JPS6262424A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体に関するものであり、更に詳細に
は、長時間用に適した薄手の磁気テープに関するもので
ある。

〔従来の技術とその問題点〕

ポリエチレンテレフタレートフィルムが近年主として磁
気テープ用の支持体として用いられて来ている。特にホ
ームビデオカセットテープ、例えばβ−フォーマット、
ＶＨＳテープなどには厚さ８〜１６μＩ程度のポリエチ
レンテレフタレートフィルムが、又、オーディオカセッ
トテープにおいては厚さ４〜１２μ鳳程度のポリエチレ
ンテレフタレートフィルムが使用されている。特に長さ
方向と幅方向の強度、寸法安定性などを等しくしたバラ
ンスタイプのポリエチレンテレフタレートフィルムが使
用されている。

このホームビデオテープを長時間用にするために支持体
フィルムを２／３程度に薄くする事が考えられ、このた
め長手方向の強度、ヤング率を高くするため再延伸ポリ
エチレンテレフタレートフィルムを使用することは容易
に考えられる。

すなわち、磁気テープ走行中摩擦力およびその変動に基
づくテープの長さ方向の張力変動に基づくテープの長さ
方向の伸縮振動はジッターとなって表われる。これを解
決するには支持体の薄膜化に基づ（単位張力当りの伸び
率、（例えば、伸び率／１５０ｇ荷重）を同じにするた
めには長さ方向のヤング率を厚さに逆比例させて高くす
ればよいことが判明した。

しかし、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる
限り、長さ方向のヤング率を大きくすることに限界があ
ることがわかった。即ち、溶媒成形後、熱延伸する方法
によっては、幅方向のヤング率を一定のレベルに保持し
たまま、長さ方向のヤング率を望ましいレベルに増大す
ることは不可能に近い。また、或種の芳香族ポリアミド
から、幅方向のヤング率を長さ方向のそれより大きくす
ることも提案されているが、ジッター特性の抜本的な改
良という観点からは十分とはいえない。

〔課題の解決手段〕

本発明者らは、長時間録画の可能なホームビデオ等用の
支持体フィルムを種々検討した結果、特定の芳香族ポリ
アミドフィルムが高いヤング率を有し、しかも長さ方向
のヤング率を幅方向のそれの１．２倍以上にしても、幅
方向のヤング率が小さいときに生じる、テープのしわ、
折れなどの問題が発生しないこと、そして長さ方向の高
いヤング率に支えられて薄いフィルムにおいても極めて
好ましいビデオテープ特性を有することを発見し、本発
明に到達したものである。

即ち、本発明は、非磁性可撓性支持体上に磁性層を設け
た磁気記録媒体において、前記非磁性可撓性支持体の長
さ方向の引張ヤング率が、幅方向の引張ヤング率の１．
２倍以上である芳香族ポリアミドフィルムであることを
特徴とする磁気記録媒体である。

〔発明の構成〕

本発明における非磁性可撓性支持体としての芳香族ポリ
アミドフィルムは下記の一般式（１）、−・般式（ＩＩ
）の重合体またはこれらの共重合体を用いて製造したも
のである。

（式中において、Ｒ１＋　ＲｚおよびＲ３はから選ばれ
、これらの水素原子がハロゲン、メチル、エチル、メト
キシ、ニトロ、スルホンなどの官能基で置換されていて
もよい。ｍ、ｎは平均重合度であり約５０〜１０００で
ある。）本発明に用いられる芳香族ポリアミドには約２
０モル％以下の量であれば上記の成分以外のポリマーが
共重合又はブレンドされていてもよい。芳香族ポリアミ
ドとして特に好ましいのは、ポ（Ｐ−フェニレンテレフ
タルアミド）又はポリ　（Ｐ−ベンズアミド）である。

これらの重合体からフィルムを製造する場合にはジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド。

Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミド、
Ｔ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素。

ジオキサンなど、またはこれらの混合溶媒、あるいはこ
れらに塩化リチウム、塩化カルシウム、炭酸リチウム、
硝酸リチウムなどの無機塩を添加した溶媒を用いること
もできるが、好ましくは、前記重合体を硫酸、クロル硫
酸、フルオロ硫酸などに溶解したドープから製造したも
のである。これらの鉱酸ドープの場合、謂ゆる光学異方
性ドープを形成することがあるが、このドープをグイか
ら吐出したのち、加熱や加湿によって光学等方性ドープ
に変え、その後湿式凝固させ、洗浄後湿潤状態で一軸延
伸をするという方法によって、掻めてヤング率の大きい
フィルムを幸便につくることができる。

これらの芳香族ポリアミドを溶液成型して得られるフィ
ルムの厚さは約２〜８０μ鳳であるが、本発明において
は約１６ｕ以下、好ましくは２〜１５μとしたものが良
い。

又、芳香族ポリアミドフィルムの表面粗さは中心線平均
表面粗さくＲａ、　ＪＩＳ　Ｂ１２Ｏ３（１９７６）お
よび八ＳＡ　Ｒ４６−１（１９６２）参照〕が０．０３
ｐｍ以下であることが、磁気記録体のノイズ低下のため
に好ましい。

