JPS6261252A - 電子顕微鏡の照射レンズ装置 - Google Patents
電子顕微鏡の照射レンズ装置Info
- Publication number
- JPS6261252A JPS6261252A JP20241485A JP20241485A JPS6261252A JP S6261252 A JPS6261252 A JP S6261252A JP 20241485 A JP20241485 A JP 20241485A JP 20241485 A JP20241485 A JP 20241485A JP S6261252 A JPS6261252 A JP S6261252A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- electron beam
- electron
- diameter
- focusing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、電子顕微鏡において、電子銃よりの電子線を
試料に集束して照射するための照射レンズ装置に関する
。
試料に集束して照射するための照射レンズ装置に関する
。
[従来の技術]
電子顕微鏡の照射レンズ装置は、第1.第2集束レンズ
のみから成っており、第2集束レンズの励磁強度のみを
切換え得るだけぐあったため、試料に照射される電子線
の径を狭い範囲でしか切換えることができなかった。し
かしながら、最近、いわゆるコンデンサーオブジェクテ
ィブタイプの対物レンズを備えた電子顕微鏡が出現した
。このような電子顕微鏡にJ、れば、試料のすぐ前段に
照射レンズとして対物レンズの前方磁界レンズが配置さ
れるため、試料に照射される電子線の径を広い範囲にわ
たって切換えることができる。
のみから成っており、第2集束レンズの励磁強度のみを
切換え得るだけぐあったため、試料に照射される電子線
の径を狭い範囲でしか切換えることができなかった。し
かしながら、最近、いわゆるコンデンサーオブジェクテ
ィブタイプの対物レンズを備えた電子顕微鏡が出現した
。このような電子顕微鏡にJ、れば、試料のすぐ前段に
照射レンズとして対物レンズの前方磁界レンズが配置さ
れるため、試料に照射される電子線の径を広い範囲にわ
たって切換えることができる。
[発明が解決しようとする問題点1
しかしながら、試料に照射される電子線の径を広い範囲
にわたって変えた場合、以下の理由により、例えば第4
図に示すような状態が出現してしまう。尚、第4図にお
いて、1aは照射レンズとして働く対物レンズの前方磁
界レンズ、2は試料。
にわたって変えた場合、以下の理由により、例えば第4
図に示すような状態が出現してしまう。尚、第4図にお
いて、1aは照射レンズとして働く対物レンズの前方磁
界レンズ、2は試料。
3は電子線を示している。
即ち、電子線の径をφ、試料に対する電子線の照射角を
2Wとすると、輝度不変の法則により径が一定の集束レ
ンズ絞りを使用した場合、2w・φが一定となることか
ら、径φを小さくすると照射角2Wが大きくなってしま
う。従ってこのような状態においては、試料2の例えば
光軸c−hの点P1における入射角θ1と電子線照射領
域の周辺の点P2における電子線の入射角θ2が大きく
異なってしまい、そのため、以下のような問題が生じる
。
2Wとすると、輝度不変の法則により径が一定の集束レ
ンズ絞りを使用した場合、2w・φが一定となることか
ら、径φを小さくすると照射角2Wが大きくなってしま
う。従ってこのような状態においては、試料2の例えば
光軸c−hの点P1における入射角θ1と電子線照射領
域の周辺の点P2における電子線の入射角θ2が大きく
異なってしまい、そのため、以下のような問題が生じる
。
(1)試料に転移等があると、転移のある部分とそれ以
外の部分では回折条件が異なるため、電子顕微鏡像に転
移の存在を示づコントラストが現ゎれるが、視野内の試
料各所によ・)で電子線の大川角が異なるため、二]ン
1〜ラスi−に場所的な違いがでてしまい、転移等を充
分観察づることができない。
外の部分では回折条件が異なるため、電子顕微鏡像に転
移の存在を示づコントラストが現ゎれるが、視野内の試
料各所によ・)で電子線の大川角が異なるため、二]ン
1〜ラスi−に場所的な違いがでてしまい、転移等を充
分観察づることができない。
(2)電子線の照射角2Wが大きいため、回折像を観察
する際に角度分解能が悪く特定の回折スポットを対物絞
りにより選べないため、回折寵】ン[〜ラストが不充分
となる。
する際に角度分解能が悪く特定の回折スポットを対物絞
りにより選べないため、回折寵】ン[〜ラストが不充分
となる。
本発明は、上述した問題を解決し、試11に照射する電
子線の径(従って像の明るさ)を任意に切換えても視野
全域において]ン1〜ラストの一様な電子顕微鏡像を観
察でき、且つ=lンl〜ラストの高い回折像を観察する
