JPS6269577A - パルス放電型レ−ザの出力制御装置 - Google Patents
パルス放電型レ−ザの出力制御装置Info
- Publication number
- JPS6269577A JPS6269577A JP60207797A JP20779785A JPS6269577A JP S6269577 A JPS6269577 A JP S6269577A JP 60207797 A JP60207797 A JP 60207797A JP 20779785 A JP20779785 A JP 20779785A JP S6269577 A JPS6269577 A JP S6269577A
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- JP
- Japan
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- output
- laser
- pulse
- circuit
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
五 尭明の評創な説明
〔産業上の利用分野〕
との発明は、繰シ返しパルス放電で発振するレーザの出
力面制御方法に係り、特に、レーザ利用のある一定繰り
返し工程内でレーザの総射出エネルギーを一定値に制御
する装置に関するものである。
力面制御方法に係り、特に、レーザ利用のある一定繰り
返し工程内でレーザの総射出エネルギーを一定値に制御
する装置に関するものである。
昭和40年代後半から精力的に開発が進められてきた放
電励起型エキシマレーザは、その繰り返し化、長寿命化
等が急速に実現されてきており、半導体プロセスへの応
用についても、その有用性が実証されてきている。
電励起型エキシマレーザは、その繰り返し化、長寿命化
等が急速に実現されてきており、半導体プロセスへの応
用についても、その有用性が実証されてきている。
ところC1通常の放電励起型レーザの場合、安定したレ
ーザ出力を得るためには、負荷電流を電源側に負帰還し
て、放電電流を制御する(特開昭59−34685号公
報)等、檎々の努力がなされてきている。しかしながら
、パルス放′イ型レーザの場合に、1パルス毎に1.P
J現性のよい安定したレーザ出力を得ることは、現在の
ところ困難である。
ーザ出力を得るためには、負荷電流を電源側に負帰還し
て、放電電流を制御する(特開昭59−34685号公
報)等、檎々の努力がなされてきている。しかしながら
、パルス放′イ型レーザの場合に、1パルス毎に1.P
J現性のよい安定したレーザ出力を得ることは、現在の
ところ困難である。
このように、エキシマレーザ等のパルス放電型レーザを
用いて、半導体プロセスにおける光りソグラフイを実行
しようとする場合、光りソグラフィプロセスにおけるス
テッパーを考えた場合、各ステップアンドリピートサイ
クルで同一パルス数のレーザを照射しても、1パルス毎
のレーザ出力の再現性が悪いために、総露光量が各ステ
ップアンドリピートサイクルで一定でなくなる。従って
、均一度がよく、バラツキの少ない工程を得ることは困
離である。
用いて、半導体プロセスにおける光りソグラフイを実行
しようとする場合、光りソグラフィプロセスにおけるス
テッパーを考えた場合、各ステップアンドリピートサイ
クルで同一パルス数のレーザを照射しても、1パルス毎
のレーザ出力の再現性が悪いために、総露光量が各ステ
ップアンドリピートサイクルで一定でなくなる。従って
、均一度がよく、バラツキの少ない工程を得ることは困
離である。
この発明は、こうした問題点に鑑みて、総露光量が各ス
テップアンドリピートサイクル毎に一定となるようなレ
ーザ出力が得られるパルス放電型レーザの出力制御装置
を提供することを目的とするものである。
テップアンドリピートサイクル毎に一定となるようなレ
ーザ出力が得られるパルス放電型レーザの出力制御装置
を提供することを目的とするものである。
この目的を達成するために、この発明では、繰り返しパ
ルス放電で発振するレーザの総照射エネルギーをレーザ
パルス数で制御するものにおいて、1パルス当9のレー
ザ出力の総和が、あらかじめ設定された基準レベルに到
達した時点で、レーザ発振を停止するように構成する。
ルス放電で発振するレーザの総照射エネルギーをレーザ
パルス数で制御するものにおいて、1パルス当9のレー
ザ出力の総和が、あらかじめ設定された基準レベルに到
達した時点で、レーザ発振を停止するように構成する。
このようにすると、パルス毎のレーザ出力の再現性が悪
いものであっても、レーザの総照射エネルギーをあらか
じめ設定したレベルに制御することが可能となる。
いものであっても、レーザの総照射エネルギーをあらか
じめ設定したレベルに制御することが可能となる。
以下、図面に基づいて、この発明の詳細な説明する。
M1図は、この発明によるパルス放電型レーザの出力制
御系の一実施例を示すブロック回路図である。第2図は
、第1図の回路の動作を示すタイムチャートである。
御系の一実施例を示すブロック回路図である。第2図は
、第1図の回路の動作を示すタイムチャートである。
レーザ2の出力は、レーザ本体内でハーフミラ信号に交
換され、この出力信号はサンプル・ホールド回路6で一
定期間、保持される。サンプル・ホールド回路6の出力
信号21は、時間間隔が一 3一 定のパルスで、その波高値は、レーザ出力のピーク値P
iに対応して、パルス毎に異なった値となる(第2図(
b)、(c)参照)。
換され、この出力信号はサンプル・ホールド回路6で一
定期間、保持される。サンプル・ホールド回路6の出力
信号21は、時間間隔が一 3一 定のパルスで、その波高値は、レーザ出力のピーク値P
iに対応して、パルス毎に異なった値となる(第2図(
b)、(c)参照)。
エネルギーの総和に比例したものである。この積分器7
の出力を、基準電圧発生器9にあらかじめ設定した基準
レベルと、コンパレータ8で比較する。E8が基準レベ
ルと一致したとき、コンパレータの出力は0となシ、ナ
ントゲート10が開かれ、トリガ回路11、電源12を
介して、レーザ発振は停止される。(第2図(e)、
(f)、 (ω参照)。
の出力を、基準電圧発生器9にあらかじめ設定した基準
レベルと、コンパレータ8で比較する。E8が基準レベ
