JPS6253883A - 光学記録媒体 - Google Patents
光学記録媒体Info
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- JPS6253883A JPS6253883A JP60193467A JP19346785A JPS6253883A JP S6253883 A JPS6253883 A JP S6253883A JP 60193467 A JP60193467 A JP 60193467A JP 19346785 A JP19346785 A JP 19346785A JP S6253883 A JPS6253883 A JP S6253883A
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- optical recording
- recording
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B2007/24318—Non-metallic elements
- G11B2007/24328—Carbon
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0045—Recording
- G11B7/00453—Recording involving spectral or photochemical hole burning
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光学的な性質の変化として情報を記録し、光
学的手段により記録した情報を再生できる光学記録媒体
に関する。
学的手段により記録した情報を再生できる光学記録媒体
に関する。
本発明は、光学記録媒体において、
記録層に光吸収性の非晶質炭素薄膜を用い、レーザ光を
照射して形成した光学的に貫通する孔を記録ピットとし
て用いるこ°とにより、高密度記録が可能で、毒性がな
く、しかも安定性に優れ、簡単な構成の装置で記録再生
ができる光学記録媒体を提供するものである。
照射して形成した光学的に貫通する孔を記録ピットとし
て用いるこ°とにより、高密度記録が可能で、毒性がな
く、しかも安定性に優れ、簡単な構成の装置で記録再生
ができる光学記録媒体を提供するものである。
（従来の技術〕
光学的に情報の記録再生を行うことのできる光学記録媒
体、例えば光ディスクは、基板上に薄い記録層が設けら
れている。この記録層に情報を記録するためには、情報
信号により変調を施したレーザ光等の光学的または熱的
なエネルギを加え、光学的に検出可能な数ｎ１）ないし
ｌｎｍ程度の小さな記録ピントを形成する。この記録さ
れた情報を再生するには、レーザ光を記録トラックに沿
って走査し、記録ピットが形成された部分と形成されて
いない部分との光学的変化を検出する。このような光学
記録再生方式は、記録、再生または消去時に光のピック
アップと光学記録媒体とが接触しないので、摩耗がなく
、静止画像、高速度検索等に利用でき、静止画ファイル
、文書ファイルあるいはデータファイルとして実用化さ
れつつある。
体、例えば光ディスクは、基板上に薄い記録層が設けら
れている。この記録層に情報を記録するためには、情報
信号により変調を施したレーザ光等の光学的または熱的
なエネルギを加え、光学的に検出可能な数ｎ１）ないし
ｌｎｍ程度の小さな記録ピントを形成する。この記録さ
れた情報を再生するには、レーザ光を記録トラックに沿
って走査し、記録ピットが形成された部分と形成されて
いない部分との光学的変化を検出する。このような光学
記録再生方式は、記録、再生または消去時に光のピック
アップと光学記録媒体とが接触しないので、摩耗がなく
、静止画像、高速度検索等に利用でき、静止画ファイル
、文書ファイルあるいはデータファイルとして実用化さ
れつつある。
このような光学記録媒体の記録層の材質としては、従来
、テルル（Ｔｅ） ｉｌ膜、テルル・セレン（Ｔｅ−Ｓ
ｅ）ｉｓ膜、テルル、ゲルマニウム、モリブデン等の還
元性酸化物（Ｔｅａ、、Ｇｅ０Ｘｘ Ｍｏｕｌｔ）薄膜