ことのできる電子顕微鏡の照射レンズ装置を提供するこ
とを目的どしている。
子線の径(従って像の明るさ)を任意に切換えても視野
全域において]ン1〜ラストの一様な電子顕微鏡像を観
察でき、且つ=lンl〜ラストの高い回折像を観察する
ことのできる電子顕微鏡の照射レンズ装置を提供するこ
とを目的どしている。
[問題点を解決するための手段]
ぞのため、本発明は電子銃よりの電子線を集束するため
の少なくとも2段の集束レンズを備えた集束レンズ系が
備えられており、該集束レンズ系よりの電子線が試料の
すぐ前段に配置された照射レンズを介して該試料に照射
される装置にJ3いて、該電子銃のクロスオーバー像が
常に該照射レンズの前方焦点面上に結像されるように該
集束レンズを構成するレンズのうちのいずれか2段の集
束レンズの励磁強度を連動して制御するための制御手段
を備えているを特徴としている。
の少なくとも2段の集束レンズを備えた集束レンズ系が
備えられており、該集束レンズ系よりの電子線が試料の
すぐ前段に配置された照射レンズを介して該試料に照射
される装置にJ3いて、該電子銃のクロスオーバー像が
常に該照射レンズの前方焦点面上に結像されるように該
集束レンズを構成するレンズのうちのいずれか2段の集
束レンズの励磁強度を連動して制御するための制御手段
を備えているを特徴としている。
[発明の作用]
以下、本発明において基本となっている考えを第2図(
a)、(b)、(c)に基づいて説明するが、第2図(
a)、(b)、(C)においては第1図と同一の構成要
素に対しては同一番号を付している。
a)、(b)、(c)に基づいて説明するが、第2図(
a)、(b)、(C)においては第1図と同一の構成要
素に対しては同一番号を付している。
第2図(a)、(b)、(c)において、5は電子銃4
よりの電子線3を集束するための集束レンズ系であり、
集束レンズ系5は第1.第2.第3の集束レンズ6.7
.8より成っている。9は第2集束レンズの絞りを示し
ている。1は対物レンズを示しており、対物レンズの前
方磁界レンズ1aと後方磁界レンズ1bの間に試料2が
配置されている。
よりの電子線3を集束するための集束レンズ系であり、
集束レンズ系5は第1.第2.第3の集束レンズ6.7
.8より成っている。9は第2集束レンズの絞りを示し
ている。1は対物レンズを示しており、対物レンズの前
方磁界レンズ1aと後方磁界レンズ1bの間に試料2が
配置されている。
いま、集束レンズ系5によって電子銃4のクロスオーバ
ー像が対物レンズの前方磁界レンズの前焦点面Uに常に
結像するようにすれば、第2図(a>、(b)、(c)
の光学図から明らかなように、電子線の径を夫々大、中
、小と広く切換えても電子線の照射領域内の試料2の各
部に対して同一の入射角で電子線3を照射できることが
分る。
ー像が対物レンズの前方磁界レンズの前焦点面Uに常に
結像するようにすれば、第2図(a>、(b)、(c)
の光学図から明らかなように、電子線の径を夫々大、中
、小と広く切換えても電子線の照射領域内の試料2の各
部に対して同一の入射角で電子線3を照射できることが
分る。
第1.第2.第3の集束レンズ6.7.8によって形成
される電子線のクロスオーバーの像を各々11.I2,
13どし、第1集束レンズ6と像11との距離をa、像
11ど第2集束レンズ7との距離をb1第2集束レンズ
7と像I2どの距離をC2像12と第3集束レンズ8と
の距離をd。
される電子線のクロスオーバーの像を各々11.I2,
13どし、第1集束レンズ6と像11との距離をa、像
11ど第2集束レンズ7との距離をb1第2集束レンズ
7と像I2どの距離をC2像12と第3集束レンズ8と
の距離をd。
第3集束レンズ8と像I3との距離をe、像I3と前方
磁界レンズ1aとの距離をf、第2集束レンズ7の焦点
距離をfl、第3集束レンズ8の焦点距離をI2とづる
。いま、第1の集束レンズ6の励磁強度が殆んど固定さ
れているとすれば、aは定数と看なすことができ、又、
fも対物レンズ1の励磁強度を固定する通常の場合には
定数と石なすことができる。従って、第2図の光線図が
常に成立するための条件は以下のようになる。
磁界レンズ1aとの距離をf、第2集束レンズ7の焦点
距離をfl、第3集束レンズ8の焦点距離をI2とづる
。いま、第1の集束レンズ6の励磁強度が殆んど固定さ
れているとすれば、aは定数と看なすことができ、又、
fも対物レンズ1の励磁強度を固定する通常の場合には
定数と石なすことができる。従って、第2図の光線図が
常に成立するための条件は以下のようになる。
さて、第1集束レンズ6と第2集束レンズ7間の距離を
c!、1.第2集束レンズ7と第3集束レンズ8間の距
離を22.第3集束レンズ8と前方磁界レンズ18間の
距離をQ3とすると、以下の関係が成立する。
c!、1.第2集束レンズ7と第3集束レンズ8間の距
離を22.第3集束レンズ8と前方磁界レンズ18間の