本発明の芳香族ポリアミドフィルムとしては、長さ方向
に若干の一軸配同性を有しているものが用いられ、長さ
方向のヤング率（Ｅｚ　）が幅方向のヤング率（Ｅｗ）
の約１．２倍以上である。より好ましくは、Ｅ７がＥｓ
の１．３〜２．０倍の範囲である。具体的にいえば、Ｅ
ｌは１４００ｋｇ／−以上が好ましく、更に好ましくは
１５００ｋｇ／−以上であり、Ｅ−・は７００ｋｇ／−
以上、更に好ましくは８００ｋｇ／−以上である。

また、本発明の芳香族ポリアミドフィルムは１０％以上
の破断伸度を長さ方向にも幅方向にも持っているものが
好ましい。更に、長さ方向の破断強度が４０ｋｇ／−以
上が好ましい。本発明のポリアミドフィルムは、透明な
ものが好ましくより具体的には６００ｎｍの光線透過率
が６０％以上のものが、しわになりに（いという点では
好ましい。

本発明の支持体（フィルム）には、平滑剤として、例え
ばシリカ、タルク、硫酸カルシウムなどの無機物が分散
含有されていてもよい。

本発明の磁気記録媒体に使用される磁性層とは、強磁性
微粉末を、結合剤、添加剤及び溶剤等に混線分散した磁
性塗料を塗工、配向、乾燥して塗布型磁性層を設けたも
の、及び、強磁性金属、合金等を真空蒸着、無電解メッ
キ、スパッタリング、イオンブレーティング等のペーパ
ーデポジションまたはメッキによる析出方法により析出
型磁性層を設けたものである。

上記の塗布型磁性層に使用する磁性塗料の製法に関して
は特公昭３５−１５号、３９−２６７９４号、４３−１
８６号、４７−２８０４３号、４７−２８０４５号、４
７−２８０４６号、４７−２８０４８号、４７−３１４
４５号、４８−１１１６２号、４８−２１３３１号、４
８−３３６８３号、ソ連特許明細書３０８．０３３号；
米国特許２．５８１．４１４号；同２，８５５．１５６
号；同３，２４０゜６２１号；同３，５２６．５９８号
−同３．７２１３．２６２号童同３，７９０゜４０７号
；同３，８３６．３９３号等にくわしく述べられている
。これらに記載されている磁気塗料は強磁性微粉末、バ
インダー、塗布溶媒を主成分とし、この他に分散剤、潤
滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤等の添加剤
を含む場合もある。

上記の強磁性微粉末としては強磁性酸化鉄、強磁性二酸
化クロム、強磁性合金粉末などが使用できる。

上記の強磁性酸化鉄は一般式ＦｅＯｘで示した場合のＸ
値が１．３３≦Ｘ≦１．５０の範囲にある強磁性酸化鉄
、すなわち、マグネタイトＣｒ　　ＦｅｇＯｉ、Ｘ＝１
．５０）、マグネタイト（ＦｅＪｔ＋　Ｘ＝１．３３）
及びこれらのベルトライド化合物（ＦｅＯｘ、　１．３
３＜　ｘ　＜１．５０）である。上記のＸ値は の式で示される。

これらの強磁性酸化鉄には２価の金属が添加されていて
も良い。２価の金属としてはＣｒ、　Ｍｎ、　Ｃｏ。

Ｎｉ、　Ｃｕ、　Ｚｎなどがあり、上記酸化鉄に対して
０〜１０ａｔｏｍｉｃ％の範囲で添加される。

上記の強磁性二酸化クロムはＣｒｙ、およびこれにＮａ
、　　Ｋ、　Ｔｉ＋　　Ｖ、　Ｍｎ、　Ｆｅ、　Ｃｏ、
　Ｎｔ、　Ｔｃ、　Ｒｕ、　Ｓｎ。

Ｃｅ、　Ｐｂなどの金属、Ｐ、　Ｓｂ、　Ｔｅなどの半
導体、またはこれらの金属の酸化物を０〜２０ｗ　ｔ％
添加したＣｒａｇが使用される。

上記の強磁性酸化鉄および強磁性二酸化クロムの針状比
は２／１〜２０／１程度、好ましくは５／１以上、平均
長は０．２〜２．０μ程度の範囲が有効である。

上記の強磁性合金粉末は金属分が７５−ｔ％以上であり
、金属分の８０−ｔ％またはそれ以上が少なくとも一種
の強磁性金属（すなわち、Ｆｅ、　Ｃｏ、　Ｎｉ、　Ｆ
ｅ−Ｃｏ＋　Ｆｅ−Ｎｉ＋　Ｃｏ−ＮＬまたはＣｏ−Ｎ
１−Ｆｅ）であり、金属分の２０−ｔ％またはそれ以下
、好ましくは０．５〜５ｗｔ％がＡｌ＋　Ｓｉ、　　Ｓ
＋　Ｓｃ＋　Ｔｔ、　　Ｖ、　Ｃｒ＋　Ｍｎ。

