JPS62189623A - 磁気デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、固定磁気ディスク装置などに使用される磁
性薄膜を記録媒体とりる磁気ｆイスクに関する。

（従来の技術） 従来より、この種の磁気ディスクにあっては、磁気ヘッ
ドによる磁性薄膜の摩耗を防雨するため、磁性薄膜（磁
性層）上に例えば、カーボンスパッタ膜や有機高分子か
らなる有機薄膜などを設（プ、磁性層を保護づることが
行われている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、保護膜としてのカーボンスパッタ膜は、
その形成に高価なスパッタ装置を必要とし製造コストが
嵩み、また、耐食性の点ひ劣るという問題点があった。

また、右！１薄膜にあっては、素地との密看性。

磁気ヘッドに対する耐摺動性、潤滑油保持性などの品持
性を同時に満足することができず、いずれかの特性を犠
牲にしているため、満足な特性を持つ保護膜を１７るこ
とがでさないという問題点かあつ　ｌご　。

〔問題点を解決するための手段〕

そこで、この発明にあっＵ　Ｇ、Ｌｔｉｎ性層上にスピ
ンコード法などによりポリイミド樹脂などのイ１機高分
子からなる石門高分子薄膜を形成しこの右Ｑ　１′ニア
。

分子薄膜の表面層から、プラズマ・ラグロー放電４室ど
の手段により水素原子を引き抜き、炭素原子の存在比率
の高い表面層を形成せしめることにより、耐摺動性や潤
滑油保持性を向上させるようにした。

〔実施例〕

図面は、この発明の磁気ディスクの一例を示すもので、
図中符号１は基板である。この基板１は、アルミニウム
合金板やセラミックス板あるいは合成樹脂板などからな
り−１その表面のうねりが小さいように加工されている
。この基板１上には下地層２が形成されている。この下
地ＦＪ２は基板１表面の微細な凹凸を平滑化するための
もので、例えば無電解メッキ法による厚み１０〜３０μ
ｍのＮＬ−Ｐメッキ膜や、基板１がアルミニウム合金の
場合には陽極酸化法によるＰノみ５〜２０μｍ陽Ｍｌ酸
化膜が設けられ、その表面は表面粗さくＲｗａｘ）０．
１μｍ程度にまで超研摩などによって仕上げられている
。この下地層２上には磁性Ｈ３が設けられている。この
磁性Ｆｙｉ３は、磁気記録媒体となるもので、例えば無
電解メッキ法によるＣｏ　−ＮＬ　−Ｐメッキ、Ｃｏ−
Ｐメッキなどのメッキ薄膜やスパッタ法、蒸着法などに
よる酸化鉄薄膜等の磁性薄膜などが、その目的に応じて
厚み０．０５〜０゜５μｍ程度に形成されてなるもので
ある。そして、この磁性層３上に有１高分子薄膜４が形
成されている。この有機高分子薄膜４は、磁性層３を磁
気ヘッドによる摩損から保護する保護膜として機能する
ものであって、有機高分子からなるものである。この有
機高分子薄膜４を構成する有ｔａ高分子としては、特に
限定されるものではなり、Ｗ！着性。

機械的強度、耐熱性などに優れているものが用いられる
が、なかでもポリイミド樹脂が特に好適である。このポ
リイミド樹脂としては、特に限定されず、例えばビロメ
ット酸無水物とジアミノジフェニルエテールとの初期縮
合物（デュポン社：ＰＹＲＥ　　ＭＬ）やビスマレイミ
ド重合物（ロース・ブーラン社：ＫＩＮＥＬ、ＫＥＲＩ
ＭＩＤ）などが用いられ、これらをジメチルホルムアミ
ドなどの極性有機溶剤に溶解した樹脂溶液として使用さ
れる。この他に熱可塑性ポリイミド樹脂や無水トリメッ
ト酸と芳香族ジイソシアネートからなるポリアミドイミ
ド樹脂、ポリエステルイミド樹脂を同様に使用すること
ができる。これらポリイミド樹脂は、耐熱性、接着性、
機械的強度に優れ、硬瓜が高くて表面ｒＩＩ消性が良く
、耐摩耗性にも優７れ、耐衝撃性も高いものである。

この有機高分子薄膜４は、このようなポリイミド樹脂な
どの樹脂液を例えばスピンコード法などによって塗布、
硬化さけて、厚さ０．０２〜０６１μｍ程度の薄膜に形
成したものである。有機高分子ハ９膜４の形成の際、磁
性層３上に有機シラン化合物溶液などの密着促進剤を塗
布しておくこともできる。

