JPS6254850A - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
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- JPS6254850A JPS6254850A JP60193630A JP19363085A JPS6254850A JP S6254850 A JPS6254850 A JP S6254850A JP 60193630 A JP60193630 A JP 60193630A JP 19363085 A JP19363085 A JP 19363085A JP S6254850 A JPS6254850 A JP S6254850A
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- JP
- Japan
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、情報記録層としてインドフェノール系色素を
有する光学的記録媒体に関するものである。
有する光学的記録媒体に関するものである。
詳しくは、半導体レーザーの発振波長の光エネルギーに
よシ物質状態の変化を利用して記録を行なう光学的記録
媒体K[Wするものである。
よシ物質状態の変化を利用して記録を行なう光学的記録
媒体K[Wするものである。
この種の光学的記録媒体としては、櫨々の構成のものが
知られている。
知られている。
例えは、特開昭!j−97033号公報には、基板上に
7タロシアニン系色素の単槽を設けたものが開示されて
いる。フタロシアニン系色素は感度が低い、分解点が高
く蒸看しにくい等の問題点を有し、さらに有機溶媒に対
する溶解性が著しく低く、塗布によるコーティングに使
用することができないという問題点も有している。
7タロシアニン系色素の単槽を設けたものが開示されて
いる。フタロシアニン系色素は感度が低い、分解点が高
く蒸看しにくい等の問題点を有し、さらに有機溶媒に対
する溶解性が著しく低く、塗布によるコーティングに使
用することができないという問題点も有している。
また、特開昭7 ? −rj34t4を号公報にはフエ
ナレン系色素を、特開昭!?−ムd293号公報にはす
7トキノン系色累を記録層に設けたものが開示されてい
る。しかし、このような色素は′#看しやすいという利
点の反面、反射率が低込という問題点を有している。反
射率が低すとレーザー光によシ記録さ7″lた部分と未
gピ録部分との反射率VC関係するコントラストは低く
なシ、記録″:!−れた情報の得失が困難々なる。また
、一般に有機系色素は保存安定性が劣るという問題点を
有している。
ナレン系色素を、特開昭!?−ムd293号公報にはす
7トキノン系色累を記録層に設けたものが開示されてい
る。しかし、このような色素は′#看しやすいという利
点の反面、反射率が低込という問題点を有している。反
射率が低すとレーザー光によシ記録さ7″lた部分と未
gピ録部分との反射率VC関係するコントラストは低く
なシ、記録″:!−れた情報の得失が困難々なる。また
、一般に有機系色素は保存安定性が劣るという問題点を
有している。
本発明は、蒸着が容易で、有磯浴媒に対する溶解性が高
く、蓋面によるコーティングも可能で、しかも、反射率
が高く、コントラストが良好で保存性にすぐれている色
素を用いた光学的記録媒体を提供することを目的とする
ものである。
く、蓋面によるコーティングも可能で、しかも、反射率
が高く、コントラストが良好で保存性にすぐれている色
素を用いた光学的記録媒体を提供することを目的とする
ものである。
本発明は、レーザー光巌によって状、態度化な生せしめ
ることによって記録褥生を行なうための光学的記録媒体
であって、基板にインドフェノール糸色素を担持せしめ
たことを特徴とする光学的記録媒体をその要旨とするも
のである。
ることによって記録褥生を行なうための光学的記録媒体
であって、基板にインドフェノール糸色素を担持せしめ
たことを特徴とする光学的記録媒体をその要旨とするも
のである。
本発明の光学的記録媒体に用いられるインドフェノール
系色素としては柚々のものが挙げられるが、例えば下記
一般式〔IDで示されるものが挙げられる。
系色素としては柚々のものが挙げられるが、例えば下記
一般式〔IDで示されるものが挙げられる。
一には置換もしくは、非置換の芳香族アミンの残基な表
