JPS63261520A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
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- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に関し、更に詳細には走行性が優
れ、ドロップアウトが少なく、信頼性の優れた磁気記録
媒体に関する。特に磁性層とバック層を一貫塗布後カレ
ンダー成形した場合でも、バック層が適度の凹凸を保持
し優れた走行性ン示すため、カレンダー成形後バック層
を後塗りする必要がなく、生産性が著しく向上した磁気
記録媒体に関する。
れ、ドロップアウトが少なく、信頼性の優れた磁気記録
媒体に関する。特に磁性層とバック層を一貫塗布後カレ
ンダー成形した場合でも、バック層が適度の凹凸を保持
し優れた走行性ン示すため、カレンダー成形後バック層
を後塗りする必要がなく、生産性が著しく向上した磁気
記録媒体に関する。
オーディオ、ビデオ、コンビエータ−などに使用される
磁気記録媒体は、感度、とくに高周波領域での出力を改
善するために磁気記録層の表面を平滑に仕上げることが
要求される。しかしながら、磁性層を平滑にしていくと
、磁気テープを巻き取り、あるいは巻き戻す際、いわゆ
る乱巻現象乞生じやすくなる。この乱巻現象の生じた磁
気テープを使用する場合には、張力変動などにより走行
性が悪化し出力変動が生じてくる。また、磁気テープの
変形や損傷も生じやすくなる。これらの欠点を防止する
ため、磁性層とは反対側、すなわちバック面にいわゆる
メック層を設けた磁気記録媒体が提案されてきている。
磁気記録媒体は、感度、とくに高周波領域での出力を改
善するために磁気記録層の表面を平滑に仕上げることが
要求される。しかしながら、磁性層を平滑にしていくと
、磁気テープを巻き取り、あるいは巻き戻す際、いわゆ
る乱巻現象乞生じやすくなる。この乱巻現象の生じた磁
気テープを使用する場合には、張力変動などにより走行
性が悪化し出力変動が生じてくる。また、磁気テープの
変形や損傷も生じやすくなる。これらの欠点を防止する
ため、磁性層とは反対側、すなわちバック面にいわゆる
メック層を設けた磁気記録媒体が提案されてきている。
高S/N、走行性の良好な磁気記録媒体を得るため罠は
バック層が高モジュラスなそれであることが要求される
。一般に、バック層に高モジュラスな特性を賦与すると
、バック層と支持体との密着性が悪化し、バック層の剥
れや粉落ちが生じゃすく、ドロップアウトの原因となり
やすい。
バック層が高モジュラスなそれであることが要求される
。一般に、バック層に高モジュラスな特性を賦与すると
、バック層と支持体との密着性が悪化し、バック層の剥
れや粉落ちが生じゃすく、ドロップアウトの原因となり
やすい。
また、最近、磁気記録媒体の生産性を向上させる要求が
強くなり、従来の磁性層を塗布しカレンダー成形後、S
ツク層l後塗りする方法にかわって、磁性層とバック層
を一貫塗布後カレンダー成形した場合でも走行性に問題
のない磁気記録媒体の開発が要望されている。
強くなり、従来の磁性層を塗布しカレンダー成形後、S
ツク層l後塗りする方法にかわって、磁性層とバック層
を一貫塗布後カレンダー成形した場合でも走行性に問題
のない磁気記録媒体の開発が要望されている。
しかしながら、従来のバック層技術では、走行性、寸法
安定性が優れ、バック層の剥れや粉落ちによるドロップ
アウトが少なく、かつ生産性の優れたものは得られてい
ない。例えば、脂肪族ポリウレタンとアダクトタイプの
ポリインシアネートの組み合せ7722層に用いる技術
が特開昭ω−131622号に記載されているが、この
技術ではバック層の剥れや粉落ちによるドロップアウト
は改善されるが、磁性層とバック層を一貫塗布後カレン
ダー成形するとバック層が平滑になりすぎ、走行性が低
下するという問題点がある。また芳香族骨格を有するジ
オールより成るポリタレ2フフフ22層に用いる技術も
あるが、この技術によるポリウレタンは低沸点溶剤に対
する溶解性が低いため、バック層塗布液に分散するため
には高沸点溶剤(例えば、ジメチルホルムアミド、N−
メチルピロリド9ン等)を必要とし、この高沸点溶剤が
磁気記録媒体中に残留溶媒として残るため、保存中に磁
気記録媒体の寸法変化が生じる等の問題点がある。
安定性が優れ、バック層の剥れや粉落ちによるドロップ
アウトが少なく、かつ生産性の優れたものは得られてい
ない。例えば、脂肪族ポリウレタンとアダクトタイプの
ポリインシアネートの組み合せ7722層に用いる技術
が特開昭ω−131622号に記載されているが、この
技術ではバック層の剥れや粉落ちによるドロップアウト
は改善されるが、磁性層とバック層を一貫塗布後カレン
ダー成形するとバック層が平滑になりすぎ、走行性が低
下するという問題点がある。また芳香族骨格を有するジ
オールより成るポリタレ2フフフ22層に用いる技術も
あるが、この技術によるポリウレタンは低沸点溶剤に対
する溶解性が低いため、バック層塗布液に分散するため
には高沸点溶剤(例えば、ジメチルホルムアミド、N−
メチルピロリド9ン等)を必要とし、この高沸点溶剤が
磁気記録媒体中に残留溶媒として残るため、保存中に磁
気記録媒体の寸法変化が生じる等の問題点がある。
従って、本発明の第一の目的は新規なバック層の結合剤
を提供し、これによって摩擦係数と走行性の優れた磁気
記録媒体ン提供するものである。
を提供し、これによって摩擦係数と走行性の優れた磁気
記録媒体ン提供するものである。
第二の目的はバック層の耐久性を向上させ、バック層の
劣化に起因する磁性層のドロップアウトが良化された磁
気記録媒体を提供するものである。
劣化に起因する磁性層のドロップアウトが良化された磁
気記録媒体を提供するものである。
第三の目的はS/N比が優れた磁気記録媒体を提供する
ものである。第四の目的は感度の良好な磁気記録媒体を
提供するものである。第五の目的はカール等の変形が少
なく、寸法安定性の良好な磁気記録媒体を提供する事で
ある。
ものである。第四の目的は感度の良好な磁気記録媒体を
提供するものである。第五の目的はカール等の変形が少
なく、寸法安定性の良好な磁気記録媒体を提供する事で
ある。
本発明者らは種々研究を重ねた結果、磁気記録媒体のバ
ック層に結合剤として4〜8員のシクロアルカン骨格及
び/又は複素原子としてS、N及び/又は0を含む4〜
8員の複素環骨格を有するジオール(以下、[4〜8員
の脂環又は複素環骨格を有するジオール」と称す。)よ
り成るポリウレタンン含有し、かつ硬化剤とし【下記環
構造〔I〕を有するポリイソシアネートを含有すること
により、従来技術の問題点を解決し、本発明の目的を達
成できた。
ック層に結合剤として4〜8員のシクロアルカン骨格及
び/又は複素原子としてS、N及び/又は0を含む4〜
8員の複素環骨格を有するジオール(以下、[4〜8員
の脂環又は複素環骨格を有するジオール」と称す。)よ
り成るポリウレタンン含有し、かつ硬化剤とし【下記環
構造〔I〕を有するポリイソシアネートを含有すること
により、従来技術の問題点を解決し、本発明の目的を達
成できた。
環構造CI)
〜、人N/
特に、4〜8員の脂環又は複素環骨格を有するジオール
より成るポリウレタンと上記環構造CI)を有するポリ
イソシアネートをバック層に用いることにより、バック
層の摩擦係数と走行性の特性な制御することができた。
より成るポリウレタンと上記環構造CI)を有するポリ
イソシアネートをバック層に用いることにより、バック
層の摩擦係数と走行性の特性な制御することができた。
1°なわち、両省の併用により、バック層が適度の凹凸
ン有しかつ強靭な塗膜を形成することが出来た。これに
より真の接触面積が小さくなり、摩擦係数を小さくする
ことが出来た。また、バック層の耐久性を大きく改善す
ることができ、この結果、摩耗等によるバック層の剥れ
や粉落ちを大きく改善し、これら粉落ち等に起因する磁
性層のドロップアウトを大きく改善することが出来た。
ン有しかつ強靭な塗膜を形成することが出来た。これに
より真の接触面積が小さくなり、摩擦係数を小さくする
ことが出来た。また、バック層の耐久性を大きく改善す
ることができ、この結果、摩耗等によるバック層の剥れ
や粉落ちを大きく改善し、これら粉落ち等に起因する磁
性層のドロップアウトを大きく改善することが出来た。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に用いられる4〜8員の脂環又は複素環骨格を有
するジオールとしては、好ましくは以下の一般式(II
)で表わされる化合物が挙げられる。
するジオールとしては、好ましくは以下の一般式(II
)で表わされる化合物が挙げられる。
1(0+CH2燈4 刊H2抛OH
式中、Aは4〜8員のシクロアルカン骨格又は複素原子
として硫黄、窒素及び/又は酸素原子を含む4〜8員の
複素環骨格を構成するに必要な原子群を表わし、nおよ
びmはそれぞれ独立KO〜4の整数を表わす。
として硫黄、窒素及び/又は酸素原子を含む4〜8員の
複素環骨格を構成するに必要な原子群を表わし、nおよ
びmはそれぞれ独立KO〜4の整数を表わす。
一般式(II) において、より好ましくはAは等であ
る。
る。
本発明に用いられる一般式[11)で表わされるジオー
ルの具体例としては以下のものが挙げられる。
ルの具体例としては以下のものが挙げられる。
ただし本発明はこれらに限定されろものではない。
(II−x)
(II−2)
[1l−3)
(If−4)
(II−s)
(II−6)
(II−7〕
〔■−8〕
本発明のバック層に用いられる結合剤は前記4〜8員の
脂環又は複素環骨格を有するジオールと二塩基酸との重
縮合反応により得られたポリエステルポリオールを更に
インシアネートと反応させて得られるポリウレタンであ
る。
脂環又は複素環骨格を有するジオールと二塩基酸との重
縮合反応により得られたポリエステルポリオールを更に
インシアネートと反応させて得られるポリウレタンであ
る。
ジオールと二塩基酸との重縮合反応には前記4〜8員の
脂環又は複素環骨格のジオールと共に通常この分野で用
いられる二価のアルコールを併用することができる。併
用することのできる二価のアルコールとしては、例えば
、エチレングリコール、トリメチレングリコール、テト
ラメチレンゲコール、インタメチレングリコール、ヘキ
サメ=レンゲリコール、オクタメチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、−トラ
エチレングリコール、2.2−ジメチルフロセン−1,
3−ジオール、2,2−ジエチルプロパン−1,3−ジ
オール等を挙げることができる。
脂環又は複素環骨格のジオールと共に通常この分野で用
いられる二価のアルコールを併用することができる。併
用することのできる二価のアルコールとしては、例えば
、エチレングリコール、トリメチレングリコール、テト
ラメチレンゲコール、インタメチレングリコール、ヘキ
サメ=レンゲリコール、オクタメチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、−トラ
エチレングリコール、2.2−ジメチルフロセン−1,
3−ジオール、2,2−ジエチルプロパン−1,3−ジ
オール等を挙げることができる。
また二塩基酸としては、例えば、しゅう酸、マコン酸、
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セパシン酸、ドデ
カン2酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、トリメ