、ガドリニウム・テルビウム・鉄（Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ）
薄膜、ガドリニウム・コバルト（Ｇｄ−Ｃｏ） ｍ膜
等の磁性薄膜が用いられていた。
、テルル（Ｔｅ） ｉｌ膜、テルル・セレン（Ｔｅ−Ｓ
ｅ）ｉｓ膜、テルル、ゲルマニウム、モリブデン等の還
元性酸化物（Ｔｅａ、、Ｇｅ０Ｘｘ Ｍｏｕｌｔ）薄膜
、ガドリニウム・テルビウム・鉄（Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ）
薄膜、ガドリニウム・コバルト（Ｇｄ−Ｃｏ） ｍ膜
等の磁性薄膜が用いられていた。
このような磁性薄膜に情報を記録するには、レーザ光を
照射して局所的に温度を上昇させ、同時に外部から磁界
を作用させて、温度上昇部の磁化を反転させる。これに
より所望の情報信号に応じた磁化反転領域が形成され、
情報が記録される。
照射して局所的に温度を上昇させ、同時に外部から磁界
を作用させて、温度上昇部の磁化を反転させる。これに
より所望の情報信号に応じた磁化反転領域が形成され、
情報が記録される。
情報を再生するには、レーザ光を照射して記録媒体から
の反射光の磁気カー効果または透過光のファラデー効果
を利用する。このような記録再生方式を光磁気記録再生
方式という。
の反射光の磁気カー効果または透過光のファラデー効果
を利用する。このような記録再生方式を光磁気記録再生
方式という。
しかし、光磁気記録再生方式では、記録媒体の記録密度
はｌｃＪあたり１０メガビツトと小さい。しかも、情報
の記録再生には偏光子および検光子を通過させた偏光レ
ーザビームを使用する必要がある。このため、実用化を
考慮した場合には、光検出器の出力レベルや信号雑音比
が不十分である。
はｌｃＪあたり１０メガビツトと小さい。しかも、情報
の記録再生には偏光子および検光子を通過させた偏光レ
ーザビームを使用する必要がある。このため、実用化を
考慮した場合には、光検出器の出力レベルや信号雑音比
が不十分である。
また、テルルを含有する薄膜や還元性酸化物薄膜は、一
度書き込んだ情報を消去して再度書き込む可逆的な使用
はできないが、最高で１−あたり２５０メガビツトとい
う高密度記録が可能である。
度書き込んだ情報を消去して再度書き込む可逆的な使用
はできないが、最高で１−あたり２５０メガビツトとい
う高密度記録が可能である。
しかし、レーザ光でこれらの薄膜を加熱するには、光エ
ネルギの吸収性が悪いため高出力のレーザ装置を使用す
る必要がある。このため、書き込み装置が大型になる欠
点がある。さらに、テルルやセレンは毒性があり、しか
も安定性が劣っているため、特に情報ファイルとして用
いる場合には情報を保存できる期間が短い欠点がある。
ネルギの吸収性が悪いため高出力のレーザ装置を使用す
る必要がある。このため、書き込み装置が大型になる欠
点がある。さらに、テルルやセレンは毒性があり、しか
も安定性が劣っているため、特に情報ファイルとして用
いる場合には情報を保存できる期間が短い欠点がある。
本発明は、高密度記録が可能で、駆動装置の小型軽量化
が容易で、しかも毒性がなく安定性に優れた光学記録媒
体を提供することを目的とする。
が容易で、しかも毒性がなく安定性に優れた光学記録媒
体を提供することを目的とする。
本発明の光記録媒体は、基板上に設けられた記録層に、
光吸収性の非晶質炭素薄膜を用いたことを特徴とする。
光吸収性の非晶質炭素薄膜を用いたことを特徴とする。
ここで「光吸収性」とは、黒色で光エネルギを吸収する
性質をいう。光吸収性の炭素材料としてはガラス状炭素
やグラファイトがある。
性質をいう。光吸収性の炭素材料としてはガラス状炭素
やグラファイトがある。
この光学記録媒体に情報を記録するには、その情報を示
す信号により変調されたレーザ光を集光して照射し、局
所的に温度を上昇させて炭素を蒸発させ、記録層に光学
的にほぼまたは完全に貫通した孔（このような孔を以下
「ドツト」という）を形成する。このときのレーザ光の
エネルギは５〜１０ｍＷで十分である。情報を再生する
には、二つの方法がある。第一の方法は透過光式であり
、光学記録媒体の片面から記録トラックに沿って集光さ
れたレーザ光を走査し、反対の面でドツトを透過した光