わし、−Rは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、直換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは
非を換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアミノカ
ルボニル基、置換もしくは非11羨のカルボニルアミノ
基、置換もしくは非置換のアミンスルホニル基、置換も
しくは非置換のスルホニルアミノ基または置換もしくは
非置換のチオカルボニルアミノ基を表わす。) 一般式[1)中、Rで示されるアルキル基、アルコキシ
基、アミノカルボニル基、カルボニルアミノ基、アミノ
スルホニル基、スルホニルアミノ基またはチオカルボニ
ルアミノ基の置換基としては、例えば、チオシアナト基
、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、ア
リルスルホニル基、ヒドロキシアルキルスルホニル基、
アルコキシスルホニル基、アルコキシアルコキシスルホ
ニル基、アリルスルホニル基、アルコキシカルボニル基
、アルコキシアルコキシカルボニル基、アルコキシアル
コキシアルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルコ
キシアルコキシ基、アルコキシアルコキシアルコキシ基
等で置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基等の
アリール基:アルキル基:ベンジル基等のアラルキル基
:テトラヒドロフルフリル基ニジクロヘキシル基等のシ
クロアルキル基:フェニルアミ7基、アルキルアミノ基
、ジアルキルアミノ基等のアミン基−二トロチアゾリル
基、ニトロベンゾチアゾリル基、アルキルチオチアジア
ゾリル基、ジシアノアルキルジアゾリル基、ブロムベン
ゾチアゾール基等の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原
子ケ含む5員または6負の置換もしくは非置換の複素環
残基等を拳げることかできる。
わし、−Rは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、直換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは
非を換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアミノカ
ルボニル基、置換もしくは非11羨のカルボニルアミノ
基、置換もしくは非置換のアミンスルホニル基、置換も
しくは非置換のスルホニルアミノ基または置換もしくは
非置換のチオカルボニルアミノ基を表わす。) 一般式[1)中、Rで示されるアルキル基、アルコキシ
基、アミノカルボニル基、カルボニルアミノ基、アミノ
スルホニル基、スルホニルアミノ基またはチオカルボニ
ルアミノ基の置換基としては、例えば、チオシアナト基
、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、ア
リルスルホニル基、ヒドロキシアルキルスルホニル基、
アルコキシスルホニル基、アルコキシアルコキシスルホ
ニル基、アリルスルホニル基、アルコキシカルボニル基
、アルコキシアルコキシカルボニル基、アルコキシアル
コキシアルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルコ
キシアルコキシ基、アルコキシアルコキシアルコキシ基
等で置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基等の
アリール基:アルキル基:ベンジル基等のアラルキル基
:テトラヒドロフルフリル基ニジクロヘキシル基等のシ
クロアルキル基:フェニルアミ7基、アルキルアミノ基
、ジアルキルアミノ基等のアミン基−二トロチアゾリル
基、ニトロベンゾチアゾリル基、アルキルチオチアジア
ゾリル基、ジシアノアルキルジアゾリル基、ブロムベン
ゾチアゾール基等の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原
子ケ含む5員または6負の置換もしくは非置換の複素環
残基等を拳げることかできる。
また、Kで示される置換もしくは非置換の芳香族アミン
の残基としては、例えは、テトラヒドロキノリン類、或
いは、下記一般式[ID(式中、−Xおよび−Yは水素