チルアジピン酸、ヘキサヒトo7タル酸、テトラヒドロ
フタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナ
フタリンジカルボン酸などを挙げることができる。
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セパシン酸、ドデ
カン2酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、トリメ
チルアジピン酸、ヘキサヒトo7タル酸、テトラヒドロ
フタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナ
フタリンジカルボン酸などを挙げることができる。
更に、イソシアネートとしては、例えば、2.4−トリ
レンジイソシアネート、2.6− )リレンジイソシア
ネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4
−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジ
イソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p
−フェニレンジイソシアネ−)、3,3−ジメチルフェ
ニレンジイソシアネート、4.4−ジフェニルメタンジ
イソシアネート、3.3−ジメチル−4,4−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシ
ルメタンジイソシアネート、トリメチロールプロパンの
トリレンジイソシアネート3付加物な戸の多価イソシア
ネート’Y使用できる。
レンジイソシアネート、2.6− )リレンジイソシア
ネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4
−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジ
イソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p
−フェニレンジイソシアネ−)、3,3−ジメチルフェ
ニレンジイソシアネート、4.4−ジフェニルメタンジ
イソシアネート、3.3−ジメチル−4,4−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシ
ルメタンジイソシアネート、トリメチロールプロパンの
トリレンジイソシアネート3付加物な戸の多価イソシア
ネート’Y使用できる。
本発明のバック層に結合剤として用いられるポリウレタ
ンは前記4〜8員の脂環又は複素環骨格のジオールtポ
リウレタン生成に用いるジオール成分の10モル%以上
含有することが好ましい、また4〜8員の脂環又は複素
環骨格のジオールより成るポリウレタンはバック層の全
結合剤(すなわち、硬化剤も含む)の10wt%以上で
使用されることが好ましい。
ンは前記4〜8員の脂環又は複素環骨格のジオールtポ
リウレタン生成に用いるジオール成分の10モル%以上
含有することが好ましい、また4〜8員の脂環又は複素
環骨格のジオールより成るポリウレタンはバック層の全
結合剤(すなわち、硬化剤も含む)の10wt%以上で
使用されることが好ましい。
本発明のバック層には硬化剤として下記環構造〔■〕(
以下、「シアヌール環」という)V有するポリイソシア
ネートが用いられる。
以下、「シアヌール環」という)V有するポリイソシア
ネートが用いられる。
環構造〔■〕
本発明で特に好ましく用いられるシアヌール環を有する
ポリイソシアネートは下記一般式〔■〕で表わされる化
合物である。
ポリイソシアネートは下記一般式〔■〕で表わされる化
合物である。
一般式(111
式中、pはθ〜10の整数である。Rは二価のアルキレ
ン基(シクロアルキレン基も含む)、アリーレン基又は
これらの組み合わされた二価基であり、これらはアルキ
ル基等で置換されていてもよ(1゜ 二価基Rの具体例としては、例えば、ぞΣ2+1H3 げられる。
ン基(シクロアルキレン基も含む)、アリーレン基又は
これらの組み合わされた二価基であり、これらはアルキ
ル基等で置換されていてもよ(1゜ 二価基Rの具体例としては、例えば、ぞΣ2+1H3 げられる。
これらの化合物としては種々のものが市販されており、
例えば、コロネート2030.2031、コロネートI
H(日本ポリウレタン(株))、スプラセック3240
.3340 (日本ポリウレタン@))、タケネート
D200、D202(武田薬品(株))、 デスモジュ
ールIL、7’スモジュールHL、7’スモジエールF
L (住友バイエル(株))、パーノックD−800、
D−802(大日本イン−+(株))等の商品名で市販
されている。
例えば、コロネート2030.2031、コロネートI
H(日本ポリウレタン(株))、スプラセック3240
.3340 (日本ポリウレタン@))、タケネート
D200、D202(武田薬品(株))、 デスモジュ
ールIL、7’スモジュールHL、7’スモジエールF
L (住友バイエル(株))、パーノックD−800、
D−802(大日本イン−+(株))等の商品名で市販
されている。
これらシアヌール環を有するポリイソシアネートはシア
ヌール環を有さない通常のポリイソシアネートと併用す
るごとができる。これら併用されろポリイソシアネート
としては、例えば、トリレンジイソシアネート、4.4
’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナ
フチレン−1,5−ジイソシアネート、0−トルイジン
ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリ
フェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート
類、又当該インシアネート類とポリアルコールとの生成
物、又イソシアネート類の縮合ニ依って生成したポリイ
ソシアネート等を使用することができる。これらポリイ
ソシアネート類の市販されている商品名としては、コロ
ネートL、コロネートHL、 ミリオネートMR,ミリ
オネートMTL(日本ポリウレタン(株)製)、タケネ
ートD−102、タケネートD−11ON(武田薬品(
株)製)、デスモジニールL、デスモジェ−fiyN(
住友バイエル社製)等があり、これらχ単独若しくは硬
化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の組み合
わせを前記シアヌール環を有するポリイソシアネートと
併用することができる。又、硬化反応を促進する目的で
、水酸基、アミノ基を有する化合物を併用する事も出来
ろ。これらの化合物は多官能である事が望ましい。
ヌール環を有さない通常のポリイソシアネートと併用す
るごとができる。これら併用されろポリイソシアネート
としては、例えば、トリレンジイソシアネート、4.4
’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナ
フチレン−1,5−ジイソシアネート、0−トルイジン
ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリ
フェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート
類、又当該インシアネート類とポリアルコールとの生成
物、又イソシアネート類の縮合ニ依って生成したポリイ
ソシアネート等を使用することができる。これらポリイ
ソシアネート類の市販されている商品名としては、コロ
ネートL、コロネートHL、 ミリオネートMR,ミリ
オネートMTL(日本ポリウレタン(株)製)、タケネ
ートD−102、タケネートD−11ON(武田薬品(
株)製)、デスモジニールL、デスモジェ−fiyN(
住友バイエル社製)等があり、これらχ単独若しくは硬
化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の組み合
わせを前記シアヌール環を有するポリイソシアネートと
併用することができる。又、硬化反応を促進する目的で
、水酸基、アミノ基を有する化合物を併用する事も出来
ろ。これらの化合物は多官能である事が望ましい。
シアヌール環を有するポリイソシアネートはバック層に
用いられる全ポリインシアネートの2wt%以上で用い
られるのが好ましく、更に好ましくは20wt% 以上
である。またシアヌール環を有するポリインシアネート
は全結合剤の1〜50t−ffi%で使用するのが好ま
しい。
用いられる全ポリインシアネートの2wt%以上で用い
られるのが好ましく、更に好ましくは20wt% 以上
である。またシアヌール環を有するポリインシアネート
は全結合剤の1〜50t−ffi%で使用するのが好ま
しい。
本発明の磁気記録媒体の磁性層には強磁性微粉末が使用
される。
される。
強磁性微粉末としては、γ−Fe 203、Co含有の
r−Fe203、F e 304、Co含有のF’e3
04、r −F’eOx 。
r−Fe203、F e 304、Co含有のF’e3
04、r −F’eOx 。
Co含有のy−FeOX(X−1,33〜1.50)
、 Cry□、Co−N1−P合金、Co−N1J’e
−B合金、F’e−Ni−Zn合金、Nt−Co合金、
Go−Ni−F’e合金など、公知の強磁性微粉末が使
用でき、具体的には、特公昭44−14090号、特公
昭45−18372号、特公昭47−22062号、特
公昭47−22513号、特公昭46−28466号、
特公昭46−38755号、特公昭47−4286号、
特公昭47−12422号、特公昭47−17284号
、特公昭47−18509号、特公昭47−18573
号、特公昭39−10307号、特公昭48−2928
0 、特公昭48−39639号、特公昭間−2960
5、特公昭60−44254、特開昭59−12660
5、米国特許3026215号、同3031341号、
同3100194号、同3242005号、同3389
014号などに記載されている。これら強磁性微粉末の
粒子サイズは約0.005〜1ミクロンの長さで、軸長
/軸幅の比は、j/1〜5o/1程度である。又、これ
らの強磁性体微粉末の比表面積は、1rrL279〜7
0m2/9 程度である。これらの強磁性微粉末の表
面に、後に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等tそれ
ぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中で含浸させて、
吸着させてもよい。
、 Cry□、Co−N1−P合金、Co−N1J’e
−B合金、F’e−Ni−Zn合金、Nt−Co合金、
Go−Ni−F’e合金など、公知の強磁性微粉末が使
用でき、具体的には、特公昭44−14090号、特公
昭45−18372号、特公昭47−22062号、特
公昭47−22513号、特公昭46−28466号、
特公昭46−38755号、特公昭47−4286号、
特公昭47−12422号、特公昭47−17284号
、特公昭47−18509号、特公昭47−18573
号、特公昭39−10307号、特公昭48−2928
0 、特公昭48−39639号、特公昭間−2960
5、特公昭60−44254、特開昭59−12660
5、米国特許3026215号、同3031341号、
同3100194号、同3242005号、同3389
014号などに記載されている。これら強磁性微粉末の
