JPS6267722A - 磁気デイスク - Google Patents

磁気デイスク

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Publication number
JPS6267722A
JPS6267722A JP20818485A JP20818485A JPS6267722A JP S6267722 A JPS6267722 A JP S6267722A JP 20818485 A JP20818485 A JP 20818485A JP 20818485 A JP20818485 A JP 20818485A JP S6267722 A JPS6267722 A JP S6267722A
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JP
Japan
Prior art keywords
layer
magnetic
protective layer
silane coupling
coupling agent
Prior art date
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Pending
Application number
JP20818485A
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English (en)
Inventor
Michio Kugue
久々江 道雄
Terufumi Iwata
照史 岩田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6267722A publication Critical patent/JPS6267722A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は、固定磁気ディスク装置に使われる磁気ディ
スクに係わり、耐久性、耐食性に優れた磁性薄膜ディス
クに関する。
[従来技術とその問題点] 近時、磁性メッキディスクにあっては、その記録媒体C
ある磁性メッキ層の磁気ヘッドによる摩耗を軽減するた
めに、磁性メッキ層上にカーボンをスパッタして保護層
としたものが提案されている。
このものは、磁気ヘッドによる磁性メッキ層の摩損に対
しては大きく改善されるものの、高価なスパッタ装置を
必要とし、製造コストが嵩み、実用性に乏しいという問
題点があった。
[問題点を解決するための手段] そこで、この発明にあっては磁性層上にシランカップリ
ング剤などのカップリング剤を介して有様材料からなる
保護層を形成することにより、磁性層上に保y!層を強
固に固着せしめ、耐久性を改善するとともに安価に保護
層を形成することができるようにした。
[実施例] 図面は、この発明の磁気ディスクの一例を示すもので、
図中符号1は基板である。この基板1は、アルミニウム
合金板やセラミックス板あるいは合成樹脂板などからな
り、その表面のうねりが小さいように加工されている。
この基板1上には下地層2が形成されてる。この下地層
2は基板1表面の微18な凹凸を平滑化するためのもの
で、例えば無電解メッキ法による厚み10〜30μmの
Ni−Pメッキ膜や、基板1がアルミニウム合金の場合
には陽極酸化法による厚み5〜20t1m’陽極酸化膜
が設けられ、その表面は表面粗さくRmaX)01μm
程度にまで仕上げられている。この下地層2上には磁性
FA3が設けられている。この磁性層3は、磁気記録媒
体となるもので、例えば無電解メッキ法によるCo −
1−Pメッキ、C0−Pメッキなどのメッキ薄膜やスパ
ッタ法、蒸着法などによる酸化鉄FIJIl!等の磁性
sgiなどが、その目的に応じて厚み0.05〜0.5
μm程度に形成されてなるものである。そして、この磁
性層3上には、シランカップリング114を介して有機
材料からなる保護層5が形成されている。
シランカップリング層4は、シランカップリング剤をス
ピンコード法などによって厚さ0.01〜0.1μr程
度に塗布、乾燥したものである。
シランカップリング剤としては次式 %式% (但し、Rはアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカ
プト籾、クロル基などの活性基、Xはメトキシリ、エト
キシ基などの加水分解しうる有機基である。)で示され
るシラン化合物が用いられ、このままもしくは適当な有
機溶媒に希釈されて使用される。また、保護層5をなす
有機材料としては、特に限定はされないが、ポリイミド
樹脂やフッ化オイルなどが好適である。この保:!1層
5の厚さは0.02〜0.1μm程度とされる。
ポリイミド樹脂が使われる場合には、その種類は、特に
限定されず、例えばビロメツト酸無水物とジアミノジフ