原子、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基また
はハロゲン原子を表わし、−圧および−Rsは水素原子
;C1〜C2゜の置換もしくは非置換のアルキル基、ア
リール基またはシクロヘキシル基を表わす。)で示され
る基等が挙げられる。式中、 R2および−R3で示さ
れるアルキル基、アリール基またはシクロヘキシル基の
置換基としては、例えば、アルコキシ基、アルコキシア
ルコ中シ基、アルコキシアルコキシアルコキシ基、アリ
ルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基
、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基等が挙げられる
、 前記一般式[1)で示されるインドフェノール系色素は
、600−foonmの成長(if域で吸収を有し、し
かも分子吸収係数がio’〜/ 0” cm−’である
。
の残基としては、例えは、テトラヒドロキノリン類、或
いは、下記一般式[ID(式中、−Xおよび−Yは水素
原子、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基また
はハロゲン原子を表わし、−圧および−Rsは水素原子
;C1〜C2゜の置換もしくは非置換のアルキル基、ア
リール基またはシクロヘキシル基を表わす。)で示され
る基等が挙げられる。式中、 R2および−R3で示さ
れるアルキル基、アリール基またはシクロヘキシル基の
置換基としては、例えば、アルコキシ基、アルコキシア
ルコ中シ基、アルコキシアルコキシアルコキシ基、アリ
ルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基
、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基等が挙げられる
、 前記一般式[1)で示されるインドフェノール系色素は
、600−foonmの成長(if域で吸収を有し、し
かも分子吸収係数がio’〜/ 0” cm−’である
。
また、上記一般式〔l〕で衣わされるインドフェノール
系色素の中で好ましい色素としては、一般式[n] 前記と同義を表わし、 R1は水素原子:C8〜C20
の置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基または
シクロヘキシル基;シ、素原子、酸素原子または硫黄原
子を含む!員または6員の置換もしくは非置換の複素環
残基を表わし、−Amは一0ONH−1−N)too−
1−So、NH−1−NHCONH−1−NH30,N
H−または−NHl?1SNH−を表わす)で示される
インドフェノール系色〜、/薯一般弐
〇−〔式中、−A−は前記と同
義を表わし、 X/および−Y′は水素原子、a、 +
C,のアルキル基、01〜C4のアシルアミノ基、C
7〜C4のアルコキシ基またはハロゲン原子を表わし、
−R7および−R8は水素原子、アラルキル基、シアノ
アルキル基または−(C2H,O)tR9(−R9はC
0〜C7゜のアルキル基を表わし、Jは6≧1≧0の整
数、好ましくは、グ≧1≧θの整数を表わす。)で示さ
れる基を表わし、 R4、−R3および−R6は水素原
子、ニトロ基、シアン基、チオシアナト基、ハロゲン原
子、アルキル基、ヒドロキシ基、−(QC,H,)、0
RI0(−RIGはアルケニル基または01〜C1゜の
アルキル基を表わし、mはに≧m≧0の整数、好ましく
は、Z≧m≧Oの整数を表わす。)で示される基、−C
o(QC,H,)nORI+ (−H++はアルケニル
基ブたはC8〜CI0のアルキル基を表わし、nは6≧
n≧0のを数、好1しくは、グ≧n≧Oの整数を表わす
。)で示される基、So、RI2 (−R1′は01〜
C8゜のアルキル基、C3〜010のアルコキシアルキ
ル基、02〜C8゜のヒドロキシアルキル基筒たはビニ
ル基を衣わす。)ロキシアルキル基またはビニル基を表
わす。)で示される基を表わし、−Amは一0ONH−
または−8O□N)(−を表わす。〕で示されるインド
フェノール系色素等が挙けられる。
系色素の中で好ましい色素としては、一般式[n] 前記と同義を表わし、 R1は水素原子:C8〜C20
の置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基または
シクロヘキシル基;シ、素原子、酸素原子または硫黄原
子を含む!員または6員の置換もしくは非置換の複素環