を検出する。第二の方法は反射光式であり、片面から同
様にレーザ光を走査し、ドツトを透過して基板面または
基板と記録層との間に設けられた反射膜層で反射された
光を、レーザ光を入射したと同じ面で検出する。どちら
の方法でも、大きな光検出強度を得るためにはドツトが
完全に貫通していることが望ましい。
す信号により変調されたレーザ光を集光して照射し、局
所的に温度を上昇させて炭素を蒸発させ、記録層に光学
的にほぼまたは完全に貫通した孔（このような孔を以下
「ドツト」という）を形成する。このときのレーザ光の
エネルギは５〜１０ｍＷで十分である。情報を再生する
には、二つの方法がある。第一の方法は透過光式であり
、光学記録媒体の片面から記録トラックに沿って集光さ
れたレーザ光を走査し、反対の面でドツトを透過した光
を検出する。第二の方法は反射光式であり、片面から同
様にレーザ光を走査し、ドツトを透過して基板面または
基板と記録層との間に設けられた反射膜層で反射された
光を、レーザ光を入射したと同じ面で検出する。どちら
の方法でも、大きな光検出強度を得るためにはドツトが
完全に貫通していることが望ましい。
光学記録媒体の基板としては、ポリメタクリル酸、ポリ
カーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
スチレン、アクリロニトリル・スチレン・ブタジェンコ
ポリマ、ポリエチレン、ポリプロピレン等の有機樹脂、
エポキシ樹脂、キシレン樹脂、シリコン樹脂、塩化ビニ
ル樹脂、スチレンアルキッド樹脂、あるいは表面がポリ
ウレタン樹脂で被膜されたガラスや、石英、セラミック
等を用いることができる。安全性、軽量、加工性等の点
から有機樹脂を用いることが望ましい。
カーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
スチレン、アクリロニトリル・スチレン・ブタジェンコ
ポリマ、ポリエチレン、ポリプロピレン等の有機樹脂、
エポキシ樹脂、キシレン樹脂、シリコン樹脂、塩化ビニ
ル樹脂、スチレンアルキッド樹脂、あるいは表面がポリ
ウレタン樹脂で被膜されたガラスや、石英、セラミック
等を用いることができる。安全性、軽量、加工性等の点
から有機樹脂を用いることが望ましい。
非晶質炭素薄膜層をこのような基板上に形成する。膜厚
は、通常１００〜２０００人、望ましくは５００〜１０
００人である。形成方法としては、スパッタリング法、
気相成長法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等を
用いることができる。
は、通常１００〜２０００人、望ましくは５００〜１０
００人である。形成方法としては、スパッタリング法、
気相成長法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等を
用いることができる。
スパッタリング法は、イオンをターゲット （本発明の
場合には炭素材料）に照射してターゲット表面の原子ま
たは分子を蒸発させ、この蒸発粒子を基板上に沈着させ
て薄膜を形成する方法である。
場合には炭素材料）に照射してターゲット表面の原子ま
たは分子を蒸発させ、この蒸発粒子を基板上に沈着させ
て薄膜を形成する方法である。
気相成長法は、薄膜材料のハロゲン化物、硫化物、水素
化物等を高温中で熱分解、酸化、還元、重合あるいは気
相化学反応させた後に、薄膜組成を基板上に沈着させせ
薄膜を形成する方法である。気相成長法により炭素薄膜
を形成するには、−ｍに、炭化水素をアーク放電により
熱分解して炭素を基板上に沈着させる方法が用いられる
。真空蒸着法は、ｌ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ以下の高真
空中で薄膜材料（この場合には炭素材料）を加熱蒸発さ
せ、この蒸発粒子を基板上に沈着させて薄膜を形成する
方法である。イオンプレーティング法は、蒸着膜の基板
に対する付着強度を高めるため、蒸発粒子をプラズマ中
を通過させてイオン化し、電界により加速して基板に付
着させる方法である。
化物等を高温中で熱分解、酸化、還元、重合あるいは気
相化学反応させた後に、薄膜組成を基板上に沈着させせ
