原子でRが式ニーP(OR4) で示される基であ
るか、またはR3aとR3bが一緒になって式:R、R
およびR5はそれぞれ前と同じ意味]化合物(III
)−(X X )、(XXI[[>、(XXIV)、(
XXIVa)、(X X IV、b)、(Id)、(I
a’ )、(I b)、(Ibl、(Ic>、(Id
)、(Ie)および(If)の塩類としては、酢酸塩、
マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルボン酸塩、トル
エンスルホン酸塩等の有機酸との塩、塩酸塩、臭化水素
酸塩、硫酸塩、りん酸塩等の無機酸との塩等の酸付加塩
、またはナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マ
グネシウム塩等の金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基
との塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン
塩等の有機アミン塩なとが挙げられる。
この発明の目的化合物(If)は例えば下記に示す方法
により抗微生物活性、特に抗かび活性を有する化合物(
I[>を製造するだめの中間体として有用である。
により抗微生物活性、特に抗かび活性を有する化合物(
I[>を製造するだめの中間体として有用である。
(式中X、R、R、Rお、):びR””は前と同し意味
) 次に、この発明における定義について詳細に説明する。
) 次に、この発明における定義について詳細に説明する。
この明細書では、別に規定しない限り、′低級」なる語
は炭素数1ないし6を、また「高級。
は炭素数1ないし6を、また「高級。
なる語は炭素数7ないし18をそれぞれ意味するものと
する。
する。
「アシル基」、および「アシルアミノ基」における「ア
シル部分、としては、カルバモイル基、脂肪族アシル、
芳香族アシルおよび複素環アシルを包含する。ここで、
芳香族アシルおよび複素環アシルは、それぞれ芳香環ま
たは複素環を含むアシルを意味する。このように定義さ
れたアシル基の具体例は次のとおりである。
シル部分、としては、カルバモイル基、脂肪族アシル、
芳香族アシルおよび複素環アシルを包含する。ここで、
芳香族アシルおよび複素環アシルは、それぞれ芳香環ま
たは複素環を含むアシルを意味する。このように定義さ
れたアシル基の具体例は次のとおりである。
1脂肪族アシル」としては例えば、ホルミル、アセチル
、サクシニル、ヘキサノイル、ヘキサノイル、ステアロ
イル等の低級または高級アルカノイル基、メトキシカル
ボニル ル、第3級ブトキシカルボニル、第3級ペンチルオキシ
カルボニル、ヘプチルオキシカルボニル等の低級または
高級アルコキシカルボニル基、およびメタンスルホニル
、エタンスルホニル等の低級または高級アルカンスルホ
ニル基などが挙げられる。
、サクシニル、ヘキサノイル、ヘキサノイル、ステアロ
イル等の低級または高級アルカノイル基、メトキシカル
ボニル ル、第3級ブトキシカルボニル、第3級ペンチルオキシ
カルボニル、ヘプチルオキシカルボニル等の低級または
高級アルコキシカルボニル基、およびメタンスルホニル
、エタンスルホニル等の低級または高級アルカンスルホ
ニル基などが挙げられる。
「芳香環を含むアシル」としては例えば、ベンジイル、
トルオイル、ナフトイル等のアロイル基、フェニルアセ
チル、フェニルプロピオニル等のアル(低級)アルカノ
イル基、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボ
ニル等のアリールオキシカルボニル基、フェノキシアセ
チル、フェノキシプロビオニル等のアリールオキシ(低
級)アルカノイル フチルグリオキシロイル等のアリールグリオキシロイル
基、ベンジルオキシカルボニル基、ジフェニルメトキシ
カルボニル基等のアル(低級)アルコキシカルボニル基
、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル等のア
レーンスルホニル基等が挙げられる。
トルオイル、ナフトイル等のアロイル基、フェニルアセ
チル、フェニルプロピオニル等のアル(低級)アルカノ
イル基、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボ
ニル等のアリールオキシカルボニル基、フェノキシアセ
チル、フェノキシプロビオニル等のアリールオキシ(低
級)アルカノイル フチルグリオキシロイル等のアリールグリオキシロイル
基、ベンジルオキシカルボニル基、ジフェニルメトキシ
カルボニル基等のアル(低級)アルコキシカルボニル基
、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル等のア
レーンスルホニル基等が挙げられる。
1複素環を含むアシル」としては例えば、テノイル、フ
ロイル、ニコチノイル等の複素環カルボニル基、チェニ
ルアセチル、チアゾリルアセチル、テトラゾリルアセチ
ル等の複素環(低級)アルカノイル基、チアゾリルグリ
オキシロイル、チェニルグリオキシロイル等の複素環グ
リオキシロイル基などが挙げられる。
ロイル、ニコチノイル等の複素環カルボニル基、チェニ
ルアセチル、チアゾリルアセチル、テトラゾリルアセチ
ル等の複素環(低級)アルカノイル基、チアゾリルグリ
オキシロイル、チェニルグリオキシロイル等の複素環グ
リオキシロイル基などが挙げられる。
上記した「複素環カルボニル基」、「複素環(低級)ア
ルカノイル基」および1複素環グリオギシロイル基」に
おける1複素環部分」は窒素原子、硫黄原子および酸素
原子等から選ばれた少なくとも1つの複素原子を含む、
飽和もしくは不飽和の重環もしくは多環の複素環式基で
あり、そのような複素環式基のうち好ましいものとして
は例えば、ピロ1)ル基、ビ1−+リニル基、イミダゾ
リル基、ピラゾリル基、ピリジル基およびそのN−オキ
シド、ジヒドロピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニ
ル基、ピリダジニル基、4H−1,2,4−トリアゾリ
ル、I H−1,2,3−トリアゾリル、2H−1,2
,3−トリアゾリル等のトリアゾリル基、IH−テトラ
ゾリル、2H−テトラゾリル等のテトラゾリル基等の1
〜4個の窒素原子を含有する3〜8員不飽和単環複素環
式基2.ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ
、ピペラジニル等の1〜4個の窒素原子を含有する3〜
8員飽和単環複素環式基、インドリル基、イソインドリ
ル基、イントリジニル基、ヘンズイミダゾリル基、キノ
リル基、イソキノリル基、イミダゾリル基、ヘンソトリ
アゾリル基等の1〜4個の窒素原子を含有す−る不飽和
縮合複素環式基、オキサジゾリル基、イソインドリル基
、1.2.4−オキサジアゾリル、1,3.4−オキサ
ジアゾリル、1゜2.5−オキサジアゾリル等のオキサ
ジアゾリル基等の1〜2個の酸素原子および1〜3個の
窒素原子を含有する3〜8員不飽和m環複素環式基、モ
ルポリニル、シトノニル等の1〜2個の酸素原子および
1〜3個の窒素原子を含有する3〜8員飽和単環複素環
式基、ヘンズオキサゾリル、ヘンスオキザンアゾリル等
の1〜2個の酸素原子および1〜3個の窒素原子を含有
する不飽和縮合複素環式基、チアゾリル基、インチアゾ
リル基、1゜2.3−デアジアゾリル、1.2.4−デ
アジアゾリル、1.3.4−チアジアゾリル、1,2.
5−チアンアゾリル等のチアジアゾリル基、ジヒドロチ
アジアジニル等の1〜2個の硫黄原子および1〜3個の
窒素原子を含有する3〜8員不飽和単環複素環式基、チ
アゾリジニル等の1〜2個の硫黄原子および1〜3個の
窒素原子を含有する3〜8員飽和単環複素環式基、チェ
ニル基、ジヒドロピリジル基、ジヒドロピリジル基等の
1〜2個の硫黄原子を含有する3〜8員不飽和単環複素
環式基、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の
1〜2個の硫黄原子および1〜3個の窒素原子を含有す
る不飽和縮合複素環式基、フリル基等の酸素原子を含有
する3〜B員不飽和単環複素環式基、ンヒドロオキサチ
イニル基等の酸素原子および1〜2個の硫黄原子を含有
する3〜8員不飽和単環複素環式基、ベンゾチェニル基
、ペンゾジチイニル基等の1〜2個の硫黄原子を含有す
る不飽和縮合複素環式基、ベンゾオキサチイニル基等の
酸素原子および1〜2個の硫黄原子を含有する不飽和縮
合複素環式基等が挙げられる。
ルカノイル基」および1複素環グリオギシロイル基」に
おける1複素環部分」は窒素原子、硫黄原子および酸素
原子等から選ばれた少なくとも1つの複素原子を含む、
飽和もしくは不飽和の重環もしくは多環の複素環式基で
あり、そのような複素環式基のうち好ましいものとして
は例えば、ピロ1)ル基、ビ1−+リニル基、イミダゾ
リル基、ピラゾリル基、ピリジル基およびそのN−オキ
シド、ジヒドロピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニ
ル基、ピリダジニル基、4H−1,2,4−トリアゾリ
ル、I H−1,2,3−トリアゾリル、2H−1,2
,3−トリアゾリル等のトリアゾリル基、IH−テトラ
ゾリル、2H−テトラゾリル等のテトラゾリル基等の1
〜4個の窒素原子を含有する3〜8員不飽和単環複素環
式基2.ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ
、ピペラジニル等の1〜4個の窒素原子を含有する3〜
8員飽和単環複素環式基、インドリル基、イソインドリ
ル基、イントリジニル基、ヘンズイミダゾリル基、キノ
リル基、イソキノリル基、イミダゾリル基、ヘンソトリ
アゾリル基等の1〜4個の窒素原子を含有す−る不飽和
縮合複素環式基、オキサジゾリル基、イソインドリル基
、1.2.4−オキサジアゾリル、1,3.4−オキサ
ジアゾリル、1゜2.5−オキサジアゾリル等のオキサ
ジアゾリル基等の1〜2個の酸素原子および1〜3個の
窒素原子を含有する3〜8員不飽和m環複素環式基、モ
ルポリニル、シトノニル等の1〜2個の酸素原子および
1〜3個の窒素原子を含有する3〜8員飽和単環複素環
式基、ヘンズオキサゾリル、ヘンスオキザンアゾリル等
の1〜2個の酸素原子および1〜3個の窒素原子を含有
する不飽和縮合複素環式基、チアゾリル基、インチアゾ
リル基、1゜2.3−デアジアゾリル、1.2.4−デ
アジアゾリル、1.3.4−チアジアゾリル、1,2.
5−チアンアゾリル等のチアジアゾリル基、ジヒドロチ
アジアジニル等の1〜2個の硫黄原子および1〜3個の
窒素原子を含有する3〜8員不飽和単環複素環式基、チ
アゾリジニル等の1〜2個の硫黄原子および1〜3個の
窒素原子を含有する3〜8員飽和単環複素環式基、チェ
ニル基、ジヒドロピリジル基、ジヒドロピリジル基等の
1〜2個の硫黄原子を含有する3〜8員不飽和単環複素
環式基、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の
1〜2個の硫黄原子および1〜3個の窒素原子を含有す
る不飽和縮合複素環式基、フリル基等の酸素原子を含有
する3〜B員不飽和単環複素環式基、ンヒドロオキサチ
イニル基等の酸素原子および1〜2個の硫黄原子を含有
する3〜8員不飽和単環複素環式基、ベンゾチェニル基
、ペンゾジチイニル基等の1〜2個の硫黄原子を含有す
る不飽和縮合複素環式基、ベンゾオキサチイニル基等の
酸素原子および1〜2個の硫黄原子を含有する不飽和縮
合複素環式基等が挙げられる。
前記のアシル部分は、1〜10個の同じかまたは異なっ
た適当な置換基を有していてもよい。これらの適当な置
換基としては、例えば低級アルキル基、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ等の低級アルコキシ基、メチルチオ、
エチルチオ等の低級アルキルチオ基、メチルアミノ等の
低級アルキルアミノ基、シクロペンチル、シクロへキシ
ル等のシクロ(低級)アルキル基、シクロへキセニル、
シクロへキサジェニル等のシクロ(低級)アルケニル基
、ハロゲン、アミノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシ基
、保護されたヒドロキシ基、シアン基、ニトロ基、カル
ボキシ基、保護されたカルボキシ、スルホ基5、スルフ
ァモイル基、イミノ基、オギソ基、アミノメチル、アミ
ノエチル等のアミノ(低級)アルキル基、式=N−OR
11[式中、R11は水素原子、メチル、エチノ呟プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の
低級アルキル基、ビニル、アリノ呟 2−ブテニル等の
低級アルケニル基、エチニル、2−プロピニル等の低級
アルキニル基、またはシクロプロピル、シクロペンチル
、シクロヘキシル等のシクロ(低級)アルキル基等を意
味する]で示される基等が挙げられる。
た適当な置換基を有していてもよい。これらの適当な置
換基としては、例えば低級アルキル基、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ等の低級アルコキシ基、メチルチオ、
エチルチオ等の低級アルキルチオ基、メチルアミノ等の
低級アルキルアミノ基、シクロペンチル、シクロへキシ
ル等のシクロ(低級)アルキル基、シクロへキセニル、
シクロへキサジェニル等のシクロ(低級)アルケニル基
、ハロゲン、アミノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシ基
、保護されたヒドロキシ基、シアン基、ニトロ基、カル
ボキシ基、保護されたカルボキシ、スルホ基5、スルフ
ァモイル基、イミノ基、オギソ基、アミノメチル、アミ
ノエチル等のアミノ(低級)アルキル基、式=N−OR
11[式中、R11は水素原子、メチル、エチノ呟プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の
低級アルキル基、ビニル、アリノ呟 2−ブテニル等の
低級アルケニル基、エチニル、2−プロピニル等の低級
アルキニル基、またはシクロプロピル、シクロペンチル
、シクロヘキシル等のシクロ(低級)アルキル基等を意
味する]で示される基等が挙げられる。
上記したアシル部分が式:=N−OR11(式中、R1
1は前と同し意味)で示される基を置換基として有する
場合には、その二重結合に由来する幾何異性体(シン異
性体およびアンチ異性体)が存在する。例えばシン異性
体とは式 %式% ] で示される基を有する幾何異性体を意味し、アンチ異性
体とは式 %式% で示される基を有するもう一方の幾何異性体を意味する
。
1は前と同し意味)で示される基を置換基として有する
場合には、その二重結合に由来する幾何異性体(シン異
性体およびアンチ異性体)が存在する。例えばシン異性
体とは式 %式% ] で示される基を有する幾何異性体を意味し、アンチ異性
体とは式 %式% で示される基を有するもう一方の幾何異性体を意味する
。
1保護されたカルボキシ基」としては、エステル化され
たカルボキシ基等が挙げられ、そのようなエステルの例
として例えば、メチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル
、イソブチルエステル、第3級ブチルエステル、ペンチ
ルエステル、第3級ペンチルニスデル、ヘキシルエステ
ル、1−シクロプロピルエチルエステル等の低級アルキ
ルエステル、ビニルエステル、アリルエステル等の低級
アルケニルエステル、エチニルエステル、プロピニルエ
ステル等の低級アルキニルエステル、2−ヨードエチル
エステル、2.2.2−M、1クロロエチルエステル等
のモノ−、シーモしくはトリハロ(低級)アルキルエス
テL、アセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシ
メチルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレ
リルオキシメチルエステル、ピバロイルオキジメチルエ
ステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、2−アセ
トキシエチルエステル、2−プロピオニルオキシエチル
エステル等の低級アルカノイルオキジ(低級)アルキル
エステル、2−メシルエチルエ、2.7 ルQ’lの低
級アルカンスルホニル(低級)アルキルエステル、ベン
ジルエステル、4−メトキシベンジルエステル、4−ニ
トロベンジルエステル、フェネチルエステル、トリチル
エステル、ジフェニルメチルエステル、ビス(メトキシ
フェニル)メチルエステル、3.4−ジメトキシベンジ
ルエステル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ第3級ブチル
ベンジルエステル等の1もしくは2以上の置換基を有し
てもよいフェニル(低級)アルキルエステルのようなア
ル(低級)アルキルエステル、フェニルエステル、トリ
ルエステル、第3級ブチルフェニルエステル、キシリル
エステル、メシチルエステル、クメニルエステル等の1
もしくは2以上の置換基を有していてもよいアリールエ
ステル等が挙げられる。
たカルボキシ基等が挙げられ、そのようなエステルの例
として例えば、メチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル
、イソブチルエステル、第3級ブチルエステル、ペンチ
ルエステル、第3級ペンチルニスデル、ヘキシルエステ
ル、1−シクロプロピルエチルエステル等の低級アルキ
ルエステル、ビニルエステル、アリルエステル等の低級
アルケニルエステル、エチニルエステル、プロピニルエ
ステル等の低級アルキニルエステル、2−ヨードエチル
エステル、2.2.2−M、1クロロエチルエステル等
のモノ−、シーモしくはトリハロ(低級)アルキルエス
テL、アセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシ
メチルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレ
リルオキシメチルエステル、ピバロイルオキジメチルエ
ステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、2−アセ
トキシエチルエステル、2−プロピオニルオキシエチル
エステル等の低級アルカノイルオキジ(低級)アルキル
エステル、2−メシルエチルエ、2.7 ルQ’lの低
級アルカンスルホニル(低級)アルキルエステル、ベン
ジルエステル、4−メトキシベンジルエステル、4−ニ
トロベンジルエステル、フェネチルエステル、トリチル
エステル、ジフェニルメチルエステル、ビス(メトキシ
フェニル)メチルエステル、3.4−ジメトキシベンジ
ルエステル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ第3級ブチル
ベンジルエステル等の1もしくは2以上の置換基を有し
てもよいフェニル(低級)アルキルエステルのようなア
ル(低級)アルキルエステル、フェニルエステル、トリ
ルエステル、第3級ブチルフェニルエステル、キシリル
エステル、メシチルエステル、クメニルエステル等の1
もしくは2以上の置換基を有していてもよいアリールエ
ステル等が挙げられる。
「低級アルキル基」としては直鎖もしくは分岐鎖状の飽
和脂肪族炭化水素残基が含まれ、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
3級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられるが、次
素数1ないし2のものが好ましい。
和脂肪族炭化水素残基が含まれ、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
3級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられるが、次
素数1ないし2のものが好ましい。
1アリール基、としては例えば、フェニル、トリル、キ
シリル、メシチル、クメニル、ナフチル等が挙げられる
。
シリル、メシチル、クメニル、ナフチル等が挙げられる
。
「ジ(低級)アルキルアミノ基」としては例えば、ジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、メチ
ルエチルアミノ等が挙げられる。
チルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、メチ
ルエチルアミノ等が挙げられる。
「アルキリデン基」としては直鎖もしくは分岐鎖状の二
価飽和脂肪族炭化水素残基が含まれ、例えばメチレン、
エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチリ
デン、イソブチリデン、第3級ブチリデン、ペンチリデ
ン、ヘキシリデン等が挙げられる。
価飽和脂肪族炭化水素残基が含まれ、例えばメチレン、
エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチリ
デン、イソブチリデン、第3級ブチリデン、ペンチリデ
ン、ヘキシリデン等が挙げられる。
「ヒドロキシ保護基」には、アシル基およびベンジル、
フェネチル、トリル等のアル(低級)アルキルのような
アシル以外の慣用される保護基が含まれる。
フェネチル、トリル等のアル(低級)アルキルのような
アシル以外の慣用される保護基が含まれる。
「ハロゲン原子」には、塩素原子、臭素原子、ふっ素原
子およびよう素原子が含まれる。
子およびよう素原子が含まれる。
R1の好ましい例としてはアミン基およびアシルアミノ
基、さらに好ましくはアミノ基、アリールオキシ(低級
)アルカノイルアミノ基、最も好ましくは例えばフェノ
キシアセトアミド、フェノキシプロピオンアミド等のフ
ェノキシ(低級)アルカノイルアミノ基、アル(低級)
アルコキシカルボニルアミノ基、最も好ましくは例えば
ベンジルオキシカルボニルアミノ、フェネチルオキシカ
ルボニルアミノ等のフェニル(低級)アルコキシカルボ
ニルアミノ基、低級アルコキシイミノ基を置換基として
有していてもよいアル(低級)アルカノイルアミノ基、
最も好ましくは例えばフェニルアセトアミド、フェニル
プロピオンアミド、2−メトキシイミノ−2−フェニル
アセトアミド、2−エトキシイミノ−2−フェニルアセ
トアミド、2−プロポキシイミノ−2−フェニルアセト
アミド、2−インプロボギシイミノー2−フェニルアセ
トアミド、2−ブトキシイミノ−2−フェニルアセトア
ミド、2−ペンチルオキシイミノ−2−フェニルアセト
アミド、2−へキシルオキシイミノ−2−フェニルアセ
トアミド等の低級アルコキシイミノ基を置換基として有
していてもよいフェニル(低級)アルカノイルアミノ基
、低級アルコキシイミノ基を置換基として有していても
よい複素環(低級)アルカノイルアミノ基、最も好まし
くは例えば2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド、2−メトキシイミノ
−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセ
トアミド、2−エトキシイミノ−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド、2−プロポキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアソール−4−イル)アセトア
ミド、2−イソプロポキシイミノ−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド、2−ブトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド、2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド、2−ペンチルオキ
シイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド、2−へキシルオキシイミノ−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド等の低
級アルコキシイミノ基およびアミン基もしくは低級アル
カノイルアミノ基を置換基として有するチアゾリル(低
級)アルカノイルアミノ基が挙げられ、R2の好ましい
例としてはカルボキシ基およびアル(低級)アルコキシ
カルボニル基、さらに好ましくはイ列えばベンジルオキ
シカルボニル、フェネヂルオキシカルボニル等のフェニ
ル(低級)アルコキシカルボニル基が挙げられる。
基、さらに好ましくはアミノ基、アリールオキシ(低級
)アルカノイルアミノ基、最も好ましくは例えばフェノ
キシアセトアミド、フェノキシプロピオンアミド等のフ
ェノキシ(低級)アルカノイルアミノ基、アル(低級)
アルコキシカルボニルアミノ基、最も好ましくは例えば
ベンジルオキシカルボニルアミノ、フェネチルオキシカ
ルボニルアミノ等のフェニル(低級)アルコキシカルボ
ニルアミノ基、低級アルコキシイミノ基を置換基として
有していてもよいアル(低級)アルカノイルアミノ基、
最も好ましくは例えばフェニルアセトアミド、フェニル
プロピオンアミド、2−メトキシイミノ−2−フェニル
アセトアミド、2−エトキシイミノ−2−フェニルアセ
トアミド、2−プロポキシイミノ−2−フェニルアセト
アミド、2−インプロボギシイミノー2−フェニルアセ
トアミド、2−ブトキシイミノ−2−フェニルアセトア
ミド、2−ペンチルオキシイミノ−2−フェニルアセト
アミド、2−へキシルオキシイミノ−2−フェニルアセ
トアミド等の低級アルコキシイミノ基を置換基として有
していてもよいフェニル(低級)アルカノイルアミノ基
、低級アルコキシイミノ基を置換基として有していても
よい複素環(低級)アルカノイルアミノ基、最も好まし
くは例えば2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド、2−メトキシイミノ
−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセ
トアミド、2−エトキシイミノ−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド、2−プロポキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアソール−4−イル)アセトア
ミド、2−イソプロポキシイミノ−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド、2−ブトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド、2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド、2−ペンチルオキ
シイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド、2−へキシルオキシイミノ−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド等の低
級アルコキシイミノ基およびアミン基もしくは低級アル
カノイルアミノ基を置換基として有するチアゾリル(低
級)アルカノイルアミノ基が挙げられ、R2の好ましい
例としてはカルボキシ基およびアル(低級)アルコキシ
カルボニル基、さらに好ましくはイ列えばベンジルオキ
シカルボニル、フェネヂルオキシカルボニル等のフェニ
ル(低級)アルコキシカルボニル基が挙げられる。
ここにおいて(Ia)、<Ia’)、(Ib)、(Ib
’)および(Ic)〜(If)はすべて(I>の範囲に
含まれるものである。
’)および(Ic)〜(If)はすべて(I>の範囲に
含まれるものである。
次にこの発明の目的化合物の製造法について詳細に説明
する。
する。
製造法人
1)<I[[>+(IV)−(V)[方法A−1]、(
I[[)+(X■)−(W>[方法A−1]および(X
I[)−(XXIVa)[方法A−1コ 化合物(V)および(■〉またはそれらの塩類は、化合
物(I[[)またはその塩類に化合物(IV)もしくは
そのカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩類