残基を表わし、−Amは一0ONH−1−N)too−
1−So、NH−1−NHCONH−1−NH30,N
H−または−NHl?1SNH−を表わす)で示される
インドフェノール系色〜、/薯一般弐
〇−〔式中、−A−は前記と同
義を表わし、 X/および−Y′は水素原子、a、 +
C,のアルキル基、01〜C4のアシルアミノ基、C
7〜C4のアルコキシ基またはハロゲン原子を表わし、
−R7および−R8は水素原子、アラルキル基、シアノ
アルキル基または−(C2H,O)tR9(−R9はC
0〜C7゜のアルキル基を表わし、Jは6≧1≧0の整
数、好ましくは、グ≧1≧θの整数を表わす。)で示さ
れる基を表わし、 R4、−R3および−R6は水素原
子、ニトロ基、シアン基、チオシアナト基、ハロゲン原
子、アルキル基、ヒドロキシ基、−(QC,H,)、0
RI0(−RIGはアルケニル基または01〜C1゜の
アルキル基を表わし、mはに≧m≧0の整数、好ましく
は、Z≧m≧Oの整数を表わす。)で示される基、−C
o(QC,H,)nORI+ (−H++はアルケニル
基ブたはC8〜CI0のアルキル基を表わし、nは6≧
n≧0のを数、好1しくは、グ≧n≧Oの整数を表わす
。)で示される基、So、RI2 (−R1′は01〜
C8゜のアルキル基、C3〜010のアルコキシアルキ
ル基、02〜C8゜のヒドロキシアルキル基筒たはビニ
ル基を衣わす。)ロキシアルキル基またはビニル基を表
わす。)で示される基を表わし、−Amは一0ONH−
または−8O□N)(−を表わす。〕で示されるインド
フェノール系色素等が挙けられる。
本発明にお−て、基板に担持ぜしめられるインドフェノ
ール系色素の一般的合成は、たとえば、P、W、 Vi
ttum an4 G、HoBrown、 J、 Am
、 Soc。
ール系色素の一般的合成は、たとえば、P、W、 Vi
ttum an4 G、HoBrown、 J、 Am
、 Soc。
Ohem、 、 t? 、2−23! (/941−t
)の記載に準じて行うことができる。
)の記載に準じて行うことができる。
本発明の光学的記録媒体は、基本的には基板と記at−
とから構成されるものであるが、さらに必要に応じて基
板上に下引き層をまた記録ノー上に保護増を設けること
ができる。
とから構成されるものであるが、さらに必要に応じて基
板上に下引き層をまた記録ノー上に保護増を設けること
ができる。
本発明における基板としては、使用するレーザー光に対
して透明または不透明のいずれでもより0基板材料の材
質としては、ガラス、プラスチック11紙、板状または
箔状の金属等の一般の記録羽村の支持体が挙げられるが
、プラスチックが極々の点から好適である。プラスチッ
クとしては、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエ
チレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリサルホン樹脂等が挙げられる
。
して透明または不透明のいずれでもより0基板材料の材
質としては、ガラス、プラスチック11紙、板状または
箔状の金属等の一般の記録羽村の支持体が挙げられるが
、プラスチックが極々の点から好適である。プラスチッ
クとしては、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエ
チレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリサルホン樹脂等が挙げられる
。
本発明の光学的記録媒体における情報記録層としてイン
ドフェノール系色素を使用する際、3μmである。成膜
法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクター7
レード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法など一般に
行なわれている薄膜形成法で成膜する仁とができる。普
た、必要に応じてバインダーケ使用することもできる。
ドフェノール系色素を使用する際、3μmである。成膜
法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクター7
レード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法など一般に
行なわれている薄膜形成法で成膜する仁とができる。普
た、必要に応じてバインダーケ使用することもできる。