距離をQ3とすると、以下の関係が成立する。
a 十b −Q、 I
C+d−42
e+f−Q3
従って、前記(1)式の関係から以下の式が導かそこで
、 a= (A2 (Ql −a> +1) (Q3−f
)β−(−QI +a) (Q、3−f)γ−(A2
(c!、1−a) +1 )δ=−見1+a+Q、3
−f とおけば、上式は以下のように書き変えられる。
、 a= (A2 (Ql −a> +1) (Q3−f
)β−(−QI +a) (Q、3−f)γ−(A2
(c!、1−a) +1 )δ=−見1+a+Q、3
−f とおけば、上式は以下のように書き変えられる。
f2−〈αf1+β)/(γf1+δ)・・・(3)以
上の結果より、第2図(a)、(b)、(c)に示すよ
うに電子線の径を大、中、小と切換えても電子線の照射
領域内の試料2の各部に対して同一の入用角で電子線3
を照射づるための条件は、各レンズの幾何学的配置によ
って定まる定数α。
上の結果より、第2図(a)、(b)、(c)に示すよ
うに電子線の径を大、中、小と切換えても電子線の照射
領域内の試料2の各部に対して同一の入用角で電子線3
を照射づるための条件は、各レンズの幾何学的配置によ
って定まる定数α。
β、γ、δ等をパラメーターとして表わされる上記(3
)式を常に満だでように、2個の集束レンズ(この場合
は集束レンズ7.8)の励磁強度を連動して切換えるこ
とであることが分る。
)式を常に満だでように、2個の集束レンズ(この場合
は集束レンズ7.8)の励磁強度を連動して切換えるこ
とであることが分る。
本発明は、このような考えに基づくものである。
[実施例]
以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述する。
本発明の一実施例を示す第1図において、第2図及び第
3図と同一の構成要素に対しては同一番号を付している
。
3図と同一の構成要素に対しては同一番号を付している
。
図中10は蛍光板であり、前記対物レンズの後方磁界レ
ンズ1bと蛍光板10との間には図示していないが、中
間レンズ等や投影レンズ等の結像レンズ系を構成する他
のレンズが配置されている。
ンズ1bと蛍光板10との間には図示していないが、中
間レンズ等や投影レンズ等の結像レンズ系を構成する他
のレンズが配置されている。
11.12.13は各々第1.第2.第3の集束レンズ
の励磁電源である。これら励磁電源11゜12.13に
は演算制御装置14より励磁電流値を指定する制御信号
が送られている。15は演算制御装置14に接続された
記憶装置であり、記憶装置15には試料2に照射される
電子線の径φnを実現するのに必要な励磁主II!12
.13の励磁電流値を表わすデータ[)nl、[)n2
が絹になって第2図に示づように各加速電圧毎にテーブ
ルとして記憶されている。このテーブルは前記第(3)
式に従って各レンズの励磁強度を変化させ、その際に得
られる電子線の径の実測値を用いて作成する。
の励磁電源である。これら励磁電源11゜12.13に
は演算制御装置14より励磁電流値を指定する制御信号
が送られている。15は演算制御装置14に接続された
記憶装置であり、記憶装置15には試料2に照射される
電子線の径φnを実現するのに必要な励磁主II!12
.13の励磁電流値を表わすデータ[)nl、[)n2
が絹になって第2図に示づように各加速電圧毎にテーブ
ルとして記憶されている。このテーブルは前記第(3)
式に従って各レンズの励磁強度を変化させ、その際に得
られる電子線の径の実測値を用いて作成する。
16は演算制御装置14に接続された操作中であり、操
作中16により前記試別に照射される電子線の径φnが
指示される。尚、図示されていないが加速電圧を制御す
るための電源も設けられており、この電源も操作卓16
よりの指示に基づいて制御されるJ、うになっている。
作中16により前記試別に照射される電子線の径φnが
指示される。尚、図示されていないが加速電圧を制御す
るための電源も設けられており、この電源も操作卓16
よりの指示に基づいて制御されるJ、うになっている。
このような構成において、加速電圧を操作卓16により
適当な電圧v1に設定した後、操作中16により例えば
電子線の径としてφ1を指示すると、操作中16よりの
指示に基づいて演算制御装置14は記憶装置15に記憶
されている加速電圧V1に関する前記テーブル中の径φ
1に対応するデータ[)1 、 l)2を読み出す。こ
の読み出されたデータ[)1 、 [)2に基づいて演
算制m装置15は励磁電源12.13にこれら電源より
の出力電流を指定する信号を送る。その結果、励磁電源
12゜13よりの励磁電流が指定された値に変更され、
径φ1を右し光軸Cに平行な電子線束が試料に照射され
る。
適当な電圧v1に設定した後、操作中16により例えば
電子線の径としてφ1を指示すると、操作中16よりの
指示に基づいて演算制御装置14は記憶装置15に記憶