ェニルエーテルとの初期縮合物(デュポン社:PYRE
−ML)やビスマレイミド重合物(ロース・ブーラン社
:KINEL、KERIMID)などが用いられ、これ
らをジメチルホルムアミドなどの極性有機溶剤に溶解し
た樹脂溶液として使用される。この他に熱可塑性ポリイ
ミド樹脂や無水トリメット酸と芳香族ジイソシアネート
からなるポリアミドイミド樹脂、ポリエステルイミド樹
脂などが同様に使われる。これらポリイミド樹脂は、耐
熱性、接着性、機械的強度に優れ、硬度が高くて表面N
滑性が良く、耐摩耗性にも優れ、耐vjJ動性も高いも
のである。
また、フッ化オイルとしては、F  (CF2 ・CF
3・CF20)n  C2FSなどの構造式で示される
パー70ロポリエーテルが使用され、具体的にはデュポ
ン社の“クライトツクス”やモンテジソン社の″゛フオ
ンプリンなどが使われる。
ポリイミド樹脂やフッ化オイルは、有機溶剤、フロン系
溶剤などで適宜の濃度に溶解されたのち、この溶液をス
ピンコード法などによりシランカップリングm4上に塗
布し、加熱硬化することにより保護!115とされる。
また保護層5にポリイミド樹脂などの樹脂を使用した場
合には、これに微粒子を分散することもできる。
磁気微粒子は、その粒径が0.1μ−以下のものであっ
て、アルミナ(M2O3)、炭化ケイ素(SiC)、窒
化ケイ素(SisN4)、シリカ(SiO2)、ダイア
モンド(C)、カーボン、Ti C,WC,84C,M
O2C,Cr 3C2、T I N 、WS i 2 
、T I B 2 、Cr B 2 、M O[3sz
r 02などの補強効果を有する高強度材料の微粒子や
、窒化ホウ素(BN)、二硫化モリブデン(MO82)
、グラファイトなどの摩擦係数の小さい潤滑効果を有す
る材料の微粒子が用いられる。
これら微粒子は単独でもよく、2種以上任意の割合で混
合してもよく、さらには補強効果のあるものと潤滑効果
のあるものとを混合して分散混入せしめてもよい。これ
らの微粒子は、その一部が保IWJ5の表面から部分的
に突出した状態で分散せしめられている。また、微粒子
の保護層5中の分・散船(混入ia)は保護層5の表面
1m1当たり102〜104個程度とされる。表面11
IIII+2当り102個未満では、十分な補強効果を
得ることができず、また104個を越えると、保護層5
自体が脆くなり、機械的強度が低下し不都合である。
また、微粒子は保1ff5中での分布が磁気ディスクの
外周側で密となるように、ディスク面上の半径方向の位
置における周速に比例して密となるように分散されてい
てもよい。具体的には、ディスクの最外周側で表面i 
mm2当たり103個分散せしめたとすると、回転半径
がそれの半分になる内周側では5x102個となるよう
に分散させる。
このように微粒子をディスクの外周側で密に、内周側で
粗に分布せしめるには、スピンコードの際に回転数を変
化させたり、あるいはコートを数回に分けて行ったりす
る方法をとればよい。
このような保護層5上には、潤滑ff16が必要に応じ
て設けられる。、潤滑層6は、例えばポリフッ化エーテ
ルなどの潤滑剤を0.01μl程度の厚さに塗布するこ
とにより形成される。
[作用] このような磁気ディスクにあっては、シランカップリン
グ層4によって保護層5が磁性層3に強固に接合する。
すなわち、シランカップリング剤は加水分解して、次式
に示すようなシラノール化合物となる。
R8i  (OH)3 そして、このシラノール化合物の活性基が保護層5を構
成する有機材料と結合し、水酸基の一部もしくは全部が
磁性層3を構成する無m月料と結合し、磁性層3と保護
層5とがシランカップリング層4を挾んで間接的に結合
し、両者(よ強固に接合する。このM果、磁気ヘッドの
摺動によって保護層5が剥離、剥脱することがなく、保
護層5による保護作用が長期にわたって持続され、磁性
層3の耐久性が向上する。また、微粒子を保護層3内に
分散せしめたものでは、保IWI5自体が強化されると
同時に磁気ヘッドのII撃を微粒子が受けることになる
ので、保護層5自体の摩耗が減少し、保″f1機能がよ
り持続するとともに磁気ヘッドの摩耗も減少する。しか
も、微粒子の周囲の保1115にはこれによって微小な
凹部が形成され、ここに潤滑層6をなす潤滑剤が溜り、
潤滑剤の保持性が向上する。
さらに、有機材料からなる保護層5を設けたので、磁性
層3の磁性特性に悪影響を与えることなく、耐食性も向
上し、スピンコード法などの簡栄な製造法が採用できる
ので、コスト的にも有利となる。
なお、シランカップリング剤の他にボランカップリング
剤なども同様に使用できる。
[実験例] (実験例1) 次の仕様の磁気ディスクを試作し、そのC8S性を検討
した。
基板 ;アルミニウム合板、厚み1.9+am下地層:
無電解N;−pメッキ、厚み20μl、表面粗さくRm