ルと一致したとき、コンパレータの出力は0となシ、ナ
ントゲート10が開かれ、トリガ回路11、電源12を
介して、レーザ発振は停止される。(第2図(e)、
(f)、 (ω参照)。
次に1外部リセット端子14に信号が与えられると、積
分器7の出力は0となシ、以下、同様にして、総照射エ
ネルギー制御が一定のサイクルで繰シ返し実行される(
第2図(bl、(e)参照)。
分器7の出力は0となシ、以下、同様にして、総照射エ
ネルギー制御が一定のサイクルで繰シ返し実行される(
第2図(bl、(e)参照)。
なお、遅延回路13は、サンプル・ホールド回路6をリ
セットするためのものである(第2図(山。
セットするためのものである(第2図(山。
(C)#照)。
以上の説明から明らかなように、この発明によれば1パ
ルス毎のレーザ出力の総和が、設定レベルに到達した時
点で、レーザ発振を停止することによシ、レーザの総照
射エネルギーを所望のレベルに制御することができる。
ルス毎のレーザ出力の総和が、設定レベルに到達した時
点で、レーザ発振を停止することによシ、レーザの総照
射エネルギーを所望のレベルに制御することができる。
従って、半導体プロセスにおける光りソグラフイに利用
する場合でも、各霧光サイクル毎に、総露光量が一定の
レーザ照射を行うことも容易に可能となる。
する場合でも、各霧光サイクル毎に、総露光量が一定の
レーザ照射を行うことも容易に可能となる。
第1図は、この発明によるパルス放電型レーザの出力制
御系の一実施例を示すブロック回路図、第2図社第1図
の回路の動作を示すタイムチャートである。 図において、1はパルス発生器、2はレーザ発器、8は
コンパレータ、9は基準電圧発生器、10社ナントゲー
ト、11はトリガ回路、12は電源、13は遅延回路、
14は外部リセット端子である。
御系の一実施例を示すブロック回路図、第2図社第1図
の回路の動作を示すタイムチャートである。 図において、1はパルス発生器、2はレーザ発器、8は
コンパレータ、9は基準電圧発生器、10社ナントゲー
ト、11はトリガ回路、12は電源、13は遅延回路、
14は外部リセット端子である。
Claims (1)
- 1パルス毎の繰り返しパルスによつてレーザを出力する
レーザ発振器と、前記レーザを拡散板を介して電気信号
に変換するための光電変換素子と、前記変換された電気
信号をサンプリングするサンプルホールド回路と、前記
サンプリング波形の出力の総和をとるための積分器と、
この積分器の出力と基準電圧発生器からの出力とを比較
するコンパレータと、前記繰り返しパルスを発生する発
生器からの出力と前記コンパレータの出力とによつて開
閉する論理回路と、前記パルス発生器からのパルスによ
つて前記サンプルホールド回路をリセットするための遅
延回路と、前記論理回路からの出力によつて励起される
トリガ回路を有する電源とを具備したことを特徴とする
パルス放電型レーザの出力制御装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60207797A JPS6269577A (ja) | 1985-09-21 | 1985-09-21 | パルス放電型レ−ザの出力制御装置 |
US06/883,674 US4768198A (en) | 1985-09-21 | 1986-07-09 | System for controlling output of pulsed laser |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60207797A JPS6269577A (ja) | 1985-09-21 | 1985-09-21 | パルス放電型レ−ザの出力制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6269577A true JPS6269577A (ja) | 1987-03-30 |
JPH0573074B2 JPH0573074B2 (ja) | 1993-10-13 |
Family
ID=16545649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60207797A Granted JPS6269577A (ja) | 1985-09-21 | 1985-09-21 | パルス放電型レ−ザの出力制御装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4768198A (ja) |
JP (1) | JPS6269577A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0363963U (ja) * | 1989-10-25 | 1991-06-21 | ||
EP0498366A2 (en) * | 1991-02-07 | 1992-08-12 | Photographic Sciences Corporation | System for scanning and reading symbols |
JP2019135765A (ja) * | 2017-12-15 | 2019-08-15 | クリスティ デジタル システムズ ユーエスエイ インコーポレイテッド | 光パルスシステム |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63193583A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Ando Electric Co Ltd | レ−ザダイオ−ドの矩形波変調回路 |
EP0347202A3 (en) * | 1988-06-14 | 1991-03-20 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Excitation system for a semiconductor laser device |
US4949345A (en) * | 1989-06-30 | 1990-08-14 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Method and apparatus for reducing the effect of random polarization on the power/energy output of lasers |