を反応させるか、または化合物(II[)またはその塩
類に化合物(X■)もしくはそのカルボキシ基における
反応性誘導体またはその塩類を反応させることによりそ
れぞれ製造される。化合物(IV)および(X■)のカ
ルボキシ基における反応性誘導体としては、例えば酸ハ
ライド、酸無水物、活性アミド、活性エステル等が挙げ
られる。また化合物(XX■8)またはその塩類は、化
合物(XI[)もしくはそのアミノ基における反応性誘
導体またはその塩類をアシル基の導入反応に付すことに
より製造される。
I[[)+(X■)−(W>[方法A−1]および(X
I[)−(XXIVa)[方法A−1コ 化合物(V)および(■〉またはそれらの塩類は、化合
物(I[[)またはその塩類に化合物(IV)もしくは
そのカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩類
を反応させるか、または化合物(II[)またはその塩
類に化合物(X■)もしくはそのカルボキシ基における
反応性誘導体またはその塩類を反応させることによりそ
れぞれ製造される。化合物(IV)および(X■)のカ
ルボキシ基における反応性誘導体としては、例えば酸ハ
ライド、酸無水物、活性アミド、活性エステル等が挙げ
られる。また化合物(XX■8)またはその塩類は、化
合物(XI[)もしくはそのアミノ基における反応性誘
導体またはその塩類をアシル基の導入反応に付すことに
より製造される。
化合物(Xll)のアミノ基における反応性誘導体とし
ては、例えば、化合物(XI[)とアルデヒド、ケトン
等のカルボニル化合物との反応により生成するシップの
塩基型イミノ誘導体もしくはその互変異性のエナミン型
の誘導体、インシアネート、化合物(Xπ)とビス(ト
リメチルシリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセ
トアミド等のシリル化合物との反応により生成するシリ
ル誘導体または化合物(XI[>と3塩化燐、ホスゲン
等との反応により生成する誘導体等の慣用されるものが
包含される。
ては、例えば、化合物(XI[)とアルデヒド、ケトン
等のカルボニル化合物との反応により生成するシップの
塩基型イミノ誘導体もしくはその互変異性のエナミン型
の誘導体、インシアネート、化合物(Xπ)とビス(ト
リメチルシリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセ
トアミド等のシリル化合物との反応により生成するシリ
ル誘導体または化合物(XI[>と3塩化燐、ホスゲン
等との反応により生成する誘導体等の慣用されるものが
包含される。
このアミン基へのアシル基導入反応は、化合物(XI[
)もしくはそのアミノ基における反応性誘導体またはそ
れらの塩類に、アシル化剤を反応させることにより行わ
れる。
)もしくはそのアミノ基における反応性誘導体またはそ
れらの塩類に、アシル化剤を反応させることにより行わ
れる。
この反応で用いられるアシル化剤としては、一般式:
R12−0H(XXV)(式中、R12ホアシル基を意
味する)で示される化合物もしくはその反応性誘導体、
またはその塩類が包含きれる。
R12−0H(XXV)(式中、R12ホアシル基を意
味する)で示される化合物もしくはその反応性誘導体、
またはその塩類が包含きれる。
化合物(xxv)もしくはその反応性誘導体またはその
塩類をアミノ基へのアシル基導入剤として用いると、ア
シル基R12が化合物(XII)の3位のアミン基に導
入される。適当なアシル基としては、前に例示したもの
が含まれる。
塩類をアミノ基へのアシル基導入剤として用いると、ア
シル基R12が化合物(XII)の3位のアミン基に導
入される。適当なアシル基としては、前に例示したもの
が含まれる。
化合物(X X V )のカルボキシ基における反応性
誘導体としては、例えば酸ハライド、酸無水物、活性ア
ミド、活性エステル等が挙げられるが、さらに詳細には
酸クロリド、酸アジド、ジアルキル1’)A[、フェニ
ルりん酸、ジフェニルりん酸、シベンジルりん酸、ハロ
ゲン化りん酸等の置換りん酸、ジアルキル亜りん酸、亜
硫酸、チオ硫酸、硫酸、アルキル炭酸、脂肪族カルボン
酸(たとえばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸
、2−エチルブタン酸、トリクロル酢酸)、芳香族カル
ボン酸(たとえば安息香酸)等の酸との混合酸無水物、
対称形酸無水物等の酸無水物、イミダゾール、4−置換
イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾール、テ
トラゾールなどとの活性酸アミド、シアノメチルエステ
ル、メトキシメチルエステJl=、ジメチルイミノメチ
ル[:(CH3)2N+=C)I−]エステル、ビニル
エステル、プロパルギルエステル、p−ニトロフェニル
エステル、2.4−ジニトロフェニルエステル、トリク
ロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル
、メシルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエス
テル、フェニルチオエステル、p−ニトロフェニルチオ
エステル、p−タレジルチオエステル、カルボキシメチ
ルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル
、ピペリジルエステル、8−キノリルチオエステル、ま
たはN、N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロ
キシ−2−(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシフタル
イミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ
−6−クロロ−IH−ベンゾ)・リアゾール等とのエス
テル等の活性ニスデル類等が挙げられ、これらの反応性
誘導体は使用する化合物(XXV)の27一 種類に応じて適宜選択される。
誘導体としては、例えば酸ハライド、酸無水物、活性ア
ミド、活性エステル等が挙げられるが、さらに詳細には
酸クロリド、酸アジド、ジアルキル1’)A[、フェニ
ルりん酸、ジフェニルりん酸、シベンジルりん酸、ハロ
ゲン化りん酸等の置換りん酸、ジアルキル亜りん酸、亜
硫酸、チオ硫酸、硫酸、アルキル炭酸、脂肪族カルボン
酸(たとえばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸
、2−エチルブタン酸、トリクロル酢酸)、芳香族カル
ボン酸(たとえば安息香酸)等の酸との混合酸無水物、
対称形酸無水物等の酸無水物、イミダゾール、4−置換
イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾール、テ
トラゾールなどとの活性酸アミド、シアノメチルエステ
ル、メトキシメチルエステJl=、ジメチルイミノメチ
ル[:(CH3)2N+=C)I−]エステル、ビニル
エステル、プロパルギルエステル、p−ニトロフェニル
エステル、2.4−ジニトロフェニルエステル、トリク
ロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル
、メシルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエス
テル、フェニルチオエステル、p−ニトロフェニルチオ
エステル、p−タレジルチオエステル、カルボキシメチ
ルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル
、ピペリジルエステル、8−キノリルチオエステル、ま
たはN、N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロ
キシ−2−(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシフタル
イミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ
−6−クロロ−IH−ベンゾ)・リアゾール等とのエス
テル等の活性ニスデル類等が挙げられ、これらの反応性
誘導体は使用する化合物(XXV)の27一 種類に応じて適宜選択される。
化合物(XXV)の塩類としては、前記したようなアル
カリ金属塩(例えばナトリウムまたはカリウム塩)、ア
ルカリ土類金属塩(例えばカルシウムまたはマグネシウ
ム塩)等の無機塩基との塩、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ジシクロへキシルアミン等の有機塩基との
塩等が挙げられる。
カリ金属塩(例えばナトリウムまたはカリウム塩)、ア
ルカリ土類金属塩(例えばカルシウムまたはマグネシウ
ム塩)等の無機塩基との塩、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ジシクロへキシルアミン等の有機塩基との
塩等が挙げられる。
化合物(XI[)と化合物<X X V >の反応は通
常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロ
ロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロ
フラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルポルムアミ阻
ピリジンまたはその他の反応に悪影響を及ぼさない一般
有機溶媒等の慣用溶媒中で行なわれ、これらのうち、親
水性の溶媒は水と混合して使用することもできる。
常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロ
ロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロ
フラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルポルムアミ阻
ピリジンまたはその他の反応に悪影響を及ぼさない一般
有機溶媒等の慣用溶媒中で行なわれ、これらのうち、親
水性の溶媒は水と混合して使用することもできる。
この反応において化合物(X X V )を遊離酸もし
くはその塩の状態で使用する際は、たとえば、N、N’
−ジシクロへキシルカルボジイミド、N−シクロへキシ
ル−N′−モルホリノエチルカルポジイミド、N−シク
ロヘキシル−N’ −(4−ジエチルアミノシクロヘ
キシル)カルボジイミド、N、N’−ジエチルカルボジ
イミド、N、N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N
−エチル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル イミド等のカルボジイミド類、N,N’ −カルボニル
ビス(2−メチルイミダゾール)、ペンタメチレンケテ
ン−N−シクロヘキシルイミン、ジフェニルケテン−N
−シクロヘキシルイミン、アルコキシアセチレン、1−
アルコキシ−1−クロロエチレン、亜りん酸トリアルキ
ルエステル、ポリりん酸エチルエステル、ポリりん酸イ
ソプロピルエステル、オキシ塩化りん、3塩化りん、塩
化チオニル、塩化オキサリル、トリフェニルホスフィン
、N−エチルベンズイソキサゾリウム塩、N−エチル−
5−フェニルインキサゾリウム−3′−スルホ−J−
−ト、t−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−
6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール、ジメチルホル
ムアミドおよびオキシ塩化燐から製造される(クロロメ
チレン)ジメチルアンモニウj2クロリド等のビルスマ
イヤー試薬等の慣用縮合剤の存在下に行なうのが有利で
ある。
くはその塩の状態で使用する際は、たとえば、N、N’
−ジシクロへキシルカルボジイミド、N−シクロへキシ
ル−N′−モルホリノエチルカルポジイミド、N−シク
ロヘキシル−N’ −(4−ジエチルアミノシクロヘ
キシル)カルボジイミド、N、N’−ジエチルカルボジ
イミド、N、N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N
−エチル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル イミド等のカルボジイミド類、N,N’ −カルボニル
ビス(2−メチルイミダゾール)、ペンタメチレンケテ
ン−N−シクロヘキシルイミン、ジフェニルケテン−N
−シクロヘキシルイミン、アルコキシアセチレン、1−
アルコキシ−1−クロロエチレン、亜りん酸トリアルキ
ルエステル、ポリりん酸エチルエステル、ポリりん酸イ
ソプロピルエステル、オキシ塩化りん、3塩化りん、塩
化チオニル、塩化オキサリル、トリフェニルホスフィン
、N−エチルベンズイソキサゾリウム塩、N−エチル−
5−フェニルインキサゾリウム−3′−スルホ−J−
−ト、t−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−
6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール、ジメチルホル
ムアミドおよびオキシ塩化燐から製造される(クロロメ
チレン)ジメチルアンモニウj2クロリド等のビルスマ
イヤー試薬等の慣用縮合剤の存在下に行なうのが有利で
ある。
また、この反応は炭酸水素アルカリ金属、炭酸アルカリ
金属、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、N−(
低級)アルキルモルホリン、N、N−シ(低級)アルキ
ルヘンシルアミン、N、N−ジ(低級)アルキルアニリ
ン等の無機もしくは有機の塩基の存在下に行なってもよ
い。また、塩基または縮合剤が液体の場合には、溶媒を
兼ねて使用することができる。反応温度は特に限定され
ないが、通常冷却下ないし室温で行われることが多い。
金属、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、N−(
低級)アルキルモルホリン、N、N−シ(低級)アルキ
ルヘンシルアミン、N、N−ジ(低級)アルキルアニリ
ン等の無機もしくは有機の塩基の存在下に行なってもよ
い。また、塩基または縮合剤が液体の場合には、溶媒を
兼ねて使用することができる。反応温度は特に限定され
ないが、通常冷却下ないし室温で行われることが多い。
この反応において、化合物(XXV)としてR12のア
シル基が式:=N−OR(式中R11は前と同じ意味)
で示される基を有するものを用いる場合には、その活性
化処理中または化合物(XI[>との反応中に、反応条
件等の環境によって、シンおよびアンチ幾何異性体の間
で部分的またはほぼ完全な異性化が起ることがある。一
般に、この異性化はより安定なアンチ異性体に向かって
平衡が傾いている。このような化合物(X X V )
の化学的特性を考えると、[1重化合物(XXIVa)
のシン異性体を選択的かつ高収率に得るためには、原料
化合物<X X V >とじてシン異性体を用い、しか
もシン異性体を選択的かつ高収率に得るのに適した反応
条件を選択する必要がある。例えば、この目的のために
、この方法のアシル化反応′をビルスマイヤー試薬等の
縮合剤の存在下に中性附近等の反応条件下で、化合物(
XII)と(X、XV)を反応させることにより行なう
のが好ましい。
シル基が式:=N−OR(式中R11は前と同じ意味)
で示される基を有するものを用いる場合には、その活性
化処理中または化合物(XI[>との反応中に、反応条
件等の環境によって、シンおよびアンチ幾何異性体の間
で部分的またはほぼ完全な異性化が起ることがある。一
般に、この異性化はより安定なアンチ異性体に向かって
平衡が傾いている。このような化合物(X X V )
の化学的特性を考えると、[1重化合物(XXIVa)
のシン異性体を選択的かつ高収率に得るためには、原料
化合物<X X V >とじてシン異性体を用い、しか
もシン異性体を選択的かつ高収率に得るのに適した反応
条件を選択する必要がある。例えば、この目的のために
、この方法のアシル化反応′をビルスマイヤー試薬等の
縮合剤の存在下に中性附近等の反応条件下で、化合物(
XII)と(X、XV)を反応させることにより行なう
のが好ましい。
2)(IX)+(X)→(X I )[方法A−1]化
合物(X I )またはその塩類は、化合物(IX)ま
たはその塩類に化合物(X)もしくはそのヒドロキシ基
における反応性誘導体またはその塩類を反応させること
により製造される。
合物(X I )またはその塩類は、化合物(IX)ま
たはその塩類に化合物(X)もしくはそのヒドロキシ基
における反応性誘導体またはその塩類を反応させること
により製造される。
化合物(X)のヒドロキシ基における反応性誘導体とし
ては、化合物(XXV)の反応性誘導体として例示した
ものが挙げられる。この反応は、製造法人−1)で説明
したのと実質的に同様の方法で行われる。
ては、化合物(XXV)の反応性誘導体として例示した
ものが挙げられる。この反応は、製造法人−1)で説明
したのと実質的に同様の方法で行われる。
製造法珪
(V)−(VI)[方法A−11、(XVI)−(XI
V)[方法A−3コおよび(I d)= (I e)
[方法C]化合物(VI>、(XIV)および(Ie)
またはそれらの塩類は、化合物(V)、(XVI)およ
び(Id)またはそれらの塩類をヒドロキシ保護基の脱
離反応に付すことによりそれぞれ製造される。
V)[方法A−3コおよび(I d)= (I e)
[方法C]化合物(VI>、(XIV)および(Ie)
またはそれらの塩類は、化合物(V)、(XVI)およ
び(Id)またはそれらの塩類をヒドロキシ保護基の脱
離反応に付すことによりそれぞれ製造される。
この脱離反応には、加水分解、還元、ルイス酸を用いる
脱S、方法等のヒドロキシ保護基の脱離方法として慣用
きれるすべての方法が適用できる。
脱S、方法等のヒドロキシ保護基の脱離方法として慣用
きれるすべての方法が適用できる。
加水分解は塩基または酸の存在下に行なうのが好ましい
。
。
使用きれる酸としては、ぎ酸、酢酸、プロピオン酸等の
有機酸および塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸等が挙
げられる。
有機酸および塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸等が挙
げられる。
この加水分解反応は、通常、有機溶媒、水またはそれら
の混合溶媒中で行われる。
の混合溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定きれず、脱離されるヒドロキシ保護
基の種類および脱離方法に従って、適宜選択される。
基の種類および脱離方法に従って、適宜選択される。
ルイス酸を用いる脱離方法は、置換または非置換アル(
低級)アルキル基の脱離に適しており、化合物(V>、
(XVI)および(Id)またはそれら塩類をルイス酸
と反応させることにより行われる。
低級)アルキル基の脱離に適しており、化合物(V>、
(XVI)および(Id)またはそれら塩類をルイス酸
と反応させることにより行われる。
このようなルイス酸としては例えば、3塩化はう素、3
ふり化はう素等の3ハロゲン化はう素、4塩化チタン、
4臭化ヂタン等の4ハロゲン化チタン、4塩化錫、4臭
化錫等の4ハロゲン化錫、塩化アルミニウム、臭化アル
ミニウム等のハロゲン化アルミニウム、トリクロロ酢酸
、トリフルオロ酢酸等の3ハロゲン化酢酸等が挙げられ
る。この脱離反応はアニソール、フェノール等の陽イオ
ントラッピング剤の存在下に行なうのが好ましく、また
通常、溶媒中で行われる。溶媒としては、ニトロメタン
、ニトロエタン等のニトロアルカン、塩化メチレン、塩
化エチレン等のハロゲン化アルキレン、ジエチルエーテ
ル、2硫化炭素、その他この反応に悪影響を及ぼきない
すべての溶媒が挙げられる。さらに、これらの溶媒は混
合してもよい。反応温度は特に限定されないが、通常、
冷却下、室温ないしは加温下に行われることが多い。
ふり化はう素等の3ハロゲン化はう素、4塩化チタン、
4臭化ヂタン等の4ハロゲン化チタン、4塩化錫、4臭
化錫等の4ハロゲン化錫、塩化アルミニウム、臭化アル
ミニウム等のハロゲン化アルミニウム、トリクロロ酢酸
、トリフルオロ酢酸等の3ハロゲン化酢酸等が挙げられ
る。この脱離反応はアニソール、フェノール等の陽イオ
ントラッピング剤の存在下に行なうのが好ましく、また
通常、溶媒中で行われる。溶媒としては、ニトロメタン
、ニトロエタン等のニトロアルカン、塩化メチレン、塩
化エチレン等のハロゲン化アルキレン、ジエチルエーテ
ル、2硫化炭素、その他この反応に悪影響を及ぼきない
すべての溶媒が挙げられる。さらに、これらの溶媒は混
合してもよい。反応温度は特に限定されないが、通常、
冷却下、室温ないしは加温下に行われることが多い。
還元による脱離方法は、2−ヨードエチル、2.2.2
−1−リクロロエチル等のハロ(低級)アルキル等の保
護基を脱離するのに適している。
−1−リクロロエチル等のハロ(低級)アルキル等の保
護基を脱離するのに適している。
この還元による脱離方法としては例えば、亜鉛、亜鉛ア
マルガム等の金属または塩化第1クロム、酢酸第1クロ
ム等のクロム化合物の塩類と酢酸、プロピオン酸、塩酸
等の有機または無機酸とを組み合わせて用いる還元、お
よび慣用する金属触媒の存在下に行う接触還元等の方法
が挙げられる。
マルガム等の金属または塩化第1クロム、酢酸第1クロ
ム等のクロム化合物の塩類と酢酸、プロピオン酸、塩酸
等の有機または無機酸とを組み合わせて用いる還元、お
よび慣用する金属触媒の存在下に行う接触還元等の方法
が挙げられる。
製造法C
(VI )−(■〉[方法A−1コおよび(XIV)−
(IX)[方法A−2] 化合物(■)および(IX)またはそれらの塩類は、化
合物(VI)および(XIV)またはそれらの塩類をヒ
ドロキシ保護基の導入反応(こ付ずことによりそれぞれ
製造される。
(IX)[方法A−2] 化合物(■)および(IX)またはそれらの塩類は、化
合物(VI)および(XIV)またはそれらの塩類をヒ
ドロキシ保護基の導入反応(こ付ずことによりそれぞれ
製造される。
この反応は製造法A−1)で説明したのと実質的に同様
の方法で行われる。反応は通常溶媒中で行われ、その溶
媒としては塩化メチレン、その他この反応に悪影響を及
ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限
定されないが、通常冷却下または室温で行われることが
多い。
の方法で行われる。反応は通常溶媒中で行われ、その溶
媒としては塩化メチレン、その他この反応に悪影響を及
ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限
定されないが、通常冷却下または室温で行われることが
多い。
製造法D
(■)→(■)[方法人−1]、(Vl)→(XI[[
)[方法A−2コおよび(V)−(XV)[方法A−3
]化合物(■)、(XII[)および(XV)またはそ
れらの塩類は、化合物(■)、(VI)および(V)ま
たはそれらの塩類をハロゲン化することによりそれぞれ
製造される。
)[方法A−2コおよび(V)−(XV)[方法A−3
]化合物(■)、(XII[)および(XV)またはそ
れらの塩類は、化合物(■)、(VI)および(V)ま
たはそれらの塩類をハロゲン化することによりそれぞれ
製造される。
この反応は、例えば塩素、臭素等のハロゲンのようなハ
ロゲン化剤を用いて行われる。この反応は、通常慣用さ
れる溶媒中で行われ、その溶媒としては、塩化メチレン
、クロロポルム、その他この反応に悪影響を及ぼさない
すべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定されな
いが、通常冷却下または室温で行われることが多い。
ロゲン化剤を用いて行われる。この反応は、通常慣用さ
れる溶媒中で行われ、その溶媒としては、塩化メチレン
、クロロポルム、その他この反応に悪影響を及ぼさない
すべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定されな
いが、通常冷却下または室温で行われることが多い。
=35−
製造法E
(■)−<IX)[方法A−1]、(XI[)→(XI
V)[方法A−2]および(X V )→(X Vl)
[方法A−3]化合物(IX>、(XIV)および(X
VI)またはそれらの塩類は、化合物く■)、(XI[
[)および(XV)またはそれらの塩類を閉環反応に付
すことによりそれぞれ製造される。
V)[方法A−2]および(X V )→(X Vl)
[方法A−3]化合物(IX>、(XIV)および(X
VI)またはそれらの塩類は、化合物く■)、(XI[
[)および(XV)またはそれらの塩類を閉環反応に付
すことによりそれぞれ製造される。
この反応は、無機金属塩の存在下に行なうのが好ましく
、無機金属塩としては、例えば4ふっ化はう素酸銀、過
塩素酸銀等の銀塩、塩化錫、塩化亜鉛等が挙げられる。
、無機金属塩としては、例えば4ふっ化はう素酸銀、過
塩素酸銀等の銀塩、塩化錫、塩化亜鉛等が挙げられる。
また、この反応は、例えば酸化銀等の塩基の存在下に行
なうことができる。
なうことができる。
この反応は、通常溶媒中で行われ、その溶媒としては、
塩化メチレン、トルエン、クロロホルム、その他この反
応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反
応温度は特に限定されないが、通常冷却下または室温で
行われることが多い。
塩化メチレン、トルエン、クロロホルム、その他この反
応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反
応温度は特に限定されないが、通常冷却下または室温で
行われることが多い。
製造法F
(■> →(xn)[方法A−1コおよびりXl)→(
xxNa)[方法A−1コ 化合物(XII)および(X X IVa)またはそれ
らの塩類は、化合物(IX)および(XI)またはそれ
らの塩類を開環反応に付すことによりそれぞれ製造され
る。
xxNa)[方法A−1コ 化合物(XII)および(X X IVa)またはそれ
らの塩類は、化合物(IX)および(XI)またはそれ
らの塩類を開環反応に付すことによりそれぞれ製造され
る。
この反応は、例えば、特に酸を用いる、加水分解のよう
な慣用される方法によって行われる。使用される酸とし
ては、ぎ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、
p−トルエンスルホン酸、塩酸、α−樟脳スルポン酸等
の有機および無機の酸が挙げられる。この反応は、通常
慣用される溶媒中で行われ、その溶媒としては、塩化メ
チレン、アセトン、その他この反応に悪影響を及ぼさな
いすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定され
ないが、通常冷却下、室温または加温下に行われること
が多い。
な慣用される方法によって行われる。使用される酸とし
ては、ぎ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、
p−トルエンスルホン酸、塩酸、α−樟脳スルポン酸等
の有機および無機の酸が挙げられる。この反応は、通常
慣用される溶媒中で行われ、その溶媒としては、塩化メ
チレン、アセトン、その他この反応に悪影響を及ぼさな
いすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定され
ないが、通常冷却下、室温または加温下に行われること
が多い。
製造法G
(X■)+(X■)→(XIX)[方法B−1]および
(X X I )+(X■)−(XXII)[方法B−
2コ化合物(XIX)またはその塩類および化合物(X
XIT)は、化合物(X■)またはその塩類および化合
物(X X I >に化合物(X■)もしくはそのカル
ボキシ基における反応性誘導体またはその塩類を反応さ
せることによりそれぞれ製造される。