粒子サイズは約0.005〜1ミクロンの長さで、軸長
/軸幅の比は、j/1〜5o/1程度である。又、これ
らの強磁性体微粉末の比表面積は、1rrL279〜7
0m2/9 程度である。これらの強磁性微粉末の表
面に、後に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等tそれ
ぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中で含浸させて、
吸着させてもよい。
また強磁性微粉末として、板状六方晶のバリウムフェラ
イトも使用できる。バリウムフェライトの粒子サイズは
約0.001〜1ミクロンの直径で厚みが直径の1/2
〜1/20である。ノミリウムフエライトの比重は4〜
6g/ccで、比表面積は1rrL2/g〜70rrL
2/gである。これらの強磁性微粉末の表面には後に述
べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等ケそれぞれの目的の
為に分散に先立って溶剤中で含浸させて、吸着させても
よい。
イトも使用できる。バリウムフェライトの粒子サイズは
約0.001〜1ミクロンの直径で厚みが直径の1/2
〜1/20である。ノミリウムフエライトの比重は4〜
6g/ccで、比表面積は1rrL2/g〜70rrL
2/gである。これらの強磁性微粉末の表面には後に述
べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等ケそれぞれの目的の
為に分散に先立って溶剤中で含浸させて、吸着させても
よい。
本発明において、磁性層め≦都強磁性微粉末と共にバイ
ンダーが使用される。使用されるノζインダーとしては
従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂や
これらの混合物が挙げられる。
ンダーが使用される。使用されるノζインダーとしては
従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂や
これらの混合物が挙げられる。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子量が1c)ooo〜30QOOO、重合度が約(資)
〜2.000 程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共
重合体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合
体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メ
タクリル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンニジス
トマー、ナイロン−シリコン系it脂、ニトロセルロー
ス−ポリアミド9樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリ
デンアクリロニトリル共重合体、ブタジェンアクリロニ
トリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラー
ル、セルロースn導体(セルロースアセテートフチレー
ト、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース等)
、スチレンブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、ク
ロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミ
ン樹脂、6糧の合成!ム系の熱可塑性樹脂及びこれらの
混合物等が使用される。
子量が1c)ooo〜30QOOO、重合度が約(資)
〜2.000 程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共
重合体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合
体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メ
タクリル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンニジス
トマー、ナイロン−シリコン系it脂、ニトロセルロー
ス−ポリアミド9樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリ
デンアクリロニトリル共重合体、ブタジェンアクリロニ
トリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラー
ル、セルロースn導体(セルロースアセテートフチレー
ト、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース等)
、スチレンブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、ク
ロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミ
ン樹脂、6糧の合成!ム系の熱可塑性樹脂及びこれらの
混合物等が使用される。
これらの樹脂の例示は特公昭37−6877号、特公昭
39−12528号、特公昭39−19282号、特公
昭40−5349号、特公昭40−20907号、特公
昭41−9463号、特公昭41−14059号、特公
昭41−16985号、特公昭42−6428号、特公
昭42−11621号、特公昭43−4623号、特公
昭43−15206号、特公昭44−2889号、特公
昭44−17947号、特公昭44−18232号、特
公昭45−14020号、特公昭45−i4500号、
特公昭47−18573号、特公昭47−22063号
、特公昭47−22064号、特公昭47−22068
号、特公昭47−22069号、特公昭47−2207
0号、特公昭47−27886号、特開昭57−133
521号、同58−137133号、同側−16653
3号、同5B−222433号、同59−58642
号等の公報に記載されている・熱硬化性樹脂又は反応
型樹脂としては塗布液の゛状態では200000以下の
分子量であり、塗布、乾燥後に加熱することにより、縮
合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる。
39−12528号、特公昭39−19282号、特公
昭40−5349号、特公昭40−20907号、特公
昭41−9463号、特公昭41−14059号、特公
昭41−16985号、特公昭42−6428号、特公
昭42−11621号、特公昭43−4623号、特公
昭43−15206号、特公昭44−2889号、特公
昭44−17947号、特公昭44−18232号、特
公昭45−14020号、特公昭45−i4500号、
特公昭47−18573号、特公昭47−22063号
、特公昭47−22064号、特公昭47−22068
号、特公昭47−22069号、特公昭47−2207
0号、特公昭47−27886号、特開昭57−133
521号、同58−137133号、同側−16653
3号、同5B−222433号、同59−58642
号等の公報に記載されている・熱硬化性樹脂又は反応
型樹脂としては塗布液の゛状態では200000以下の
分子量であり、塗布、乾燥後に加熱することにより、縮
合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる。
又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型
樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリ
コン樹脂、アクリル系反応樹脂。
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型
樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリ
コン樹脂、アクリル系反応樹脂。
エポキシ−ポリアミ)’樹脂、ニトロセルa −ス、7
1ラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネ
ートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体と
ジインシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステル
ポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオ
ール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合分
、ポリアミン樹脂及びこれらの混合物等である。
1ラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネ
ートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体と
ジインシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステル
ポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオ
ール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合分
、ポリアミン樹脂及びこれらの混合物等である。
これらの樹脂の例示は特公昭39−8103号、特公昭
40−9779号、特公昭41−7192号、特公昭4
1−8016号、特公昭41−14275号、特公昭4
2−18179号、特公昭43−12081号、特公昭
44−28023号、特公昭45−14501号、特公
昭45−24902号、特公昭46−13103号、特
公昭47−22065号、%公昭47−22066号、
特公昭47−22067号、特公昭47−22072号
、特公昭47−22073号、特公昭47−28045
号、特公昭47−28048号、特公昭47−2892
2号、等の公報忙記′載されている。
40−9779号、特公昭41−7192号、特公昭4
1−8016号、特公昭41−14275号、特公昭4
2−18179号、特公昭43−12081号、特公昭
44−28023号、特公昭45−14501号、特公
昭45−24902号、特公昭46−13103号、特
公昭47−22065号、%公昭47−22066号、
特公昭47−22067号、特公昭47−22072号
、特公昭47−22073号、特公昭47−28045
号、特公昭47−28048号、特公昭47−2892
2号、等の公報忙記′載されている。
これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使われ、
ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性微粉末と結
合剤との混合割合は重量比で強磁性微粉末100重量部
に対して結合剤5〜300重量部の範囲で使用される。
ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性微粉末と結
合剤との混合割合は重量比で強磁性微粉末100重量部
に対して結合剤5〜300重量部の範囲で使用される。
バック層の粉末と結合剤の混合割合は重量比で粉体10