バインダーとしてはPVA、PVP、ニトロセルロース
、詐取セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカーボ
ネートなど既知のものが用いられ、樹脂に対するインド
フェノール系色素の童は1jLf比で0.07以上ある
ことが望ましい。スピナー法による成膜の場合、回転数
は!00〜!θ00rpmが好着しく、スピンコードの
後、場合によっては、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等
の処理を行なってもよい。また、記録体の安定性や耐光
性向上のために、−重項酸素クエンチャーとして遷移金
属キレート化合物(たとえば、アセチルアセトナートキ
レート、ビスフェニルジチオール、丈すチルアルデヒド
オキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等)を含有してい
てもよい。更((、心安に応じて他の色素を併用するこ
とができる。他の色素としては別の種類のインドフェノ
ール系色素でもよいし、トリアリールメタン糸色素、ア
ゾ東料、シアニン示色素、スクワリリウム糸色素など他
系状の色素でもよい。
、詐取セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカーボ
ネートなど既知のものが用いられ、樹脂に対するインド
フェノール系色素の童は1jLf比で0.07以上ある
ことが望ましい。スピナー法による成膜の場合、回転数
は!00〜!θ00rpmが好着しく、スピンコードの
後、場合によっては、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等
の処理を行なってもよい。また、記録体の安定性や耐光
性向上のために、−重項酸素クエンチャーとして遷移金
属キレート化合物(たとえば、アセチルアセトナートキ
レート、ビスフェニルジチオール、丈すチルアルデヒド
オキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等)を含有してい
てもよい。更((、心安に応じて他の色素を併用するこ
とができる。他の色素としては別の種類のインドフェノ
ール系色素でもよいし、トリアリールメタン糸色素、ア
ゾ東料、シアニン示色素、スクワリリウム糸色素など他
系状の色素でもよい。
ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、&家法
、荷に、スピナー法等の塗布方法によ)記録層を形成す
る場合の塗布浴法としては、ブロモホルム、ジブロモエ
タン、エチルセロンルフ、キシレン、クロロベンゼン、
シクロヘキサノン等の汚点/20〜/AO℃のものが好
適に使用される。
、荷に、スピナー法等の塗布方法によ)記録層を形成す
る場合の塗布浴法としては、ブロモホルム、ジブロモエ
タン、エチルセロンルフ、キシレン、クロロベンゼン、
シクロヘキサノン等の汚点/20〜/AO℃のものが好
適に使用される。
本発明の光学記録体の記録層は基板の両面に設けてもよ
いし、片面だけに設けてもよい。
いし、片面だけに設けてもよい。
上記の様にして得られた記録体への記録は、基体の両面
または、片面に設けた記録層に/μm程度に集束したレ
ーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光をあてる事
により行なう。レーザー光の照射された部分には、レー
ザーエネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶融等の記
録層の熱的変形が起こる。
または、片面に設けた記録層に/μm程度に集束したレ
ーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光をあてる事
により行なう。レーザー光の照射された部分には、レー
ザーエネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶融等の記
録層の熱的変形が起こる。
記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取る事によシ行なう。
が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取る事によシ行なう。
本発明の光学的記録媒体について使用されるレーサー光