Ｃｕ＋　Ｚｎ、　Ｙ、　Ｍｏ＋　Ｒｈ、　Ｐｄ、　Ａｇ
、　Ｓｎ、　Ｓｂ＋　Ｔｅ、　Ｂａ。

Ｔａ＋　Ｗ、　Ｒｅ、　Ａｕ＋　Ｈｇ＋　ｐｂ、　Ｂ１
＋　Ｌａ、　Ｃｅ＋　Ｐｒ、　Ｎｄ＋Ｂ、Ｐなどの組成
を有するものであり、少量の水、水酸化物または酸化物
を含む場合もある。

上記の強磁性合金粉末は長径が約０．５ＩＩＭ以下の粒
子である。

前記の磁性層のバインダーとしては従来公知の熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂やこれらの混合物が
使用される。

熱可塑性樹脂として軟化温度が１５０℃以下、平均分子
量が１０，０００〜２００，０００、重合度が２００〜
２０００程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニ
ルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリ
デン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、
メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタ
クリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル
酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマー、
ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共重
合体、ブタジェンアクリロニトリル共重合体、ポリアミ
ド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セ
ルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテ
ート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオ
ネート、ニトロセルロース等）、スチレンブタジェン共
重合体、ポリエステル樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑
性樹脂（ポリブタジェン、ポリクロロプレン、ポリイソ
プレン、スチレンブタジェン共重合体など）及びこれら
の混合物等が使用される。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では
２００，０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に添
加することにより、縮合、付加等の反応により分子量は
無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂
が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ま
しい。具体的には例えばフェノール・ホルマリン−ノボ
ラック樹脂、フェノール・ホルマリン−レゾール樹脂、
フェノール・フルフラール樹脂、キシレン・ホルムアル
デヒド樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、乾性油変性アル
キッド樹脂、石炭酸樹脂変性アルキッド樹脂、マレイン
酸樹脂変性アルキッド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
エポキシ樹脂と硬化剤（ポリアミン、酸無水物、ポリア
ミド樹脂、その他）、末端イソシアネートポリエステル
湿気硬化型樹脂、末端イソシアネートポリエーテル湿気
硬化型樹脂、ポリイソシアネートプレポリマー（ジイソ
シアネートと低分子量トリオールとを反応させて得た１
分子内に３ヶ以上のイソシアネート基を有する化合物、
ジイソシアネートのトリマー及びテトラマー）、ポリイ
ソシアネートプレポリマーと活性水素を有する樹脂（ポ
リエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、アク
リル酸共重合体、マレイン酸共重合体、２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート共重合体、パラヒドロキシスチレ
ン共重合体、その他）、及びこれらの混合物等である。

これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使われ、
他に添加剤が加えられる。強磁性粉末と結合剤との混合
割合は重量比で強磁性粉末１００重量比に対して結合剤
８〜４００重量部、好ましくは１０〜２００重量部の範
囲で使用される。

磁性層には、前記のバインダー、強磁性微粉末の他に添
加剤として分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆
剤、防黴剤等が加えられてもよい。

分散剤としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、ステアロー
ル酸等の炭素数１２〜１８個の樹脂酸（ＲＩＣＯＯＩＩ
、　Ｒは炭素数１１〜１７個のアルキルまたはアルケニ
ル基）；前記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、　　Ｎａ
、　　Ｋ等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ＋　Ｃａ、
　Ｂａ）から成る金属石鹸；前記の脂肪酸エステルの弗
素を含有した化合物；前記の脂肪酸のアミド；ポリアル
キレンオキサイドアルキルリン酸エステル；レシチン；
トリアルキルポリオレフィンオキシ第四アンモニウム塩
（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンはエチレン、
プロピレンなど）；等が使用される。この他に炭素数１
２以上の高級アルコール、およびこれらの他に硫酸エス
テル等も使用可能である。これらの分散剤は結合剤１０
０！ｉ量部に対して０．５〜２０重量部の範囲で添加さ
れる。

潤滑剤としてはジアルキルポリシロキサン（アルキルは
炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシロキサン（アル
コキシは炭素数１〜４個）、モノアルキルモノアルコキ
シポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個、アルコ
キシは炭素数１〜４個）、フェニルポリシロキサン、フ
ロロアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５
個）などのシリコンオイル；グラファイトなどの導電性
微粉末；二硫化モリブデン、二硫化タングステンなどの
無機微粉末；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチ
レン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチレン
などのプラスチック微粉末；ａ−オレフィン重合物；常
温で液状の不飽和脂肪族炭化水素（ｎ−オレフィン二重
結合が末端の炭素に結合した化合物、炭素数約２０）；
炭素数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２
個の一価のアルコールから成る脂肪酸エステル類、フル
オロカーボン類などが使用できる。これらの潤滑剤は結
合剤１００重量部に鋳して０．２〜２０重量部の範囲で
添加される。