0重量部に対して結合剤5〜400重に部の範囲で使用
される。
0重量部に対して結合剤5〜400重に部の範囲で使用
される。
添加剤としては分散剤、潤滑剤、研摩剤等がくわえられ
る。
る。
これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂は、
主たる官能基以外に、官能基としてカルボン酸、スルフ
ィン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エス
テル基などの酸性基;アミノ酸類、アミノスルホン酸類
、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アル
キルベタイン型等の両性類基;アミノ基、イミノ基、イ
ミド基、アミド基等、又は水酸基、アルコキシル基、チ
オール基、ハロゲン基、シリル基、シロキサン基ヲ通常
一種以上六種以内含み、各々の官能基は樹脂1g当りI
X 10”’(5tl〜I X 1O−2sq含む事
が好ましい。
主たる官能基以外に、官能基としてカルボン酸、スルフ
ィン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エス
テル基などの酸性基;アミノ酸類、アミノスルホン酸類
、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アル
キルベタイン型等の両性類基;アミノ基、イミノ基、イ
ミド基、アミド基等、又は水酸基、アルコキシル基、チ
オール基、ハロゲン基、シリル基、シロキサン基ヲ通常
一種以上六種以内含み、各々の官能基は樹脂1g当りI
X 10”’(5tl〜I X 1O−2sq含む事
が好ましい。
磁性記録層にはポリイソシアネートを使用することがで
きる。ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシ
アネート、414−:)フェニルメタンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシアネート
、0−)ルイジンジイソシアネート、インホロンジイソ
シアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等
のインシアネート類、又轟該インシアネート類とポリア
ルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮合に依っ
て生成した゛ポリイソシアネート等を挙けることができ
る。又、ポリイソシアナト・イソシアヌレートを使用す
ることもできる。これらポリイソシアネート類の市販さ
れている商品名としては、コロネートL、コロネートH
L 、コロネート2030、コロネート2031、ミリ
オネートMR,ミリオネートMTL(日本ポリウレタン
(株)裂)、タケネー1−D−102、タケネートD−
11ON、タケネートクー200.タケネートD−20
2(式日薬品(株)製)、デスモジ、−ルL、デスモジ
エールIL、 デスモジュールN、デスモジュールH
L(住友バイエル社製)等があり、これらを単独若しく
は硬化反応性の差!利用して二つ若しくはそれ以上の組
み合わせによって使用することかできる。
きる。ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシ
アネート、414−:)フェニルメタンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシアネート
、0−)ルイジンジイソシアネート、インホロンジイソ
シアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等
のインシアネート類、又轟該インシアネート類とポリア
ルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮合に依っ
て生成した゛ポリイソシアネート等を挙けることができ
る。又、ポリイソシアナト・イソシアヌレートを使用す
ることもできる。これらポリイソシアネート類の市販さ
れている商品名としては、コロネートL、コロネートH
L 、コロネート2030、コロネート2031、ミリ
オネートMR,ミリオネートMTL(日本ポリウレタン
(株)裂)、タケネー1−D−102、タケネートD−
11ON、タケネートクー200.タケネートD−20
2(式日薬品(株)製)、デスモジ、−ルL、デスモジ
エールIL、 デスモジュールN、デスモジュールH
L(住友バイエル社製)等があり、これらを単独若しく
は硬化反応性の差!利用して二つ若しくはそれ以上の組
み合わせによって使用することかできる。
本発明において、バック層や磁性層にはカーボンブラッ
クを使用することができる。使用することのできるカー
ボンブラックとしてはゴム用ファーネス、ゴム用サーマ
ル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を挙げる
ことができる。これらカーボンブラックの米国における
略称の具体例ケしめすとSAF’、 工SAF’、工l
5A1’、T、 HAF’。
クを使用することができる。使用することのできるカー
ボンブラックとしてはゴム用ファーネス、ゴム用サーマ
ル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を挙げる
ことができる。これらカーボンブラックの米国における
略称の具体例ケしめすとSAF’、 工SAF’、工l
5A1’、T、 HAF’。
MCF、 LFF、 RCF 等があり、米国のAST
M規格のD−1765−82a に分類されているもの
を使用することかできる。使用されるこれらカーボンブ
ラックの平均粒子サイズは5〜1000ミリミクロン(
電子顕微f#)、窒素吸着法比表面積は1〜8007F
L2/g、田は4〜11(J工S規格に−6221−1
982法) 、DBP吸油量は10〜800 y11/
1009 (J工S規格に−6221−1982法)で
あることが好ましい。
M規格のD−1765−82a に分類されているもの
を使用することかできる。使用されるこれらカーボンブ
ラックの平均粒子サイズは5〜1000ミリミクロン(
電子顕微f#)、窒素吸着法比表面積は1〜8007F
L2/g、田は4〜11(J工S規格に−6221−1
982法) 、DBP吸油量は10〜800 y11/
1009 (J工S規格に−6221−1982法)で
あることが好ましい。
使用されろカーボンブラックのサイズは、塗布膜の表面
電気抵抗を下げる目的で5〜1曲ミリミクロンのカーボ
ンブラックを、また塗布膜の強度を制御するときに50
〜1000ミリミクロンのカーボンブラックをもちいる
。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でス4−シング
ロス減少のための平滑化のためにより微粒子のカーボン
ブラック(100ミリきクロン以下)t、粗面化し【摩
擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック(50
ミリミクロン以上)をもちいる。このようにカーボンブ
ラックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的
に応じて使い分けられる。また、これらのカーボンブラ
ックを、後述の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用してもよい。また、カーボンブラック
ン製造するときの炉の温度Y 2000℃以上で処理し
て表面の一部をグラファイト化したものも使用できる。
電気抵抗を下げる目的で5〜1曲ミリミクロンのカーボ
ンブラックを、また塗布膜の強度を制御するときに50
〜1000ミリミクロンのカーボンブラックをもちいる
。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でス4−シング
ロス減少のための平滑化のためにより微粒子のカーボン
ブラック(100ミリきクロン以下)t、粗面化し【摩
擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック(50
ミリミクロン以上)をもちいる。このようにカーボンブ
ラックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的
に応じて使い分けられる。また、これらのカーボンブラ
ックを、後述の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用してもよい。また、カーボンブラック
ン製造するときの炉の温度Y 2000℃以上で処理し
て表面の一部をグラファイト化したものも使用できる。
また、特殊なカーボンブラックとして中空カーボンブラ
ックン使用することもできる。これらのカーボンブラッ
クは磁性層の場合強磁性微粉末側重量部に対して0.1
〜(9)重景部で用いることが望ましい。本発明に使用
出来るカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便
覧」、カーボンブラック協会網(昭和46年発行)乞参
考にすることが出来る。
ックン使用することもできる。これらのカーボンブラッ
クは磁性層の場合強磁性微粉末側重量部に対して0.1
〜(9)重景部で用いることが望ましい。本発明に使用
出来るカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便
覧」、カーボンブラック協会網(昭和46年発行)乞参
考にすることが出来る。
バック層および磁気記録層には研磨剤乞用いることがで
診る。研磨剤としては一般に使用される研磨作用若しく
は琢磨作用をもつ材料で熔融アルミナ、α−アルミナ、
炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダム、
人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメリー(
主成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガーネット、ケイ石、
窒化ケイ素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭
化タングステン、チタンカーバイド、トリポリ、ケイソ
ウ土、ピロマイト等で、主としてモース硬度6以上の材
料が1乃至4種迄の組み合わせで使用される。これらの
研磨剤は平均粒子サイズが0.005〜5ミクロンの大
きさのものが使用され、特に好ましくは0.05〜2ミ
クロンである。これらの研磨剤は結合剤100重量部に
対してo、ooi〜20重量部の範囲で添加される。こ
れらについては特公昭49−39402号、特公昭52
−28642号、米国特許3687.725号、米国特
許31007.807号、米国特許3041.196号
、米国特許329:1(066号、米国特許へ63Q9
10号、米国特許3.833412号、米国特許411
7.190号、英国特許1,145,349号、西独特
許853.211号等に記載されている。
診る。研磨剤としては一般に使用される研磨作用若しく
は琢磨作用をもつ材料で熔融アルミナ、α−アルミナ、
炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダム、
人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメリー(