US5018152A (en) * | 1989-09-07 | 1991-05-21 | Spectra-Physics, Inc. | Apparatus for controlling pulse energy in a Q-switched laser system |
JPH03256761A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-15 | Brother Ind Ltd | 半導体レーザー駆動回路 |
JPH03276782A (ja) * | 1990-03-27 | 1991-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パルス光源 |
US5157676A (en) * | 1990-06-19 | 1992-10-20 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Apparatus and process for active pulse intensity control of laser beam |
US5123024A (en) * | 1991-08-06 | 1992-06-16 | General Scanning, Inc. | Apparatus and method for controlling the light intensity of a laser diode |
US5202892A (en) * | 1991-11-08 | 1993-04-13 | Kigre, Inc. | Pulse forming and delivery system |
US5463650A (en) * | 1992-07-17 | 1995-10-31 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Apparatus for controlling output of an excimer laser device |
JP3453399B2 (ja) | 1992-07-30 | 2003-10-06 | キヤノン株式会社 | サーマルインクジェット記録方法 |
JPH08172236A (ja) * | 1994-12-15 | 1996-07-02 | Nec Corp | Apc回路 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56101524A (en) * | 1980-01-17 | 1981-08-14 | Nec Corp | Monitoring device for laser energy |
JPS58149036A (ja) * | 1982-03-02 | 1983-09-05 | Minolta Camera Co Ltd | 引伸機用測光演算方法及び装置 |
JPS60169136A (ja) * | 1984-02-14 | 1985-09-02 | Canon Inc | 露光装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US322A (en) * | 1837-07-31 | The tikes of wheels and otheb articles | ||
JPS59146457A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-22 | Olympus Optical Co Ltd | 光出力自動制御装置 |
JPS59182637A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ビデオ信号光伝送装置 |
US4621376A (en) * | 1983-04-28 | 1986-11-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Driving apparatus for stabilizing burst light output |
-
1985
- 1985-09-21 JP JP60207797A patent/JPS6269577A/ja active Granted
-
1986
- 1986-07-09 US US06/883,674 patent/US4768198A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56101524A (en) * | 1980-01-17 | 1981-08-14 | Nec Corp | Monitoring device for laser energy |
JPS58149036A (ja) * | 1982-03-02 | 1983-09-05 | Minolta Camera Co Ltd | 引伸機用測光演算方法及び装置 |
JPS60169136A (ja) * | 1984-02-14 | 1985-09-02 | Canon Inc | 露光装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0363963U (ja) * | 1989-10-25 | 1991-06-21 | ||
EP0498366A2 (en) * | 1991-02-07 | 1992-08-12 | Photographic Sciences Corporation | System for scanning and reading symbols |
JP2019135765A (ja) * | 2017-12-15 | 2019-08-15 | クリスティ デジタル システムズ ユーエスエイ インコーポレイテッド | 光パルスシステム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4768198A (en) | 1988-08-30 |
JPH0573074B2 (ja) | 1993-10-13 |
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