(X X I )+(X■)−(XXII)[方法B−
2コ化合物(XIX)またはその塩類および化合物(X
XIT)は、化合物(X■)またはその塩類および化合
物(X X I >に化合物(X■)もしくはそのカル
ボキシ基における反応性誘導体またはその塩類を反応さ
せることによりそれぞれ製造される。
反応条件は、製造法A−1〉について説明したのとほぼ
同様である。
同様である。
聚股迭M
(X IX)−(X X IVb)[方法B−1]化合
物(XXIVb)またはその塩類は、化合物(XIX)
j−たはその塩類を異性化させることにより製造される
。
物(XXIVb)またはその塩類は、化合物(XIX)
j−たはその塩類を異性化させることにより製造される
。
この反応は、梨−進法A−1)で例示した塩基の存在下
に行われる。この反応は、通常使用される溶媒中で行わ
れ、その溶媒としては、ベンゼン、その他この反応に悪
影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度
は特に限定されないが、通常冷却下または室温で行われ
ることが多い。
に行われる。この反応は、通常使用される溶媒中で行わ
れ、その溶媒としては、ベンゼン、その他この反応に悪
影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度
は特に限定されないが、通常冷却下または室温で行われ
ることが多い。
製造法■
(XXI[)+(XXI[[)−(Ib’ )[方法B
−2]化合物(Ib’)またはその塩類は、化合物(X
X■)に化合物(XXIl[)またはその塩類を反応さ
せることによって製造される。
−2]化合物(Ib’)またはその塩類は、化合物(X
X■)に化合物(XXIl[)またはその塩類を反応さ
せることによって製造される。
この反応は通常慣用される溶媒中で行われ、その溶媒と
しては、ベンゼン、その他この反応に悪影響を及ぼ許な
いすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定され
ないが、通常室温または加熱下に行われることが多い。
しては、ベンゼン、その他この反応に悪影響を及ぼ許な
いすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定され
ないが、通常室温または加熱下に行われることが多い。
■仄J
(X IX)−(X X H方法B−1]、(X X
)−<I a’>[方法B−1]および(X X IV
>=(I a)[方法Cコ化合物(XX)、(Ia’)
および(ta)またはそれらの塩類は、化合物(XIX
)、(XX)および(XIX〉またはそれらの塩類をオ
ゾン分解に付し、次いで得られた化合物を必要に応じて
還元反応に付すことにより製造される。
)−<I a’>[方法B−1]および(X X IV
>=(I a)[方法Cコ化合物(XX)、(Ia’)
および(ta)またはそれらの塩類は、化合物(XIX
)、(XX)および(XIX〉またはそれらの塩類をオ
ゾン分解に付し、次いで得られた化合物を必要に応じて
還元反応に付すことにより製造される。
オゾン分解反応は、化合物(XIX)、(XX)および
(XXIV)にオソンを反応きせることにより行わ一3
9= れる。
(XXIV)にオソンを反応きせることにより行わ一3
9= れる。
この反応は、通常、溶媒中で行なわれ、溶媒としては酢
酸ニゲル、酢酸メチル、その他この反応に悪影響を及ぼ
さないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定
きれないが、通常、冷却下ないしは室温で行われること
が多い。
酸ニゲル、酢酸メチル、その他この反応に悪影響を及ぼ
さないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定
きれないが、通常、冷却下ないしは室温で行われること
が多い。
この反応で、対応するオシニド化合物が得られた場合、
化合物(XX)、(Ia’)および(Ia)またはその
塩類は、このオシニド化合物を、さらに亜硫酸ナトリウ
ム、酸性亜硫酸ナトリウム、硫化ジメチル、トリメチル
ホスファイト等の慣用する還元剤を用いて還元すること
により得られる。この反応は、通常、溶媒中で行なわれ
、溶媒としては酢酸エチル、その他この反応に悪影響を
及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に
限定されないが、通常、冷却下ないしは室温で行なわれ
ることが多い。
化合物(XX)、(Ia’)および(Ia)またはその
塩類は、このオシニド化合物を、さらに亜硫酸ナトリウ
ム、酸性亜硫酸ナトリウム、硫化ジメチル、トリメチル
ホスファイト等の慣用する還元剤を用いて還元すること
により得られる。この反応は、通常、溶媒中で行なわれ
、溶媒としては酢酸エチル、その他この反応に悪影響を
及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に
限定されないが、通常、冷却下ないしは室温で行なわれ
ることが多い。
製造法K
(■8)→(I b) [方法Cコ
化合物(Ib)またはその塩類は、化合物<Ia)また
はその塩類を還元反応に付すことにより製造される。
はその塩類を還元反応に付すことにより製造される。
この還元反応は、−CO−基を対応する一CH(OH)
−基に変換するのに慣用する還元方法が適用され、この
ような還元方法としては、亜鉛のような金属と酢酸、プ
ロピオン酸、塩酸等の有機または無機酸の組み合わせの
試剤を用いる方法、水素化はう素リチウム、水素化はう
素ナトリウム、アルミニウムアマルガム等の金属アマル
ガムを用いる還元方法および接触還元方法等が挙げられ
る。この反応は、通常、溶媒中で行われ、溶媒としては
塩化メチレン、テトラヒドロフラン、その他この反応に
悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温
度は、特に限定されないが、通常、冷却下、室温ないし
は加温下で行われることが多い。
−基に変換するのに慣用する還元方法が適用され、この
ような還元方法としては、亜鉛のような金属と酢酸、プ
ロピオン酸、塩酸等の有機または無機酸の組み合わせの
試剤を用いる方法、水素化はう素リチウム、水素化はう
素ナトリウム、アルミニウムアマルガム等の金属アマル
ガムを用いる還元方法および接触還元方法等が挙げられ
る。この反応は、通常、溶媒中で行われ、溶媒としては
塩化メチレン、テトラヒドロフラン、その他この反応に
悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温
度は、特に限定されないが、通常、冷却下、室温ないし
は加温下で行われることが多い。
製造法L
(Ib)→(I c) [方法C]
化合物(Ic)またはその塩類は、化合物(Ib)また
はその塩類をハロゲン化することにより製造される。
はその塩類をハロゲン化することにより製造される。
このハロゲン化反応は、3/Xロゲン化燐、5/Atロ
ゲン化燐、オキシ塩化燐、ハロゲン化チオニル等の慣用
されるハロゲン化剤を用いて行われる。
ゲン化燐、オキシ塩化燐、ハロゲン化チオニル等の慣用
されるハロゲン化剤を用いて行われる。
この反応は、ルチジン、ピリジン等の塩基の存在下に行
ってもよい。この反応は、通常、溶媒中でイjわれ、溶
媒としては塩化メチレン、その他この反応に悪影響を及
ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限
定されないが、通常、冷却下、室温ないしは加温下に行
われることが多い。
ってもよい。この反応は、通常、溶媒中でイjわれ、溶
媒としては塩化メチレン、その他この反応に悪影響を及
ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限
定されないが、通常、冷却下、室温ないしは加温下に行
われることが多い。
製造法M
(Ic)→(I d> [方法Cコ
化合物(Id)またはその塩類は、化合物(Ic)また
はその塩類に、一般式:P(OR)3またはよびR5は
それぞれ前と同し意味)で示される化合物を反応許せる
ことにより製造きれる。
はその塩類に、一般式:P(OR)3またはよびR5は
それぞれ前と同し意味)で示される化合物を反応許せる
ことにより製造きれる。
R4は前と同じ意味)で示される化合物を用いる場合に
は、この反応は先に挙げた塩基の存在下に行うのが好ま
しい。この反応は、通常、溶媒中で行われ、溶媒として
は塩化メチレン、ベンゼン、その他この反応に悪影響を
及ぼきないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に
限定されないが、通常、室温ないしは加温下で行われる
ことが多い。
は、この反応は先に挙げた塩基の存在下に行うのが好ま
しい。この反応は、通常、溶媒中で行われ、溶媒として
は塩化メチレン、ベンゼン、その他この反応に悪影響を
及ぼきないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に
限定されないが、通常、室温ないしは加温下で行われる
ことが多い。
製造法N
(Ie)→(I f) [方法Cコ
化合物(If)またはその塩類は、化合物(Ie)*た
はその塩類を酸化することにより製造きれる。
はその塩類を酸化することにより製造きれる。
この酸化反応で用いられる酸化剤としては、ヒドロキシ
メチル基をホルミル基に酸化するのに慣用される試剤が
挙げられる。
メチル基をホルミル基に酸化するのに慣用される試剤が
挙げられる。
原料化合物が、そのアゼチジノン環の4位に2−ヒドロ
キシアセトキシ基を有する場合、その酸化剤としては、
(1)ジメチルスルホキシドおよび=43− ジシクロへキシルカルボジイミド、ジメチルスルホキシ
ドおよび無水酢酸、ジメチルスルホキシドおよび5酸化
燐、ジメチルスルホキシドおよび3酸化硫黄−ピリジン
、ジメチルスルホキシドおよびケテンイミン、ジメチル
スルホキシドおよび塩素、ジメチルスルホキシドおよび
酢酸水銀、ジメチルスルホキシドおよびN−クロロスク
シンイミド、ジメチルスルフィド(またはメチルフェニ
ルスルフィド)および塩素等の反応により生成される活
性ジメチルスルホキシド、 (2)3酸化クロム−ピリジン、3酸化クロム−硫酸2
クロム酸ナトリウム、2クロム酸カリウム等の2クロム
酸アルカリ金属塩、クロム酸第3級ブチル等のクロム酸
低級アルキル等のクロム化合物などが挙げられる。
キシアセトキシ基を有する場合、その酸化剤としては、
(1)ジメチルスルホキシドおよび=43− ジシクロへキシルカルボジイミド、ジメチルスルホキシ
ドおよび無水酢酸、ジメチルスルホキシドおよび5酸化
燐、ジメチルスルホキシドおよび3酸化硫黄−ピリジン
、ジメチルスルホキシドおよびケテンイミン、ジメチル
スルホキシドおよび塩素、ジメチルスルホキシドおよび
酢酸水銀、ジメチルスルホキシドおよびN−クロロスク
シンイミド、ジメチルスルフィド(またはメチルフェニ
ルスルフィド)および塩素等の反応により生成される活
性ジメチルスルホキシド、 (2)3酸化クロム−ピリジン、3酸化クロム−硫酸2
クロム酸ナトリウム、2クロム酸カリウム等の2クロム
酸アルカリ金属塩、クロム酸第3級ブチル等のクロム酸
低級アルキル等のクロム化合物などが挙げられる。
ジメチルスルホキシドおよびジシクロへキシルカルボジ
イミドを用いる酸化反応は、プロトン供与体の存在下に
行うのが好ましく、そのようなプロトン供与体としては
例えば、燐酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸等の酸
、トリフルオロ酢酸一ピリジン、燐酸−ピリジン等の酸
および塩基の混合物等が挙げられる。
イミドを用いる酸化反応は、プロトン供与体の存在下に
行うのが好ましく、そのようなプロトン供与体としては
例えば、燐酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸等の酸
、トリフルオロ酢酸一ピリジン、燐酸−ピリジン等の酸
および塩基の混合物等が挙げられる。
この酸化反応は酸または塩基の存在下または不存在下に
行ってもよく、それらは用いられる酸化剤の種類によっ
て適宜選択される。
行ってもよく、それらは用いられる酸化剤の種類によっ
て適宜選択される。
この反応は、溶媒の存在下または無溶媒下に行われ、溶
媒としては、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化
メチレン、四塩化炭素、ジエチル工−テ4.ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、その他この反応に
悪影響を及ぼきないすべての溶媒が挙げられ、その溶媒
は用いる酸化剤の種類によって適宜選択される。
媒としては、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化
メチレン、四塩化炭素、ジエチル工−テ4.ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、その他この反応に
悪影響を及ぼきないすべての溶媒が挙げられ、その溶媒
は用いる酸化剤の種類によって適宜選択される。
この酸化反応工程における反応温度は特に限定されず、
冷却、室温、加温または加熱下のいずれで反応が行われ
てもよい。また、反応温度は例えば用いる酸化剤の種類
によって適宜選択される。
冷却、室温、加温または加熱下のいずれで反応が行われ
てもよい。また、反応温度は例えば用いる酸化剤の種類
によって適宜選択される。
次にこの発明の目的化合物より抗かび活性を有する有用
な化合物(I[)を得るための製造法について詳細に説
明する。
な化合物(I[)を得るための製造法について詳細に説
明する。
−ル佐−1
化合物(II)またはその塩類は、化合物(I[)もし
くはそのホルミル基における反応性誘導体また(Hその
塩類を閉環反応に付1ことにより製造される。
くはそのホルミル基における反応性誘導体また(Hその
塩類を閉環反応に付1ことにより製造される。
化合物(If)のポルミル基における反応性誘導体とし
ては、慣用されるポルミル基における慣用される反応性
誘導体およびこの反応で化合物(If)と均等の作用を
有している反応性誘導体等が包含される。適当な反応性
誘導体どしては例えば、ジメチルア(ごタール、ジエチ
ルアセタール等のアセタール、ヘミアセクール、水化物
(オルトアルデヒドまたはンエムージオール)、チオア
セクール、ヘミチオアセタール、モノ(またはジ)アシ
ル化されたジオール等が挙げられる。
ては、慣用されるポルミル基における慣用される反応性
誘導体およびこの反応で化合物(If)と均等の作用を
有している反応性誘導体等が包含される。適当な反応性
誘導体どしては例えば、ジメチルア(ごタール、ジエチ
ルアセタール等のアセタール、ヘミアセクール、水化物
(オルトアルデヒドまたはンエムージオール)、チオア
セクール、ヘミチオアセタール、モノ(またはジ)アシ
ル化されたジオール等が挙げられる。
3a 3b 。
RおよびRか−緒になって式−P(R5)(式中、R5
は前と同じ意味)で示される基である化合物(If>を
原料化合物として用いる場合には、この反応は通常中性
条件下または下記のような塩基の存在下に行われること
が多い。この反応は、通常、溶媒中で行なわれ、その溶
媒としては、ベンゼン、塩化メチレン、ンメチルスルホ
キシド、酢酸エチル、テトンヒド「1フラン、その他こ
の反応に悪影響を及ぼさない?−べての溶媒が挙げられ
る。反応温度は特に限定きれないが、通常、室温ないし
は加温下に行なわれることが多い。
は前と同じ意味)で示される基である化合物(If>を
原料化合物として用いる場合には、この反応は通常中性
条件下または下記のような塩基の存在下に行われること
が多い。この反応は、通常、溶媒中で行なわれ、その溶
媒としては、ベンゼン、塩化メチレン、ンメチルスルホ
キシド、酢酸エチル、テトンヒド「1フラン、その他こ
の反応に悪影響を及ぼさない?−べての溶媒が挙げられ
る。反応温度は特に限定きれないが、通常、室温ないし
は加温下に行なわれることが多い。
R4は前と同し意味)で示される基である化合物(If
)を原料化合物として用いる場合、この反応は好ましく
は、強塩基の存在下に行われる。このよ)な塩基として
は例えば、水素化ナトリウj1、水素化リチウム等の水
素化アルカリ金属、水素化カルシウム等の水素化アルカ
リ土類金属、ナトリウム第3級ブトキザイド、カリウム
第3級ブトギサイド等のアルカリ金属第3級アルコキサ
イド、トリチルナトリウム、トリチルリチウム等のアル
(低級)アルキルアルカリ金属、フェニルリチウム等の
アリールアルカリ金属等が挙げられる。この反応は、通
常、溶媒中で行われ、その溶媒としては、ベンゼン、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、その他この反応に悪影
響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は
特に限定されないが、通常、室温ないし加熱下に行われ
ることが多い。
)を原料化合物として用いる場合、この反応は好ましく
は、強塩基の存在下に行われる。このよ)な塩基として
は例えば、水素化ナトリウj1、水素化リチウム等の水
素化アルカリ金属、水素化カルシウム等の水素化アルカ
リ土類金属、ナトリウム第3級ブトキザイド、カリウム
第3級ブトギサイド等のアルカリ金属第3級アルコキサ
イド、トリチルナトリウム、トリチルリチウム等のアル
(低級)アルキルアルカリ金属、フェニルリチウム等の
アリールアルカリ金属等が挙げられる。この反応は、通
常、溶媒中で行われ、その溶媒としては、ベンゼン、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、その他この反応に悪影
響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温度は
特に限定されないが、通常、室温ないし加熱下に行われ
ることが多い。
次に、この発明を実施例および参考例によって説明する
。
。
* 七夕作本 イク・j 1
2−〔2−オキソ−8β−アミノ−4β−(メチルチオ
)アゼチジン−1−イルクー8−メチル−2−ブテン酸
のベンジルエステルのp−)ルエンスルホン酸塩(49
,2y)を塩化メチレン(100rne)に溶かした溶
液に、−40℃において、トリエチルアミン(3β2m
e)を加え、次いで塩化(2−アセトキシアセチル)(
ls、sy)と塩化メチレン(10d)の溶液を80分
間に滴下する。
)アゼチジン−1−イルクー8−メチル−2−ブテン酸
のベンジルエステルのp−)ルエンスルホン酸塩(49
,2y)を塩化メチレン(100rne)に溶かした溶
液に、−40℃において、トリエチルアミン(3β2m
e)を加え、次いで塩化(2−アセトキシアセチル)(
ls、sy)と塩化メチレン(10d)の溶液を80分
間に滴下する。
塩化メチレン(25mlりを加え、混合物を40分間攪
拌し、その間に温度を一7℃まで徐々に上昇させる。混
合物に冷水およびIN=塩酸を加え、水層および塩化メ
チレン層を分離する。水層をさらに塩化メチレンで抽出
する。抽出液を上記塩化メチレン層に合わせ、IN−塩
酸、飽和炭酸水素ナト〕希ご− リウム水?g液および塩化す) IJウム水溶液で順次
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状
の2−〔2−オキソ−8β−(2−アセトキシアセトア
ミド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イルク
ー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル(4s
、o5y)を得る。
拌し、その間に温度を一7℃まで徐々に上昇させる。混
合物に冷水およびIN=塩酸を加え、水層および塩化メ
チレン層を分離する。水層をさらに塩化メチレンで抽出
する。抽出液を上記塩化メチレン層に合わせ、IN−塩
酸、飽和炭酸水素ナト〕希ご− リウム水?g液および塩化す) IJウム水溶液で順次
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状
の2−〔2−オキソ−8β−(2−アセトキシアセトア
ミド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イルク
ー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル(4s
、o5y)を得る。
工、 R,(Cn、czt)
84、10.1770.1γ20.1695−’xq、
M、 R,(cDcl、、8)1、B(an、臼)、
1.99(8H,s)、2.12(an、日)、2.2
4(SHX 日)、4.60(2H18)、5.04
(I H,dzlTw4.5Hz)、5,08および5
.28(21(、AEq、 J−12Hz)、5.47
(l H,da、 :r−4,5,81(z)、7.0
8(1)1、d、、 J−8Hz)、7.!37(5H
,s)う(3k イン11 2゜ 2−〔2−オキソ−8β−(2−アセトキシアセトアミ
ド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イルクー
8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル(as、
95p)をアセトン(260yne )と水(]、 O
Orne )の混合物に溶かした溶液に、IN−水酸化
ナトリウム水溶液(100+yti’)を8℃において
80分間に滴下する。同温度で10分間攪拌後、1N−
塩酸で反応混合物のpHを7に調整し、減圧下にアセト
ンを留失する。混合物を酢酸エチルで2回(250−と
50+nl)抽出する。
M、 R,(cDcl、、8)1、B(an、臼)、
1.99(8H,s)、2.12(an、日)、2.2
4(SHX 日)、4.60(2H18)、5.04
(I H,dzlTw4.5Hz)、5,08および5
.28(21(、AEq、 J−12Hz)、5.47
(l H,da、 :r−4,5,81(z)、7.0
8(1)1、d、、 J−8Hz)、7.!37(5H
,s)う(3k イン11 2゜ 2−〔2−オキソ−8β−(2−アセトキシアセトアミ
ド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イルクー
8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル(as、
95p)をアセトン(260yne )と水(]、 O
Orne )の混合物に溶かした溶液に、IN−水酸化
ナトリウム水溶液(100+yti’)を8℃において
80分間に滴下する。同温度で10分間攪拌後、1N−
塩酸で反応混合物のpHを7に調整し、減圧下にアセト
ンを留失する。混合物を酢酸エチルで2回(250−と
50+nl)抽出する。
抽出液を炭酸水素す) IJウム飽和水溶液および塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
、濃縮すると油状物(38,8y)’を得る。
ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
、濃縮すると油状物(38,8y)’を得る。
油状物をシリカゲル(500y)を用いてカラムクロマ
トグラフィーに何する。カラムをベンゼン(500m(
!X4)、ベンゼン:アセトン(117:13)混合物
、ベンゼン:アセトン(4:1)混合物で順次溶出する
。まず、ベンゼンニア七トン(171)混合物の7ラク
シヨンから、原料化合物(6,10y)が回収される。
トグラフィーに何する。カラムをベンゼン(500m(
!X4)、ベンゼン:アセトン(117:13)混合物
、ベンゼン:アセトン(4:1)混合物で順次溶出する
。まず、ベンゼンニア七トン(171)混合物の7ラク
シヨンから、原料化合物(6,10y)が回収される。
次に、続くフラクションから、2−〔2−オキソ−8β
−(2−ヒドロキシアセトアミド)−4β−(メチルチ
オ)アゼチジン−1−イルクー8−メチル−2−ブテン
酸のベンジルエステA/(zs、75y)が得られる。
−(2−ヒドロキシアセトアミド)−4β−(メチルチ
オ)アゼチジン−1−イルクー8−メチル−2−ブテン
酸のベンジルエステA/(zs、75y)が得られる。
1、R,(、CH2CJffi)
8600.3400.1’I’l011720.169
0σ−1 N、 M、 R,(cDcz+いδ) 1.92 (8XI、 s )、2.08(8u、B)
、2.24 (8H,8) 、 41.12(g HS
日)、4.35(IH1’broad s)、5.1
4(Ox、d、 、T−4,5H2)、5.40 (I
L da。
0σ−1 N、 M、 R,(cDcz+いδ) 1.92 (8XI、 s )、2.08(8u、B)
、2.24 (8H,8) 、 41.12(g HS
日)、4.35(IH1’broad s)、5.1
4(Ox、d、 、T−4,5H2)、5.40 (I
L da。
、r−4,5,8Hz)、5.14および5,82(2
H,ABq、 J=1214z )、7.86 (5H
。
H,ABq、 J=1214z )、7.86 (5H
。
8)、7.84. (]、 ]H1d、、T−8Hz゛
うて 旋 イン′1 3 2−〔2−オキソ−8β−(2−ヒドロキシアセトアミ
ド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イ〃〕−
8−メチルー2−ブテン酸のベンジルエステル(28,
65y)を塩化メチレン(150ml)に溶かした溶液
に、ピリジン(7,8i5d)を−80℃で加え、次に
2.2.2−トリクロロエチルクロロホルメー) (1
7,7y)ト塩化メチレン(10mZ)の溶液を一80
℃で25分間に滴下する。反応温度を0℃に上昇させ、
IN−塩酸を加えて混合物を振盪する。塩化メチレン層
を分離し、水層をさらに塩化メチレンで抽出する。
うて 旋 イン′1 3 2−〔2−オキソ−8β−(2−ヒドロキシアセトアミ
ド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イ〃〕−
8−メチルー2−ブテン酸のベンジルエステル(28,
65y)を塩化メチレン(150ml)に溶かした溶液
に、ピリジン(7,8i5d)を−80℃で加え、次に
2.2.2−トリクロロエチルクロロホルメー) (1
7,7y)ト塩化メチレン(10mZ)の溶液を一80
℃で25分間に滴下する。反応温度を0℃に上昇させ、
IN−塩酸を加えて混合物を振盪する。塩化メチレン層
を分離し、水層をさらに塩化メチレンで抽出する。
抽出液を合わせ、IN−塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液および塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状の2−〔2−
オキソ−8β−(2−(2,8,2−) IJ クロロ
エトキシカルボニルオキシ)アセトアミド)−4β−(
メチルチオ)アゼチジン−1−イルクー8−メチル−2
−ブテン酸のベンジルエステAI(48,30y)を得
る。
水溶液および塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状の2−〔2−
オキソ−8β−(2−(2,8,2−) IJ クロロ
エトキシカルボニルオキシ)アセトアミド)−4β−(
メチルチオ)アゼチジン−1−イルクー8−メチル−2
−ブテン酸のベンジルエステAI(48,30y)を得
る。
■、 R,(cI(2cz、 )
3400.1770.1710.1695C2n−’N
、 M、 R,(CDCl、 、’F、、 )1.92
(8H,s)、2.02(8H,s)、2.27 (B
HS日)、4.76 (2n、t3)、4.8’2 (
2H,8)、5.44(la’i dd。
、 M、 R,(CDCl、 、’F、、 )1.92
(8H,s)、2.02(8H,s)、2.27 (B
HS日)、4.76 (2n、t3)、4.8’2 (
2H,8)、5.44(la’i dd。
、T−4,5,3Hz)、5,04、〜5.82 (8
H。
H。
m)、7.18(LH,d、 :]’−8Hz)、7.