されている加速電圧V1に関する前記テーブル中の径φ
1に対応するデータ[)1 、 l)2を読み出す。こ
の読み出されたデータ[)1 、 [)2に基づいて演
算制m装置15は励磁電源12.13にこれら電源より
の出力電流を指定する信号を送る。その結果、励磁電源
12゜13よりの励磁電流が指定された値に変更され、
径φ1を右し光軸Cに平行な電子線束が試料に照射され
る。
同様に、操作中16により前記径としてφ2(φ2〈φ
1〉を指示すると、記憶装置15に記憶されているテー
ブルよりφ2に対応した励磁電源12.13の励磁電流
値を指定するためのデータDI 、D2が読み出され、
これらデータり1゜D2に基づいて励磁電源12.13
の励磁電流が定められ、径φ2の光軸Cに平行な電子線
束が試別に照射される。尚、この際、φ2どφ1である
ため、電子線電流密度は最初の場合より大きくなり、蛍
光板10に投影される像の明るさは増加する。
1〉を指示すると、記憶装置15に記憶されているテー
ブルよりφ2に対応した励磁電源12.13の励磁電流
値を指定するためのデータDI 、D2が読み出され、
これらデータり1゜D2に基づいて励磁電源12.13
の励磁電流が定められ、径φ2の光軸Cに平行な電子線
束が試別に照射される。尚、この際、φ2どφ1である
ため、電子線電流密度は最初の場合より大きくなり、蛍
光板10に投影される像の明るさは増加する。
このように、常に前記第(3)式を満たした状態で、第
2.第3の集束レンズ6.7の励磁電流値が切換えられ
るため、電子線の径を切換えても電子線の照射領域内で
試料各部に対して同一の入射角で電子線3を照射できる
。そのため、視野の大きさの切換えにかかわらず、コン
トラストの一様な電子顕微鏡像を観察することができ、
且つコントラスの高い回折像を観察することができる。
2.第3の集束レンズ6.7の励磁電流値が切換えられ
るため、電子線の径を切換えても電子線の照射領域内で
試料各部に対して同一の入射角で電子線3を照射できる
。そのため、視野の大きさの切換えにかかわらず、コン
トラストの一様な電子顕微鏡像を観察することができ、
且つコントラスの高い回折像を観察することができる。
特にこの実施例においては、前方磁界レンズ1aに近い
側の2個の集束レンズを連動して切換えるようにしてい
るため、比較的小さいレンズ強度の変更により試料に照
射される電子線の径φを大きく変えることができる。
側の2個の集束レンズを連動して切換えるようにしてい
るため、比較的小さいレンズ強度の変更により試料に照
射される電子線の径φを大きく変えることができる。
本発明は、上述した実施例に限定されることなく幾多の
変形が可能である。
変形が可能である。
第1の集束レンズ6と第2の集束ンズ7の組を1個の合
成レンズと看なせば、この合成レンズの励磁強度を切換
えるには、第2の集束レンズ7の励磁強度を切換える代
わりに第1の集束レンズ6の励磁強度を切換えても良い
。従っで、−上述した実施例においては第2.第3の集
束レンズ7.8の励磁強度を連動し−CFJJ換えるに
うにしたが、第1、第3の集束レンズ6.8の励磁強度
を連動して切換えるようにしても良い。
成レンズと看なせば、この合成レンズの励磁強度を切換
えるには、第2の集束レンズ7の励磁強度を切換える代
わりに第1の集束レンズ6の励磁強度を切換えても良い
。従っで、−上述した実施例においては第2.第3の集
束レンズ7.8の励磁強度を連動し−CFJJ換えるに
うにしたが、第1、第3の集束レンズ6.8の励磁強度
を連動して切換えるようにしても良い。
同様な理由により、第1.第2の集束レンズ6゜7の励
磁強度を連動して切換えるようにしても良い。
磁強度を連動して切換えるようにしても良い。
又、」二連しlc実施例においては、像13J:りの電
子線を集束して試料に照射するための照射レンズとして
対物レンズの前方磁界レンズが使用されていたが、本発
明は照射レンズどじで対物レンズの前方磁界レンズとは
別個な集束レンズが備えられている電子顕微鏡にも同様
に適用できる。
子線を集束して試料に照射するための照射レンズとして
対物レンズの前方磁界レンズが使用されていたが、本発
明は照射レンズどじで対物レンズの前方磁界レンズとは
別個な集束レンズが備えられている電子顕微鏡にも同様
に適用できる。
更に又、上述した実施例においては、特定の照射電子線
径φを実現するため、記憶装置にφに対応する第2.第
3の集束レンズの励磁電流を指定するデータをテーブル
として記憶させ、このデー夕を読み出して励磁電流を作
成プるようにしたが、演算により算出したデータに基づ
いて励磁電流を作成するようにしても良い。
径φを実現するため、記憶装置にφに対応する第2.第
3の集束レンズの励磁電流を指定するデータをテーブル
として記憶させ、このデー夕を読み出して励磁電流を作
成プるようにしたが、演算により算出したデータに基づ
いて励磁電流を作成するようにしても良い。