主成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガーネット、ケイ石、
窒化ケイ素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭
化タングステン、チタンカーバイド、トリポリ、ケイソ
ウ土、ピロマイト等で、主としてモース硬度6以上の材
料が1乃至4種迄の組み合わせで使用される。これらの
研磨剤は平均粒子サイズが0.005〜5ミクロンの大
きさのものが使用され、特に好ましくは0.05〜2ミ
クロンである。これらの研磨剤は結合剤100重量部に
対してo、ooi〜20重量部の範囲で添加される。こ
れらについては特公昭49−39402号、特公昭52
−28642号、米国特許3687.725号、米国特
許31007.807号、米国特許3041.196号
、米国特許329:1(066号、米国特許へ63Q9
10号、米国特許3.833412号、米国特許411
7.190号、英国特許1,145,349号、西独特
許853.211号等に記載されている。
本発明に係るバック層および磁気記録層には、潤滑剤を
用いることができる。潤滑剤としては、シリコンオイル
、グラファイト、二硫化モリブデン、チッ化硼素、フッ
化黒鉛、フッ化アルコール、ポリオレフィン(ポリエチ
レンワックス等)、ポIJ If IJ :l−ル(ポ
リエチレンオキシドワックス等)、アルキル燐酸エステ
ル、ポリフェニルエーテル、二硫化タングステン、炭素
数10−20の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個の一
価のアルコールもしくは二価のアルコール、三価のアル
コール、四価のアルコール、六価のアルコールのいずれ
か1つもしくは2つ以上とから成る脂肪酸エステル類、
炭素数10個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数
と合計して炭素数が11〜列個と成る一価〜六価のアル
コールから成る脂肪酸エステル類等が使用できる。又、
炭素数8〜22の脂肪酸或いは脂肪酸アミド、脂肪族ア
ルコールも使用できる。これら有機化合物潤滑剤の具体
的な例としては、カプリル酸ブチル、カプリル酸オクチ
ル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸
オクチル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸メチル、
ミリスチン酸オクチル、ノでルミチン酸エチル、パルミ
チン酸メチル、パルミチン酸オクチル、ステアリン酸エ
チル、ステアリン酸ノチル、ステアリン酸オクチル、ス
テアリン酸アミル、アンヒドロソルビタンモノステアレ
ート、アンヒドロンルビタンジステアレート、アンヒト
90ンルビタントリステアレート、アンヒドロソルビタ
ンテトラステアレート、オレイルオレート、オレイルア
ルコール、ラウリルアルコール等がある。また本発明に
使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独で使
用出来、酸化防止剤(アルキルフェノール等)、錆どめ
剤(す7テン酸、アルケニルコハク酸、ジラウリルフォ
スフェート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコー
ル等)、極圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレジル
フォスフェート、トリブチルホスファイト等)、清浄分
散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤は好ましくは結合剤100重量部に
対して0.05〜20重量部の範囲で添加される。これ
らについては、特公昭43−23889号、特公昭44
−18221号、特公昭48−24041号、特公昭4
8−18482号、特公昭47−28043号、特公昭
57−56132号、米国特許へ4231233号、米
国特許347Q021号、米国特許3494235号、
米国特許3497,411号、米国特許3523.08
6号、米国特許:1(625760号、米国特許363
Q772号、米国特許3.634253号、米国特許3
,642,539号、米国特許3687.725号、米
国特許4135031号、1よりM Technica
l Diacloaure Bulletin(アイ・
ビー・エム テクニカル ディスクロー’)+ −フり
f7 ) ” Wax、 9.47. p779C
1966年12月); ”ELEKTRON工K”(エ
レクトロニク) 1961年、肩12. p380;
化学便覧、応用編、p954ん967.1980年丸
善(株)発行等に記載されている。
用いることができる。潤滑剤としては、シリコンオイル
、グラファイト、二硫化モリブデン、チッ化硼素、フッ
化黒鉛、フッ化アルコール、ポリオレフィン(ポリエチ
レンワックス等)、ポIJ If IJ :l−ル(ポ
リエチレンオキシドワックス等)、アルキル燐酸エステ
ル、ポリフェニルエーテル、二硫化タングステン、炭素
数10−20の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個の一
価のアルコールもしくは二価のアルコール、三価のアル
コール、四価のアルコール、六価のアルコールのいずれ
か1つもしくは2つ以上とから成る脂肪酸エステル類、
炭素数10個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数
と合計して炭素数が11〜列個と成る一価〜六価のアル
コールから成る脂肪酸エステル類等が使用できる。又、
炭素数8〜22の脂肪酸或いは脂肪酸アミド、脂肪族ア
ルコールも使用できる。これら有機化合物潤滑剤の具体
的な例としては、カプリル酸ブチル、カプリル酸オクチ
ル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸
オクチル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸メチル、
ミリスチン酸オクチル、ノでルミチン酸エチル、パルミ
チン酸メチル、パルミチン酸オクチル、ステアリン酸エ
チル、ステアリン酸ノチル、ステアリン酸オクチル、ス
テアリン酸アミル、アンヒドロソルビタンモノステアレ
ート、アンヒドロンルビタンジステアレート、アンヒト
90ンルビタントリステアレート、アンヒドロソルビタ
ンテトラステアレート、オレイルオレート、オレイルア
ルコール、ラウリルアルコール等がある。また本発明に
使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独で使
用出来、酸化防止剤(アルキルフェノール等)、錆どめ
剤(す7テン酸、アルケニルコハク酸、ジラウリルフォ
スフェート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコー
ル等)、極圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレジル
フォスフェート、トリブチルホスファイト等)、清浄分
散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤は好ましくは結合剤100重量部に
対して0.05〜20重量部の範囲で添加される。これ
らについては、特公昭43−23889号、特公昭44
−18221号、特公昭48−24041号、特公昭4
8−18482号、特公昭47−28043号、特公昭
57−56132号、米国特許へ4231233号、米
国特許347Q021号、米国特許3494235号、
米国特許3497,411号、米国特許3523.08
6号、米国特許:1(625760号、米国特許363
Q772号、米国特許3.634253号、米国特許3
,642,539号、米国特許3687.725号、米
国特許4135031号、1よりM Technica
l Diacloaure Bulletin(アイ・
ビー・エム テクニカル ディスクロー’)+ −フり
f7 ) ” Wax、 9.47. p779C
1966年12月); ”ELEKTRON工K”(エ
レクトロニク) 1961年、肩12. p380;
化学便覧、応用編、p954ん967.1980年丸
善(株)発行等に記載されている。
バック層、磁気記録層に&コ分散剤を用いることができ
る。分散剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリ
ン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オ
レイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、ステ
アロール酸等の炭素数10〜22個の脂肪酸(RICO
OH,R1は炭素数9〜21個のアルキル基)、前記の
脂肪酸のアルカリ金属(Ll、Na、に等)まtコはア
ルカリ土類金属(M9、Ca、Ba等)、Cu、Pb等
から成る金属石鹸;レシチン等が使用される。この他に
炭素数゛4以上の高級アルコール(ブタノール、オクチ
ルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアル
コール)、及びこれらの硫酸エステル、燐酸エステル等
も使用可能である。これらの分散剤は結合剤100重量
部に対して0.005〜207i、置部の範囲で添加さ
れる。これらの分散剤の使用方法は、強磁性微粉末や非
磁性微粉末の表面に予め被着させても良く、また分散途
中で添加してもよい。このようなものは、例えば特公昭
39−28369号、特公昭44−17945号、特公
昭44−18221号、特公昭48−15001号、特
公昭49−39402号、米国特許3387.993号
、同3,47QO21号等に於いて示されている。
る。分散剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリ
ン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オ
レイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、ステ
アロール酸等の炭素数10〜22個の脂肪酸(RICO
OH,R1は炭素数9〜21個のアルキル基)、前記の
脂肪酸のアルカリ金属(Ll、Na、に等)まtコはア
ルカリ土類金属(M9、Ca、Ba等)、Cu、Pb等
から成る金属石鹸;レシチン等が使用される。この他に
炭素数゛4以上の高級アルコール(ブタノール、オクチ
ルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアル
コール)、及びこれらの硫酸エステル、燐酸エステル等
も使用可能である。これらの分散剤は結合剤100重量
部に対して0.005〜207i、置部の範囲で添加さ
れる。これらの分散剤の使用方法は、強磁性微粉末や非
磁性微粉末の表面に予め被着させても良く、また分散途
中で添加してもよい。このようなものは、例えば特公昭
39−28369号、特公昭44−17945号、特公
昭44−18221号、特公昭48−15001号、特
公昭49−39402号、米国特許3387.993号
、同3,47QO21号等に於いて示されている。
バック層、磁気記録層には帯電防止剤を用いることがで
きる。帯電防止剤としてはグラファイト、カーボンブラ
ック、カーボンブラックグラフトポリマー等の導電性粉