88(5H10) す しX輪−イク゛1 夕 2−〔2−オキソ−3β−アミノ−4β−(メチA/チ
オ)アゼチジン・−1−イル:)=3−メチル−2−ブ
テン酸のベンジルエステルのP−トルエンスルホンfi
yJ、X(150y)を塩化メチレン(1000+nl
りに溶かした溶液に、塩化2−(2,2,2−トリクロ
ロエトキシカルボニル)アセチA/(114,2y)と
塩化メチlノン(100ml)の溶液を一40℃で80
分間を要して滴下する。混合物を80分間放置して温度
を0℃まで上列、させる。反応混合物をIN−塩酸、氷
水、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および塩化す) I
Jウム飽和水溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を留去する。残留物をシリカゲル(]y)
を用いてクロマトグラフィーに付し、ベンゼン、ベンゼ
ン:酢酸エチル(5:1および8:1)混合物で順次溶
出すると、油状の2−〔2−オキソ−8β−(2−(2
,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセ
トアミド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イ
ルクー8−メヂルプテン酊のベンジルエステル(174
,6y)を得る。
88(5H10) す しX輪−イク゛1 夕 2−〔2−オキソ−3β−アミノ−4β−(メチA/チ
オ)アゼチジン・−1−イル:)=3−メチル−2−ブ
テン酸のベンジルエステルのP−トルエンスルホンfi
yJ、X(150y)を塩化メチレン(1000+nl
りに溶かした溶液に、塩化2−(2,2,2−トリクロ
ロエトキシカルボニル)アセチA/(114,2y)と
塩化メチlノン(100ml)の溶液を一40℃で80
分間を要して滴下する。混合物を80分間放置して温度
を0℃まで上列、させる。反応混合物をIN−塩酸、氷
水、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および塩化す) I
Jウム飽和水溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を留去する。残留物をシリカゲル(]y)
を用いてクロマトグラフィーに付し、ベンゼン、ベンゼ
ン:酢酸エチル(5:1および8:1)混合物で順次溶
出すると、油状の2−〔2−オキソ−8β−(2−(2
,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセ
トアミド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イ
ルクー8−メヂルプテン酊のベンジルエステル(174
,6y)を得る。
゛つ胃′ 施 イ)IJ 、、t2−〔2−オ
キソ−8β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセトアミド)−4β−(メチルチ
オ)アゼチジン−1−イル)−8−メチル−2−ブテン
酸のベンジルエステル(43,80y)を塩化メチレン
(220rne )に溶か1−だ溶液に、塩素(6,’
7y)と4塩化炭素(78mlりの溶液を一70℃で一
時に加える。
キソ−8β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセトアミド)−4β−(メチルチ
オ)アゼチジン−1−イル)−8−メチル−2−ブテン
酸のベンジルエステル(43,80y)を塩化メチレン
(220rne )に溶か1−だ溶液に、塩素(6,’
7y)と4塩化炭素(78mlりの溶液を一70℃で一
時に加える。
得られる混合物を一50°Cで17分間攪拌し、次いで
84分間攪拌し、その間に反応温度を徐々に室温に上昇
させる。反応混合物に窒素ガスを水冷下4.0分間通し
、混合物を濃縮すると、油状の2−〔2−オキソ−8β
−(2−(2,2、?−トリクロロエトキシ力ルポニル
オギシ)アセトアミド)−4a7−(クロロ)アぞチジ
ンー1−イル〕−8−メチル−2−ブテン酸のベンジル
エステル(少量の4β−り四口体を含む)(51,5y
)を得る。
84分間攪拌し、その間に反応温度を徐々に室温に上昇
させる。反応混合物に窒素ガスを水冷下4.0分間通し
、混合物を濃縮すると、油状の2−〔2−オキソ−8β
−(2−(2,2、?−トリクロロエトキシ力ルポニル
オギシ)アセトアミド)−4a7−(クロロ)アぞチジ
ンー1−イル〕−8−メチル−2−ブテン酸のベンジル
エステル(少量の4β−り四口体を含む)(51,5y
)を得る。
工、R0(CI、 C7り
8400.1780.1710.1695ぴ一1N、
M、 R,(cDcl、 S )2.05 (8H1B
)、2.34 (3H,s )、4.78(2HSB
)、4.84(2H,8)、5.15(LH,aa、
y−2,8Hz)、5.20(2H,broad s)
、5.80 (I H%d、J−2Hz)、’L、S
(I Hld、J=8Hz、)7.40(5H,s) 火 ラ囁と イク゛1 6 2−〔2−オキ゛ソー3β−(2−(2,2,2−トリ
クロロエトキシ力ルポニルオキシ)アセトアミド)−4
α−(り、ロロ)アゼチジン−1,−イルシー3−メチ
ル−2−ブテン酸ベンジルエステル(少量の4β−クロ
ロ体を含む)(2,87y)を塩化メチレン(20+n
f’)に溶かした溶液に、酸化銀((1,65y)およ
び4ふつ化はう素酸銀(1,10y)を順次加え、得ら
れる混合物を一20℃で攪拌する。1時間攪拌後、塩化
メチレン(10ば)を加える。さらに80分間攪拌後、
反応混合物を放置して温度を0℃に上昇させ、ベンゼン
(80rnfりおよび塩化ナトリウム(1y)を加える
。
M、 R,(cDcl、 S )2.05 (8H1B
)、2.34 (3H,s )、4.78(2HSB
)、4.84(2H,8)、5.15(LH,aa、
y−2,8Hz)、5.20(2H,broad s)
、5.80 (I H%d、J−2Hz)、’L、S
(I Hld、J=8Hz、)7.40(5H,s) 火 ラ囁と イク゛1 6 2−〔2−オキ゛ソー3β−(2−(2,2,2−トリ
クロロエトキシ力ルポニルオキシ)アセトアミド)−4
α−(り、ロロ)アゼチジン−1,−イルシー3−メチ
ル−2−ブテン酸ベンジルエステル(少量の4β−クロ
ロ体を含む)(2,87y)を塩化メチレン(20+n
f’)に溶かした溶液に、酸化銀((1,65y)およ
び4ふつ化はう素酸銀(1,10y)を順次加え、得ら
れる混合物を一20℃で攪拌する。1時間攪拌後、塩化
メチレン(10ば)を加える。さらに80分間攪拌後、
反応混合物を放置して温度を0℃に上昇させ、ベンゼン
(80rnfりおよび塩化ナトリウム(1y)を加える
。
15分t’lJ1m拌後、混合物に塩化ナトリウム飽和
水溶液(8+r+e)を加え、攪拌を10分間続ける。
水溶液(8+r+e)を加え、攪拌を10分間続ける。
得られる混合物をp過し、P液の有機層を塩化リトリウ
ム飽和水溶液、水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順
次洗浄し、乾燥後濃縮すると油状物(2、+30y)を
得る。油状物をシリカゲA/(60gE)を用いてクロ
マトグラフィーに付し、塩化メチレン、次いでメタノー
ル:塩化メチlノン(xXx99)の混合物で溶出する
と、無色油状の2−(J−((2,2,2−トリクロロ
エトキシ)カルボニルオキシメチル)−4−オキソ−8
11,58−ジヒドロ−41!−アゼト〔8,2−d〕
オキザゾール−5−イルシー8−メチル−2−ブテン酸
のベンジルエステル(下記構造式)(1,4’l)を得
る。
ム飽和水溶液、水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順
次洗浄し、乾燥後濃縮すると油状物(2、+30y)を
得る。油状物をシリカゲA/(60gE)を用いてクロ
マトグラフィーに付し、塩化メチレン、次いでメタノー
ル:塩化メチlノン(xXx99)の混合物で溶出する
と、無色油状の2−(J−((2,2,2−トリクロロ
エトキシ)カルボニルオキシメチル)−4−オキソ−8
11,58−ジヒドロ−41!−アゼト〔8,2−d〕
オキザゾール−5−イルシー8−メチル−2−ブテン酸
のベンジルエステル(下記構造式)(1,4’l)を得
る。
ニーR−(aatclz)
1780.1720cm−”
N、 M、 R,(cncls、 S )1.91(8
H,8)、2.25 (3H,日)、4.78(2H,
e )、4.75 (2H,B )、5.11および5
.22(2H1ABq、。
H,8)、2.25 (3H,日)、4.78(2H,
e )、4.75 (2H,B )、5.11および5
.22(2H1ABq、。
y−xsnz)、5.2 (I H)、5.98 (I
H。
H。
d、、r−4Hz)、7.82(5H,8)* 先
イン’J 7 2−[:2−((2,2,2−トリクロロエトキシ)カ
ルボニルオキシメチル) −4,−オキソ−88158
−ジヒドロ−4H−アゼト〔8,2−d〕オキザゾール
−5−イルクー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエ
ステル(68(Jmy)を無水テトラヒドロフラン(5
rnりに溶かした溶液に、ピリジン(0,15mff)
および塩化2−フェノキシアセチル(0,21me)を
−78℃で加える。得られる混合物を攪拌して温度を室
温まで上昇させる。
イン’J 7 2−[:2−((2,2,2−トリクロロエトキシ)カ
ルボニルオキシメチル) −4,−オキソ−88158
−ジヒドロ−4H−アゼト〔8,2−d〕オキザゾール
−5−イルクー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエ
ステル(68(Jmy)を無水テトラヒドロフラン(5
rnりに溶かした溶液に、ピリジン(0,15mff)
および塩化2−フェノキシアセチル(0,21me)を
−78℃で加える。得られる混合物を攪拌して温度を室
温まで上昇させる。
1十時間攪拌後、反応混合物を室温で濃縮し、残留物を
酢酸エチルで抽出する。抽出液を希塩酸、塩化ナトリウ
ム希水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状の2
−(2−((,2,2,2−トリクロロエトキシ)カル
ボニルオキシメチレン)−8−(フェノキシアセチル)
−4−オキソ−2,8,8as5a−テトラヒドロ−4
,H−アゼト〔8,2−d〕−オキサゾール−5−イル
クー3−メチル−2−ブテン醗ベンジルエステル(下記
構造式)(8B(Iv)を得る。
酢酸エチルで抽出する。抽出液を希塩酸、塩化ナトリウ
ム希水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状の2
−(2−((,2,2,2−トリクロロエトキシ)カル
ボニルオキシメチレン)−8−(フェノキシアセチル)
−4−オキソ−2,8,8as5a−テトラヒドロ−4
,H−アゼト〔8,2−d〕−オキサゾール−5−イル
クー3−メチル−2−ブテン醗ベンジルエステル(下記
構造式)(8B(Iv)を得る。
CI(−OCOOCHtCCI。
工、R,(CH,Cl2)
1785.1725.1700.1600cm−”IL
M、 R,(cDc13、δ) 1.97(8H,s)、2.32 (8H,s)、4.
82 (2H,s)、4.92 (2HSbroad
d、。
M、 R,(cDc13、δ) 1.97(8H,s)、2.32 (8H,s)、4.
82 (2H,s)、4.92 (2HSbroad
d、。
、r−gH2)、5.22 (2工■、br□ad c
3.。
3.。
J−2Hz)、5.58 (I HN d、、 J−4
Hz )、6.15 (I H,、d、 、T−4Hz
)、6.877.6(1oHsm)、7.67 (l
a、 s)゛〕ピ′ う1ケ イp1」 82−
(2−((2,2,2−トリクロロエトキシ)カルボニ
ルオキシメチレン)−8−(2−フェノキシアセチル)
−4−オキソ−2,3,8a。
Hz )、6.15 (I H,、d、 、T−4Hz
)、6.877.6(1oHsm)、7.67 (l
a、 s)゛〕ピ′ う1ケ イp1」 82−
(2−((2,2,2−トリクロロエトキシ)カルボニ
ルオキシメチレン)−8−(2−フェノキシアセチル)
−4−オキソ−2,3,8a。
5a−テトラヒドロ−4H−アゼト〔8,2−d〕オキ
サゾール−5−イルクー8−メチA/−2−ブテン酸の
ベンジルエステ/I/(1,80y)、d−樟脳スルホ
ン酸(28〜)、塩化メチレン(15y+e)および水
(0,054me )の混合物を、室温で80分間攪拌
する。混合物を酢酸エチルで抽出する。
サゾール−5−イルクー8−メチA/−2−ブテン酸の
ベンジルエステ/I/(1,80y)、d−樟脳スルホ
ン酸(28〜)、塩化メチレン(15y+e)および水
(0,054me )の混合物を、室温で80分間攪拌
する。混合物を酢酸エチルで抽出する。
抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水および塩化ナト
リウム飽和水溶液で順次洗浄し、乾燥し、濃縮すると、
油状物(1,879)を得る。油状物をシリカゲル(2
iy)を用いでり四マドグラフィーにft +、、ベン
ゼ〉・ニアセトン(9:1)混合物で溶出すると、油状
の2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセ)・
アミド)−4β−(2−(2,2,2−4リクlロエト
キシ力ルポニル刈ギシ)アセトキシ)アゼチジン−1−
イルツー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル
(1゜08y)を得る。
リウム飽和水溶液で順次洗浄し、乾燥し、濃縮すると、
油状物(1,879)を得る。油状物をシリカゲル(2
iy)を用いでり四マドグラフィーにft +、、ベン
ゼ〉・ニアセトン(9:1)混合物で溶出すると、油状
の2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセ)・
アミド)−4β−(2−(2,2,2−4リクlロエト
キシ力ルポニル刈ギシ)アセトキシ)アゼチジン−1−
イルツー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル
(1゜08y)を得る。
x、 R,(CutClz )
1780.1,765.1720.1695cm−’N
、 M、 R,(CDC1い δ) 2.08(Un、8)、2.30(8H,s)、4.5
〜4.9 (6HXm )、5.28(2H18)、5
.38(IHXd、d、 J−4、B11z)、6.8
8 (LH,a、 J−4、Hz)、6.8〜7.6(
IH(、m) 火 旌 砂] タ 2−[’: 2−((2,2,2−トリフルロエトキシ
)カルボニルオキシメチル)−4−オキソ−3a。
、 M、 R,(CDC1い δ) 2.08(Un、8)、2.30(8H,s)、4.5
〜4.9 (6HXm )、5.28(2H18)、5
.38(IHXd、d、 J−4、B11z)、6.8
8 (LH,a、 J−4、Hz)、6.8〜7.6(
IH(、m) 火 旌 砂] タ 2−[’: 2−((2,2,2−トリフルロエトキシ
)カルボニルオキシメチル)−4−オキソ−3a。
5a−ジヒド0−4H−アゼト〔8,2−d〕オキサゾ
ール−5−イルクー8−メチ/I/−2−ブテン酸のベ
ンジルエステ/I/(15,Oy )t[燥アセトン(
]、0Ornl)に溶かした溶液に、p−トルエンスル
ホン酸1水化物(5,81y)を加え18℃で20分間
攪拌する。反応混合物を減圧下に濃縮すると、半固体(
23gi)を得る。この残留物をジエチルエーテル(5
0me)と共にすりつぶし、次いで石油エーテル(70
rne ) fI:加える。混合物を冷却し、沈殿を戸
取し、減圧下に乾燥すると、白色粉末状、mp109−
118℃(分解)の2−〔2−オキソ−3β−アミノ・
−4β−(2−(2,2,2−)リクロロエトキシ力y
ボニルオキシ)ア七トキシ)アゼチジン−1−イル)−
3−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステルのp−ト
ルエンスルホン酸塩(18,15’)を?Sる。
ール−5−イルクー8−メチ/I/−2−ブテン酸のベ
ンジルエステ/I/(15,Oy )t[燥アセトン(
]、0Ornl)に溶かした溶液に、p−トルエンスル
ホン酸1水化物(5,81y)を加え18℃で20分間
攪拌する。反応混合物を減圧下に濃縮すると、半固体(
23gi)を得る。この残留物をジエチルエーテル(5
0me)と共にすりつぶし、次いで石油エーテル(70
rne ) fI:加える。混合物を冷却し、沈殿を戸
取し、減圧下に乾燥すると、白色粉末状、mp109−
118℃(分解)の2−〔2−オキソ−3β−アミノ・
−4β−(2−(2,2,2−)リクロロエトキシ力y
ボニルオキシ)ア七トキシ)アゼチジン−1−イル)−
3−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステルのp−ト
ルエンスルホン酸塩(18,15’)を?Sる。
ニー R−(CHzClt )
1785.1γ70.1725(7)71N、 M、
R,(d、−DMSO1δ)2.00 (9H,e )
、2.18(8u、B)、2.1(8H,s)、4.8
〜5.1 (8H,、m )、5.01(2n、6)、
5.25(2H1B)、6.4.7(1,H,aXJ−
4nZ)、7.17および7.55 (4HlABq
、 J−8Hz )、7.42 (5HSe ) i)て ラペ←1 イ憂1j ノ02−〔2−
オキソ−8β−アミノ−4β−(2−(2,2,2−)
リクロロエトキシ力ルボニルオキシ〕アセトキシ)アゼ
デシン−1−イル〕−8−メチ#−2−ブテン酸のベン
ジルエステルの+ −K n+ −r st q
sz + Sy ’Fth4打 r A n
σ >−zsU山n可ノにメチレン(20me)に溶か
した溶液に、塩化2−フエノキシアセヂル(1,03m
e)を水冷下に加工、この混合物にピリジン(1rL1
e)と塩化メチレン(4me )の溶液を滴下する。混
合物を同温度で80分間攪拌し、減圧下に濃縮する。?
8られる残留物を酢酸エチル(100+nff)に溶解
し、希塩醜、水、炭酸水素ナトリウム水溶液および塩化
ナトリウム水溶液で順次洗浄し、溶媒を留去すると、う
11状の2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシア
セト了ミド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−
1−イルツー8−メチ/l/−2−ブテン酸のベンジル
エステル(s、oy)をイMる。
R,(d、−DMSO1δ)2.00 (9H,e )
、2.18(8u、B)、2.1(8H,s)、4.8
〜5.1 (8H,、m )、5.01(2n、6)、
5.25(2H1B)、6.4.7(1,H,aXJ−
4nZ)、7.17および7.55 (4HlABq
、 J−8Hz )、7.42 (5HSe ) i)て ラペ←1 イ憂1j ノ02−〔2−
オキソ−8β−アミノ−4β−(2−(2,2,2−)
リクロロエトキシ力ルボニルオキシ〕アセトキシ)アゼ
デシン−1−イル〕−8−メチ#−2−ブテン酸のベン
ジルエステルの+ −K n+ −r st q
sz + Sy ’Fth4打 r A n
σ >−zsU山n可ノにメチレン(20me)に溶か
した溶液に、塩化2−フエノキシアセヂル(1,03m
e)を水冷下に加工、この混合物にピリジン(1rL1
e)と塩化メチレン(4me )の溶液を滴下する。混
合物を同温度で80分間攪拌し、減圧下に濃縮する。?
8られる残留物を酢酸エチル(100+nff)に溶解
し、希塩醜、水、炭酸水素ナトリウム水溶液および塩化
ナトリウム水溶液で順次洗浄し、溶媒を留去すると、う
11状の2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシア
セト了ミド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−
1−イルツー8−メチ/l/−2−ブテン酸のベンジル
エステル(s、oy)をイMる。
5−二 う1と イφ’l 112−〔2−オ
キソ−8β−(2−フェノキシアセト了ミド)−4β−
(2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオ
キシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕−8−メチ
ル−2−ブテン酸のベンジルエステル(838■)を酢
酸エチル((1mfりに溶かした溶液に、溶液の色が青
色に変るまで、−78℃でオゾンと酸素の混合ガスを通
じ、溶液を一78°CT 5分間放置する。次に溶液に
一78℃で窒素ガスを通じてオゾンを除く。
キソ−8β−(2−フェノキシアセト了ミド)−4β−
(2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオ
キシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕−8−メチ
ル−2−ブテン酸のベンジルエステル(838■)を酢
酸エチル((1mfりに溶かした溶液に、溶液の色が青
色に変るまで、−78℃でオゾンと酸素の混合ガスを通
じ、溶液を一78°CT 5分間放置する。次に溶液に
一78℃で窒素ガスを通じてオゾンを除く。
得られる溶液を、亜硫酸水素ナトリウム()、、04g
I)、亜硫酸ナトリウム(0,82y)および水(10
tne)の溶液中に注入し、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を塩化ナトリウム希水溶液で2回、および塩化す)
IJJウム和水溶液で順次洗浄し、乾燥し、濃縮する
と、泡状物質(Homr)を得、これにメタノール:エ
ーテ/1/(1: 9)の混合物を加えて結晶化すると
、結晶状、mp122−126℃(分解)の2−〔2−
オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β
−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕グリオキ
シル酸のベンジルエステル(24Off11)ヲ得る。
I)、亜硫酸ナトリウム(0,82y)および水(10
tne)の溶液中に注入し、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を塩化ナトリウム希水溶液で2回、および塩化す)
IJJウム和水溶液で順次洗浄し、乾燥し、濃縮する
と、泡状物質(Homr)を得、これにメタノール:エ
ーテ/1/(1: 9)の混合物を加えて結晶化すると
、結晶状、mp122−126℃(分解)の2−〔2−
オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β
−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕グリオキ
シル酸のベンジルエステル(24Off11)ヲ得る。
工、R0(ヌジョー、/I/)
1830.1765.1740.1720.1680c
jn−’ xJ、 M、 R,(CDCJ、、δ)4.49(4H
,s )、4..57 (2H18)、5.26(2H
,s)、5.47 (]、 H,da。
jn−’ xJ、 M、 R,(CDCJ、、δ)4.49(4H
,s )、4..57 (2H18)、5.26(2H
,s)、5.47 (]、 H,da。
J−5,9Hz)、6.70(IH,d。
J−5uz)、6.6〜7.5 (11Hlm)*k
イク1」/2 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル
〕グリオキシル醍のベンジルエステル(895ff17
)、亜鉛末(soomg)、ブロヒオン酸(0,8me
)および塩化メチレン(4rne)の混合物を、0°C
で40分間、18℃で10分間、次いで0℃で7分間攪
拌する。反応混合物を冷酢酸エチル(4me)で希釈し
濾過する。戸液を炭ダ水素ナトリウム冷水溶液、塩化す
) IJウム希氷水溶液よび塩化す) IJウム飽和水
?g液で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去すると、泡状物質の2−〔2−オキソ−8β−(
2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2−(2,2
,2−1−リクロロエトキシ力ルポニルオキシ)アセト
キシ)アゼチジン−1−イル〕グリコーA/酸のベンジ
ルエステル(2位エピマーp混合物)(870哩)を得
る。
イク1」/2 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル
〕グリオキシル醍のベンジルエステル(895ff17
)、亜鉛末(soomg)、ブロヒオン酸(0,8me
)および塩化メチレン(4rne)の混合物を、0°C
で40分間、18℃で10分間、次いで0℃で7分間攪
拌する。反応混合物を冷酢酸エチル(4me)で希釈し
濾過する。戸液を炭ダ水素ナトリウム冷水溶液、塩化す
) IJウム希氷水溶液よび塩化す) IJウム飽和水
?g液で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去すると、泡状物質の2−〔2−オキソ−8β−(
2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2−(2,2
,2−1−リクロロエトキシ力ルポニルオキシ)アセト
キシ)アゼチジン−1−イル〕グリコーA/酸のベンジ
ルエステル(2位エピマーp混合物)(870哩)を得
る。
■、 R8(cll、cI!、 )
1795.1765.1595cm−1火 taと
イン1 ノミ? 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル
〕グリコール酸のベンジルエステル(2位エピマーの?
l[) (1,269”)および2.6−ルチジン(0
,85me)を塩化メチレン(15rne)に溶かした
溶液に、塩化ヂオニル(0,22+++f’)を−80
℃で加え、得られる混合物を20分間放置して温度を0
℃に上列−させ、0°Cβ で11時間放置する。反応混合物を塩化ナトリウム冷希
水溶液中に注入し、酢酸エチルで抽出する。
イン1 ノミ? 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル
〕グリコール酸のベンジルエステル(2位エピマーの?