研磨剤としては一般に使用される材料で溶融アルミナ、
炭化ケイ素、酸化クロム（Ｃｒｔ（ｈ　）　、コランダ
ム、人造コランダム、ダイアモンド、人造ダイアモンド
、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）
等が使用される。これらの研磨剤はモース硬度が５以上
であり、平均粒子径が０．０５〜５μの大きさのものが
使用され、特に好ましくは０．１〜２μである。これら
の研磨剤は結合剤１００重量部に対して０．５〜２０重
量部の範囲で添加される。

帯電防止剤としてはカーボンブランク、カーボンブラッ
クグラフトポリマーなどの導電性微粉末；サポニンなど
の天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；高級
アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリジン
その他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類な
どのカチオン界面活性剤；カルボン類、スルホン類、燐
酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を含む
アニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン酸類
、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類等の両
性活性剤などが使用される。

上記の導電性微粉末は結合剤１００！ｉ量部に対して０
．２〜２０重量部が、界面活性剤は０．１〜１０重量部
の範囲で添加される。

これらの界面活性剤は単独または混合して添加してもよ
い。これらは帯電防止剤として用いられるものであるが
、時としてその他の目的、たとえば分散、磁気特性の改
良、潤滑性の改良、塗布助剤として適用される場合も、
ある。

防錆剤としてはリン酸、スルファミド、グアニジン、ピ
リジン、アミン、尿素、ジンククロメート、カルシウム
クロメート、ストロンチウムクロメートなどが使用でき
るが、特にジシクロヘキシルアミンナイトライト、シク
ロヘキシルアミンクロメート、ジイソプロピルアミンナ
イトライト、ジェタノールアミンホスフェート、シクロ
ヘキシルアンモニウムカーボネート、ヘキサメチレンジ
アミンカーボネート、プロピレンジアミンステアレート
、グアニジンカーボネート、トリエタノールアミンナイ
トライト、モルフォリンステアレートなどの気化性防錆
剤（アミン、アミドまたはイミドの無機酸塩または有機
酸塩）を使用すると防錆効果が向上する。これらの防錆
剤は強磁性微粉末１００重量部に対して０．０１〜２０
重量部の範囲で使用される。

防黴剤としてはサルチルアニライド、酸化ビス（トリブ
チルスズ）、フェニルオレイン酸水銀、ナフテン酸銅、
ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸水銀、ペンタクロロフェノ
ール、トリクロロフェノール、ｐ−ジニトロフェノール
、ソルビン酸、ｐ−オキシ安息香酸ブチル、ジヒドロア
セト酸などが結合剤１００重量部に対して０．０１〜５
重量部の範囲で使用される。

塗布溶媒に使用する有機溶媒としては、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル
等のエステル系；エーテル、グリコールジメチルエーテ
ル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグ
リコールエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン等
のタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド、
エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチ
レンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化
水素等のものが選択して使用できる。

磁性粉末及び前述のバインダー、分散剤、潤滑剤、研磨
剤、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤、溶剤等は混練されて
磁性塗料とされる。

混練にあたっては、磁性粉末及び上述の各成分は全て同
時に、あるいは個々順次に混練機に投入される。たとえ
ばまた分散剤を含む溶剤中に磁性粉末を加え所定の時間
混練をつづけて磁性塗料とする方法などがある。

磁性塗料の混線分散にあたっては各種の混練機が使用さ
れる。例えば二本ロールミル、三本ロールミル、ボール
ミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグライダ−１Ｓ
ｘｅｇｖａｒｉアトライター、高速インペラー分散機、
高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニー
グー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機な
どである。

支持体上へ前記の磁気記録層を塗布する方法としてはエ
アードクターコート、ブレードコート、エアナイフコー
ト、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコー
ト、トランスファーロールコート、クラビヤコート、キ
スコート、キャストコート、スプレィコート、スピンコ
ード等が利用でき、その他の方法も可能であり、これら
の具体的説明は例えば浅倉書店発行の「コーティング工
学」２５３頁〜２７７頁（昭和４６．　３．２０発行）
に詳細に記載されている。

又、重層磁気記録媒体の場合は非磁性支持体上に上記の
塗布法によって磁性層を塗布、乾燥し、この工程を繰り
返して連続塗布操作により２層の磁性層を設けたもので
ある。又、特開昭４８−９８８０３号（西ドイツ特許Ｄ
Ｔ−ＯＳ　２，３０９．１５９号）、同４８−９９２３
３号（西ドイツ特許ＤＴ　−ＡＳ２．３０９．１５８号
）等に記載された如く、多層同時塗布法によって同時に
２層の磁性層を設けても良い。