末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキレンオキサイ
ド系、グリセリン系、グリシドール系、多価アルコール
、多価アルコールエステル、アルキルフェノールEQ付
加体等のノニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類、
環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エス
テルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほ
かの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、燐酸
、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含む
アニオン界面活性剤;アミノ酸類、アミノスルホン酸類
、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アル
キルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用される。
きる。帯電防止剤としてはグラファイト、カーボンブラ
ック、カーボンブラックグラフトポリマー等の導電性粉
末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキレンオキサイ
ド系、グリセリン系、グリシドール系、多価アルコール
、多価アルコールエステル、アルキルフェノールEQ付
加体等のノニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類、
環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エス
テルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほ
かの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、燐酸
、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含む
アニオン界面活性剤;アミノ酸類、アミノスルホン酸類
、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アル
キルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用される。
これら帯電防止剤として使用し得る界面活性剤化合物例
の一部は米国特許2,271,623号、同2,24Q
472号、同λ28a226号、同2.67ら122号
、同2.67へ924号、同2,676,975号、同
4691.566号、同2,727,860号、同2,
73Q498号、同2,742,379号、同2.73
’2891号、同3068.101号、同3.15a4
84号、同3,201,253号、同3.21Q191
号、同2,4Q472、同3,415,649号、同3
,441,413号、同31442.654号、同34
75174号、同3545974号、西独特許公開(O
LS ) L94λ665号、英国特許1.077.3
17号、同1.19a450号等tはじめ、小田良平他
著「界面活性剤の合成とその応用」(槙書店1972年
版);A、W、ベイリ著「サーフェスアクティブ エー
ジェンツ」(インターサイエンスパプリケーション コ
ーホレイテラ)”1985年版);T、P、 シスリ
ー著「エンサイクロペディアオプ サーフェス アクテ
ィブ エージェンツ、第二巻」(ケミカルパプリッシェ
カンパニー1964年版);「界面活性剤便覧」第六刷
(産業図書株式会社、昭和41年12月加日);丸茂秀
雄「帯電防止剤」幸書房(1968)等の放置に記載さ
れている。
の一部は米国特許2,271,623号、同2,24Q
472号、同λ28a226号、同2.67ら122号
、同2.67へ924号、同2,676,975号、同
4691.566号、同2,727,860号、同2,
73Q498号、同2,742,379号、同2.73
’2891号、同3068.101号、同3.15a4
84号、同3,201,253号、同3.21Q191
号、同2,4Q472、同3,415,649号、同3
,441,413号、同31442.654号、同34
75174号、同3545974号、西独特許公開(O
LS ) L94λ665号、英国特許1.077.3
17号、同1.19a450号等tはじめ、小田良平他
著「界面活性剤の合成とその応用」(槙書店1972年
版);A、W、ベイリ著「サーフェスアクティブ エー
ジェンツ」(インターサイエンスパプリケーション コ
ーホレイテラ)”1985年版);T、P、 シスリ
ー著「エンサイクロペディアオプ サーフェス アクテ
ィブ エージェンツ、第二巻」(ケミカルパプリッシェ
カンパニー1964年版);「界面活性剤便覧」第六刷
(産業図書株式会社、昭和41年12月加日);丸茂秀
雄「帯電防止剤」幸書房(1968)等の放置に記載さ
れている。
これらの界面活性剤は単独または混合して添加しても良
い。これら界面活性剤の使用量は強磁性微粉末100重
量部当たり0.01〜10重量部である。これらは帯電
防止剤として用いられ6<、のであるが、時としてその
ほかの目的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改
良、塗布助剤として適用される場合もある。
い。これら界面活性剤の使用量は強磁性微粉末100重
量部当たり0.01〜10重量部である。これらは帯電
防止剤として用いられ6<、のであるが、時としてその
ほかの目的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改
良、塗布助剤として適用される場合もある。
バック層におけるカーボンブラック等の粉体や、磁気記
録層における強磁性微粉末等の、分散、混練、塗布の際
に使用する有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケト
ン系:メタノール、エタノール、フロパノール、フタノ
ール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール
、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール系:酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢
酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール・モノエ
チルエーテル等ノエステル系;ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、グリコールジメチルエーテル、グリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコール
エーテル系;ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾー
ル、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系(芳香族
炭化水素);メチレンクロ2イド、エチレンクロライビ
、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン
、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、N、N−ジメ
チルホルムアルデヒド9、ヘキサン等のものが使用でき
る。
録層における強磁性微粉末等の、分散、混練、塗布の際
に使用する有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケト
ン系:メタノール、エタノール、フロパノール、フタノ
ール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール
、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール系:酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢
酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール・モノエ
チルエーテル等ノエステル系;ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、グリコールジメチルエーテル、グリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコール
エーテル系;ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾー
ル、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系(芳香族
炭化水素);メチレンクロ2イド、エチレンクロライビ
、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン
、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、N、N−ジメ
チルホルムアルデヒド9、ヘキサン等のものが使用でき
る。
磁気記録層およびバック層の形成は上記の組成などを任
意に組合せて有機溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体
上に塗布・乾燥する。使用される支持体としては特に制
限はない。テープとして使用する場合には支持体の厚み
2.5〜100ミクロン程度、好ましくは3〜70ミク
ロン程度が曳い。ディスクもしくはカード状の場合は厚
みが0.5〜10 tm程度である。素材としてはポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等
のポリエステル類、ポリプロピレン等ポリオレフィン類
、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート
等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹
脂類、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスルホン等
のプラスチックのほかにアルミニウム、銅等の金属、ガ
ラス等のセラミックス等も使用出来る。これらの支持体
は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処理、下
塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、アルカリ
処理tおこなってもよい。これら支持体に関しては例え
ば西独特許3338854A 、 特開昭59−11
6926号、米国特許4388368号;三石幸夫著「
繊維と工業」31巻、p50〜5.1975年などに記
載されている。
意に組合せて有機溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体
上に塗布・乾燥する。使用される支持体としては特に制
限はない。テープとして使用する場合には支持体の厚み
2.5〜100ミクロン程度、好ましくは3〜70ミク