l[) (1,269”)および2.6−ルチジン(0
,85me)を塩化メチレン(15rne)に溶かした
溶液に、塩化ヂオニル(0,22+++f’)を−80
℃で加え、得られる混合物を20分間放置して温度を0
℃に上列−させ、0°Cβ で11時間放置する。反応混合物を塩化ナトリウム冷希
水溶液中に注入し、酢酸エチルで抽出する。
抽出液を塩化す) IJウム希氷水溶液炭酸水素ナトリ
ウム希水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し
、乾燥し、濃縮すると、油状の2−クロロ−2−〔2−
オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β
−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベ
ンジルエステル(2位エピマーの混合物)(1,81y
)を得る。
ウム希水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し
、乾燥し、濃縮すると、油状の2−クロロ−2−〔2−
オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β
−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベ
ンジルエステル(2位エピマーの混合物)(1,81y
)を得る。
工、R,(CHICl、)
1805.1765.1780.1γ00σ−1゛ 9
ζ 施 イ月 /り 欠)笹春・l/3で得られた油状物(1,317)、)
リフェニルホスフィン(1,05y)および塩化メチレ
ン(10me)の混合物を、室温で12時間放買上、次
いで4.5時間加熱還流する。反応混合物を塩化メチレ
ンで希釈し、炭酸水素ナトリウム希水溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると褐色油状物
を得る。この油状物を、シリカゲル(12y)を用いて
クロマトグラフィーに付シ、ベンゼン、ベンゼン:ie
エチル(10:1)j3よびベンゼン:酢厳エチル(4
: 1)で続けて溶出すると、熱定形固体の2−トリフ
ェニルホスホラニリデン−2−〔2−オキソ−8β−(
2−フェノキシアセトアミド)−4,β−(2−(2,
2,2−)’Jクロロエトキシカルボニルオキシ)アセ
トキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジA・エス
テル(q86mg)を得る。
ζ 施 イ月 /り 欠)笹春・l/3で得られた油状物(1,317)、)
リフェニルホスフィン(1,05y)および塩化メチレ
ン(10me)の混合物を、室温で12時間放買上、次
いで4.5時間加熱還流する。反応混合物を塩化メチレ
ンで希釈し、炭酸水素ナトリウム希水溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると褐色油状物
を得る。この油状物を、シリカゲル(12y)を用いて
クロマトグラフィーに付シ、ベンゼン、ベンゼン:ie
エチル(10:1)j3よびベンゼン:酢厳エチル(4
: 1)で続けて溶出すると、熱定形固体の2−トリフ
ェニルホスホラニリデン−2−〔2−オキソ−8β−(
2−フェノキシアセトアミド)−4,β−(2−(2,
2,2−)’Jクロロエトキシカルボニルオキシ)アセ
トキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジA・エス
テル(q86mg)を得る。
1、 R,(CI、Cl、 )
1765、]690.1620σ−1
→(う”61 イク°1 /31
2−トリフェニルホスホラニリデン−2−(2−オキソ
−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2
−(2,2,2−トリクロロエトギシカルボニルオキシ
)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジル
エステル(915++y)、亜鉛末(750q)、酢酸
(0,5me)および塩化メチレン(5,0mjりの混
合物を、15℃で4時間攪拌する。さらに亜鉛末(15
0mg)を加え、混合物を15℃で1時間攪拌する。反
応混合物を濾過し、p液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶
液(16me)、水および塩化ナトリウム飽和水溶液で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥l−1溶媒を留去
すると、油状物(780rng)を得る。油状物をシリ
カゲル(5y)を用いてクロマトグラフィーに付シ、ベ
ンゼン、ベンゼン:酢酸エチル(10: 3. ’)混
合物、ベンゼン:酢酸エチル(5:1)混合物、ベンゼ
ン:酢酸エチル(2:1)混合物および酢酸エチルで続
けて溶出すると、泡状物質の2−トリフェニルホスホラ
ニリデン−2−(2−オキソ−8β−(2−フェノキシ
アセトアミド)−4β−(2−ヒドロキシアセトキシ)
アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジルエステル(55
0my)t=得る。
−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2
−(2,2,2−トリクロロエトギシカルボニルオキシ
)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジル
エステル(915++y)、亜鉛末(750q)、酢酸
(0,5me)および塩化メチレン(5,0mjりの混
合物を、15℃で4時間攪拌する。さらに亜鉛末(15
0mg)を加え、混合物を15℃で1時間攪拌する。反
応混合物を濾過し、p液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶
液(16me)、水および塩化ナトリウム飽和水溶液で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥l−1溶媒を留去
すると、油状物(780rng)を得る。油状物をシリ
カゲル(5y)を用いてクロマトグラフィーに付シ、ベ
ンゼン、ベンゼン:酢酸エチル(10: 3. ’)混
合物、ベンゼン:酢酸エチル(5:1)混合物、ベンゼ
ン:酢酸エチル(2:1)混合物および酢酸エチルで続
けて溶出すると、泡状物質の2−トリフェニルホスホラ
ニリデン−2−(2−オキソ−8β−(2−フェノキシ
アセトアミド)−4β−(2−ヒドロキシアセトキシ)
アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジルエステル(55
0my)t=得る。
工、R0(CI!gffi)
】780.1755.1690.162忙−9く 施
イクリ /に 2−〔2−オキソ−8β−(2−アセトキシア七ドアミ
ド)−4β−(メチルヂオ)アゼチジン−1−イルクー
8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル(4,4
y)を塩化メチレン(50rnl)に溶かlまた溶液に
、塩素(1,59)および4塩化炭素(20mj’)の
溶液を一78℃で加える。得られる溶液を一78℃で4
0分間、次いで0℃で20分間攪拌する。反応混合物を
炭酸水素す) IJウム冷水溶液中に注入し、塩化メチ
レン(100+++t’510m1X2)で抽出する。
イクリ /に 2−〔2−オキソ−8β−(2−アセトキシア七ドアミ
ド)−4β−(メチルヂオ)アゼチジン−1−イルクー
8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル(4,4
y)を塩化メチレン(50rnl)に溶かlまた溶液に
、塩素(1,59)および4塩化炭素(20mj’)の
溶液を一78℃で加える。得られる溶液を一78℃で4
0分間、次いで0℃で20分間攪拌する。反応混合物を
炭酸水素す) IJウム冷水溶液中に注入し、塩化メチ
レン(100+++t’510m1X2)で抽出する。
抽出液を合わせ、水および塩化す) IJウム飽和水溶
液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去すると、油状の2−〔2−オキソ−8β−(2−ア
セトキシア七ドアミド)−4α−(り四口)アゼチジン
−1−イルクー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエ
ステA/(5,5y)を得る。
液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去すると、油状の2−〔2−オキソ−8β−(2−ア
セトキシア七ドアミド)−4α−(り四口)アゼチジン
−1−イルクー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエ
ステA/(5,5y)を得る。
工、 R,(cHlclり
1780.1755.1700 cyn−”N、 M、
R,(cDck、、δ) 2.00(8H1B)、2.10(8H,s)、2.2
7 (8H,a)、4.54(2H,s)、5.04(
IH5d、、T−8Hz)、5.18(21(、s)、
5.76(IH,s)、7.24(5H,s ) う(施 イナリ /7 2−〔2−オキソ−8β−(2−アセトキシエチル(5
,5y)をテトラヒドロ7ラン(40d)に溶かした溶
液に、酸化銀(4,6y)および4ふつ化はう素酸銀(
8,907)を−80℃で加える。
R,(cDck、、δ) 2.00(8H1B)、2.10(8H,s)、2.2
7 (8H,a)、4.54(2H,s)、5.04(
IH5d、、T−8Hz)、5.18(21(、s)、
5.76(IH,s)、7.24(5H,s ) う(施 イナリ /7 2−〔2−オキソ−8β−(2−アセトキシエチル(5
,5y)をテトラヒドロ7ラン(40d)に溶かした溶
液に、酸化銀(4,6y)および4ふつ化はう素酸銀(
8,907)を−80℃で加える。
得られる混合物を一20℃ないし一10°Cで2時間4
0分、次いで室温で1時間攪拌する。反応混合物を0℃
に冷却し、ベンゼン(loo+r+e)、塩化す) I
Jウム水溶液(2od)および炭酸水素ナトリウム水溶
液(20me)を加える。混合物を20分間攪拌し、セ
ライト層を通して濾過する。有機層を分離し、塩化す)
IJウム飽和水溶液(8回)で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留する油状物(5,
4y)をシリカゲル(120y)を用いてクロマトグラ
フィーに付し、まず塩化メチレン、次いで塩化メチレン
中メタノール1.5%の溶液で溶出すると、油状の2−
〔2−アセドギシメチル−4,−オキソ−3a、5a−
ジヒドロ−4H−アゼト〔8,2−d〕オキザゾール−
5−イルシー8−メチ/l/−,4,−ブテン酸のベン
ジルニスデル(下記構造式)(8,80y)を得る。
0分、次いで室温で1時間攪拌する。反応混合物を0℃
に冷却し、ベンゼン(loo+r+e)、塩化す) I
Jウム水溶液(2od)および炭酸水素ナトリウム水溶
液(20me)を加える。混合物を20分間攪拌し、セ
ライト層を通して濾過する。有機層を分離し、塩化す)
IJウム飽和水溶液(8回)で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留する油状物(5,
4y)をシリカゲル(120y)を用いてクロマトグラ
フィーに付し、まず塩化メチレン、次いで塩化メチレン
中メタノール1.5%の溶液で溶出すると、油状の2−
〔2−アセドギシメチル−4,−オキソ−3a、5a−
ジヒドロ−4H−アゼト〔8,2−d〕オキザゾール−
5−イルシー8−メチ/l/−,4,−ブテン酸のベン
ジルニスデル(下記構造式)(8,80y)を得る。
工、R,(oH2o 12)
1780.1750.1720□−1
N、 M、 L (oDoz3、δ )194、(3H
,s)、2.1.2 (3HlB)、2.19(3H,
e)、4.69(2H,El)、52(]H)、5.2
3(2H,,8)、6.01(IH,d、J−3Hz)
、7.38(5H,s)1く う市ヒ イク1j
/8 2−〔2−アセトキシメチル−4,−オキソ−3a15
a−ジヒド0−4. H−アゼト〔3,2−d〕オキサ
ゾール−5−イルクー8−メチル−2−ブテン酸のベン
ジルエステル(985ff15’)、炭酸カリウム(4
,40rng)とアセトン(15mj’)、および水(
7,5ml’)を55℃で8時間加熱する。得られる溶
液を濃縮し、残留物に酢酸エチルを加える。
,s)、2.1.2 (3HlB)、2.19(3H,
e)、4.69(2H,El)、52(]H)、5.2
3(2H,,8)、6.01(IH,d、J−3Hz)
、7.38(5H,s)1く う市ヒ イク1j
/8 2−〔2−アセトキシメチル−4,−オキソ−3a15
a−ジヒド0−4. H−アゼト〔3,2−d〕オキサ
ゾール−5−イルクー8−メチル−2−ブテン酸のベン
ジルエステル(985ff15’)、炭酸カリウム(4
,40rng)とアセトン(15mj’)、および水(
7,5ml’)を55℃で8時間加熱する。得られる溶
液を濃縮し、残留物に酢酸エチルを加える。
酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で続
けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残留する油状物(800mf’)をシリカゲル(8
0¥ )を用いてクロマドグ2フイーにイツし、まずベ
ンゼン、次いでベンゼンニア七トン(8:1)混合物で
溶出すると、2−(2−ヒトルキシメチル−4−オキソ
−8a、5a−ジヒドロ−4H−アゼト〔8,2−d〕
オキサゾ−A/−5−イルシー3−メチル−2−ブテン
酸のベンジルエステル(2xo+n+;+)を得、また
原料化合物(ag2my)を回収する。生成物は、実施
例20の製品と薄層クロマトグラフィーにより同定した
少 方転 4ン゛1 /フ 2−〔2−オキソ−8β−(2−ヒドロキシアセトアミ
ド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イルクー
3−メチA/−2−ブテン酸のベンジルエステy(1,
15y)を塩化メチレン(20rnl)に溶かした溶液
に、塩素(44Offly)と4塩化炭素(2,5ml
りの溶液を一78℃で一時に加える。得られる混合物を
一78℃で40分間、次いで0℃で40分間攪拌する。
けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残留する油状物(800mf’)をシリカゲル(8
0¥ )を用いてクロマドグ2フイーにイツし、まずベ
ンゼン、次いでベンゼンニア七トン(8:1)混合物で
溶出すると、2−(2−ヒトルキシメチル−4−オキソ
−8a、5a−ジヒドロ−4H−アゼト〔8,2−d〕
オキサゾ−A/−5−イルシー3−メチル−2−ブテン
酸のベンジルエステル(2xo+n+;+)を得、また
原料化合物(ag2my)を回収する。生成物は、実施
例20の製品と薄層クロマトグラフィーにより同定した
少 方転 4ン゛1 /フ 2−〔2−オキソ−8β−(2−ヒドロキシアセトアミ
ド)−4β−(メチルチオ)アゼチジン−1−イルクー
3−メチA/−2−ブテン酸のベンジルエステy(1,
15y)を塩化メチレン(20rnl)に溶かした溶液
に、塩素(44Offly)と4塩化炭素(2,5ml
りの溶液を一78℃で一時に加える。得られる混合物を
一78℃で40分間、次いで0℃で40分間攪拌する。
反応混合物を炭酸水素ナトリウム冷水溶液(50fnI
り中に注入し、塩化メチレンで抽出する。抽出液を塩化
す) IJウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去すると、油状の2−〔2−オキソ
−8β−(2−ヒドロキシアセトアミド)−4β−(ク
ロp)アゼチジン−1−イルツー8−メチ、/I/−2
−プテン酸のベンジルエステ)v(1,85y)を得る
。
り中に注入し、塩化メチレンで抽出する。抽出液を塩化
す) IJウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去すると、油状の2−〔2−オキソ
−8β−(2−ヒドロキシアセトアミド)−4β−(ク
ロp)アゼチジン−1−イルツー8−メチ、/I/−2
−プテン酸のベンジルエステ)v(1,85y)を得る
。
■、 R,(cH!cz、 )
1780.1720.1690σ−1
シ ス’li イケl 2゜2−〔2−オキ
ソ−8β−(2−ヒドロキシアセトアミド)−4β−(
クロロ)アゼチジン−1−イル〕−8−メチル−2−ブ
テン酸のベンジルエステル(38Off1g)、酸化銀
(400mg)および無水テトラヒドロフラン(6+n
r)の混合物に、4ふつ化(iう素酸銀(820哩)を
−4,0℃で加える。得られる混合物を−4,0℃ない
し一80℃で80分間攪拌し、次いで徐々に温度を0°
Cに上昇させる。70分後、ベンゼン(20me )、
塩化ナトリウム水溶液(!3+of’)および炭酸水素
ナトリウム飽和水溶液(1rne)を加える。反応混合
物を5分間攪拌し、七ライト層を通して濾過する。涙液
を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で続けて洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると、油状物
(300mf)を得る。油状物(265fflF)をシ
リカゲル(7,5g1)を用いてクロマトグラフィーに
付し、まず塩化メチレン、次イで塩化メチレン中メタノ
ール2%の溶液で溶出する。目的化合物を含む7ヲクシ
ヨンを集め溶媒を留去すると、2−[2−ヒドロキシメ
チル−4−オキソ−3a、5a−ジヒドロ−4H−アゼ
ト〔8,2−d〕オギザゾール−5−イルツー8−メチ
ル−2−ブテン酸のベンジルエステル(下&lVW造式
)(96mg)を得る。
ソ−8β−(2−ヒドロキシアセトアミド)−4β−(
クロロ)アゼチジン−1−イル〕−8−メチル−2−ブ
テン酸のベンジルエステル(38Off1g)、酸化銀
(400mg)および無水テトラヒドロフラン(6+n
r)の混合物に、4ふつ化(iう素酸銀(820哩)を
−4,0℃で加える。得られる混合物を−4,0℃ない
し一80℃で80分間攪拌し、次いで徐々に温度を0°
Cに上昇させる。70分後、ベンゼン(20me )、
塩化ナトリウム水溶液(!3+of’)および炭酸水素
ナトリウム飽和水溶液(1rne)を加える。反応混合
物を5分間攪拌し、七ライト層を通して濾過する。涙液
を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で続けて洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると、油状物
(300mf)を得る。油状物(265fflF)をシ
リカゲル(7,5g1)を用いてクロマトグラフィーに
付し、まず塩化メチレン、次イで塩化メチレン中メタノ
ール2%の溶液で溶出する。目的化合物を含む7ヲクシ
ヨンを集め溶媒を留去すると、2−[2−ヒドロキシメ
チル−4−オキソ−3a、5a−ジヒドロ−4H−アゼ
ト〔8,2−d〕オギザゾール−5−イルツー8−メチ
ル−2−ブテン酸のベンジルエステル(下&lVW造式
)(96mg)を得る。
H20H
1゜
X、 R,(cu、cz、 )
1780.1720.1655(!ff1−’N、 M
、 R,(CDC13、δ) 1.90(8H,s)、2.27(8H,8)、8.9
(HzXm)、4.24(2H,broad s)、5
.20(LH,d、 、T−8Hz)、5.23(2H
18)、6.08 (LH,a。
、 R,(CDC13、δ) 1.90(8H,s)、2.27(8H,8)、8.9
(HzXm)、4.24(2H,broad s)、5
.20(LH,d、 、T−8Hz)、5.23(2H
18)、6.08 (LH,a。
y4uz)、7.30(5H18)
゛うく ち右と (り’I 2/2−1:2−
ヒドロキシメチル−4−オキソ−8a、5a−ジヒドロ
−41(−アゼト〔8,2−d〕オキサゾール−5−イ
ルクー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル(
210mg)、ピリジン(64mg)および塩化メチレ
ン(4,5ml’)の溶液K、2.2.2−トリクロロ
エチルクロロホルメート(96μl)を−35℃で加え
る。得られる混合物の温度を1時間を要して徐々に0℃
まで上昇させる。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、希
塩酸、水、塩化ナトリウム飽和水溶液、炭酸水素す)
IJウム希氷水溶液塩化す) IJウム希氷水溶液よび
塩化ナトリウム飽和水溶液で続けて洗浄する。有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留する
油状物(811fflf)をシリカゲル(IOy)を用
いてクロマトグラフィーに付し、塩化メチレンで溶出す
ると、油状の2−[−((2,2,2−トリクロロエト
キシ)カルボニルオキシメチル)−4−オキソ−3a、
5a−ジヒドロ−4H−アゼト〔8,2−d〕オキサゾ
−#5−イル〕−3−メヂルー2−ブテン酸のベンジル
エステル(200■)を得る。この生改物は、実施例乙
の製品とN層りロマトグラフィーにより同定した。
ヒドロキシメチル−4−オキソ−8a、5a−ジヒドロ
−41(−アゼト〔8,2−d〕オキサゾール−5−イ
ルクー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステル(
210mg)、ピリジン(64mg)および塩化メチレ
ン(4,5ml’)の溶液K、2.2.2−トリクロロ
エチルクロロホルメート(96μl)を−35℃で加え
る。得られる混合物の温度を1時間を要して徐々に0℃
まで上昇させる。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、希
塩酸、水、塩化ナトリウム飽和水溶液、炭酸水素す)
IJウム希氷水溶液塩化す) IJウム希氷水溶液よび
塩化ナトリウム飽和水溶液で続けて洗浄する。有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留する
油状物(811fflf)をシリカゲル(IOy)を用
いてクロマトグラフィーに付し、塩化メチレンで溶出す
ると、油状の2−[−((2,2,2−トリクロロエト
キシ)カルボニルオキシメチル)−4−オキソ−3a、
5a−ジヒドロ−4H−アゼト〔8,2−d〕オキサゾ
−#5−イル〕−3−メヂルー2−ブテン酸のベンジル
エステル(200■)を得る。この生改物は、実施例乙
の製品とN層りロマトグラフィーにより同定した。
火 旋 イi’J 22
2−〔2−オキソ−3β−アミノ−4ρ−(2−(2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセト
キシ)アゼチジン−1−イルツー8−メチA/−4−ブ
テン酸のベンジルエステルのp−)ルエンスルホン!塩
(18,1y)b、l:ヒヘンジルク四ロホルメート(
8,82+ntりを塩化メチレン(80y+/)にけん
だくした液に、ピリジン(4,90i)と塩化メチレン
(10mg)の溶液を0℃で15分を要して滴下する。
2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセト
キシ)アゼチジン−1−イルツー8−メチA/−4−ブ
テン酸のベンジルエステルのp−)ルエンスルホン!塩
(18,1y)b、l:ヒヘンジルク四ロホルメート(
8,82+ntりを塩化メチレン(80y+/)にけん
だくした液に、ピリジン(4,90i)と塩化メチレン
(10mg)の溶液を0℃で15分を要して滴下する。
混合物を0℃で1時間撹拌し、濃縮する。残留物を酢酸
エチル(250mff)に溶解し、溶液を希塩酸、水、
炭酸水素ナトリウム希水溶液および塩化ナトリウム飽和
水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
すると、油状物(]、a、2y)を得る。油状物をシリ
カゲル(220y)を用いてクロマトグラフィーに付し
、ベンゼンおよびベンゼン:アセトン(20:8)混合
物で溶出すると、油状の2−〔2−オキソ−3β−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2−(2,2,
2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセトキシ
)アゼチジン−1−イ#)−8−メチル−2−ブテン酎
のベンジルエステル(18,29)ヲm7:、。
エチル(250mff)に溶解し、溶液を希塩酸、水、
炭酸水素ナトリウム希水溶液および塩化ナトリウム飽和
水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
すると、油状物(]、a、2y)を得る。油状物をシリ
カゲル(220y)を用いてクロマトグラフィーに付し
、ベンゼンおよびベンゼン:アセトン(20:8)混合
物で溶出すると、油状の2−〔2−オキソ−3β−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2−(2,2,
2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセトキシ
)アゼチジン−1−イ#)−8−メチル−2−ブテン酎
のベンジルエステル(18,29)ヲm7:、。
工、 R,(cH!cpffi)
1780.1760.1720ぴ一1
N、 M、 R,(cDC1!、 、δ)2.00(8
H,s)、2.26 (8H1e)、4.60 (2H
,s )、4.7 (1(2H18)、5.16(2H
,s)、5.20(2H,s)、5.25 (l H)
、5.47 (I H,broa、cl、 d。
H,s)、2.26 (8H1e)、4.60 (2H
,s )、4.7 (1(2H18)、5.16(2H
,s)、5.20(2H,s)、5.25 (l H)
、5.47 (I H,broa、cl、 d。
:r −9HZ )、6.34(IH,d、、J−4H
z)、7.87(IOH,e) 9ぐ 旋 イタリ 23 2−1:2−オキソ−8β−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イ
ルクー8−メチ/l/−’l−ブテン皺のベンジルエス
テル(18,7y)を酢酸エチy(26LnIりに溶か
した溶液に、オゾンを含む酸素ガスを一78℃で20分
間通じる。溶液の色が淡青色になった後、溶液中に窒素
ガスを一78℃で15分間通して過剰のオゾンを除去す
る。混合物の温度を窒素気流中で40分を要して徐々に
0℃に上昇させる。得られる混合物を亜硫酸ナトリウム
(10,47)、亜硫酸水素ナトリウム(82y)と水
(100me)の浴溶液中に注入し、振盪する。
z)、7.87(IOH,e) 9ぐ 旋 イタリ 23 2−1:2−オキソ−8β−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イ
ルクー8−メチ/l/−’l−ブテン皺のベンジルエス
テル(18,7y)を酢酸エチy(26LnIりに溶か
した溶液に、オゾンを含む酸素ガスを一78℃で20分
間通じる。溶液の色が淡青色になった後、溶液中に窒素
ガスを一78℃で15分間通して過剰のオゾンを除去す
る。混合物の温度を窒素気流中で40分を要して徐々に
0℃に上昇させる。得られる混合物を亜硫酸ナトリウム
(10,47)、亜硫酸水素ナトリウム(82y)と水
(100me)の浴溶液中に注入し、振盪する。
有機層を分1lKtシ、塩化ナトリウム希水釜液および
塩化す) IJウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を蒸発させ乾固すると、無定形固体
を得る。この残留物にジエチルエーテル(30me)を
加えて結晶化し、混合物から溶媒を蒸発式せ乾固する。
塩化す) IJウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を蒸発させ乾固すると、無定形固体
を得る。この残留物にジエチルエーテル(30me)を
加えて結晶化し、混合物から溶媒を蒸発式せ乾固する。
残留物にジイソプロピルエーテyv(Some)を加え
てすりつぶす。結晶を戸数し、ジイソプロピルエーテル
(25meX 2 ) ”’C洗浄し、真空乾燥すると
、mpH8−121°C(分解)の2−〔2−オキソ−
8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2−
(2,2,2−トリクロ四エトキシカルボニルオキシ)
アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕グリオキシ/1/
酸のベンジルエステル(1z、o7y)を得る。
てすりつぶす。結晶を戸数し、ジイソプロピルエーテル
(25meX 2 ) ”’C洗浄し、真空乾燥すると
、mpH8−121°C(分解)の2−〔2−オキソ−
8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2−
(2,2,2−トリクロ四エトキシカルボニルオキシ)
アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕グリオキシ/1/
酸のベンジルエステル(1z、o7y)を得る。
■、R1(ヌジョール)
1880.1765.1785.1720.1698
σ−1 N、 M、 R,(CDCl5 、δ)4.56 (2
H,broad s)、4.74、(2H,8)、5.
10 (2H,broad s)、5.80(2H,8
)、5.2〜5.4 (I H,m )、5.68(I
H,d、、 、r−911,z)、6.69(1)(。
σ−1 N、 M、 R,(CDCl5 、δ)4.56 (2
H,broad s)、4.74、(2H,8)、5.
10 (2H,broad s)、5.80(2H,8
)、5.2〜5.4 (I H,m )、5.68(I
H,d、、 、r−911,z)、6.69(1)(。
d、、T−4H2)、7.32 (5H1B)、7、E
18(5H,s) ゛う(施 イφリ 21/− 2−〔2−オキソ−8β−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル
〕グリオキシル酸のベンジルエステル(4,80y)お
よび酢酸(4,8+++f’)を塩化メチレン(40m
e)に溶かした溶液に、亜鉛末(o95mg)を18℃
で加える。得られる混合物を窒素気流中18°Cないし
17℃で8時間攪拌し、この間にさらに亜鉛末(400
■)を4回に分けて加える。反応混合物を酢酸エチルで
希釈し、濾過する。F液を酢酸エチル(150ml?)
で希釈し、冷水、炭酸水素す) IJウム希氷水溶液よ
び塩化す) IJJウム溶液で順次洗浄1〜、硫階マグ
ネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状の2−〔2−オキ
ソ−8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4β−(
2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキ
シ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕グリコール酸
のベンジルエステル(2位エピマーの混合物)(4,6
oy)を得る。この油状物をシリカゲルを用いてクロマ
トグラフィーに付し、ベンゼン:酢酸エチル(4:1)
混合物で流出すると純品を得る。
18(5H,s) ゛う(施 イφリ 21/− 2−〔2−オキソ−8β−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル
〕グリオキシル酸のベンジルエステル(4,80y)お
よび酢酸(4,8+++f’)を塩化メチレン(40m
e)に溶かした溶液に、亜鉛末(o95mg)を18℃
で加える。得られる混合物を窒素気流中18°Cないし
17℃で8時間攪拌し、この間にさらに亜鉛末(400
■)を4回に分けて加える。反応混合物を酢酸エチルで
希釈し、濾過する。F液を酢酸エチル(150ml?)
で希釈し、冷水、炭酸水素す) IJウム希氷水溶液よ
び塩化す) IJJウム溶液で順次洗浄1〜、硫階マグ
ネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状の2−〔2−オキ
ソ−8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4β−(
2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキ
シ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕グリコール酸
のベンジルエステル(2位エピマーの混合物)(4,6
oy)を得る。この油状物をシリカゲルを用いてクロマ
トグラフィーに付し、ベンゼン:酢酸エチル(4:1)
混合物で流出すると純品を得る。
1、 R,(CH,Cl2)
1800.1765.1740cm−’N、 M、 R
,(CDC1,、δ) 4.52および4.68(2HStwo s)、4.7
5(2H18)、5.12 (2H,s )、5.22
および5.25 (2H,七WOB)、5.1〜5.6
(2H,%m )、5.65〜6.0 (IH,m)
、6.17および6.83(H+、twod)、7、!
37(Ion、broad s)′X 穫 Aり“1
23− 2−1:2−オキソ−8β−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イ
ルコグリコール酸のベンジルエステル(9,30y)お
よび2.6−シメチルビリジン(2,68+++/)を
塩化メチレン< 100mj”1に溶かした溶液に、塩
化チオニル(1,68me)を窒素気流中−80℃で5
分間に滴下する。得られる混合物を20分間放置1−で
温度を0°Cに上昇させ、0℃で1.5時間攪拌する。
,(CDC1,、δ) 4.52および4.68(2HStwo s)、4.7
5(2H18)、5.12 (2H,s )、5.22
および5.25 (2H,七WOB)、5.1〜5.6
(2H,%m )、5.65〜6.0 (IH,m)
、6.17および6.83(H+、twod)、7、!