はN2)He−Cd、 Ar 、 He−No、ルビー
、半導体、色素レーザーなどがあげられるが、特に、軽
量性、取扱いの容易さ、コンパクト性などの点から半導
体レーザーが好適である。
はN2)He−Cd、 Ar 、 He−No、ルビー
、半導体、色素レーザーなどがあげられるが、特に、軽
量性、取扱いの容易さ、コンパクト性などの点から半導
体レーザーが好適である。
実施例
以下実施例によシこの発明を具体的に説明するが、かか
る実施例は本発明を限定するものではない。
る実施例は本発明を限定するものではない。
実施例/
下紀樽造式のインドフェノール系色素を2x/θ−’
Torrの真空下で、約jrO〜/!0℃に加熱し、板
厚/2龍のメタアクリル樹脂(以下、PMMAと記す)
基板上に真空蒸着した。蒸着膜厚は水晶振動式膜厚計に
よる真空蒸N膜厚測定の結果、コ0/!Aであった。分
光光度計による最大吸収成長は、tjOnmであり、ス
ペクトルの形状は、巾広かった。
Torrの真空下で、約jrO〜/!0℃に加熱し、板
厚/2龍のメタアクリル樹脂(以下、PMMAと記す)
基板上に真空蒸着した。蒸着膜厚は水晶振動式膜厚計に
よる真空蒸N膜厚測定の結果、コ0/!Aであった。分
光光度計による最大吸収成長は、tjOnmであり、ス
ペクトルの形状は、巾広かった。
インドフェノール系色素;
このようにして得られた薄膜に、光源としてHe−Ne
レーザーを用いビーム径コ、ダμm、波長d3.2./
nmで曹き込みを行なったところ、均一かつ明瞭な形状
のピット(孔)が得られた。キャリヤーレベル/ノイズ
レベル(0/N)比もグj dB と良好であった。
レーザーを用いビーム径コ、ダμm、波長d3.2./
nmで曹き込みを行なったところ、均一かつ明瞭な形状
のピット(孔)が得られた。キャリヤーレベル/ノイズ
レベル(0/N)比もグj dB と良好であった。
また、この記録媒体は、室内光中、温度り0℃、湿度9
0チの条件下で良好な保存性を示した。
0チの条件下で良好な保存性を示した。
実施例コ
下記構造式
で示されるインドフェノール系色素を、実施例7に記載
の方法に従ってPMMA基板上に真空蒸着した。
の方法に従ってPMMA基板上に真空蒸着した。
蒸層楓厚は、水晶奈動式族厚計による真空蒸層腺厚測定
の結果、−〇2θAであった。
の結果、−〇2θAであった。
分光光度計による最大吸収波長は、73!nrnであシ
、スペクトルの形状は、巾広かった。
、スペクトルの形状は、巾広かった。
このようにして得られた薄膜に、光源として、中心波長
7♂Onmの半導体レーザーを用い、ビーム径約/μm
で書き込みを行なったところ、均一かつ明瞭な形状のピ
ットが得られた。C/N比もj OdBと良好であった
。
7♂Onmの半導体レーザーを用い、ビーム径約/μm
で書き込みを行なったところ、均一かつ明瞭な形状のピ
ットが得られた。C/N比もj OdBと良好であった
。
また、この記録媒体は、室内光中、温度グθ℃、湿度9
0%の条件下で良好な保存性を示した。
0%の条件下で良好な保存性を示した。
実施例3
下記構造式
で示される色素Q、コIをクロロホルムコOdに溶解し
たものを厚さへ/朋の厚さのガラス基板に回転塗布し、
減圧下、700℃で乾燥させて厚さ0.2μmの記録媒
体を作成した。
たものを厚さへ/朋の厚さのガラス基板に回転塗布し、
減圧下、700℃で乾燥させて厚さ0.2μmの記録媒
体を作成した。
分光光度計による最大吸収波長は7J’jnmであシス
ベクトルの形状は巾広かった。
ベクトルの形状は巾広かった。
このようにして得られた記録媒体に、実施例/の方法に
従って情報の記録を行なったところ、均一かつ明瞭な形
状のピットが得られた。
従って情報の記録を行なったところ、均一かつ明瞭な形
状のピットが得られた。
実施例弘
実施例λにおいて用いたインドフェノール系色素の代わ
シに下記第1表に示した化合物を使用して蒸着したとこ
ろ、下記第7表に示す最大吸収波長をもつ薄膜基板を得
た。このようにして得られた薄膜に光源として半導体レ
ーザーを用いて畜き込みを行なったところ均一かつ明瞭
な形状のピットが得られた。C/N比も良好であり、保
存性も良好であった。
シに下記第1表に示した化合物を使用して蒸着したとこ
ろ、下記第7表に示す最大吸収波長をもつ薄膜基板を得
た。このようにして得られた薄膜に光源として半導体レ
ーザーを用いて畜き込みを行なったところ均一かつ明瞭
な形状のピットが得られた。C/N比も良好であり、保
存性も良好であった。
第1表
実施例!