ロン程度が曳い。ディスクもしくはカード状の場合は厚
みが0.5〜10 tm程度である。素材としてはポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等
のポリエステル類、ポリプロピレン等ポリオレフィン類
、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート
等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹
脂類、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスルホン等
のプラスチックのほかにアルミニウム、銅等の金属、ガ
ラス等のセラミックス等も使用出来る。これらの支持体
は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処理、下
塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、アルカリ
処理tおこなってもよい。これら支持体に関しては例え
ば西独特許3338854A 、 特開昭59−11
6926号、米国特許4388368号;三石幸夫著「
繊維と工業」31巻、p50〜5.1975年などに記
載されている。
強磁性微粉末等の混線の方法には特に制限はなく、また
各成分の添加順序などは適宜設定することができる。磁
性塗料の調製には通常の混線機、例えば、二本ロールミ
ル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロン
ミル、サンドグラインダー、Szegvari (ツェ
グバリ)アトライター、高速インペラー、分散機、高速
ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーグー
、高速ミキサー、リボンブレンター、コニータ、インテ
ンジノミキサー、メンズラー、プレングー、ディスパー
ザ−、ホモジナイザー、単軸スクリエー押し出し機、二
軸スクリエー押し出し機、及び超音波分散機などを用い
ることができる。混線分散に関する技術の詳細は、T、
C,FAT’L’ON著 (チー・シロ/1ツト7 )
”Pa1nt Flow and PigmentD
isper日ion″ (ペイント・フロー〇アンド・
ピグメント・ディスバージ璽ン) (1964年Joh
nWiley & 5ons (ジョン・ウィリー・ア
ンド・サンズ)社発行)や田中信−著「工業材料」5巻
37(1977)などに記載されている。また、米国特
許第2581414号及び同第2855156号などの
明細書にも記載がある。本発明においても上記文献など
に記載された方法に準じて混線分散を行い磁性塗料を調
製することができる。
各成分の添加順序などは適宜設定することができる。磁
性塗料の調製には通常の混線機、例えば、二本ロールミ
ル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロン
ミル、サンドグラインダー、Szegvari (ツェ
グバリ)アトライター、高速インペラー、分散機、高速
ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーグー
、高速ミキサー、リボンブレンター、コニータ、インテ
ンジノミキサー、メンズラー、プレングー、ディスパー
ザ−、ホモジナイザー、単軸スクリエー押し出し機、二
軸スクリエー押し出し機、及び超音波分散機などを用い
ることができる。混線分散に関する技術の詳細は、T、
C,FAT’L’ON著 (チー・シロ/1ツト7 )
”Pa1nt Flow and PigmentD
isper日ion″ (ペイント・フロー〇アンド・
ピグメント・ディスバージ璽ン) (1964年Joh
nWiley & 5ons (ジョン・ウィリー・ア
ンド・サンズ)社発行)や田中信−著「工業材料」5巻
37(1977)などに記載されている。また、米国特
許第2581414号及び同第2855156号などの
明細書にも記載がある。本発明においても上記文献など
に記載された方法に準じて混線分散を行い磁性塗料を調
製することができる。
またカーボンブラック等の粉体の混線・分散についても
特に制限はなく、上記した混線機や混線・分散方法を適
用することができる。
特に制限はなく、上記した混線機や混線・分散方法を適
用することができる。
支持体上へ前記の磁気記録層および、<ツク層を塗布す
る方法としてはエアードクターコート、プレーrコート
、エアナイフコート、スクイズニー)、含浸コート、リ
バースロールコート、トランスファーロールコート、グ
ラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレィ
コート等が利用出来、その他の方法も可能であり、これ
らの具体的説明は朝食書店発行の「コーティング工学」
25頂〜277頁(昭46年り月旬日発行)に詳細に記
載されている。磁気記録層およびバック層の塗布順序は
特に制限はなく、別々に塗布するのであってもよいし、
同時塗布であってもよい。
る方法としてはエアードクターコート、プレーrコート
、エアナイフコート、スクイズニー)、含浸コート、リ
バースロールコート、トランスファーロールコート、グ
ラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレィ
コート等が利用出来、その他の方法も可能であり、これ
らの具体的説明は朝食書店発行の「コーティング工学」
25頂〜277頁(昭46年り月旬日発行)に詳細に記
載されている。磁気記録層およびバック層の塗布順序は
特に制限はなく、別々に塗布するのであってもよいし、
同時塗布であってもよい。
このような方法により、支持体上に塗布された磁性層は
必要により層中の磁性粉末を直ちに乾燥しながら配向さ
せる処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。こ
のときの支持体の搬送速度は、通常10 m /分〜9
00 m /分でおこなわれ、乾燥温度が20’C〜1
30℃で制御される。又必要により表面平滑化加工を施
したり、所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記
録媒体を製造する。
必要により層中の磁性粉末を直ちに乾燥しながら配向さ
せる処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。こ
のときの支持体の搬送速度は、通常10 m /分〜9
00 m /分でおこなわれ、乾燥温度が20’C〜1
30℃で制御される。又必要により表面平滑化加工を施
したり、所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記
録媒体を製造する。
これらは、例えば、特公昭40−23625号公報、特
公昭39−28368号公報、米国特許第347396
0号明細書、等にしめされている。又、特公昭41−1
3181 号公報にしめされる方法はこの分野における
基本的、且つ重要な技術と考えられている。
公昭39−28368号公報、米国特許第347396
0号明細書、等にしめされている。又、特公昭41−1
3181 号公報にしめされる方法はこの分野における
基本的、且つ重要な技術と考えられている。
また、塗布されたバック層の乾燥についても上記と同様
の方法が適用され、磁気記録層と同時に乾燥されてもよ
い。
の方法が適用され、磁気記録層と同時に乾燥されてもよ
い。
(実施例)
以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する。こ
こに示す成分、割合、操作順序等は本発明の精神から逸
脱しない範囲において変更しうるものであることは本業
界に携わるものにとっては容易に理解されることである
。
こに示す成分、割合、操作順序等は本発明の精神から逸
脱しない範囲において変更しうるものであることは本業
界に携わるものにとっては容易に理解されることである
。
従りて、本発明は下記の実施例に制限されるべきではな
い。猶、実施例中の部は重量部をしめす。
い。猶、実施例中の部は重量部をしめす。
本実施例で用いた18本発明による4〜8員の脂環又は
複素環骨格を有するジオールより成るポリウレタンを以
下のように合成した。すなわち、表11C示す、ジオー
ルとジカルボン酸との重縮合により合成したポリエステ
ルポリオール、鎖延長剤およびジイソシアネートを用い
常法に従い(「合成高分子J、V巻、309〜363頁
、朝食書店、昭和46年6月15日)、ポリウレタン〔
I〕〜〔■〕を合成した。結果を表1に示す。
複素環骨格を有するジオールより成るポリウレタンを以
下のように合成した。すなわち、表11C示す、ジオー
ルとジカルボン酸との重縮合により合成したポリエステ
ルポリオール、鎖延長剤およびジイソシアネートを用い
常法に従い(「合成高分子J、V巻、309〜363頁
、朝食書店、昭和46年6月15日)、ポリウレタン〔
I〕〜〔■〕を合成した。結果を表1に示す。
実施例1
次の組成物の一部をボールミルに入れ充分混練したあと
残部をボールミルに入れ充分混練し、デスモジエールL
−75();イニル社製ホ1ノイソシアネート化合物の
商品名)15部を加え、均一に混合分散して磁性塗料を
作成した。
残部をボールミルに入れ充分混練し、デスモジエールL
−75();イニル社製ホ1ノイソシアネート化合物の
商品名)15部を加え、均一に混合分散して磁性塗料を
作成した。
CO含有7− F’e203粉末 1
00部(s素a着比表sm 35m”/9)塩化ビニ
ル−酢酸ビニル化合物 10部(v
MCH,ユニオンカーバイ)’M)ニラポランN230
4 12部(日本ポリウレタ
ン社製ポリウレタン樹脂)カーボンブラック
5部(平均粒子サイズ 40ミリミク
ロン)V’/f7 1部オレ
イン成 2部ラウ
リン酸オクチル 2部ラウリン
酸 0.5部酢酸ブチル
100部メチルエチ
ルケトン 200部この磁性塗
料を粘度調整した後ポリエチレンテレフタレート基体表
面に塗布、配・向、乾燥した。
00部(s素a着比表sm 35m”/9)塩化ビニ
ル−酢酸ビニル化合物 10部(v
MCH,ユニオンカーバイ)’M)ニラポランN230
4 12部(日本ポリウレタ
ン社製ポリウレタン樹脂)カーボンブラック
5部(平均粒子サイズ 40ミリミク
ロン)V’/f7 1部オレ
イン成 2部ラウ
リン酸オクチル 2部ラウリン
酸 0.5部酢酸ブチル
100部メチルエチ
ルケトン 200部この磁性塗
料を粘度調整した後ポリエチレンテレフタレート基体表
面に塗布、配・向、乾燥した。
下記組成物のバック液をボールミルで混線調整したあと
、コロネー)EH(日本ヂリウレタン社製ポリイソシア
ネート)10部を加え均一に混合分散したあと、粘度を
調整し、磁性層と逆のポリエステル基体面に24m厚に
塗布、乾燥した。
、コロネー)EH(日本ヂリウレタン社製ポリイソシア
ネート)10部を加え均一に混合分散したあと、粘度を
調整し、磁性層と逆のポリエステル基体面に24m厚に
塗布、乾燥した。
カーボンブラック(平均粒子サイズ(9)μm) 5
0部カーボンブラック (資
)部(レーベy MTP 、平均粒子サイズ250 m
tt )ポリウレタンCD
加部フェノキシ樹脂(PKHH)(=オンカー/イ
ト1喝)10部サランレジン(ダウケミカルg)
to部オレイン酸銅
0.2部ステアリン酸
0.2部メチルエチルケトン
SOO部シクシクロヘキサノン
200部このテープをカレンダーで鏡面出しし