37(Ion、broad s)′X 穫 Aり“1
23− 2−1:2−オキソ−8β−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イ
ルコグリコール酸のベンジルエステル(9,30y)お
よび2.6−シメチルビリジン(2,68+++/)を
塩化メチレン< 100mj”1に溶かした溶液に、塩
化チオニル(1,68me)を窒素気流中−80℃で5
分間に滴下する。得られる混合物を20分間放置1−で
温度を0°Cに上昇させ、0℃で1.5時間攪拌する。
反応混合物を氷水(40++t7’)中に注入し、塩化
メチレン(50mt’)を加える。得られる混合物を振
盪後、塩化メチレン層を分離する。塩化メチレン層を氷
水、氷冷した塩化す) IJJウム和水溶液(5ome
)および炭酸水素ナトリウム飽和水溶液(15m1#)
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥L、溶媒を留去する
と、油状の2−クロロ−2−〔2−オキソ−8β−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2−(2,2,
2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセトキシ
)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジルエステル(2
位エピマーの混合物) (9,5(1)を得る。
メチレン(50mt’)を加える。得られる混合物を振
盪後、塩化メチレン層を分離する。塩化メチレン層を氷
水、氷冷した塩化す) IJJウム和水溶液(5ome
)および炭酸水素ナトリウム飽和水溶液(15m1#)
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥L、溶媒を留去する
と、油状の2−クロロ−2−〔2−オキソ−8β−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2−(2,2,
2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセトキシ
)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジルエステル(2
位エピマーの混合物) (9,5(1)を得る。
■、R,(C馬CZZ)
1805.1770.1785ctn−1実 5森と
イ朽 、26 2−クロロ−2−〔2−オキソ−8β−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−4β−(2−(2,2,2−)!J
ジクロロトキシカルボニルオキシ)アセトキシ)γモチ
ジン−1−イル〕酢酸のベンジルエステル(9,50y
)およびトリフェニルホスフィン(7,9y)を塩化メ
チレン(70mりに溶かした溶液を、窒素気流中室温で
18.5時間放置し、次いで窒素気流中7時a■加熱還
流する。反応混合物を濃縮した後、酢酸エチル(150
+nt’)中に注入する。混合物を氷冷した炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液(!30me)および塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を留去する。残留する油状物(16,4y
)をシリカゲル(2007)を用いてカラムクロマトグ
ラフィーに付しベンゼンお」二びベンゼン:アセトン(
7:1.5:1.4:1.8!1および2:1)混合物
で続りて溶出する。
イ朽 、26 2−クロロ−2−〔2−オキソ−8β−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−4β−(2−(2,2,2−)!J
ジクロロトキシカルボニルオキシ)アセトキシ)γモチ
ジン−1−イル〕酢酸のベンジルエステル(9,50y
)およびトリフェニルホスフィン(7,9y)を塩化メ
チレン(70mりに溶かした溶液を、窒素気流中室温で
18.5時間放置し、次いで窒素気流中7時a■加熱還
流する。反応混合物を濃縮した後、酢酸エチル(150
+nt’)中に注入する。混合物を氷冷した炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液(!30me)および塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を留去する。残留する油状物(16,4y
)をシリカゲル(2007)を用いてカラムクロマトグ
ラフィーに付しベンゼンお」二びベンゼン:アセトン(
7:1.5:1.4:1.8!1および2:1)混合物
で続りて溶出する。
目的化合物を含むワラクションから溶媒を留*すると、
油状の2−トリフェニルホスホラニリデン−2−(2−
オキソ−8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4β
−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベ
ンジルエステル(6,80〜)を得る。
油状の2−トリフェニルホスホラニリデン−2−(2−
オキソ−8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4β
−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ)アセトキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベ
ンジルエステル(6,80〜)を得る。
工、 R,(cntclt )
1775.1770.1725.1625 csn司欠
ライヒ イ3フ 27 2−トリフェニルホスホラニリデン−2−(2−オキソ
−8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2
−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ
)アセトキシ)アゼチジン−1−イル)Flのベンジル
エステル(e、75y)を塩化メチレン(85me)と
酢酸(8,5me)の混合物中に溶かし、亜鉛末(b、
5y)を撹拌下15℃で加え、得られる混合物を同温度
でさらに2時間攪拌し、0°Cで1時間放置する。反応
混合物を酢酸エチル(40me)で希釈し、濾過し、固
体を酢酸エチルで洗浄する。酢酸エチル層と洗液を合わ
せて氷冷した炭酸水素す)・リウム飽和水溶液(100
m/)と振盪し、濾過する。有機層を分離し、水層を酢
酸エチA/(50rne )で抽j」iする。分離した
有機層と抽出液を合わせ、水および塩化す)IJウム飽
和水溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過する。涙液から溶媒を留去すると、無定形固体(5
,!35y)を碍る。こうして得られた固体をシリカゲ
ル(85y)を用いてクロマトグラフィーにイJし、ベ
ンゼンb J二びベンゼン:酢酸エチル(5:]、2:
1および1;1)混合物で続けて溶出する。目的化合物
を含むフラクションから溶媒を留去すると、無定形固体
の2−トリフェニルホスホラニリデン−2−(2−オキ
ソ−8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4,β−
(2−ヒドロギシアセトキシ)アゼデシン−1−イル〕
酢酸のベンジルエステル(4,11y)を得る。
ライヒ イ3フ 27 2−トリフェニルホスホラニリデン−2−(2−オキソ
−8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2
−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ
)アセトキシ)アゼチジン−1−イル)Flのベンジル
エステル(e、75y)を塩化メチレン(85me)と
酢酸(8,5me)の混合物中に溶かし、亜鉛末(b、
5y)を撹拌下15℃で加え、得られる混合物を同温度
でさらに2時間攪拌し、0°Cで1時間放置する。反応
混合物を酢酸エチル(40me)で希釈し、濾過し、固
体を酢酸エチルで洗浄する。酢酸エチル層と洗液を合わ
せて氷冷した炭酸水素す)・リウム飽和水溶液(100
m/)と振盪し、濾過する。有機層を分離し、水層を酢
酸エチA/(50rne )で抽j」iする。分離した
有機層と抽出液を合わせ、水および塩化す)IJウム飽
和水溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過する。涙液から溶媒を留去すると、無定形固体(5
,!35y)を碍る。こうして得られた固体をシリカゲ
ル(85y)を用いてクロマトグラフィーにイJし、ベ
ンゼンb J二びベンゼン:酢酸エチル(5:]、2:
1および1;1)混合物で続けて溶出する。目的化合物
を含むフラクションから溶媒を留去すると、無定形固体
の2−トリフェニルホスホラニリデン−2−(2−オキ
ソ−8β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4,β−
(2−ヒドロギシアセトキシ)アゼデシン−1−イル〕
酢酸のベンジルエステル(4,11y)を得る。
工、 R,(cH,cl、 )
1γ80.1γ50.1725.1620σ〜1欠
プYv七 イ?リ 、23 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(メルカプト)アゼチジン−1−イルクー
8−メチル−8−ブテン削のベンジルエステ/1/(4
,,40P)および塩化2−(2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ)アセチル(4,02y)を
無水塩化メチレン(22me)にけんだくした液に、ピ
リジン(1,08y)と塩化メチレン(5d)の溶液を
攪拌下に一15℃ないし一10℃で加え、攪拌を15分
間続ける。反応混合物を酢酸エチル(100ri)およ
び2%塩酸(80ml’)の混合物中に注入する。有機
層を分離し、水(2回)、5%炭酸水素す) IJウム
水溶液(2回)および塩化ナトリウム水溶液(8回)で
続けて洗浄し、溶媒を留去すると、2−1:2−fキ’
/−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(
2−(2,2,2−トリク四ロエトキエステル(8,o
y)を得る。
プYv七 イ?リ 、23 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(メルカプト)アゼチジン−1−イルクー
8−メチル−8−ブテン削のベンジルエステ/1/(4
,,40P)および塩化2−(2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ)アセチル(4,02y)を
無水塩化メチレン(22me)にけんだくした液に、ピ
リジン(1,08y)と塩化メチレン(5d)の溶液を
攪拌下に一15℃ないし一10℃で加え、攪拌を15分
間続ける。反応混合物を酢酸エチル(100ri)およ
び2%塩酸(80ml’)の混合物中に注入する。有機
層を分離し、水(2回)、5%炭酸水素す) IJウム
水溶液(2回)および塩化ナトリウム水溶液(8回)で
続けて洗浄し、溶媒を留去すると、2−1:2−fキ’
/−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(
2−(2,2,2−トリク四ロエトキエステル(8,o
y)を得る。
■、 L (CH,CI!1)
1750.1720.1700σ−1
N、 M、 R,(cDclいδ)
1.85(3x■、8)、4.5〜5.3 (7H,m
)、5.47(IH,aa、 J−5および8Hz)
、6.1−0(IH−、d、’J−5Hz )、6.8
〜7.5 (1] H,m ) 〕)(施 イカJ 29 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニル」キシ)アセチルチオ)アゼデシン−]−]
イル〕−8−メチルー3−ブ戸ンのベンジルエステAI
+rspomg)を酢酸エチル(15mfりに溶かし5
、ドライアイスーア七トン浴で冷却下、溶液が淡青色に
なるまでオゾン化する。溶液を同温度で10分間放置し
た後、溶液に窒素ガスを通し、次いで温度を室温まで上
昇させる。得られる?8液を亜硫酸ナトリウム(15y
)および亜硫酸水素ナトリウム(5op)を水(500
me)に溶かした液で洗浄し、洗液を酢酸エチルで抽出
する。洗浄I−た冶゛機層と酢酸エチル抽出液を倫わせ
、塩化す) IJウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去するシア七ドアミド)−4
β−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキ
シ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イルシー8−ヒト
四ギシー4−プテン醜のベンジルエステル(5g8mg
)を得る。
)、5.47(IH,aa、 J−5および8Hz)
、6.1−0(IH−、d、’J−5Hz )、6.8
〜7.5 (1] H,m ) 〕)(施 イカJ 29 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニル」キシ)アセチルチオ)アゼデシン−]−]
イル〕−8−メチルー3−ブ戸ンのベンジルエステAI
+rspomg)を酢酸エチル(15mfりに溶かし5
、ドライアイスーア七トン浴で冷却下、溶液が淡青色に
なるまでオゾン化する。溶液を同温度で10分間放置し
た後、溶液に窒素ガスを通し、次いで温度を室温まで上
昇させる。得られる?8液を亜硫酸ナトリウム(15y
)および亜硫酸水素ナトリウム(5op)を水(500
me)に溶かした液で洗浄し、洗液を酢酸エチルで抽出
する。洗浄I−た冶゛機層と酢酸エチル抽出液を倫わせ
、塩化す) IJウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去するシア七ドアミド)−4
β−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキ
シ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イルシー8−ヒト
四ギシー4−プテン醜のベンジルエステル(5g8mg
)を得る。
工、 R,(CH,CI!、 )
8400.1γ75.1γ00.1660c+y+’N
0M、 R,(cDcl、、と) 2.241(!3H,s)、 4.56 (2H,a
)、4.77(2H,s)、4.80(2H18)、5
.25 (2HXs)、5.21 (IJ(、dd。
0M、 R,(cDcl、、と) 2.241(!3H,s)、 4.56 (2H,a
)、4.77(2H,s)、4.80(2H18)、5
.25 (2HXs)、5.21 (IJ(、dd。
y−5および9Hz)、(t、o O占、d15Hz)
、6.86〜7.50 (10Hlm)欠 施 イ
ケJ、3θ 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イ
ルシー8−ヒドロキシ−2−ブテン酸のベンジルエステ
ル(244mg) ヲ酢mエチル(15−)に溶かし、
ドライアイスーア七トン浴で冷却下、青色が濃くなるま
でオゾン化する。溶液に窒素ガスを通し、次いで温度を
室温まで上昇させる。得られる溶液を亜硫酸ナトリウム
−亜硫酢水素す) IJウム溶液で洗浄し、洗液を酢酸
エチルで抽出する。洗浄した有機層と洗液を合わせ、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後溶媒を留去する。ジエチルエーテルと目的化合物の結
晶種子を残留物に加え、結晶を戸数し、ジエチルエーテ
ルで洗浄し、酢酸エヂル:ジエヂルエーテル混合物から
再結晶すると、m p 180−184°Cの2−〔2
−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4
β−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキ
シ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕ダリオキシ
ル酸のベンジルエステル(140mg)t−?Gる。
、6.86〜7.50 (10Hlm)欠 施 イ
ケJ、3θ 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イ
ルシー8−ヒドロキシ−2−ブテン酸のベンジルエステ
ル(244mg) ヲ酢mエチル(15−)に溶かし、
ドライアイスーア七トン浴で冷却下、青色が濃くなるま
でオゾン化する。溶液に窒素ガスを通し、次いで温度を
室温まで上昇させる。得られる溶液を亜硫酸ナトリウム
−亜硫酢水素す) IJウム溶液で洗浄し、洗液を酢酸
エチルで抽出する。洗浄した有機層と洗液を合わせ、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後溶媒を留去する。ジエチルエーテルと目的化合物の結
晶種子を残留物に加え、結晶を戸数し、ジエチルエーテ
ルで洗浄し、酢酸エヂル:ジエヂルエーテル混合物から
再結晶すると、m p 180−184°Cの2−〔2
−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4
β−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキ
シ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕ダリオキシ
ル酸のベンジルエステル(140mg)t−?Gる。
工、R0(ヌジョール)
8850.1820.1760.17!30゜1γ20
.1660、C!n”−’ N、 M、 R,(cDg、、δ) 4.56(2H,e)、4.74(4H,B )、5.
88(2H,,8)、5.50 (IH,dd。
.1660、C!n”−’ N、 M、 R,(cDg、、δ) 4.56(2H,e)、4.74(4H,B )、5.
88(2H,,8)、5.50 (IH,dd。
J−6,5および8.5Hz)、6.05(IH。
dSJ −8,5Hz )、6.8〜’7.4 (10
Hlm)■1算値 4、a、!35 8P1 4J32
4.95 16.i実験値 4!J5 8.16 4
35 B27 16.46二)で 名警ヒ ノIリ
31 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イ
ルツー8−メチル−8−ブテン酸のベンジルエステル(
20,5g1)をベンゼン(200me)に溶かした溶
液に、トリエチルアミンを水冷下に加える。混合物を室
温で70分間攪拌する。反応混合物をIN−塩酸(60
dX2)および塩化ナトリウム水溶液で続けて洗浄し、
硫閥マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留物を
シリカゲA/(120y)を用いてり0−rトゲラフイ
ーに付し、ベンゼン:酢酸エチル(40:1ないし80
!1)混合物で溶出する。目的化合物を含む7ラクシヨ
ンから溶媒を留去すると、油状の2−〔2−オギソー8
β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2−(
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)ア
セチルチオ)アゼチジン−1−イルツー8−メチル−2
−ブテン酸のベンジルエステA/(6,2y)を得る。
Hlm)■1算値 4、a、!35 8P1 4J32
4.95 16.i実験値 4!J5 8.16 4
35 B27 16.46二)で 名警ヒ ノIリ
31 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イ
ルツー8−メチル−8−ブテン酸のベンジルエステル(
20,5g1)をベンゼン(200me)に溶かした溶
液に、トリエチルアミンを水冷下に加える。混合物を室
温で70分間攪拌する。反応混合物をIN−塩酸(60
dX2)および塩化ナトリウム水溶液で続けて洗浄し、
硫閥マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留物を
シリカゲA/(120y)を用いてり0−rトゲラフイ
ーに付し、ベンゼン:酢酸エチル(40:1ないし80
!1)混合物で溶出する。目的化合物を含む7ラクシヨ
ンから溶媒を留去すると、油状の2−〔2−オギソー8
β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2−(
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)ア
セチルチオ)アゼチジン−1−イルツー8−メチル−2
−ブテン酸のベンジルエステA/(6,2y)を得る。
■、只、(err2cz+り
8400.1770.1720.1γ00 σ−1N、
M、 R,(CDCl!s、δ)2.07 (8H,
、B)、2.25 (8H,B )、4.55(2H,
8)、4.72 (2H,日)、4.75(2H,s)
、5.21 (2H1日)、5.14(laSm)、8
.01 (I H,a。
M、 R,(CDCl!s、δ)2.07 (8H,
、B)、2.25 (8H,B )、4.55(2H,
8)、4.72 (2H,日)、4.75(2H,s)
、5.21 (2H1日)、5.14(laSm)、8
.01 (I H,a。
、T−5Hz)、6.85〜7.41 (10H,m
)文 矛! A声1 3λ 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イ
ルツー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステA/
(11,1’)を酢酸エチル(1!30rrLl)に溶
かし、ドライアイス−アセトン浴で冷却下、溶液が青色
になるまでオゾン化する。溶液に窒素ガスを通じる。得
られる溶液を、亜硫酸水素ナトリウム(5oy)および
亜硫酸ナトリウム(15gりを水(5ooy)に溶かし
た液50+ne(2回)、および塩化ナトリウム水溶液
で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去すると、油状の2−〔2−オキソ−8β−(2−フェ
ノキシアセトアミド)−4β−(2−(2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニルオキシ)アセチルチオ)ア
ゼチジン−1−イル〕グリオキシル酸のベンジルエステ
/I/(10,9y)を得る。本島は実施例30の製品
と同定した。
)文 矛! A声1 3λ 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イ
ルツー8−メチル−2−ブテン酸のベンジルエステA/
(11,1’)を酢酸エチル(1!30rrLl)に溶
かし、ドライアイス−アセトン浴で冷却下、溶液が青色
になるまでオゾン化する。溶液に窒素ガスを通じる。得
られる溶液を、亜硫酸水素ナトリウム(5oy)および
亜硫酸ナトリウム(15gりを水(5ooy)に溶かし
た液50+ne(2回)、および塩化ナトリウム水溶液
で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去すると、油状の2−〔2−オキソ−8β−(2−フェ
ノキシアセトアミド)−4β−(2−(2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニルオキシ)アセチルチオ)ア
ゼチジン−1−イル〕グリオキシル酸のベンジルエステ
/I/(10,9y)を得る。本島は実施例30の製品
と同定した。
1に 5カと イiJ 33
2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
下)−4β−(2−、(2,2,2−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−
イル〕グリオキシル酸のベンジルエステル(19,1’
)を、アルミニウムアマルガム(アルミニウム末20g
!から常法で製造したもの)をテトラヒドロフラン(3
00m1)にけんだくした液に加える。混合物を6〜7
℃に冷却した後、酢酸(20me)および水(6mlり
を加える。
下)−4β−(2−、(2,2,2−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−
イル〕グリオキシル酸のベンジルエステル(19,1’
)を、アルミニウムアマルガム(アルミニウム末20g
!から常法で製造したもの)をテトラヒドロフラン(3
00m1)にけんだくした液に加える。混合物を6〜7
℃に冷却した後、酢酸(20me)および水(6mlり
を加える。
得られる混合物を70分間同温度で攪拌し、セライト層
を通して濾過する。P液を半分に濃縮し、酢酸エチル(
700m1り中に注入する。混合物を、炭酸水素ナトリ
ウム(44y)を水(500rnりに溶かした溶で洗浄
し、洗液を酢酸エチルで抽出する。有機層を合わせ、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去すると、泡状物質の2−〔2−オキソ−
8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2−
’(2,2,2−)リクロロエトキシ力ルポニルオキシ
)アセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕グリコーA/
酸のベンジルエステル(2位エピマーの混合物)(1B
、El)を得る。
を通して濾過する。P液を半分に濃縮し、酢酸エチル(
700m1り中に注入する。混合物を、炭酸水素ナトリ
ウム(44y)を水(500rnりに溶かした溶で洗浄
し、洗液を酢酸エチルで抽出する。有機層を合わせ、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去すると、泡状物質の2−〔2−オキソ−
8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2−
’(2,2,2−)リクロロエトキシ力ルポニルオキシ
)アセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕グリコーA/
酸のベンジルエステル(2位エピマーの混合物)(1B
、El)を得る。
■、 :a、 (cH!clt )
8480.8880.1780.1740.9(オ敞
イクリ 3弘 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシア七)7t
ド)−4β−(2−(2,2,2−)リクロロエトキシ
力ルポニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イ
ル〕グリオキシA/酸のベンジルエステル(520rn
g)および亜鉛末(410trtg)を、攪拌下に酢酸
(0,5me)および塩化メチレン(10me)の混合
物に加える。得られる混合物を室温で1時間攪拌後、不
溶物を戸去する。p液を酢酸エチル(50+r+ff)
で希釈し、炭酸水素ナトリウムと塩化ナトリウムの和水
溶液で洗浄し、硫耐マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
すると、2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシア
セトアミド)−4β−(2−(2,2,2−トリク0ロ
エトキシカルボニ、/+/オキシ)7セチルチオ)γモ
チジン−1−イル〕ダリコー/L/酸のベンジルエステ
ル(2位エピマーの混合物)(440fW)を得る。
イクリ 3弘 2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシア七)7t
ド)−4β−(2−(2,2,2−)リクロロエトキシ
力ルポニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イ
ル〕グリオキシA/酸のベンジルエステル(520rn
g)および亜鉛末(410trtg)を、攪拌下に酢酸
(0,5me)および塩化メチレン(10me)の混合
物に加える。得られる混合物を室温で1時間攪拌後、不
溶物を戸去する。p液を酢酸エチル(50+r+ff)
で希釈し、炭酸水素ナトリウムと塩化ナトリウムの和水
溶液で洗浄し、硫耐マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
すると、2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシア
セトアミド)−4β−(2−(2,2,2−トリク0ロ
エトキシカルボニ、/+/オキシ)7セチルチオ)γモ
チジン−1−イル〕ダリコー/L/酸のベンジルエステ
ル(2位エピマーの混合物)(440fW)を得る。
本市は実施例33の製品と同定した。
う(うQlり’J 肘
2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキシアセトアミ
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−〕−イ
イルダグリコールのベンジルエステル(2位エピマーの
?Jl物) (19,6y )を塩化メチレン(220
mlりに溶かした溶液を−40℃に冷却し、2.6−ル
チジン(s、17y)を加える。この溶液に塩化チオニ
ル(5,’75y)と塩化メチレン10IT11!の溶
液を同温度で20分を要して滴下し、温度を徐々に一5
℃に上昇させろ。
ド)−4β−(2−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−〕−イ
イルダグリコールのベンジルエステル(2位エピマーの
?Jl物) (19,6y )を塩化メチレン(220
mlりに溶かした溶液を−40℃に冷却し、2.6−ル
チジン(s、17y)を加える。この溶液に塩化チオニ
ル(5,’75y)と塩化メチレン10IT11!の溶
液を同温度で20分を要して滴下し、温度を徐々に一5
℃に上昇させろ。
2−り胃ロー2−〔2−オキソ−8β−(2−フェノキ
シアセトアミトリー4β−(2−(2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチ
ジン−1−イル〕酢諧のベンジルエステル(2位エピマ
ーの混合物)を含む混合物を塩化す) IJウム水溶液
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。トリフェニル
ホスフィン(15,7y)を加え、得られる溶液を5.
5時間加熱還流する。反応混合物を冷却し、炭酸水素す
) IJウム冷水溶液(2回)および塩化すtリウム水
溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
する。残留物をシリカゲA/(800y)を用いてカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン2酢醗エチル(
4:1)混合物で溶出し、油状の2−トリフェニルホス
ホラニリデン−2−1:2−オキソ−8β−(2−フェ
ノキシアセトアミド)−4β−(2−(2,2,2−ト
リク00エトキシカルボニルオキシ)アセチルチオ)ア
ゼチジン−1−イル)酢n?のベンジルエステル(10
,65p)を得る。
シアセトアミトリー4β−(2−(2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニルオキシ)アセチルチオ)アゼチ
ジン−1−イル〕酢諧のベンジルエステル(2位エピマ
ーの混合物)を含む混合物を塩化す) IJウム水溶液
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。トリフェニル
ホスフィン(15,7y)を加え、得られる溶液を5.
5時間加熱還流する。反応混合物を冷却し、炭酸水素す
) IJウム冷水溶液(2回)および塩化すtリウム水
溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
する。残留物をシリカゲA/(800y)を用いてカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン2酢醗エチル(
4:1)混合物で溶出し、油状の2−トリフェニルホス
ホラニリデン−2−1:2−オキソ−8β−(2−フェ
ノキシアセトアミド)−4β−(2−(2,2,2−ト
リク00エトキシカルボニルオキシ)アセチルチオ)ア
ゼチジン−1−イル)酢n?のベンジルエステル(10
,65p)を得る。
工、R,(C馬Cz’z)
8880.1760.1690、]、 615 cjn
−’9(オレ、 イ塁Ij 31 2−トリフェニルホスホラニリデン−2−IJ−オキソ
ー3β−(2−フェノキシアセトアミド)−4ρ−(2
−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ
)アセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジ
ルエステル(12,51y)を塩化メチレン(115+
++t’)に溶かした溶液に、酢醗(0,8me)およ
び亜鉛末(1o、Oy)を氷冷下に続けて加え、室温で
1時間攪拌する。酢酸エチル(400me)を加えた緩
、セライト層を通して反応混合物を濾過する。p液を炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液および塩化す) IJウム
水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去すると、粗製物(xo、+y)を得る。これをシリカ
ゲル(90p)を用いてカラムクロマトグラフィーに利
し、ベンゼン:酢酸エチル(B:1)混合物で溶出する
と油状物(5,6y)を得る。この生成物をベンゼンか
ら結晶化すると、mp12Bないl、182℃の2−ト
リフェニルホスホラニリデン−2−〔2−λキン−8β
−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2−ヒト
四キシアセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢醸のベ
ンジルエステAI(2,1y)を得る。
−’9(オレ、 イ塁Ij 31 2−トリフェニルホスホラニリデン−2−IJ−オキソ
ー3β−(2−フェノキシアセトアミド)−4ρ−(2
−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ
)アセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジ
ルエステル(12,51y)を塩化メチレン(115+
++t’)に溶かした溶液に、酢醗(0,8me)およ
び亜鉛末(1o、Oy)を氷冷下に続けて加え、室温で
1時間攪拌する。酢酸エチル(400me)を加えた緩
、セライト層を通して反応混合物を濾過する。p液を炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液および塩化す) IJウム
水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去すると、粗製物(xo、+y)を得る。これをシリカ
ゲル(90p)を用いてカラムクロマトグラフィーに利
し、ベンゼン:酢酸エチル(B:1)混合物で溶出する
と油状物(5,6y)を得る。この生成物をベンゼンか
ら結晶化すると、mp12Bないl、182℃の2−ト
リフェニルホスホラニリデン−2−〔2−λキン−8β
−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2−ヒト
四キシアセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢醸のベ
ンジルエステAI(2,1y)を得る。
工、R0(ヌジョール)
8800.8060〜8180.1γ70.1680.