磁性層の厚味は乾燥厚味で約１０ｕ以下、好ましくは０
．５〜６μの範囲となるように塗布する。重層の場合は
合計で上記の範囲とされる。又、この乾燥厚味は磁気記
録媒体の用途、形状、規格などにより決められる。更に
塗布すべき帯状支持体の搬送速度は所望の塗布量（塗膜
厚）と磁性塗布液の供給量とにより決定され、５０ｃｍ
／ｓｅｃ、乃至７００ｍ／ｓｅｃ、が望ましい。

このような方法により、支持体上に塗布された磁性層は
必要により前記のように層中の磁性粉末を配向させる処
理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。又必要に
より表面平滑化加工を施したり、所望の形状に裁断した
りして、本発明の磁気記録媒体を製造する。

特に本発明に於ては磁気記録層の表面平滑化処理をほど
こすと、表面が平滑で、且つ耐摩耗性にすぐれた磁気記
録媒体が得られることが判明した。

この表面平滑化処理は乾燥前のスムーズニング処理、あ
るいは乾燥後のカレンダリング処理によって行なわれる
。

配向処理は下記の条件で行なわれる。

配向磁場は交流または直流で約５００〜３００００層程
度である。

磁性体の配向方向は、その用途により定められる。即ち
、サウンドテープ、小型ビデオテープ、メモリーテープ
などの場合にはテープの長さ方向に平行であり、放送用
ビデオテープなどの場合には長さ方向に対して、３０°
乃至９０°の傾きをもって配向される。

又、特開昭５２−７９９０５号、米国３，７７５，１７
８号、西ドイツ特許公告（ＤＴ−ＡＳ）　１，１９０．
９８５号に記載された如く、重層の場合には上層と下層
の配向を異なった方向に行なっても良い。

配向後の磁性層の乾燥温度は約５０〜１２０℃程度、好
ましくは７０〜１００℃、特に好ましくは８０〜９０℃
で空気流量は１〜５＆７１０ｆ、好ましくは２〜３に１
７ｄで、乾燥時間は約３０秒〜１０分間程度、好ましく
は１〜５分である。

前記の磁性層の乾燥前の塗膜表面のスムーズニング処理
としてはマグネットスムーザ−、スムーズニングコイル
、スムーズニングブレード、スムーズニングブランケッ
ト等の方法を必要に応じて使用される。

磁性層の乾燥後の塗膜表面のカレンダリング処理はメタ
ルロールとコツトンロール、または合成樹脂（たとえば
ナイロン、ポリウレタンなど）ロール、あるいはメタル
ロールとメタルロールなどの２本のロールの間を通すス
ーパーカレンダー法によって行なうのが好ましい。スー
パーカレンダ−の条件は約２５〜５０　ｋｇ　／　ｃｍ
のロール間圧力で、約３５〜１５０℃の温度で、５〜２
００ｍ／ｌｌ１ｎの処理速度で行なうのが好ましい。温
度及び圧力がこれらの上限以上になると磁性層および非
磁性支持体に悪影響がある。又、処理速度が約５ｍ／ｍ
ｉｎ以下だと表面平滑化の効果が得られなく、約２００
ｍ／ｍｉｎ以上だと処理操作が困難となる。

非磁性可撓性支持体としての本発明の芳香族ポリアミド
フィルムには磁性層および後述するバック層の接着性改
良のため、ポリエステル樹脂、ポリウレタンエラストマ
ー、アルコール可溶性ポリアミド樹脂などの下塗層を乾
燥厚味約０，０３〜２μ、好ましくは０．０５〜１．５
μの範囲で設けても良い。

又、本発明の支持体は帯電防止、転写防止、ワウフラッ
タ−の防止、磁気記録媒体の強度向上、バック面のマッ
ト化等の目的で、磁性層を設けた側の反対の面（バック
面）がいわゆるバックコート（ｂａｃｋｃｏａｔ）され
ていてもよい。

このバンク層は組成としては前記の潤滑剤、研磨剤、帯
電防止層などの少なくとも１種の添加剤、および場合に
よってはこれらを均一に分散させるために分散剤を前記
のバインダー、塗布溶媒と混練、分散した塗布液を上記
の支持体のバック面上に塗布、乾燥して設けたものであ
る。前記の磁性層およびバック層は支持体上にどちらが
が先に設けられても良い。

通常使用される好ましい添加剤はカーボンブラック、グ
ラファイト、タルク、ＣｒｚＯｌ　、　　ｅｘ　−ｐ６
．Ｑ。

（ベンガラ）、シリコーンオイルなどであり、バインダ
ーは前記のうち熱硬化性樹脂又は反応型樹脂が好ましい
。

バック層全固形分に対して無機化合物の添加剤の場合は
約３０〜８５−ｔ％、好ましくは４０〜８０ｗｔ％有機
化合物の添加剤の場合は約０．１〜３０ｗｔ％、好まし
くは０．２〜２０ｗ　ｔ％の混合比で設けられる。又、
乾燥厚味は約０．５〜５．Ｏｎの範囲で磁気記録媒体の
全厚、用途、形状、目的等に応じて任意に選択すること
ができる。

