JPS60163477A - ガスレ−ザ発振装置 - Google Patents
ガスレ−ザ発振装置Info
- Publication number
- JPS60163477A JPS60163477A JP1862684A JP1862684A JPS60163477A JP S60163477 A JPS60163477 A JP S60163477A JP 1862684 A JP1862684 A JP 1862684A JP 1862684 A JP1862684 A JP 1862684A JP S60163477 A JPS60163477 A JP S60163477A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- capacitor
- discharge
- resistor
- pulse
- vacuum tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はレーザ媒質を放電励起し連続パルス発振を行う
ガスレーザ発振装置に関するものである。
ガスレーザ発振装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点
近年、レーザ加工において、連続パルス発振によるレー
ザ出力を用いた加工が主流になってきている。さらに加
工時間を短縮するためにもレーザピークパワーの著しい
レーザパルスパワーが必要とされている。
ザ出力を用いた加工が主流になってきている。さらに加
工時間を短縮するためにもレーザピークパワーの著しい
レーザパルスパワーが必要とされている。
以下、図面の第１図、５ｇ２図全参照しながら、従来例
について説明を行う。
について説明を行う。
第１図は従来のガスレーザ発振装置の放電電流制御回路
の一部を示すものである。図にら・いて、１は放電管、
１ａはアノード側放電用電慢、１ｂはカソード側放゛１
圧用電極、２ｄ高耐圧真空管、３はトランジスタ、４は
層流制限のだめの抵抗である。
の一部を示すものである。図にら・いて、１は放電管、
１ａはアノード側放電用電慢、１ｂはカソード側放゛１
圧用電極、２ｄ高耐圧真空管、３はトランジスタ、４は
層流制限のだめの抵抗である。
また第２図は第１図における回路で連続パルス信号Ｓを
示したものである。
示したものである。
以下、動作について説明する。
放電管１の放電用電極ｉａ、１ｂの間を流れる放電電流
は、高耐圧真空管２のカソードにかけられたバイアス電
圧をトランジスタ３のオン、オフでもって制御すること
により制御される。すなわち、前吉己トランジスタ３の
ベースにオン、オフのパルス信号を印加することにより
、連続パルス発振が可能となるわけである。
は、高耐圧真空管２のカソードにかけられたバイアス電
圧をトランジスタ３のオン、オフでもって制御すること
により制御される。すなわち、前吉己トランジスタ３の
ベースにオン、オフのパルス信号を印加することにより
、連続パルス発振が可能となるわけである。
しかしながら、上記のような構成では、パルスのオン、
オフ時間が０．１ｍＪ’ 以下になると、第２図に示す
ように放電おくれが影響し、放電電流Ｉの波形およびレ
ーザビームパワーＰの波形がみだれ、うまく連続パルス
発振をさせることが不可能となる。
オフ時間が０．１ｍＪ’ 以下になると、第２図に示す
ように放電おくれが影響し、放電電流Ｉの波形およびレ
ーザビームパワーＰの波形がみだれ、うまく連続パルス
発振をさせることが不可能となる。
したがって、この放電の不安定さが連続パルス発振時の
レーザビームパワーに影響し、高速加工時に悪影響を及
ぼしていることがわかった。
レーザビームパワーに影響し、高速加工時に悪影響を及
ぼしていることがわかった。
そこで、０．１ｍ、＄”以下のパルスでも安定したレー
ザビームパワーが得られるようなガスレーザ発振装置の
開発が望まれていた。
ザビームパワーが得られるようなガスレーザ発振装置の
開発が望まれていた。
発明の目的
本発明は、上記欠点に鑑み、０．１ｍ９以下のパルス幅
においても安定なレーザビームパワーを得ることのでき
るガスレーザ発振装置を提供することを目的とするもの
である。
においても安定なレーザビームパワーを得ることのでき
るガスレーザ発振装置を提供することを目的とするもの
である。
発明の構成
この目的を達成するために本発明のガスレーザ発振装置
はレーザ媒質を放電によって励起し、連続パルス発振を
行うガスレーザ発振装置において。
はレーザ媒質を放電によって励起し、連続パルス発振を
行うガスレーザ発振装置において。
放電管に並列に直列接続したコンデンサと抵抗を接続し
たものである。
たものである。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について図面の第３図、第４図
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
第３図は本発明の一実施例における放電電流制御回路の
一部を示すものである。１．１ａ、１ｂ。
一部を示すものである。１．１ａ、１ｂ。
２．３．４はそれぞれ従来と同様の放電管、放電用′電
極、放電用電極、高耐圧真空管、トランジスタ、抵抗で
ある。そして６はコンデンサ、６は拭取下、回路動作を
説明する。
極、放電用電極、高耐圧真空管、トランジスタ、抵抗で
ある。そして６はコンデンサ、６は拭取下、回路動作を
説明する。
まず、トランジスタ３がオフのとき、コンデンサ５０両
グんには、高耐圧真空管２によるプレート電圧と印加電
圧との電位差がかがっており、その電位差分だけ充電さ
れている。
グんには、高耐圧真空管２によるプレート電圧と印加電
圧との電位差がかがっており、その電位差分だけ充電さ
れている。
つぎに、前記トランジスタ３がオンになると、前記高耐
圧真空−＃２のプレート電圧は数ＫＶ降下し、放′成成
流が流れ始める。そのとき、同時に前記コンデンサ６の
充電がさらに進められる。そして、前記高耐圧真空管２
がオフになると、ｆｌとんどの放′亀′亀流；１カット
オフされる。ところがこのとき、放電用電極１ａ、１ｂ
および抵抗６およびコンデンサ６からなる閉回路中を、
前記コンデンサ５に蓄えられたエネルギーが微少−流と
して流れる（このとき流れる微少電流の畦と流れ続ける
時間は、抵抗６の抵抗値とコンデン？６の容批値に依存
する）。
圧真空−＃２のプレート電圧は数ＫＶ降下し、放′成成
流が流れ始める。そのとき、同時に前記コンデンサ６の
充電がさらに進められる。そして、前記高耐圧真空管２
がオフになると、ｆｌとんどの放′亀′亀流；１カット
オフされる。ところがこのとき、放電用電極１ａ、１ｂ