1600 (!iff’ 計算値 86B4 4.91 8.005戦 〕
べ七 イp“] ]3 72−オキソー3β−2−7エニルアセトアミド)−4
ρ−メルカプトアゼチジン(4,r2y )、塩化2−
(2,2,2−1−リクロロエトキシ力ルポニルオキシ
)アセチル(9,38y)および塩化メチレン(2sm
i’)の混合物を0℃に冷却し、これにピリジン(2,
21y)を撹拌下に加え、同温度で1時間撹拌する。反
応混合物を酢酸エチル(120me )で希釈し、氷水
(120d)中に注入する。有機層を分離し、2チ塩酸
(30ml’)、水(30ml’)、2チ炭酸水素ナト
リウム水溶液(30me )および水(30+nIりで
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去す
る。残留物をジエチルエーテル(150+ng)と共に
すりつぶし、沈殿をP取し、ジエチルエーテルで洗浄し
、乾燥ドアミド)−4β−(2−(2,2,2−)リク
ロロエトキシ力ルポニルオキシ)アセチルチオ〕アセ。
1600 (!iff’ 計算値 86B4 4.91 8.005戦 〕
べ七 イp“] ]3 72−オキソー3β−2−7エニルアセトアミド)−4
ρ−メルカプトアゼチジン(4,r2y )、塩化2−
(2,2,2−1−リクロロエトキシ力ルポニルオキシ
)アセチル(9,38y)および塩化メチレン(2sm
i’)の混合物を0℃に冷却し、これにピリジン(2,
21y)を撹拌下に加え、同温度で1時間撹拌する。反
応混合物を酢酸エチル(120me )で希釈し、氷水
(120d)中に注入する。有機層を分離し、2チ塩酸
(30ml’)、水(30ml’)、2チ炭酸水素ナト
リウム水溶液(30me )および水(30+nIりで
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去す
る。残留物をジエチルエーテル(150+ng)と共に
すりつぶし、沈殿をP取し、ジエチルエーテルで洗浄し
、乾燥ドアミド)−4β−(2−(2,2,2−)リク
ロロエトキシ力ルポニルオキシ)アセチルチオ〕アセ。
チジン(7,60f7 )を碍る。
1、 R,(CHIC/、)
3400、1785.1700.1685 cyn−’
N、 MJ、(DMSO−da+D!0.δ)3.62
(2H,日)、 4.8−5.5 (5H,m
)。
N、 MJ、(DMSO−da+D!0.δ)3.62
(2H,日)、 4.8−5.5 (5H,m
)。
5.63 (LH,d、 J−4,5Hz)、 7.3
5(5H,s) * J々h イク+1 38 2−オキソ−3ρ−(2−フェニルアセトアミド)−4
β−(2−(2,2,2−)リクロロエトキシ力ルポニ
ルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン(469rng)
およびグリオキシル酸ベンジルニス7’−ル(1,64
F? )をベンゼンに溶かした溶液を、水を連続的に除
きながら(ディーンスタータの装置)撹拌下に11時間
加熱還流する。2−[2−オキソ−3β−(2−7エニ
ルアセトアミド)−4β−(2−(2,2,2−)リク
ロロエトキシ)カルボニルオキシアセチルチオ)アゼチ
ジン−1−イルコクリコール酸のベンジルエステル(2
位エピマーの混合物)を含む反応混合物を、10ヂ亜硫
酸水素す) IJクム(20meS回)および水(2回
)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残留する油状物(1,36y)を無水塩化メチlノ
ン(30y+e)K溶かした溶液に、2.6−ルヂジン
(535〜)を加え、溶液な0℃に冷却する。塩化チオ
ニル(600rng)を撹拌下に加え、溶液を0℃で4
5分間撹拌する。2−クロロ−2−(2−オキソ−3β
−(2−7エニルアセトアミド)−4β−(2−(2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセチ
ルチオ)アセ。
5(5H,s) * J々h イク+1 38 2−オキソ−3ρ−(2−フェニルアセトアミド)−4
β−(2−(2,2,2−)リクロロエトキシ力ルポニ
ルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン(469rng)
およびグリオキシル酸ベンジルニス7’−ル(1,64
F? )をベンゼンに溶かした溶液を、水を連続的に除
きながら(ディーンスタータの装置)撹拌下に11時間
加熱還流する。2−[2−オキソ−3β−(2−7エニ
ルアセトアミド)−4β−(2−(2,2,2−)リク
ロロエトキシ)カルボニルオキシアセチルチオ)アゼチ
ジン−1−イルコクリコール酸のベンジルエステル(2
位エピマーの混合物)を含む反応混合物を、10ヂ亜硫
酸水素す) IJクム(20meS回)および水(2回
)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残留する油状物(1,36y)を無水塩化メチlノ
ン(30y+e)K溶かした溶液に、2.6−ルヂジン
(535〜)を加え、溶液な0℃に冷却する。塩化チオ
ニル(600rng)を撹拌下に加え、溶液を0℃で4
5分間撹拌する。2−クロロ−2−(2−オキソ−3β
−(2−7エニルアセトアミド)−4β−(2−(2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)アセチ
ルチオ)アセ。
チジンー1−イル〕酢酸のベンジルエステル(2位エピ
マーの混合物)を含む反応混合物を塩化ナトリクム水溶
液(20tne×3)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、次にこれにトリフェニルホスフィン(1,40y
)を加える。得られる混合物を、10時間加熱還流する
。反応混合物を、5嘱炭酸水素ナトリクム水溶液(30
rne)および水(30ffIex2)で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留する油状
物(1,95y)をシリカゲルを用いてカラムクロマト
グラフィーに付し、ベンゼン;酢酸エチル混合物で溶出
する。!:、2−)リフェニルホスホラニリデン−2−
〔2−オキソ−3β−(2−フェニルアセトアミド)−
4β−(2−(2,2,2−)リクロロエトキシ力ルポ
ニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イル[p
H2のベンジルエステル(0,54y)を得る。
マーの混合物)を含む反応混合物を塩化ナトリクム水溶
液(20tne×3)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、次にこれにトリフェニルホスフィン(1,40y
)を加える。得られる混合物を、10時間加熱還流する
。反応混合物を、5嘱炭酸水素ナトリクム水溶液(30
rne)および水(30ffIex2)で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留する油状
物(1,95y)をシリカゲルを用いてカラムクロマト
グラフィーに付し、ベンゼン;酢酸エチル混合物で溶出
する。!:、2−)リフェニルホスホラニリデン−2−
〔2−オキソ−3β−(2−フェニルアセトアミド)−
4β−(2−(2,2,2−)リクロロエトキシ力ルポ
ニルオキシ)アセチルチオ)アゼチジン−1−イル[p
H2のベンジルエステル(0,54y)を得る。
■、’R,(CH2CZ、)
1755、1720.1670. 1610cm−1貢
う鵠ヒ イル1 、:l?2−)リフェニル
ホスホラニリテン−2−(2−オキソ−3β−(2−フ
ェニルアセトアミド)−4β−(2−(2,2,2−)
リクロロエトキシヵチオ ルポニルオキシ)アセチフケアゼチジン−1−イル]酢
酸のベンジルエステル(500my)FNjk5Jを、
酢酸(0,25m(りおよび塩化メチレン(2゜5me
)の混合物に加える。混合物を10℃ない1−15℃に
冷却し、亜鉛末(400ry)を撹拌下に加え、J5t
、拌を1時間続ける。反応混合物を濾過し、涙液を酢酸
舌チル(20ml)で肴釈し、炭酸水素ナトリウムおよ
び塩化ナトリウムの5%水溶液で続けて洗浄し、硫酸−
マグネシウムでf7:、燥17、溶媒を減圧留去すると
、2−トリフェニルホスホラニリデン−2−〔2−オキ
ソ−3β−(2−フェニルアセトアミF )−4β−(
2−ヒドロキシアセチルヂオ)アゼチジン−1−イル〕
酢酸のベンジルエステル(o、37y )lGる。
う鵠ヒ イル1 、:l?2−)リフェニル
ホスホラニリテン−2−(2−オキソ−3β−(2−フ
ェニルアセトアミド)−4β−(2−(2,2,2−)
リクロロエトキシヵチオ ルポニルオキシ)アセチフケアゼチジン−1−イル]酢
酸のベンジルエステル(500my)FNjk5Jを、
酢酸(0,25m(りおよび塩化メチレン(2゜5me
)の混合物に加える。混合物を10℃ない1−15℃に
冷却し、亜鉛末(400ry)を撹拌下に加え、J5t
、拌を1時間続ける。反応混合物を濾過し、涙液を酢酸
舌チル(20ml)で肴釈し、炭酸水素ナトリウムおよ
び塩化ナトリウムの5%水溶液で続けて洗浄し、硫酸−
マグネシウムでf7:、燥17、溶媒を減圧留去すると
、2−トリフェニルホスホラニリデン−2−〔2−オキ
ソ−3β−(2−フェニルアセトアミF )−4β−(
2−ヒドロキシアセチルヂオ)アゼチジン−1−イル〕
酢酸のベンジルエステル(o、37y )lGる。
王、R,(CLT2C/、)
3300、 1760.1,690.161’Ocm’
シ)λ 5句14り」 1 2−MJフェニルホスホラニリテン−2−1:2−オキ
ソ−3β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(
2−ヒドロキシアセトキシ)アゼチジシー1−イル〕酢
酸のベンジルエステル(288m17)、ジメチルスル
ホキシド(1,4+ulりおよび無水酢酸(1,4rn
e )の混合物を室温で4時間攪拌する。反応中に、2
−トリフェニルホスホラニリデンー2−〔2−オキソ−
8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(グリ
オキシロイルオキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベ
ンジルエステルが生改する。反応混合物を室温で1.5
meまで減圧濃縮する。残留物を炭酸水素ナトリウム冷
希水溶液中に注入し、ベンゼン:酢酸エチル(1! 2
)の混合物で抽出する。抽出液を塩化ナトIJウム希水
溶液、水(8回)および塩化ナトリウム飽和水溶液で続
けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
ると、油状物(282〜)を得る。
シ)λ 5句14り」 1 2−MJフェニルホスホラニリテン−2−1:2−オキ
ソ−3β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(
2−ヒドロキシアセトキシ)アゼチジシー1−イル〕酢
酸のベンジルエステル(288m17)、ジメチルスル
ホキシド(1,4+ulりおよび無水酢酸(1,4rn
e )の混合物を室温で4時間攪拌する。反応中に、2
−トリフェニルホスホラニリデンー2−〔2−オキソ−
8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(グリ
オキシロイルオキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸のベ
ンジルエステルが生改する。反応混合物を室温で1.5
meまで減圧濃縮する。残留物を炭酸水素ナトリウム冷
希水溶液中に注入し、ベンゼン:酢酸エチル(1! 2
)の混合物で抽出する。抽出液を塩化ナトIJウム希水
溶液、水(8回)および塩化ナトリウム飽和水溶液で続
けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
ると、油状物(282〜)を得る。
油状物をシリカゲル(5y)を用いてクロマトグラフィ
ーに付し、ベンゼン:アセトン(5:1)の混合物で溶
出すると、無定形固体の7β−(2−フェノキシアセト
アミド)−1−オキサゾチア−2−オキソ−3−七7エ
ム−4、−カルボン酸のベンジルエステル(184■)
ヲ得る。
ーに付し、ベンゼン:アセトン(5:1)の混合物で溶
出すると、無定形固体の7β−(2−フェノキシアセト
アミド)−1−オキサゾチア−2−オキソ−3−七7エ
ム−4、−カルボン酸のベンジルエステル(184■)
ヲ得る。
■、 R,(aI■、c4. )
1820、]745.1700σ−1
H0M、 R,(CD(: I!、、δ)4.53(2
H,s)、5.88 (2H,e )、5.77(2H
,m)、0.18 (IH,B )、43.7〜7.7
(11H,m ) 2ン 2−トリフェニルホスホラニリデン−2−(2−オキソ
−3β−ペンジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2
−ヒドロキシアセトキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸
のベンジルエステル(1,00y)をジメチルスルホキ
シド(4mfりおよび無水酢酸(4me)に溶かした溶
液を室温で5時間40分攪拌し、さらに28℃ないし8
1℃で70分間攪拌する。反応中に、2−トリフェニル
ホスホラニリデン−2−(2−オキソ−8β−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−4β−(グリオキシロイルオ
キシ)アゼチジン−1−イル〕酢港のベンジルエステル
が生成する。反応混合物を室温で約4mlまで減圧濃縮
する。濃縮物を酢酸エチル:ベンゼン(1:1)混合物
(80+nt’)に溶解し、炭酸水素す) IJウム冷
冷水水溶液塩化ナトリウム飽和水溶液、水(8回)、お
よび塩化す) IJJウム和水溶液で洗浄し、乾燥し、
溶媒を留失すると、黄色油状物(1,06y)を得る。
H,s)、5.88 (2H,e )、5.77(2H
,m)、0.18 (IH,B )、43.7〜7.7
(11H,m ) 2ン 2−トリフェニルホスホラニリデン−2−(2−オキソ
−3β−ペンジルオキシカルボニルアミノ−4β−(2
−ヒドロキシアセトキシ)アゼチジン−1−イル〕酢酸
のベンジルエステル(1,00y)をジメチルスルホキ
シド(4mfりおよび無水酢酸(4me)に溶かした溶
液を室温で5時間40分攪拌し、さらに28℃ないし8
1℃で70分間攪拌する。反応中に、2−トリフェニル
ホスホラニリデン−2−(2−オキソ−8β−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−4β−(グリオキシロイルオ
キシ)アゼチジン−1−イル〕酢港のベンジルエステル
が生成する。反応混合物を室温で約4mlまで減圧濃縮
する。濃縮物を酢酸エチル:ベンゼン(1:1)混合物
(80+nt’)に溶解し、炭酸水素す) IJウム冷
冷水水溶液塩化ナトリウム飽和水溶液、水(8回)、お
よび塩化す) IJJウム和水溶液で洗浄し、乾燥し、
溶媒を留失すると、黄色油状物(1,06y)を得る。
得られた油状物をシリカゲル(15y)を用いてクロマ
トグラフィーに付し、ベンゼン:酢酸エチ/k(4:1
)混合物で溶出する。目的化合物を含むフラクションか
ら溶媒を留失すると、油状の7β−ペンジルオキシ力ル
ボニA/アミノ−1−オギサデチアー2−オキソー8−
七フエム−4−カルボン酸のベンジルエステル(870
fflii’)を得る。
トグラフィーに付し、ベンゼン:酢酸エチ/k(4:1
)混合物で溶出する。目的化合物を含むフラクションか
ら溶媒を留失すると、油状の7β−ペンジルオキシ力ル
ボニA/アミノ−1−オギサデチアー2−オキソー8−
七フエム−4−カルボン酸のベンジルエステル(870
fflii’)を得る。
工、 L < CH2C,J、 )
1818.1785、cnT’
N、 M、 R,(ア七トン−dいδ)5.11 (2
H,日)、5.35(2H,s)、5.66 (IH,
dd、 、T−4,9Hz )、6.06 (I n、
a、J−4uz)、681(IHSa)、7.1〜7.
6(IOH,m) ;)(考 イダj 2 44イトj1と同様にして、下記の化合物を製造した。
H,日)、5.35(2H,s)、5.66 (IH,
dd、 、T−4,9Hz )、6.06 (I n、
a、J−4uz)、681(IHSa)、7.1〜7.
6(IOH,m) ;)(考 イダj 2 44イトj1と同様にして、下記の化合物を製造した。
1)7β−〔2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−ホ
ルムアミドチアゾール−4−イA/)アセトアミドシー
1−オキサゾチア−2−オキソ−8−七7エムー4−カ
ルボン酸のベンジルエステル(シン異性体) 工、 R,(CHtCb ) 8850.1810.1780.1690硼−12)7
β−(2−メトキシイミノ−2−フェニA/アセトアミ
ド)−1−オキザブチア−2−オキソ−8−セフェム−
4−カルボン酸のベンジルエステA/(シン異性体) 工、 R,(CH,CJ、 ) 8890.1815、H40,1685,1610側−
1 n、M、x、 ((aD、)、c−o、δ〕8.95(
8H,e)、5.40 (2H,e ’)、6.08
(I HXdd、 y−4および8Hz)、6.23
(IH,’d、 ’l−4Hz )、q、ss〜7.8
3(10〜11H,m) 参 考 イン’I 3 2−トリフェニルホスホラニリデン−2−〔2−オキソ
−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2
−ヒト四キシアセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢
醗のベンジルエステル(2、04y )、無水酢酸(8
Fn!りおよびジメチルスルホキシド(8−)の混合物
を室温で4時間45分間攪拌する。反応中に、2−トリ
フェニルホスホラニリデン−2−〔2−オキソ−8β−
(2−フエノキシア七ドアミド)−4β−(グリオキシ
四イルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢醗のベンジルエ
ステルが生成する。過剰の無水酢酸を真空で除去し、得
られる溶液を酢酸エチルと冷水中に注入する。有機層を
分離し、水、炭酸水素す) IJウム希氷水溶液よび塩
化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧留去する。残留する油状物をシリカ
ゲル(24y)を用いてクロマトグラフィーに付し、ま
ずペンゼン次いでベンゼン:酢酸エチル(9:1)混合
物で溶出すると、無定形固体を得、これをジエチルエー
テルから結晶化すると、mp12γ−128℃のγβ−
(2−フェノキシアセトアミド)−2−オキソ−3−セ
フェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(0,80
y)を得る。
ルムアミドチアゾール−4−イA/)アセトアミドシー
1−オキサゾチア−2−オキソ−8−七7エムー4−カ
ルボン酸のベンジルエステル(シン異性体) 工、 R,(CHtCb ) 8850.1810.1780.1690硼−12)7
β−(2−メトキシイミノ−2−フェニA/アセトアミ
ド)−1−オキザブチア−2−オキソ−8−セフェム−
4−カルボン酸のベンジルエステA/(シン異性体) 工、 R,(CH,CJ、 ) 8890.1815、H40,1685,1610側−
1 n、M、x、 ((aD、)、c−o、δ〕8.95(
8H,e)、5.40 (2H,e ’)、6.08
(I HXdd、 y−4および8Hz)、6.23
(IH,’d、 ’l−4Hz )、q、ss〜7.8
3(10〜11H,m) 参 考 イン’I 3 2−トリフェニルホスホラニリデン−2−〔2−オキソ
−8β−(2−フェノキシアセトアミド)−4β−(2
−ヒト四キシアセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢
醗のベンジルエステル(2、04y )、無水酢酸(8
Fn!りおよびジメチルスルホキシド(8−)の混合物
を室温で4時間45分間攪拌する。反応中に、2−トリ
フェニルホスホラニリデン−2−〔2−オキソ−8β−
(2−フエノキシア七ドアミド)−4β−(グリオキシ
四イルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢醗のベンジルエ
ステルが生成する。過剰の無水酢酸を真空で除去し、得
られる溶液を酢酸エチルと冷水中に注入する。有機層を
分離し、水、炭酸水素す) IJウム希氷水溶液よび塩
化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧留去する。残留する油状物をシリカ
ゲル(24y)を用いてクロマトグラフィーに付し、ま
ずペンゼン次いでベンゼン:酢酸エチル(9:1)混合
物で溶出すると、無定形固体を得、これをジエチルエー
テルから結晶化すると、mp12γ−128℃のγβ−
(2−フェノキシアセトアミド)−2−オキソ−3−セ
フェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(0,80
y)を得る。
工、 R,(CH,Cl2)
8890.1805.17B5.1700.1655
側4 L M、 R,(DMso−dいδ) 4.68 (2H,s)、5.86(2H,s)、5.
86(LH,dd、、r−5および8H2)、6.05
(IH,d、 J−5Hz)、6.88(IH,8)、
6.88〜7.05および7.20〜7.50 (10
Hlm)、9.!36 (I HldlT−8Hz ) 元素分析 HNS MF算値 6026 4.Hl 6J39 731
実験値 60.68 4.12 6.29 7.08
U、V、(ジオキサン) λmaw 814 (ε−6022)、2γ7(a’−
4196)、。
側4 L M、 R,(DMso−dいδ) 4.68 (2H,s)、5.86(2H,s)、5.