[発明の効果]
上述した説明から明らかなように、本発明に基づく装置
においては、電子銃のクロスオーバー像が常に照射レン
ズの前方焦点面に結像されるように2段の集束レンズの
励磁強度を連動して制御するようにしているため、電子
線の径を切換えても電子線の照射領域内の試料各部に対
して同一の入射角で電子線を照射でき、視野の大きさの
切換えにかかわらず、視野全域にわたってコントラスl
〜の一様な電子顕微鏡像を観察することができる。
においては、電子銃のクロスオーバー像が常に照射レン
ズの前方焦点面に結像されるように2段の集束レンズの
励磁強度を連動して制御するようにしているため、電子
線の径を切換えても電子線の照射領域内の試料各部に対
して同一の入射角で電子線を照射でき、視野の大きさの
切換えにかかわらず、視野全域にわたってコントラスl
〜の一様な電子顕微鏡像を観察することができる。
又、回折像を観察する際の角度分解能が良いため、特定
の回折スポットを対物絞りにより選ぶことができ、その
ため、コントラストの高い回折像を観察づることができ
る。
の回折スポットを対物絞りにより選ぶことができ、その
ため、コントラストの高い回折像を観察づることができ
る。
第1図は本発明の一実施例を説明するための図、第2図
は本発明の基本的な考えを説明するための光学図、第3
図は各集束レンズの励磁電流を指定するためのデータが
記憶されたテーブルを説明するための図、第4図は従来
の電子顕微鏡における集束レンズ系を説明するための図
である。 1:対物レンズ 1a:対物レンズの前方磁界レンズ 1b二対物レンズの後方磁界レンズ 2:試料 3:電子線 4:電子銃 6.7,8:集束レンズ9:絞り
10:蛍光板 11.12.13+励磁電源 14:演算制御装置 15:記憶装置 16:操作卓
は本発明の基本的な考えを説明するための光学図、第3
図は各集束レンズの励磁電流を指定するためのデータが
記憶されたテーブルを説明するための図、第4図は従来
の電子顕微鏡における集束レンズ系を説明するための図
である。 1:対物レンズ 1a:対物レンズの前方磁界レンズ 1b二対物レンズの後方磁界レンズ 2:試料 3:電子線 4:電子銃 6.7,8:集束レンズ9:絞り
10:蛍光板 11.12.13+励磁電源 14:演算制御装置 15:記憶装置 16:操作卓
Claims (3)
- (1)電子銃よりの電子線を集束するための少なくとも
2段の集束レンズを備えた集束レンズ系が備えられてお
り、該集束レンズ系よりの電子線が試料のすぐ前段に配
置された照射レンズを介して該試料に照射される装置に
おいて、該電子銃のクロスオーバー像が常に該照射レン
ズの前方焦点面上に結像されるように該集束レンズ系を
構成するレンズのうちのいずれか2段の集束レンズの励
磁強度を連動して制御するための制御手段を備えている
ことを特徴とする電子顕微鏡の照射レンズ装置。 - (2)該照射レンズは対物レンズの前方磁界レンズであ
る前記特許請求の範囲第1項記載の電子顕微鏡の照射レ
ンズ装置。 - (3)該照射レンズ系は電子銃に近い側から配置された
第1、第2、第3の集束レンズより成り、該制御手段は
該第2、第3の集束レンズの励磁強度を連動して制御す
る前記特許請求の範囲第1項乃至第2項記載の電子顕微
鏡の照射レンズ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20241485A JPS6261252A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 電子顕微鏡の照射レンズ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20241485A JPS6261252A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 電子顕微鏡の照射レンズ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6261252A true JPS6261252A (ja) | 1987-03-17 |
Family
ID=16457107
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20241485A Pending JPS6261252A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 電子顕微鏡の照射レンズ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6261252A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51124371A (en) * | 1975-04-23 | 1976-10-29 | Jeol Ltd | Scanning type electron microscope and similar equipment provided with means for controlling opening angle of electron beam for irradiating s amples |