一方、前記の析出型磁性層の場合は鉄、コバルト、ニッ
ケルその他の強磁性金属、あるいはＦｅ　−Ｃｏ、Ｆｅ
−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−３ｉ＋　　Ｆｅ−Ｒｈ＋　
　Ｆｅ−Ｖ。

Ｃｏ−Ｐ、Ｇｏ−Ｂ、Ｃｏ−５ｉ＋　　Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ
−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、　　Ｃｏ−Ｃｅ、　　Ｃｏ−Ｐｒ、
　　Ｃｏ−５ｍ、　　Ｃｏ−Ｍｎ、　　Ｆｅ−Ｃｏ　−
Ｎｉ、　　Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、　　Ｃｏ−Ｎ１−Ｂ、　　
Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｇ、　　Ｃｏ−Ｎｉ　−Ｎｄ、　　Ｃｏ
−Ｎｉ　−Ｃｅ、　　Ｃｏ−Ｎｉ　−ＺｎＩ　　Ｃｏ−
Ｎｉ　　Ｃｕ。

Ｃｏ−Ｎｉ　−Ｈｇ＋　　Ｃｏ−Ｎ１−Ｗ、　　Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｒｅ、　　Ｃｏ−Ｍｎ　−Ｐ、　　Ｃｏ−Ｚｎ−
Ｐ、　　Ｃｏ−Ｐｂ−Ｐ、　　Ｃｏ−５ｒｓ−Ｃｕ、　
　Ｃｏ　−Ｎｉ−Ｚｎ　−Ｐ、　Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ　−
Ｐ等の強磁性合金をベーパーデポジション法あるいはメ
ッキ法などの析出方法によって薄膜状に形成せしめ強性
層としたものである。ベーパーデポジション法とは気体
あるいは真空空間中において析出させようという物質ま
たはその化合物を蒸気あるいはイオン化した蒸気として
基体上に析出させる方法で真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンブレーティング法、化学気相メッキ（Ｃｈｅ
ｏ＋１ｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　）
法等がこれに相当する。メッキ法とは電気メツキ法ある
いは無電気メッキ等の液相より基体上に物質を析出させ
る方法をいう。

ベーパーデポジション法においては、これらの条件は方
法、物質によって大きく変るが大凡の特異点は次の第１
表の通りである。

以下余白 前記のメッキ法には無電解メッキおよび電解メッキがあ
り、無電解メッキによる方法は、特に非導電性の基体上
への磁性層の形成が可能であるという利点を有し、基体
との密着が極めて良好で、かつ優れた磁気特性を有する
磁性層を均一に形成せしめることが容易である。本発明
において、無電解メッキとは化学還元メッキを指し、メ
ッキすべき金属イオンをメッキ溶液中の還元剤により還
元せしめて基体上に金属と・して析出させる方法である
。基体表面上にのみ上記の還元反応をスタートさせ促進
するためには、前処理によって基体表面に触媒活性を賦
与しておくことが必要である。

例えば、プラスチック基体上に磁性メッキを施す場合に
は、脱脂−エツチング−基体表面活性化処理−無電解磁
性メッキの諸工程が通常行なわれている（米国特許３，
２４５，８２６号、同３，３５３．９８６号等参照）。

脱脂およびエツチングの工程は、磁性メッキ層を基体上
に均一に、しかも密着よく形成させるために行なわれる
ものであって、一つの液で両方の作用を兼ねさせること
もできる。例えば、脱脂・エツチング液としては苛性ソ
ーダ水溶液、あるいは重クロム酸＋硫酸混液等が広く用
いられる。

基体表面活性化処理として通常広く行なわれている方法
は、米国特許２．７０２．２５３号に示されている塩酸
酸性５ｎＣＩｌｔ溶液からなるセンシタイザ−液による
感受性化、さらにそれにＭ　＜　Ｐｄ＋　Ａｕ、　Ａｇ
等の貴金属イオンを有するアクチベーター液による活性
化の工程であり、この処理を経た基体表面にはメッキ反
応の触媒として働＜Ｐｄ、　Ａｕ、　Ａｇ等の微粒子が
付着させられる。さらに米国特許３，０１１，９２０号
、同３，５３２，５１８号等に記載されているようなＰ
ｄ−５ｎゾル液による処理（カタリスト処理）−アクセ
ラレータ−液による処理から成る基体表面活性化処理法
にも実用化されている。あるいは、基体表面に蒸着等の
方法によって触媒金属微粒子を付着させる方法、触媒金
属微粒子を有機バインダー中に分散させて基体表面に塗
布する方法、触媒金属塩を含む層を基体表面に設け、還
元剤により触媒金属に変化させる方法等の特殊な気体表
面活性化処理法もある。