実施例/において用いたインドフェノール系色素の代わ
シに以下の第2衣に示した化合物を使用して蒸着したと
ころ、第二表に示す最大吸収成長をもつ薄膜基板を得た
。このようにして得られた薄膜に光源としてHe−14
8レーザーを用いて薔き込みを行なったところ、均一か
つ明瞭な形状のビットが得られた。O/N比も良好で、
かつ、保存性も良好であった。
シに以下の第2衣に示した化合物を使用して蒸着したと
ころ、第二表に示す最大吸収成長をもつ薄膜基板を得た
。このようにして得られた薄膜に光源としてHe−14
8レーザーを用いて薔き込みを行なったところ、均一か
つ明瞭な形状のビットが得られた。O/N比も良好で、
かつ、保存性も良好であった。
wJλ表
実施例6
下記構造式の17ドフ工ノール系色素/9をジブロモエ
タン!09に溶解し、0.22μのフィルターで一過し
、険解散を得た。この溶液λdを、深さ7θOA、巾0
.2μの紫外紛硬化樹月旨による溝(グループ (/λ0朋Z)上に滴下し、スピナー法によシ/.20
Orpmの回転数で塗布した。塗布後、60℃でIO分
間乾線上た。同一条件でガラス板に塗布して、α−ステ
ップによる膜厚測定したところ、/ΔθθAであった。
タン!09に溶解し、0.22μのフィルターで一過し
、険解散を得た。この溶液λdを、深さ7θOA、巾0
.2μの紫外紛硬化樹月旨による溝(グループ (/λ0朋Z)上に滴下し、スピナー法によシ/.20
Orpmの回転数で塗布した。塗布後、60℃でIO分
間乾線上た。同一条件でガラス板に塗布して、α−ステ
ップによる膜厚測定したところ、/ΔθθAであった。
途布膜の最大吸収波長は7 4 0 nmであり、スペ
クトルの形状は巾広かった。
クトルの形状は巾広かった。
インドフェノール系色素:
この塗布膜に、中心成長cr 30 nmの半導体レー
ザー光を出力t mWでビーム径/μmで照射した所、
巾約/μm、ビット艮約λμmの輪郭の極めて明瞭なピ
ットが形成された。07N比はダ♂dBであった。保存
安定性(tSO℃、/Q%RH)も良好であった。
ザー光を出力t mWでビーム径/μmで照射した所、
巾約/μm、ビット艮約λμmの輪郭の極めて明瞭なピ
ットが形成された。07N比はダ♂dBであった。保存
安定性(tSO℃、/Q%RH)も良好であった。
実施例?
実施例≦において用いたインドフェノール系色素の代わ
邊に下記第3表に示した化合物を使用して塗布したとこ
ろ、下記第3表に示す最大吸収波長をもつ薄膜基板を得
た。このようにし1得られたれV膜に光源として半導体
レーザーを用いて書き込みを行なったところ、均一かつ
明瞭な形状のビットが得られた。O/ N比も良好であ
り、保存性も良好であった。
邊に下記第3表に示した化合物を使用して塗布したとこ
ろ、下記第3表に示す最大吸収波長をもつ薄膜基板を得
た。このようにし1得られたれV膜に光源として半導体
レーザーを用いて書き込みを行なったところ、均一かつ
明瞭な形状のビットが得られた。O/ N比も良好であ
り、保存性も良好であった。
第3表
Claims (6)
- (1)レーザー光線によつて状態変化を生ぜしめること
によつて記録再生を行なうための光学的記録媒体であつ
て、基板にインドフェノール系色素を担持せしめたこと
を特徴とする光学的記録媒体。 - (2)特許請求の範囲第1項記載の光学的記録媒体にお
いて、インドフェノール系色素が、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼…………〔 I 〕 (式中、▲数式、化学式、表等があります▼は▲数式、
化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等
があります▼を表わし、−Kは置換もしくは非置換の芳
香族アミンの残基を表わし、−Rは水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、置換もしくは非置換のアル
キル基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もし
くは非置換のアミノカルボニル基、置換もしくは非置換
のカルボニルアミノ基、置換もしくは非置換のアミノス
ルホニル基、置換もしくは非置換のスルホニルアミノ基
または置換もしくは非置換のチオカルボニルアミノ基を
表わす)で示されるインドフェノール系色素であるもの
。 - (3)特許請求の範囲第1項記載の光学的記録媒体にお
いて、インドフェノール系色素が、一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼…………〔II〕 (式中、▲数式、化学式、表等があります▼は▲数式、
化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等
があります▼を表わし、−Xおよび−Yは水素原子、ア
ルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲ
ン原子を表わし、−R^1は水素原子;C_1〜C_2
_0の置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基ま
たはシクロヘキシル基;窒素原子、酸素原子または硫黄
原子を含む置換もしくは非置換の5員または6員の複素
環残基を表わし、−R^2および−R^3は水素原子;