JPS5533716A (en) * | 1978-09-01 | 1980-03-10 | Internatl Precision Inc | Electron microscope focusing lens system |
JPS55126951A (en) * | 1979-03-23 | 1980-10-01 | Hitachi Ltd | Electron microscope |
JPS55128243A (en) * | 1979-03-28 | 1980-10-03 | Hitachi Ltd | Electron microscope |
-
1985
- 1985-09-12 JP JP20241485A patent/JPS6261252A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51124371A (en) * | 1975-04-23 | 1976-10-29 | Jeol Ltd | Scanning type electron microscope and similar equipment provided with means for controlling opening angle of electron beam for irradiating s amples |
JPS5533716A (en) * | 1978-09-01 | 1980-03-10 | Internatl Precision Inc | Electron microscope focusing lens system |
JPS55126951A (en) * | 1979-03-23 | 1980-10-01 | Hitachi Ltd | Electron microscope |
JPS55128243A (en) * | 1979-03-28 | 1980-10-03 | Hitachi Ltd | Electron microscope |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS614142A (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP2685603B2 (ja) | 電子線装置 | |
US6720558B2 (en) | Transmission electron microscope equipped with energy filter | |
US6140645A (en) | Transmission electron microscope having energy filter | |
JPS6261252A (ja) | 電子顕微鏡の照射レンズ装置 | |
JP2003092078A (ja) | 電子顕微鏡の球面収差補正装置 | |
JPH05135727A (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP3876129B2 (ja) | 透過型電子顕微鏡 | |
JPS5919408B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP3112546B2 (ja) | 粒子線装置 | |
JPS6336109B2 (ja) | ||
JP3234373B2 (ja) | 磁界形電子レンズおよびこれを用いた電子線装置 | |
JPH0234750Y2 (ja) | ||
JPH01236563A (ja) | 電子顕微鏡における多目的開き角制御装置 | |
JPS61193349A (ja) | 電子顕微鏡における電子線照射方法 | |
JPH037880Y2 (ja) | ||
JPH04336B2 (ja) | ||
JP2002216696A (ja) | 電子顕微鏡 | |
JPS6332219B2 (ja) | ||
JPH0619964B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JPH11283548A (ja) | 電子顕微鏡装置及びそれを用いた試料観察方法 | |
JPS62133656A (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP4727132B2 (ja) | 電子顕微鏡のフォーカス合わせ装置 | |
JP2541931B2 (ja) | 収束電子線回折装置 | |
JPH0161228B2 (ja) |