たあと、μインチ巾にスリットして試料番号1のサンプ
ルを作成した。
0部カーボンブラック (資
)部(レーベy MTP 、平均粒子サイズ250 m
tt )ポリウレタンCD
加部フェノキシ樹脂(PKHH)(=オンカー/イ
ト1喝)10部サランレジン(ダウケミカルg)
to部オレイン酸銅
0.2部ステアリン酸
0.2部メチルエチルケトン
SOO部シクシクロヘキサノン
200部このテープをカレンダーで鏡面出しし
たあと、μインチ巾にスリットして試料番号1のサンプ
ルを作成した。
実施例2
次の組成物をコ・ニーグーに入れ充分混練した後生成物
をボールミルに入れ充分混練し、デスモジュールL −
75(1バイ工ル社製ポリイソシアネート化合物の商品
名)20部を加え、均一に混合分数して磁性塗料を作成
した。
をボールミルに入れ充分混練し、デスモジュールL −
75(1バイ工ル社製ポリイソシアネート化合物の商品
名)20部を加え、均一に混合分数して磁性塗料を作成
した。
co含有r−F’e203粉末(酸化鉄に対しCo 3
wt%、Fe に対、L re 5 wt%)
(窒素吸着比表面積 35m2/9) (粉末He −6800s) 1
00部塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 1
m(VMCH,ユニオンカーバイト9社製つポリウレタ
ンT工M3005(三洋化成) 10部カーボ
ンブラック 10部(平均粒子
サイズ20rrLμ) レシチン 1部ミリ
スチン酸 3部ステアリ
ン酸エチル 3部ラウリン酸
3部酢酸ブチル
400部メチルエチルケトン
200部この磁性塗料を粘度調整し
た後ポリエチレンテレフタレート基体表面に5μm厚に
塗布、配向、乾燥、カレンダリングして試料を作成した
。
wt%、Fe に対、L re 5 wt%)
(窒素吸着比表面積 35m2/9) (粉末He −6800s) 1
00部塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 1
m(VMCH,ユニオンカーバイト9社製つポリウレタ
ンT工M3005(三洋化成) 10部カーボ
ンブラック 10部(平均粒子
サイズ20rrLμ) レシチン 1部ミリ
スチン酸 3部ステアリ
ン酸エチル 3部ラウリン酸
3部酢酸ブチル
400部メチルエチルケトン
200部この磁性塗料を粘度調整し
た後ポリエチレンテレフタレート基体表面に5μm厚に
塗布、配向、乾燥、カレンダリングして試料を作成した
。
この試料にポリウレタン〔I〕及びフェノキシ樹脂のか
わりにポリウレタンCI[] 40部を用い、コロネー
)EHのかわりにパーノックD−802(犬日本インキ
化学(株)製)を用いる以外実施例1と同様の方法でバ
ック液を塗布、乾燥し、カレンダー処理後スリットを行
なりて試料番号2のサンプルを作成した。
わりにポリウレタンCI[] 40部を用い、コロネー
)EHのかわりにパーノックD−802(犬日本インキ
化学(株)製)を用いる以外実施例1と同様の方法でバ
ック液を塗布、乾燥し、カレンダー処理後スリットを行
なりて試料番号2のサンプルを作成した。
実施例3
バック層のポリウレタン[1)のかわりにニラポランN
−2304(日本ポリウレタン社製)10部ポリウレタ
ン〔■〕加部用いる以外は実施例1と同様の方法で試料
番号3のサンプルを作成した。
−2304(日本ポリウレタン社製)10部ポリウレタ
ン〔■〕加部用いる以外は実施例1と同様の方法で試料
番号3のサンプルを作成した。
実施例4
バック層のポリウレタン(I[]のかわりとしてポリウ
レタン樹脂(1:] to部、 ポリウレタン〔■〕1
5部用いる以外実施例 2と同様の方法で試料番号4の
サンプルを作成した。
レタン樹脂(1:] to部、 ポリウレタン〔■〕1
5部用いる以外実施例 2と同様の方法で試料番号4の
サンプルを作成した。
(比較例1)
バック層としてポリウレタン(11のかわりにニラポラ
ンN−2301(日本ポリウレタン)を用いる以外は実
施例1と同様の方法で試料番号5のサンプルを作成した
。
ンN−2301(日本ポリウレタン)を用いる以外は実
施例1と同様の方法で試料番号5のサンプルを作成した
。
(比較例2)
バック層のポリイソシアネートとしてコロネー)EHの
かわりにコロネート2061(TMPアダクトタイプ)
を用いる以外は実施例1と同様の方法で試料番号6のサ
ンプルを作成した。
かわりにコロネート2061(TMPアダクトタイプ)
を用いる以外は実施例1と同様の方法で試料番号6のサ
ンプルを作成した。
実施例1〜4および比較例1〜2で得られた試料番号1
〜6のサンプルについて、バック層の中心線表面粗さお
よび摩擦係数、および磁性層のドロップアウト数を下記
方法により測定し、結果を表2に示した。
〜6のサンプルについて、バック層の中心線表面粗さお
よび摩擦係数、および磁性層のドロップアウト数を下記
方法により測定し、結果を表2に示した。
(バック層中心線表面粗さ)
表面粗さは、T工S B−0601にしたがい1.触針
式表面粗さ計(東京精密に、に製サーフコム800A型
)により測定した。この時のカットオフ値はOB簡であ
る。
式表面粗さ計(東京精密に、に製サーフコム800A型
)により測定した。この時のカットオフ値はOB簡であ
る。
()2ツク層静摩擦係数)
直径5■のS U S 420J棒(0,15S )に
対する磁気テープのバック層表面の摩擦係数(μ)を次
式から求めた。
対する磁気テープのバック層表面の摩擦係数(μ)を次
式から求めた。
式中、T1 は磁気テープ入口側のテンシラン、T2
は磁気テープ出口側のテンシヨンである。また、磁気
テープのSUS棒への巻付は角度を1800、T1 を
51とし、T2は8US棒の回転数を変化させ、相対速
度を零に外挿した値を用いた。
は磁気テープ出口側のテンシヨンである。また、磁気
テープのSUS棒への巻付は角度を1800、T1 を
51とし、T2は8US棒の回転数を変化させ、相対速
度を零に外挿した値を用いた。
(ドロップアウト数)
250パス繰り返し走行後の、ト10ツブアウト数を示
した。ドロップアウトは、ドロップアウトカウンターで
lj X 10−’aec以上の期間で再生出方レベル
を16+IB以上低下した個数7分を表示した。
した。ドロップアウトは、ドロップアウトカウンターで
lj X 10−’aec以上の期間で再生出方レベル
を16+IB以上低下した個数7分を表示した。
人2の結果より、脂環又は複素環骨格を有するジオール
よりなるポリウレタンを使用しない場合(比較例1)や
、シアヌール環を有するポリイソシアネートを使用しな
い場合(比較例2)では、バック層の表面粗さが小さく
、摩擦係数が大きく、また粉落ち等によるドロップアウ
トも太きい。これに対し、本発明によれば適度の表面粗
さと摩擦係数をもつ磁気記録媒体が得られ(実施例1〜
4)、ドロップアウトも非常に少なく、走行性と信頼性
の優れた磁気記録媒体が得られた。
よりなるポリウレタンを使用しない場合(比較例1)や
、シアヌール環を有するポリイソシアネートを使用しな
い場合(比較例2)では、バック層の表面粗さが小さく
、摩擦係数が大きく、また粉落ち等によるドロップアウ
トも太きい。これに対し、本発明によれば適度の表面粗
さと摩擦係数をもつ磁気記録媒体が得られ(実施例1〜
4)、ドロップアウトも非常に少なく、走行性と信頼性
の優れた磁気記録媒体が得られた。
(発明の効果)
本発明により、走行性が優れ、ドロップアウトが少なく
、信頼性の優れた磁気記録媒体が得られた。また、本発
明では、磁性層とバック層を一貫塗布後カレンダー成形
した場合でも、バック層が適度の凹凸を保持し、優れた
走行性を示すため、カレンダー成形後バック層を後塗り
する必要がなく、生産性が著しく向上するという効果も
得られた。
、信頼性の優れた磁気記録媒体が得られた。また、本発
明では、磁性層とバック層を一貫塗布後カレンダー成形
した場合でも、バック層が適度の凹凸を保持し、優れた
走行性を示すため、カレンダー成形後バック層を後塗り
する必要がなく、生産性が著しく向上するという効果も
得られた。
手続補正塵
昭和62年 6月シシ日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体の一面に磁性層を設け、その裏面にバック層を設
けてなる磁気記録媒体に於て、該バック層が結合剤とし
て4〜8員のシクロアルカン骨格及び/又は複素原子と
してS、N及び/又はOを含む4〜8員の複素環骨格を
有するジオールより成るポリウレタンを含有し、かつ硬
化剤として下記環構造〔 I 〕を有するポリイソシアネ
ートを含有することを特徴とする磁気記録媒体。 環構造〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9543587A JPS63261520A (ja) | 1987-04-20 | 1987-04-20 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9543587A JPS63261520A (ja) | 1987-04-20 | 1987-04-20 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63261520A true JPS63261520A (ja) | 1988-10-28 |
Family
ID=14137618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9543587A Pending JPS63261520A (ja) | 1987-04-20 | 1987-04-20 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63261520A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0191317A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-11 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60229225A (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS61208619A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-17 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-04-20 JP JP9543587A patent/JPS63261520A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60229225A (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS61208619A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-17 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0191317A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-11 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
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