86(LH,dd、、r−5および8H2)、6.05
(IH,d、 J−5Hz)、6.88(IH,8)、
6.88〜7.05および7.20〜7.50 (10
Hlm)、9.!36 (I HldlT−8Hz ) 元素分析 HNS MF算値 6026 4.Hl 6J39 731
実験値 60.68 4.12 6.29 7.08
U、V、(ジオキサン) λmaw 814 (ε−6022)、2γ7(a’−
4196)、。
2γO’(g−!3987)
毛針 考 イφリ 4t
2−)リフェニルホスボラニリテン−2−(2−オキソ
−3β−(2−フェニルアセトアミド)−4ρ−(2−
ヒドロキシアセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢酸
(92m9)を、ジメチルスルホキシド(0,4y+l
)および無水酢酸(0,4d)の混合物に加え、室温で
6.5時間撹拌する。反応中に、2−)リフェニルホス
ホラニリデン−2−〔2−オキソ−3β−(2−フェニ
ルアセトアミド)−4β−(グリオキシロイルチオ)ア
ゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジルエステルが生成す
る。反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル(2
0+r+l)K溶解する。酢酸エチル層を分離し、氷水
、2頭炭酸水素す) IJクム水溶液および水で続けて
洗浄17、硫酸マグネシクムで乾燥し、溶媒を留去する
。残留物をシリカゲルを用いてカラムタロマドグラフィ
ーに付し、ベンゼン:酢酸エチル(3:1)混合物で浦
出すふ)−清快物質の7− 1.20 − β−(2−フェニルアセトアミド)−2−オキソ−3−
セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(12■
)を得る。
−3β−(2−フェニルアセトアミド)−4ρ−(2−
ヒドロキシアセチルチオ)アゼチジン−1−イル〕酢酸
(92m9)を、ジメチルスルホキシド(0,4y+l
)および無水酢酸(0,4d)の混合物に加え、室温で
6.5時間撹拌する。反応中に、2−)リフェニルホス
ホラニリデン−2−〔2−オキソ−3β−(2−フェニ
ルアセトアミド)−4β−(グリオキシロイルチオ)ア
ゼチジン−1−イル〕酢酸のベンジルエステルが生成す
る。反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル(2
0+r+l)K溶解する。酢酸エチル層を分離し、氷水
、2頭炭酸水素す) IJクム水溶液および水で続けて
洗浄17、硫酸マグネシクムで乾燥し、溶媒を留去する
。残留物をシリカゲルを用いてカラムタロマドグラフィ
ーに付し、ベンゼン:酢酸エチル(3:1)混合物で浦
出すふ)−清快物質の7− 1.20 − β−(2−フェニルアセトアミド)−2−オキソ−3−
セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(12■
)を得る。
■、R,(CH,Cl、)
3400、1800.1730. 1690゜1650
σ−1 N1M、R,(CDCl、 、δ) 3.60(2H,a)、 5.26 (2H,e)。
σ−1 N1M、R,(CDCl、 、δ) 3.60(2H,a)、 5.26 (2H,e)。
5.62 (IH,d、 J=4Hz)、 5.80
(IH,dd、 J=4および8Hz)、 6.36(
LH,s)、 6.60 (IH,d、 J=8Hz)
。
(IH,dd、 J=4および8Hz)、 6.36(
LH,s)、 6.60 (IH,d、 J=8Hz)
。
7.0−7.4 (101(、m)
参 ヅ幣1 イ多・ノ 3ド
アβ−(2−フェノキシアセトアミド)−1−オキサゾ
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸のベ
ンジルエステル(379my>を塩化メチレン(10+
nj)K溶かした溶液に、N、N −ジメチルアニリン
(218rng)および5塩化燐(373ffIg)を
−40℃で加え、は1¥−35℃で50分間撹拌する。
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸のベ
ンジルエステル(379my>を塩化メチレン(10+
nj)K溶かした溶液に、N、N −ジメチルアニリン
(218rng)および5塩化燐(373ffIg)を
−40℃で加え、は1¥−35℃で50分間撹拌する。
混合物にメタノール(0,6me)を−55℃で加え、
70分間を要して温度を0℃まで徐々に上昇させる。反
応混合物に水(0,3nf)を加え、水冷下に25分間
撹拌する。沈殿をP取し、少量のイソプロピルアルコー
ルで洗浄シ、5塩化燐」二で真空乾燥すると、mp70
82℃(分解)の7ρ−アミノ−]、−]iキサデチ
アー2−オキソー3−セフェム4−カルボン酸のベンジ
ルエステルの塩酸塩(70■)を得る。
70分間を要して温度を0℃まで徐々に上昇させる。反
応混合物に水(0,3nf)を加え、水冷下に25分間
撹拌する。沈殿をP取し、少量のイソプロピルアルコー
ルで洗浄シ、5塩化燐」二で真空乾燥すると、mp70
82℃(分解)の7ρ−アミノ−]、−]iキサデチ
アー2−オキソー3−セフェム4−カルボン酸のベンジ
ルエステルの塩酸塩(70■)を得る。
■、R1(ヌジョール)
1820、 1730c+++−1
N、M、R,、(CD、on、 δ)5.24 (
IH,d、J=4Hz)、6.1.5(1,H,cl、
J=4Hz)、5.33 (2H,s)。
IH,d、J=4Hz)、6.1.5(1,H,cl、
J=4Hz)、5.33 (2H,s)。
6.46 (]、L(、B)、 7.4 (51
(、m)参考例と 7β−(2−フェノキシアセトアミド)−2−オキソ−
3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(2
94mg)を塩化メチレン(7me)に溶かした溶液1
c、 N、N−ジメチルアニリン(0,17mg)およ
び5塩化燐(281ff1g)を−35℃で続けて加え
る。混合物を1.5時間−35℃々いし一30℃で撹拌
し、−50℃に冷却し、メタノール(0゜57−)を加
える。1.5時間を要して温度を徐々にO″Cまで上昇
させた後、水(0,5Tnl)を加える。
(、m)参考例と 7β−(2−フェノキシアセトアミド)−2−オキソ−
3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(2
94mg)を塩化メチレン(7me)に溶かした溶液1
c、 N、N−ジメチルアニリン(0,17mg)およ
び5塩化燐(281ff1g)を−35℃で続けて加え
る。混合物を1.5時間−35℃々いし一30℃で撹拌
し、−50℃に冷却し、メタノール(0゜57−)を加
える。1.5時間を要して温度を徐々にO″Cまで上昇
させた後、水(0,5Tnl)を加える。
沈殿を戸数し、少量のイソプロピルアルコールで洗浄す
ると、7β−アミノ−2−オキソ−3−セフェム−4−
カルボン酸のベンジルエステルの塩酸塩(96,5Pn
g)を得る。
ると、7β−アミノ−2−オキソ−3−セフェム−4−
カルボン酸のベンジルエステルの塩酸塩(96,5Pn
g)を得る。
工、R0(ヌジョール)
3140.1800. 1730.1640側−1N0
M、R,’(DMSO−d、、、 δ)5.40 (
2H,sおよびLH,d、、 J=5Hz)。
M、R,’(DMSO−d、、、 δ)5.40 (
2H,sおよびLH,d、、 J=5Hz)。
6.13 (]、H,a、J’=5Hz)、6.45
(1’H,s)、’7.45(5H,e)ぞり −
ず イク゛J 7 N、N−ジメチルホルムアミド(292frPg)を塩
化メチレン(1(Ine)Ic溶かした溶液(1me)
に、5塩化燐(318ff+g)を塩化メチレン(1,
0m1)に溶かした溶液(1me )を水冷下洗加え、
同温度で80分間撹拌する。この混合物に、2−ペンチ
ルオキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−
4−イル)酢酸(シン異性体)(57mg)を加え、得
られる澄明ガ溶液を水冷下に1時間撹拌する。他方、7
β−アミノ−1−オキサゾチア−2−オキソ−3−セフ
ェム−4−カルボン酸のベンジルエステルの塩酸塩(5
0mg)を塩化メチレン(2ffIe)にけんだくした
液を一45℃に冷却し、これにピリジン(400rng
)と塩化メチレン(10mg)の溶液を加える。この溶
液に直ちに上で得られた澄り1溶液を加え、85分間を
要して温度を徐々に−5”C4で上昇させる。反応混合
物を酢酸エチル(50+r+e)と冷水の混合物中に注
入し、有機層を分取する。有機層を冷希塩酸、炭酸水素
ナトリウム冷水水溶液および塩化ナトリクム水溶液で続
けて洗浄し、溶媒を留去すると、黄色油状物(62tn
g)を行為。この油状物をシリカゲル(1,3P)を用
いてクロマトグラフィーに付し、ベンゼン:酢酸エチル
(3:1)混合物で溶出する。目的化合物を含むフラク
ションから溶媒を留去スると、7β−〔2−ペンチルオ
キシイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−
イル)アセトアミド〕−1−オキサゾチア−2−オキソ
−3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(
シン異性体) (30rng)を得る。
(1’H,s)、’7.45(5H,e)ぞり −
ず イク゛J 7 N、N−ジメチルホルムアミド(292frPg)を塩
化メチレン(1(Ine)Ic溶かした溶液(1me)
に、5塩化燐(318ff+g)を塩化メチレン(1,
0m1)に溶かした溶液(1me )を水冷下洗加え、
同温度で80分間撹拌する。この混合物に、2−ペンチ
ルオキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−
4−イル)酢酸(シン異性体)(57mg)を加え、得
られる澄明ガ溶液を水冷下に1時間撹拌する。他方、7
β−アミノ−1−オキサゾチア−2−オキソ−3−セフ
ェム−4−カルボン酸のベンジルエステルの塩酸塩(5
0mg)を塩化メチレン(2ffIe)にけんだくした
液を一45℃に冷却し、これにピリジン(400rng
)と塩化メチレン(10mg)の溶液を加える。この溶
液に直ちに上で得られた澄り1溶液を加え、85分間を
要して温度を徐々に−5”C4で上昇させる。反応混合
物を酢酸エチル(50+r+e)と冷水の混合物中に注
入し、有機層を分取する。有機層を冷希塩酸、炭酸水素
ナトリウム冷水水溶液および塩化ナトリクム水溶液で続
けて洗浄し、溶媒を留去すると、黄色油状物(62tn
g)を行為。この油状物をシリカゲル(1,3P)を用
いてクロマトグラフィーに付し、ベンゼン:酢酸エチル
(3:1)混合物で溶出する。目的化合物を含むフラク
ションから溶媒を留去スると、7β−〔2−ペンチルオ
キシイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−
イル)アセトアミド〕−1−オキサゾチア−2−オキソ
−3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(
シン異性体) (30rng)を得る。
■、R1(CHIClり
3350、1810.1730.1690cmN、M、
R,(CD3COCD3. J)0.90 (3J t
、 J=6Hz)、 1.1−1.9(6H,m)、
4.17 (2H,t、 J=6Hz)。
R,(CD3COCD3. J)0.90 (3J t
、 J=6Hz)、 1.1−1.9(6H,m)、
4.17 (2H,t、 J=6Hz)。
5.40’(2H,s)、 5.96 (IH,dd。
、丁−4および8Hz)、6.20 (IJ(、d。
J−4Hz)、6.34 (IJ B)、7.34
(IH,[3)、7.43 (5H,rn)。
(IH,[3)、7.43 (5H,rn)。
8.48 (in、 d、 J=8Hz)、 8
.67(IH,O)、11.50 (IH,broad
)てjン メ町1 イ盪゛1 乏? 牟考剖7と同様に1−て、下記の化合物を製造1−2だ
。
.67(IH,O)、11.50 (IH,broad
)てjン メ町1 イ盪゛1 乏? 牟考剖7と同様に1−て、下記の化合物を製造1−2だ
。
7β−(2−メトキシイミノ−2−フェニルアセトアミ
ド)−1−オキツデヂアー2−オキソー3−セフェム−
4−カルボン酸のベンジルエステル(ジン異性体) IJえ、 (CH,C/2) 3390、1B]、5.1740.1685゜1、63
− Ocm ” N、M、R,((CD、)i C=O,δ)3.95
(3H,a)、 5.40 (2UHs)。
ド)−1−オキツデヂアー2−オキソー3−セフェム−
4−カルボン酸のベンジルエステル(ジン異性体) IJえ、 (CH,C/2) 3390、1B]、5.1740.1685゜1、63
− Ocm ” N、M、R,((CD、)i C=O,δ)3.95
(3H,a)、 5.40 (2UHs)。
6.03 (IH,dd、、T=4および3Hz)。
6.23 (LH,d、 J=4Hz)。
7.33−7.83 (10−1LH,m)7β−(
2−フェノキシアセトアミド)−1−オキザブチア−2
−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエ
ステル 1、R,(CH,C/、) 1820、 1745. 1700cm−17ρ−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−1−オキザブチア−2−
オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエス
テル ■、R0(CH2C/り 1818、1735cm−1 7β−[2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)アセl−アミド〕−1−
オキサゾデア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シンJ%m体)■、R8(ヌジョール) 1800、1720.1680.1660σ−17β−
(2−メトキシイミノ−2−フェニルアセトアミド)−
1−オキザデヂアー2−オキソー3−セフェム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)王、R,(ヌジョール) 3370.1815,1740.1680cy+−17
β−(2−フェノキシアセトアミド)−1−オキザデヂ
アー2−オキソー3−セフェム−4−カルボン酸 ■、R1(OHIC/2) 1815、 1735. 1695鑵−17β−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−1−オキザデヂアー2−オ
キソー3−セフェム−4−カルボン酸 王、R,(CH2C/、) 18]、5. 1730側−1 7β−〔2−ペンデルオキシイミノ−2−(2−アミツ
チアゾールー4−イル)アセトアミド〕−1−オキサゾ
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体)1、R,(ヌジョール) 1800.1720,1660.1620191517
β−(2−フェノキシアセトアミド)−2−オキソ−3
−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル 1、R, (CH,C/,) 3390、1805,1735,1700。
2−フェノキシアセトアミド)−1−オキザブチア−2
−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエ
ステル 1、R,(CH,C/、) 1820、 1745. 1700cm−17ρ−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−1−オキザブチア−2−
オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエス
テル ■、R0(CH2C/り 1818、1735cm−1 7β−[2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)アセl−アミド〕−1−
オキサゾデア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シンJ%m体)■、R8(ヌジョール) 1800、1720.1680.1660σ−17β−
(2−メトキシイミノ−2−フェニルアセトアミド)−
1−オキザデヂアー2−オキソー3−セフェム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)王、R,(ヌジョール) 3370.1815,1740.1680cy+−17
β−(2−フェノキシアセトアミド)−1−オキザデヂ
アー2−オキソー3−セフェム−4−カルボン酸 ■、R1(OHIC/2) 1815、 1735. 1695鑵−17β−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−1−オキザデヂアー2−オ
キソー3−セフェム−4−カルボン酸 王、R,(CH2C/、) 18]、5. 1730側−1 7β−〔2−ペンデルオキシイミノ−2−(2−アミツ
チアゾールー4−イル)アセトアミド〕−1−オキサゾ
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体)1、R,(ヌジョール) 1800.1720,1660.1620191517
β−(2−フェノキシアセトアミド)−2−オキソ−3
−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル 1、R, (CH,C/,) 3390、1805,1735,1700。
1655cjn−1
7β−(2−フェニルアセトアミ)’)−2−オキソ−
3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル ■、R3(CH2C/り 3400.1800,1730,1690゜1650c
rn−1 7β−(2−フェノキシアセトアミド)’−2−オキン
ー3−セフェムー4−カルボン酸工、R1(ヌジョール
) 3350、、1810.1790.1725゜1650
cm−1 7β−(2−−y工二ルアセトアミF)−2−オキソ−
3−セフェム−4−カルボン酸 ■、R,(CH2C/2) 1800、 1750. 1685.1650cIn−
1冬 −ぢ イ?1 タ フβ−〔2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−ボルム
アミドチアゾール−4−イル)アセトアミド]−1−オ
キサゾチア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン
酸のベンジルエステル(シン異性体)(]、Orn!7
)を酢酸エチル(0,5m1)とエタノール(0,5m
l’)の混合物に溶かし、バラジクム黒を用い室温・1
気圧で25分間水素化する。
3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル ■、R3(CH2C/り 3400.1800,1730,1690゜1650c
rn−1 7β−(2−フェノキシアセトアミド)’−2−オキン
ー3−セフェムー4−カルボン酸工、R1(ヌジョール
) 3350、、1810.1790.1725゜1650
cm−1 7β−(2−−y工二ルアセトアミF)−2−オキソ−
3−セフェム−4−カルボン酸 ■、R,(CH2C/2) 1800、 1750. 1685.1650cIn−
1冬 −ぢ イ?1 タ フβ−〔2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−ボルム
アミドチアゾール−4−イル)アセトアミド]−1−オ
キサゾチア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン
酸のベンジルエステル(シン異性体)(]、Orn!7
)を酢酸エチル(0,5m1)とエタノール(0,5m
l’)の混合物に溶かし、バラジクム黒を用い室温・1
気圧で25分間水素化する。
反応混合物を濾過して不溶物を除き、溶媒を蒸発させ乾
固すると、7β−〔2−ペンチルオキシイミノ−2−(
2−ホルムアミドチアゾール−4−イル〕アセトアミド
]−1−オキサゾチア−2−オキソ−3−セフェム−4
−カルボン酸(シン異性体)を得る。
固すると、7β−〔2−ペンチルオキシイミノ−2−(
2−ホルムアミドチアゾール−4−イル〕アセトアミド
]−1−オキサゾチア−2−オキソ−3−セフェム−4
−カルボン酸(シン異性体)を得る。
■、R8(ヌジョール)
1800.1720.1680.1660cm−1xr
、u、R,((CD3)2C=O,δ)0.9 (3
H,t、、T=6Hz)、1.1−1.8(6H1m
) 、4−16 (2H+ t * :f=6 Hz
) 16.00 (LH,d、 d、、 J=4およ
び8Hz) 。
、u、R,((CD3)2C=O,δ)0.9 (3
H,t、、T=6Hz)、1.1−1.8(6H1m
) 、4−16 (2H+ t * :f=6 Hz
) 16.00 (LH,d、 d、、 J=4およ
び8Hz) 。
6.19 (LH,d、 J=4Hz)、 6.3
0(LH,s)、 7.49 (IH,B)。
0(LH,s)、 7.49 (IH,B)。
8.66 (LH,s)
(ト )づ イ?リ /θ
7β−(2−フェノキシアセトアミド)−1−オキサゾ
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸のベ
ンジルエステル(134mg)およびアニソール(0,
5me)を塩化メチレン(3−)に溶かした溶液に、塩
化アルミニウム(206■)とニトロメタン(1,2m
(りの溶液を0℃で1分間を要して加え、混合物を窒素
気流中0℃で40分間撹拌する。反応混合物を氷水中に
注入し、水層をIN−塩酸を用いてpH1の酸性にする
。有機層を塩化メチレンで3回抽出する。抽出液を合わ
せ、塩化す) IJクム飽和水溶液で洗浄し、乾燥し溶
媒を留去すると半固体(150q)を得る。これをジエ
チルエーテルで3回洗浄すると、固体(,92rng)
を得る。これを、酢酸エチルとともにすりつぶし、濾過
し、酢酸エチルで2回洗浄する。
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸のベ
ンジルエステル(134mg)およびアニソール(0,
5me)を塩化メチレン(3−)に溶かした溶液に、塩
化アルミニウム(206■)とニトロメタン(1,2m
(りの溶液を0℃で1分間を要して加え、混合物を窒素
気流中0℃で40分間撹拌する。反応混合物を氷水中に
注入し、水層をIN−塩酸を用いてpH1の酸性にする
。有機層を塩化メチレンで3回抽出する。抽出液を合わ
せ、塩化す) IJクム飽和水溶液で洗浄し、乾燥し溶
媒を留去すると半固体(150q)を得る。これをジエ
チルエーテルで3回洗浄すると、固体(,92rng)
を得る。これを、酢酸エチルとともにすりつぶし、濾過
し、酢酸エチルで2回洗浄する。
涙液と洗液を合わせ、濃縮すると、無定形固体(66T
ng)を得る。固体をジエチルエーテルとともKすりつ
ぶし、P取すると、固体状の7ρ−(2−フェノキシア
セトアミド)−1−オキサゾチア−2−オキソ−3−セ
フェム−4−カルボン酸(42q)を得る。
ng)を得る。固体をジエチルエーテルとともKすりつ
ぶし、P取すると、固体状の7ρ−(2−フェノキシア
セトアミド)−1−オキサゾチア−2−オキソ−3−セ
フェム−4−カルボン酸(42q)を得る。
工、R,(CH,Cl2)
1815、1735.1695c+++−1N、M、R
o(アセトン−d8+ δ)4.62 (2H,s)
、 5.84 (LH,dd。
o(アセトン−d8+ δ)4.62 (2H,s)
、 5.84 (LH,dd。
J=4および9Hz)、 6.08 (IH,d。
J=4Hz)、 6.22 (IH,e)。
6.7−7.6 (5H,m)、 8.50 (IH。
broad d、 J=9Hz)
牟 ベグ イ月 /1
7β−(2−フェノキシアセトアミド)−2−オキソ−
3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(3
69Fry )を塩化メチレン(15+y+e)K溶か
した溶液に1アニソール(1,37+nl)および塩化
アルミニウム(560+n9)とニトロメタン(5ml
)の溶液を水冷下に続けて加える。混合物を同温度で
25分間撹拌し、塩化メチレンと希塩酸の混合物中に注
入する。有機層を分Nil、塩化ナトリクム水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮乾固する。残留
物にジイソプロピルエーテルを加え、沈殿をP取し、少
量のジエチルエーテルで洗浄すると、mp158−16
0℃(分解)の7β−(2−フェノキシアセトアミド)
−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸(235
mg)を得る。
3−セフェム−4−カルボン酸のベンジルエステル(3
69Fry )を塩化メチレン(15+y+e)K溶か
した溶液に1アニソール(1,37+nl)および塩化
アルミニウム(560+n9)とニトロメタン(5ml
)の溶液を水冷下に続けて加える。混合物を同温度で
25分間撹拌し、塩化メチレンと希塩酸の混合物中に注
入する。有機層を分Nil、塩化ナトリクム水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮乾固する。残留
物にジイソプロピルエーテルを加え、沈殿をP取し、少
量のジエチルエーテルで洗浄すると、mp158−16
0℃(分解)の7β−(2−フェノキシアセトアミド)
−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸(235
mg)を得る。
■、R1(ヌジョール)
3350.1810,1790,1725゜1650r
+n−1 N、M、R,(DMSO−d6. δ)4.62 (
2H,s)、 5.82 (IH,dd。
+n−1 N、M、R,(DMSO−d6. δ)4.62 (
2H,s)、 5.82 (IH,dd。
J=5および8Hz)、 6.01 (11(、d。
J =5Hz)、 6.23 (IH,e)、 6
.85〜7.5(5)1. m)、 9.38 (I
H,d。
.85〜7.5(5)1. m)、 9.38 (I
H,d。
J=8Hz)
計算値 51.72 3,47 8.04 9.20実
験値 51,82 3.49 λ、70 8.95U
、V、 (ジオキサン) 270(g=3950)、 277(ε=4280)
。
験値 51,82 3.49 λ、70 8.95U
、V、 (ジオキサン) 270(g=3950)、 277(ε=4280)
。
313(ε=6090)
【ト 2イ イ刈 72
7β−(2−メトキシイミノ−2−7エニルアセトアミ
ド)−1−オキ″!/−デヂアー2−オキソ−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)■、R,(ヌジョ
ール) 3370、1B15.1740.1680c2n−1N
、M、R,(DMSO−d6.δ) 3.95 (3H,s)、 5.75 (IH,dd。
ド)−1−オキ″!/−デヂアー2−オキソ−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)■、R,(ヌジョ
ール) 3370、1B15.1740.1680c2n−1N
、M、R,(DMSO−d6.δ) 3.95 (3H,s)、 5.75 (IH,dd。
、T=4および8Hz)、 6.11 (LH,d。
J=4Hz)、 6.19 (LH,8)、 7.35
〜7.75 (5H,m)、 9.61 (LH,d。
〜7.75 (5H,m)、 9.61 (LH,d。
、T=8Hz)
7β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−オキサゾ
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸 1、R,(CH2C/、) 1815、1730閏−1 N、M、R,(アセトン−d6.δ) 5.16 (2L 8)、 5.70 (LH,a
d。
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸 1、R,(CH2C/、) 1815、1730閏−1 N、M、R,(アセトン−d6.δ) 5.16 (2L 8)、 5.70 (LH,a
d。
、T=4および9Hz)、 6.10 (IH,d。
、y=4az)、 6.29 (IH,s)、 7
.39(6H,s)、 7.80 (IH,m)7β
−(2−フェニルアセトアミド)−2−オキソ−3−セ
フェム−4−カルボン酸 王、R0(CH,C/、) 1800、 1750. 1685. 1650cm−
1u、M、Ro(cDczs、δ) 3.67 (2H,s)、 5.63 (LL(、
d。
.39(6H,s)、 7.80 (IH,m)7β
−(2−フェニルアセトアミド)−2−オキソ−3−セ
フェム−4−カルボン酸 王、R0(CH,C/、) 1800、 1750. 1685. 1650cm−
1u、M、Ro(cDczs、δ) 3.67 (2H,s)、 5.63 (LL(、
d。
J=4L(z)、 5.88 (IH,dd、 J
=4および8Hz)、 6.37 (LH,8)。
=4および8Hz)、 6.37 (LH,8)。
7.3〜7.6 (6H,m)
7ρ−[2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド]〜1−オキザデ
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体)工、R,(ヌジョール) 1.800.1720.1660.1620側−1(り
) 7ρ−(2−フエノキシアーセトアミド)−1−オキザ
ブチア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸 ■、R,(CH2(Jり 1815、1735.1695cIn”多5ζ 4r
侵り 〕R 3β−〔2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)アセトアミドゴー1−オ
キサゾチア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン
酸(シンA性体)(2ox■)をメタノール(5−)に
水冷下に溶かし、これに濃塩酸をメタノールで10倍に
希釈した溶液を加える。混合物を同温度で3時間撹拌し
、さらに室温で3時間撹拌する。反応混合物を濃lfa
乾固し、残留物をジエチルエーテル中ですりつぶし、P
取して粉末を得る。粉末を酢酸エチルで洗浄し、濾過し
、乾燥すると、黄色粉末状の7ρ−〔2−ペンチルオキ
シイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミドゴー1−オキサゾチア−2−オキソ−3−セ
フェム−4−カルボン酸の塩酸塩(シン異性体)(17
5WTg)を得る。
チアゾール−4−イル)アセトアミド]〜1−オキザデ
チア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体)工、R,(ヌジョール) 1.800.1720.1660.1620側−1(り
) 7ρ−(2−フエノキシアーセトアミド)−1−オキザ
ブチア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸 ■、R,(CH2(Jり 1815、1735.1695cIn”多5ζ 4r
侵り 〕R 3β−〔2−ペンチルオキシイミノ−2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)アセトアミドゴー1−オ
キサゾチア−2−オキソ−3−セフェム−4−カルボン
酸(シンA性体)(2ox■)をメタノール(5−)に
水冷下に溶かし、これに濃塩酸をメタノールで10倍に
希釈した溶液を加える。混合物を同温度で3時間撹拌し
、さらに室温で3時間撹拌する。反応混合物を濃lfa
乾固し、残留物をジエチルエーテル中ですりつぶし、P
取して粉末を得る。粉末を酢酸エチルで洗浄し、濾過し
、乾燥すると、黄色粉末状の7ρ−〔2−ペンチルオキ
シイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミドゴー1−オキサゾチア−2−オキソ−3−セ
フェム−4−カルボン酸の塩酸塩(シン異性体)(17
5WTg)を得る。
1、R,(ヌジョール)
1800.1720,1660.1620cm−1N、
M、R1(DMSO−d、、 δ)0.90 (3■
、t、J=6H2)、1.1−1.9 (6H,m)
、4.16 (2H,t。
M、R1(DMSO−d、、 δ)0.90 (3■
、t、J=6H2)、1.1−1.9 (6H,m)
、4.16 (2H,t。
1=6Hz)、5.76 (lH,dd。
、T=4および8Hz)、 6.14 (LH,d。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Xは−O−または−S−、R^1はアミノ基ま
たはアシルアミノ基、R^2はカルボキシ基または保護
されたカルボキシ基、Rはヒドロキシメチル基、保護さ
れたヒドロキシメチル基またはホルミル基、R′が水素
原子で、R″がヒドロキシ基、ハロゲン原子、もしくは
式:▲数式、化学式、表等があります▼(式中、R^4
は低級 アルキル基を意味する)で示される基であるか、または
R′およびR″が一緒になって式=Oまたは=P(R^
5)_3(式中、R^5は低級アルキル基、アリール基
またはジ(低級)アルキルアミノ基を意味する)で示さ
れる基をそれぞれ意味する] で示される置換−2−オキソアゼチジン化合物およびそ
の塩類。 - (2)R^1がフェノキシ(低級)アルカノイルアミノ
基、フェニル(低級)アルコキシカルボニルアミノ基ま
たはフェニル(低級)アルカノイルアミノ基、R^2が
カルボキシ基またはフェニル(低級)アルコキシカルボ
ニル基、Rがヒドロキシメチル基、モノ(またはジまた
はトリ)ハロ(低級)アルコキシカルボニルオキシメチ
ル基またはホルミル基、R′が水素原子でR″がヒドロ
キシ基もしくはハロゲン原子であるか、またはR′およ
びR″ が一緒になって式=Oまたは=P(R^5)_3(式中
、R^5はフェニル基を意味する)で示される基である
特許請求の範囲第(1)項記載の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB7826421 | 1978-06-06 | ||
GB26421/78 | 1978-06-06 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7092679A Division JPS5519250A (en) | 1978-06-06 | 1979-06-05 | Cephalosporin analog, or its salts, their preparation, and preventive and remedy for microbism |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6270354A true JPS6270354A (ja) | 1987-03-31 |
JPS645022B2 JPS645022B2 (ja) | 1989-01-27 |
Family
ID=10497874
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7092679A Granted JPS5519250A (en) | 1978-06-06 | 1979-06-05 | Cephalosporin analog, or its salts, their preparation, and preventive and remedy for microbism |
JP61216879A Granted JPS6270354A (ja) | 1978-06-06 | 1986-09-12 | 置換−2−オキソアゼチジン化合物 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7092679A Granted JPS5519250A (en) | 1978-06-06 | 1979-06-05 | Cephalosporin analog, or its salts, their preparation, and preventive and remedy for microbism |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4264597A (ja) |
JP (2) | JPS5519250A (ja) |
CH (1) | CH644866A5 (ja) |
DE (1) | DE2922590A1 (ja) |
FR (1) | FR2428042A1 (ja) |
IT (1) | IT1121273B (ja) |
NL (1) | NL7904456A (ja) |
Families Citing this family (19)
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