そして、この有機高分子薄膜４の表面層／４ａには、内
層よりも炭素原子の存在比率の高い層が形成されている
。この部分は、有機高分子薄膜４が形成されたＬ（板１
をエチレン、酸素、四塩化炭素などのガスの雰囲気下に
胃き、プラズマもしくはグ［］−放゛市することにＪ：
す、樹脂分子中の水素の一部もしくは全部を引抜いてグ
ラファイト状とすることによって形成されたものである
。この炭素原子の存在比率が高い表面層４ａの厚さは、
約０゜０１μｍ程度とされ、表面層４ａの最表層から有
機高分子薄膜４の内層に向い、炭素原子の存在比率が徐
々に低下してゆくようになっている。

さらに、有機高分子薄膜４上には、潤滑層５が設けられ
ている。この潤滑層５は、例えばポリフッ化エーテル、
フッ素化油などのフッ素糸ａ１７滑剤をスピンコード法
等によって厚さ０．０１μｍ程度に塗布することによっ
て形成される。

〔作用〕

このような磁気ディスクにあっては、有機高分子薄膜４
の表面層４ａにグラフアイ１−に近い構造の高分子が存
在しているので、潤滑性が良くなる。

また、表面層４ａの形成の際、気体イオンにＪこるエツ
チングを受けるので、表面に微少な凹凸が形成され、磁
気ヘッドの吸着、粘着の問題が改善されるとともに潤滑
剤を機械的にも保１．１できる。このため、１４ｉ気ヘ
ツドに対ザる耐摺動性が良くなる。

また、表面層４ａは、イｊ磯薄膜４との明確な境界を持
っておらず、イｉ機ｔカ膜４から剥離づることもない。

〔実験例〕

アルミ合金基板１上にＮＬ　−Ｐめっきによる下地層２
を設け、この表面をＲｍａｘ　＜０．１μｍにスーパー
ポリシュした侵、磁性層３を形成した。この磁性層３の
上に有機高分子薄膜４を０，０５μｍのｊ７さにスピン
塗布により形成した。

有機高分子薄膜４は、アミノメトキシシラン系カップリ
ング剤をイソプロピルアルコールで希釈した液を塗布後
、室温乾燥させ、ポリイミド系ワニス（１産化学サンエ
バー　樹脂濃度５％　Ｎ−メチルピロリドン溶液）を２
５００　ｒｐｍでスピン塗布した後、１７０℃で１時間
人気中で焼成して形成した。

このディスクを２０％エヂレンと７０％八ｒへよび１０
％ＣＣＪ　Ｊ混合ガスの２　Ｘ　１０４Ｔｏｒｒ雰囲気
中に設けられた平行平板電極の間に挿入し、電極間に１
３．５６ＨＩＩｚ　、　２５Ｗの高周波電力を５０〜６
０秒印加して、・電極間に発生するプラズマの作用で有
機高分子ｉＷｇ１４表面を改質し、いわゆる「水素引抜
き反応」により有機膜中の水素を引抜いて、グラファイ
ト状ＷＪ造をもつ表面層４ａを形成した。

この表面層４ａの上にさらにフッ素化オイル（デュポン
社　クライトツクス　１５７　Ｆ　Ｓ　）をフレオン系
溶液（住友スリーエム礼　フロリナートＦＣ７７で希釈
した液）を１５００ｒｐｍでスピンコードして潤滑層５
を形成した。

このディスクをコンタクトスタートストップにより磁気
ヘッドの摺動試験を行なった結果、５万回以上経過して
もディスクやヘッドに支障はなく安定した摺動特性が得
られた。さらにこのディスクを８０℃×８０％ＲＨの雰
囲気中に１週間放置して、耐食Ｖ［を調べた結果、何ら
欠陥の発生もなく優れた耐食性があることを確認した。

〔発明の効果〕

以上説明したように、こ、の発明の磁気ディスクは、磁
性層上に有機高分子薄膜薄膜を設け、この有機高分子−
薄膜の炭素原子の存在比率を内層より表面層が大きくな
るようにしたものであるので、磁性層と高い密着性を示
づとともに磁気ヘッドに対する耐摺動性も向上し、さら
に耐食性、　ｒＸＪＪ滑層の保持性なども改善され、Ｃ
８Ｓ特性が良好で耐久性に富むものとなる。

【図面の簡単な説明】

図面は、この発明の磁気ディスクの一例を示す概略断面
図である。 ３・・・磁性層、４・・・有機高分子薄膜、４ａ・・・
表面層。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁性層上に有機高分子薄膜を形成し、この有機高
   分子薄膜の炭素原子の存在比率を内層より表面層を大き
   くしたことを特徴とする磁気ディスク。
2. （２）有機高分子薄膜にプラズマ、グロー放電による表
   面改質を施して、炭素原子の存在比率を内層より表面層
   を大きくしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の磁気ディスク。