および抵抗６およびコンデンサ６からなる閉回路中を、
前記コンデンサ５に蓄えられたエネルギーが微少−流と
して流れる（このとき流れる微少電流の畦と流れ続ける
時間は、抵抗６の抵抗値とコンデン？６の容批値に依存
する）。
すなわち、この微少電流によって、パルスオフ時間中レ
ーザ改質をイオン化状態に保つことができるので、つぎ
のパルス発振が円滑に行えるわけである。
ーザ改質をイオン化状態に保つことができるので、つぎ
のパルス発振が円滑に行えるわけである。
さらに、この回路の特長は、放電用型ｔＭ １ ａｔｌ
ｂと高耐圧真空管２との間に抵抗が存在しないので、パ
ルスオン時に流れる放電電流工が増大し。
ｂと高耐圧真空管２との間に抵抗が存在しないので、パ
ルスオン時に流れる放電電流工が増大し。
かつ抵抗のりアクタンス分による電流おくれが生＼じな
いので、エンハンスト化した放電亀流工を流すことが可
能となる。
いので、エンハンスト化した放電亀流工を流すことが可
能となる。
第４図は第３図における連続パルス発振時の放電電流Ｉ
の波形およびビームパワーＰの波形およびトランジスタ
３のベース信号Ｓの波形を示したものである。
の波形およびビームパワーＰの波形およびトランジスタ
３のベース信号Ｓの波形を示したものである。
・轄４図と第２図を圧絞してわかるように、枚准硫流波
形も歪がほとんどなく安定して流れている。
形も歪がほとんどなく安定して流れている。
また、ビームパワーも増大され、一定出力でしかも強力
なパルス出力を得ることが可能になっていることが明ら
かである。
なパルス出力を得ることが可能になっていることが明ら
かである。
発明の効果
以上のように本発明は、パルス出力の増大と安定性を特
にパルス幅が０．１ｍ、ｔ 以下においても確保するこ
とを可能にし、精度の極めて高い高速加工が可能になる
優れた効果を蚕するものである。
にパルス幅が０．１ｍ、ｔ 以下においても確保するこ
とを可能にし、精度の極めて高い高速加工が可能になる
優れた効果を蚕するものである。
、第１図は従来のガスレーザ発振装置の一部回路噛、第
２図は同特性図、第３図は本発明の一実施例におけるガ
スレーザ発振装置の一部回路図、第４図は第２図に対比
すべき同特性図である。 １・・・・・・放電管、１ａ、１ｂ・・・・・・放電用
′電極、２・・・・・・高耐圧真空管、３・・・・・・
トランジスタ、４・・・・・・抵抗、６・・・・・・コ
ンデンサ、６・・・・・・抵抗。 第１図 第３ 第 ２ 因 第４ ０、／ Ｑ、２ ヒーーーーパルス嗜間（叫ノー＋ トーハ０１レス時間（＠ＳノーＨ
２図は同特性図、第３図は本発明の一実施例におけるガ
スレーザ発振装置の一部回路図、第４図は第２図に対比
すべき同特性図である。 １・・・・・・放電管、１ａ、１ｂ・・・・・・放電用
′電極、２・・・・・・高耐圧真空管、３・・・・・・
トランジスタ、４・・・・・・抵抗、６・・・・・・コ
ンデンサ、６・・・・・・抵抗。 第１図 第３ 第 ２ 因 第４ ０、／ Ｑ、２ ヒーーーーパルス嗜間（叫ノー＋ トーハ０１レス時間（＠ＳノーＨ
Claims (1)
- レーザ媒質を放電励起し連続パルス発振を行うガスレー
ザ発振装置において、放電管に並列に直列接続したコン
デンサと抵抗を接続したガスレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1862684A JPS60163477A (ja) | 1984-02-03 | 1984-02-03 | ガスレ−ザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1862684A JPS60163477A (ja) | 1984-02-03 | 1984-02-03 | ガスレ−ザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60163477A true JPS60163477A (ja) | 1985-08-26 |
Family
ID=11976827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1862684A Pending JPS60163477A (ja) | 1984-02-03 | 1984-02-03 | ガスレ−ザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60163477A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989001713A1 (en) * | 1987-08-13 | 1989-02-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Metal vapor laser |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5285333A (en) * | 1976-01-02 | 1977-07-15 | Coherent Radiation | Power source for pulse raser |
| JPS54140893A (en) * | 1978-04-24 | 1979-11-01 | Nec Corp | Laser unit |
-
1984
- 1984-02-03 JP JP1862684A patent/JPS60163477A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5285333A (en) * | 1976-01-02 | 1977-07-15 | Coherent Radiation | Power source for pulse raser |
| JPS54140893A (en) * | 1978-04-24 | 1979-11-01 | Nec Corp | Laser unit |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989001713A1 (en) * | 1987-08-13 | 1989-02-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Metal vapor laser |
| GB2217513A (en) * | 1987-08-13 | 1989-10-25 | Mitsubishi Electric Corp | Metal vapor laser apparatus |
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