無電解磁性メッキ浴は通常（イ）強磁性金属薄膜を形成
させるためのコバルト、ニッケル、鉄ソの他の金属イオ
ン、（ロ）次亜りん酸塩、水素化はう素化合物、ヒドラ
ジン等の還元剤、（ハ）マロン酸、コハク酸、酒石酸、
クエン酸、アンモニウム塩等の錯化剤、（ニ）蟻酸、酢
酸、マロン酸、コハク酸、クエン酸等のｐＨ緩衝剤、（
ホ）水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、炭酸塩等
のｐａ＋調節剤等を含有することができる。

メッキ浴の強磁性金属イオンの濃度は約０．００１〜３
ｍｏｌｅ／ｌであり、他の金属イオンは磁性層の組成で
約０゜００１〜１５−ｔ％となるように添加され、メッ
キ浴のｐＨは、６．５〜９が好ましく、メッキを速やか
に進行させるべくメッキ浴の温度は６０〜９５℃が好ま
しい。また、メッキ速度は一般には５０人／　ｍ　ｉ　
ｎ〜５０００人／ｍｉｎ特に好ましくは２００人／　ｍ
　ｉ　ｎ〜２０００人／ｍｉｎが良好である。無電解磁
性メッキ浴としては高い残留磁束密度および抗磁力を得
るため、磁性金属イオンとしてコバルトイオンあるいは
コバルトイオンとニッケルイオンを含み、還元剤として
は次亜リン酸イオンを含む浴が広く知られている（米国
特許３．１１６．１５９号、同３，２１９，４７１号等
参照）。これらのメッキ浴より作製された無電解メッキ
磁性膜は少量のＰを含有し、これがＣ。

あるいはＧｏ−Ｎｉ金属のグレイン境界に析出するため
に高抗磁力が得られると説明されてきている。

更に無電解メッキの場合には支持体上に下塗り層を設け
る場合もある。

下塗り層として用いられるものとしてはＡＢＳＪＩＡ脂
、エポキシ樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニリデン共重合体、ニトロセルロース、ポリビニルア
ルコール、ゼラチン、ニトリルゴム、アクリルゴム等が
用いられ、乾燥厚味は１０μ以下が良い。

強磁性金属層を無電解メッキ法によって形成せしめる方
法に依る場合には、上記の下塗り層中に無電解メッキの
ための触媒活性の働きをするＰｄ。

Ａｕ、　Ｐｔ、へｇ等の金属あるいは化合物あるいは同
様な働きを有する他の化合物を含有させておいてもよい
。

電気メッキによる方法は電解還元メッキを指し、メッキ
すべき金属イオンをメッキ浴液中での電解により還元せ
しめて基体表面上に金属として析出させる方法である。

この場合も無電解メッキと同様に脱脂、エツチング、感
受性化、活性化などの前処理を行ない、場合によっては
、非磁性金属下地層を設けることが好ましい。

電解磁性メッキ浴は通常前記の無電解メッキ浴と同様な
組成で調整され、Ｃｏ、　ＮｉおよびＦｅの少なくとも
一種の強磁性金属およびＣｒ、　Ｍｎ＋　Ｃｕ＋　Ｚｎ
。

＾Ｌ　Ａｕ＋　Ｈｇ＋　Ｐ　＋希土類元素（Ｓｅ、　ｙ
、　Ｌａ＋　Ｃｅ。

Ｓｖｓ、　Ｌｕ等）などの他の添加金属イオン；次亜り
ん酸塩、水素化ホウ素化合物、ヒドロラジン等の還元剤
；塩化アンモニウム、水酸化ナトリウム、塩酸、硫酸、
硝酸等のｐＨ調節剤等を含有することができる。

電解メッキ浴中の強磁性金属イオン濃度は０．０１〜５
ｍｏｌｅ／Ｊ！であり、他の金属イオンは磁性層の組成
で約ｏ、ｏｏｉ〜１５−ｔ％となるように添加される。

メッキ浴のｐｎは３〜７が好ましく、メッキ浴の温度は
１０℃〜８０℃が好ましい。また、電流密度は０、Ｏ１
〜１０人／ｄｍ”で、メッキ時間は５秒〜３０分とする
のが良い。

以上に示した種々の方法により、本発明の支持体に磁性
層が形成される。

〔発明の効果〕

本発明による支持体を使用する事により、従来のテープ
では得られなかった、ジッター特性のすぐれた薄手のテ
ープが得られ、また、折れ、しわ等の生じ難く、支持体
にスリキズのつき難い磁気記録媒体が得られたので、長
時間録画用のビデオテープとして、または／及び軽量の
ビデオテープとして非常に有用である。

〔実施例〕

以下本発明を実施例により更に具体的に説明する。ここ
に示す成分：割合：操作順序等は、本発明の精神から逸
脱しない範囲において変更しうるちのであることは本業
界に携わるものにとっては容易に理解されることである
。