C_1〜C_2_0の置換もしくは非置換のアルキル基
、アリール基またはシクロヘキシル基を表わし、−A−
は −CONH−、−NHCO−、−SO_2NH−、−N
HCONH−、−NHSO_2NH−または−NHCS
NH−を表わす)で示されるインドフェノール系色素で
あるもの。 - (4)特許請求の範囲第1項記載の光学的記録媒体にお
いて、インドフェノール系色素が、一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼…………〔II〕 〔式中、−X′および−Y′は水素原子、C_1〜C_
4のアルキル基、C_1〜C_4のアシルアミノ基、C
_1〜C_4のアルコキシ基またはハロゲン原子を表わ
し、−R^7および−R^8は水素原子、アラルキル基
、シアノアルキル基または −(C_2H_4O)_lR^9(−R^9はC_1〜
C_1_0のアルキル基を表わし、lは6≧l≧0の整
数を表わす)で示される基を表わし、−R^4、−R^
5および−R^6は水素原子、ニトロ基、シアノ基、チ
オシアナト基、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ
基、−(OC_2H_4)_mOR^1^0(−R^1
^0はアルケニル基またはC_1〜C_1_0のアルキ
ル基を表わし、mは6≧m≧0の整数を表わす)で示さ
れる基、−CO(OC_2H_4)_nOR^1^1(
−R^1^1はアルケニル基またはC_1〜C_1_0
のアルキル基を表わし、nは6≧n≧0の整数を表わす
)で示される基、 −SO_2R^1^2(−R^1^2はC_1〜C_1
_0のアルキル基、C_3〜C_1_0のアルコキシア
ルキル基、C_2〜C_1_0のヒドロキシアルキル基
またはビニル基を表わす)で示される基または−SO_
3R^1^3(−R^1^3はC_1〜C_1_0のア
ルキル基、C_3〜C_1_0のアルコキシアルキル基
、C_2〜C_1_0のヒドロキシアルキル基またはビ
ニル基を表わす。)で示される基を表わし、−A−は−
CONH−または−SO_2NH−を表わす。〕で示さ
れるインドフェノール系色素であるもの。 - (5)特許請求の範囲第4項記載の光学的記録媒体にお
いて、一般式〔III〕で示されるインドフェノール系色
素が、式中、−R^7または−R^8の少くともいずれ
か一方が−(C_2H_4O)_l_′R^9(−R^
9は前記と同義を表わし、l′は4≧l′≧2の整数を
表わす。)で示される基を表わすインドフェノール系色
素であるもの。 - (6)特許請求の範囲第4項記載の光学的記録媒体にお
いて、一般式〔III〕で示されるインドフェノール系色
素が、式中、−R^4、−R^5または−R^6の少く
ともいずれか1つが−(OC_2H_4)_mOR^1
^0(−R^1^0およびmは前記と同義を表わす。)
で示される基または−CO(OC_2H_4)_nOR
^1^1(−R^1^1およびnは前記と同義を表わす
。)で示される基を表わすインドフェノール系色素であ
るもの。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60193630A JPH0737181B2 (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60193630A JPH0737181B2 (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 光学的記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6254850A true JPS6254850A (ja) | 1987-03-10 |
JPH0737181B2 JPH0737181B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=16311136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60193630A Expired - Fee Related JPH0737181B2 (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0737181B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01176593A (ja) * | 1987-12-30 | 1989-07-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 熱転写シート |
-
1985
- 1985-09-02 JP JP60193630A patent/JPH0737181B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH01176593A (ja) * | 1987-12-30 | 1989-07-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 熱転写シート |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0737181B2 (ja) | 1995-04-26 |
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