ax ) 0.1 u−以下ニ研磨仕上げ。
磁性B:Go −Ni−Pメッキ、厚み0.1μm シランカップリング層;アミノシラン(東しシリコーン
社製)のイソプロピルアルコ ール10wt%ffi液をioorpm’r回転するデ
ィスク上に約3illi!滴下し、5000 ppmで
スピンコードし、常温で1峙間乾燥した。
保護層:ボリ、イミド樹脂(商品名゛サン1−バ日産化
学社製)のジメチルアセトアミ ド7wt%溶液を1100rpで回転しているディスク
上に約2d滴下し、50 00rpm テスヒンコートI、、170〜210℃で
0.5〜1時間加熱した。
この磁気ディスクのC8S性を測定したところ、5万回
後でも何んら異常の発生は認められなかった。
(実験例2) 次の仕様の磁気ディスクを試作し、そのC8S性、耐食
性を検討した。但し、基板、下地層および磁性層は実験
例1のものと同様である。
シランカップリング層ニアミノシラン(束レシリコーン
社製)のイソプロピルアルコ ール1Qwt%溶液を100 rpIIlで回転するデ
ィスク上に約3IR11滴下し、5000 rpiでス
ピンコードしたのら、常温で1時間乾燥した。
保護!j:フッ化オイル(商品名゛クライトツクス#1
57”、デュポン社製)をフレ オン液でQ、2wt%に希釈し、これをioorpmで
回転しているディスク上に約2−滴下し、5000 r
pmでスピンコードしたのち、130〜150℃ で1〜3時間加熱した。
この磁気ディスクのC8S性は5万回後でも何んら異常
は認められなかった。また、この磁気ディスクを80℃
、80%RHの雰囲気中に5日間放置し、耐食性を見た
が、何ら異常は認められなかった。
[発明の効果] 以上説明したように、この発明の磁気ディスクは、磁性
層上にカップリング剤を介して有機材料からなる保護層
を設けたものであるので、保:jIL層が強固に磁性層
に接合され、これにより、保護層の保護機能が充分に発
揮され、磁性層の耐久性が大きく向上する。また、保護
層が有機材料からなるため、ディスクの耐食性が向上す
るとともに磁性層の磁気特性に影響を及ぼすことがない
。さらに、この磁気ディスクの製造に際して、通常のス
ピンコード法などが適用できるので、製造コストが嵩む
こともない。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明の磁気ディスクの一例を示す概略断面図
である。 3・・・・・・磁性層、4・・・・・・シランカップリ
ング層、5・・・・・・保護層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 磁性層上にカップリング剤を介して有機材料からなる保
    護層が設けられたことを特徴とする磁気ディスク。
JP20818485A 1985-09-20 1985-09-20 磁気デイスク Pending JPS6267722A (ja)

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JP20818485A JPS6267722A (ja) 1985-09-20 1985-09-20 磁気デイスク

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JP20818485A JPS6267722A (ja) 1985-09-20 1985-09-20 磁気デイスク

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JPS6267722A true JPS6267722A (ja) 1987-03-27

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ID=16552051

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JP20818485A Pending JPS6267722A (ja) 1985-09-20 1985-09-20 磁気デイスク

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JP (1) JPS6267722A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0446319A (ja) * 1990-06-13 1992-02-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラー液晶素子の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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