従って、本発明は以下の実施例に制限されるべきではな
い。

〔芳香族ポリアミドフィルム〕

固有粘度（Ｈ２ＳＯ，中２５℃、Ｃ＝　０．５ｇ／ｄ１
で測定）が５．８のポリ　（ｐ−フェニレンテレフタル
アミド）を９９．７％の硫酸にポリマー濃度１３．０％
で溶解し、６０℃で光学異方性のあるドープを得た。こ
のドープをタンクに入れ、タンクからギアポンプを経て
ダイに至る１、５ｍの曲管を約７０℃に保ち、０．２ｍ
Ｘ３００鶴のスリットをもったグイから、鏡面に磨いた
１１０℃に保ったハステロイ性のベルトにキャストし、
９０℃で相対湿度８８％の雰囲気中に２０秒間保った後
、約５℃の水で凝固し連続的に製膜した。

凝固したフィルムをとり出して常温の水で洗浄し、水を
含んだままのフィルムを種々の条件で延伸し、次いで２
５０℃のオーブン中で定長乾燥を行いフィルムを得た。

延伸条件及びフィルムの性質をまとめて、第２表に示す
（番号１及び２が本発明のフィルムであり、され以外は
本発明外のフィルムである。なお、比較のためポリエチ
レンテレフタレートフィルムも用いた。

以下余白 〔磁気テープの製造〕 第３表に示す組成物を混練した後、ボールミルに入れ、
２４時間分散後、ポリイソシアネート（３モルのトリレ
ンジイソシアネートと１モルのトリメチロールプロパン
のアダクト体、７５−ｔ％酢酸エチル溶液、ＮＧＯ含有
率約１３．３％Ｉｌｔ％バイエルＡ、Ｇ、社製「デスモ
チニールＬ−７５Ｊ）７部を加え更に１時間高速剪断分
散し、平均孔径２μのフィルターで濾過し、磁性塗布液
を得た。この塗布液の粘度は３５ｃ、ｐ、であった。

第　　　　３　　　　表 □千日 上記の磁性塗布液を前記第２表に示す番号１〜６の各フ
ィルム上に下記の第４表に示す乾燥厚味となる様に塗布
し、ついで０．０２秒間２＋　５００Ｇａｕａｓの直流
磁場によりフィルムの長さ方向に磁場配向処理を行ない
、１００℃で２分間加熱乾燥した。得られた広巾の磁気
ウェブをメタルロール（クロムメッキされたスチールロ
ール：バックアップロール）とナイロンロール（カレン
ダーロール）を用いて５０ｋｇ／備のロール間圧力、６
０”Ｃの温度および３０ｍ／ｍｉｎ、の処理速度でスー
パーカレンダー処理を行なった。この広巾磁気ウェブを
スリットし、１部２インチ巾の６種の磁気テープを得た
。

上記の磁気テープを統−型ＶＴＲ（ＳＯＮＹ　Ｃｏｒｐ
、製、ＡＶ　−８７００型）を用いて各特性を測定し以
下の第４表に示す。

以下余白 第　　　　４　　　　表 （注） 番号６を基準としてこれに対する相対値で示す。

各サンプルテープに１本の垂直な線を録画し、再生した
際にテレビ画面上に表われるゆらぎの９ｍでジッターを
表わす。幅（数値）が大きい程、ジ・ツタ−特性は悪く
なる。

第４表より、フィルム厚さが大き＆Ｎ　（１５，１ｕ）
ときを除き、従来公知のバランスタイプや幅方向テンシ
ライズドタイプ芳香族ポリアミドフィルム、或いは長さ
方向にテンシライズドしたポリエチレンテレフタレート
フィルムではジ・ツタ−特性が悪く、本発明によりジッ
ター特性が飛躍的に向上することがわかる。

特許出願人　旭化成工業株式会社 手続補正書（自発） 昭和６０年１１月６日 特許庁長官　　宇　賀　道　部　殿 １、事件の表示 昭和６０年特許願第２０１７２６号 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 大阪府大阪市北区堂島浜１丁目２番６号や ４、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ′、６０・パ″ ５、補正の内容 （１）明細書第１３頁第１８行ｒ　（Ｒ，Ｃ０ＯＨ，Ｒ
は」をｒ　（Ｒ＋Ｃ００）１．　Ｒ１は」と訂正する。

（２）同第１５頁第４行「ａ−オレフィン重合物」を「
α−オレフィン重合物」と訂正する。

（３）同第１７頁第１８行「サルチルアニライド」を「
サリチルアニライド」と訂正する。

（４）同第２３頁末行「帯電防止層」を「帯電防止剤」
と訂正する。

（５）　　同第３２頁第１３行「ヒドロラジン」を「ヒ
ードラジン」と訂正する。

以上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性可撓性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体に
   おいて、前記非磁性可撓性支持体が芳香族ポリアミドフ
   ィルムであり、その長さ方向の引張ヤング率が、幅方向
   の引張ヤング率の１．２倍以上であることを特徴とする
   磁気記録媒体。