薄膜を形成する方法である。気相成長法により炭素薄膜
を形成するには、−ｍに、炭化水素をアーク放電により
熱分解して炭素を基板上に沈着させる方法が用いられる
。真空蒸着法は、ｌ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ以下の高真
空中で薄膜材料（この場合には炭素材料）を加熱蒸発さ
せ、この蒸発粒子を基板上に沈着させて薄膜を形成する
方法である。イオンプレーティング法は、蒸着膜の基板
に対する付着強度を高めるため、蒸発粒子をプラズマ中
を通過させてイオン化し、電界により加速して基板に付
着させる方法である。
設膜の容易さ、材料選択の自由度、薄膜の均一性を考慮
すると、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法または気相成長法が望ましい。
すると、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法または気相成長法が望ましい。
例えば真空蒸着法やイオンプレーティング法における蒸
発源、スパッタリング法におけるターゲット等の、非晶
質炭素薄膜層を形成するための炭素材料としては、ガラ
ス状炭素材料を用いることが望ましい。ガラス状炭素材
料を用いて形成した非晶質炭素薄膜層は、特に低エネル
ギでの光吸収性が高く、完全に貫通したドツトを５１程
度の低エネルギのレーザ光で容易に形成できる。
発源、スパッタリング法におけるターゲット等の、非晶
質炭素薄膜層を形成するための炭素材料としては、ガラ
ス状炭素材料を用いることが望ましい。ガラス状炭素材
料を用いて形成した非晶質炭素薄膜層は、特に低エネル
ギでの光吸収性が高く、完全に貫通したドツトを５１程
度の低エネルギのレーザ光で容易に形成できる。
ガラス状炭素材料として、熱硬化性樹脂を炭素化して得
られるガラス状炭素材料、共重合や共縮合などにより熱
硬化するように変性された樹脂を 。
られるガラス状炭素材料、共重合や共縮合などにより熱
硬化するように変性された樹脂を 。
炭素化して得られるガラス状炭素材料、硬化あるいは炭
素化の過程で化学処理により結晶化を妨げることにより
得られるガラス状炭素材料、メタン、エチレン、ベンゼ
ン等の低分子量炭化水素類を気相で熱分解して得られる
ガラス状炭素材料等があり、具体的には、ポリアクリロ
ニトリル系ガラス状炭素材料、レーヨン系ガラス状炭素
材料、ピッチ系ガラス状炭素材料、リグニン系ガラス状
炭素材料、フェノール系ガラス状炭素材料、フラン系ガ
ラス状炭素材料、アルキッド樹脂系ガラス状炭素材料、
不飽和ポリエステル系ガラス状炭素材料、キシレン樹脂
系ガラス状炭素材料、キシレン樹脂系ガラス状炭素材料
等が挙げられる。
素化の過程で化学処理により結晶化を妨げることにより
得られるガラス状炭素材料、メタン、エチレン、ベンゼ
ン等の低分子量炭化水素類を気相で熱分解して得られる
ガラス状炭素材料等があり、具体的には、ポリアクリロ
ニトリル系ガラス状炭素材料、レーヨン系ガラス状炭素
材料、ピッチ系ガラス状炭素材料、リグニン系ガラス状
炭素材料、フェノール系ガラス状炭素材料、フラン系ガ
ラス状炭素材料、アルキッド樹脂系ガラス状炭素材料、
不飽和ポリエステル系ガラス状炭素材料、キシレン樹脂
系ガラス状炭素材料、キシレン樹脂系ガラス状炭素材料
等が挙げられる。
さらに、必要に応じて記録層の上に保護層を設けてもよ
い、保護層は、透明で強度が大きく、記録層と反応し難
いものを用いる。具体的には、チッ化ケイ素５ｉＪａ
、スチレン・アルキッド樹脂、エポキシ・メラミン樹脂
、ポリウレタン樹脂等を用いることができる。保護膜は
、厚さが１０００人〜数−であり、スパッタリング法、
イオンプレーティング法、真空蒸着法、気相成長法、Ｃ
ＶＤ法等により形成する。
い、保護層は、透明で強度が大きく、記録層と反応し難
いものを用いる。具体的には、チッ化ケイ素５ｉＪａ
、スチレン・アルキッド樹脂、エポキシ・メラミン樹脂
、ポリウレタン樹脂等を用いることができる。保護膜は
、厚さが１０００人〜数−であり、スパッタリング法、
イオンプレーティング法、真空蒸着法、気相成長法、Ｃ
ＶＤ法等により形成する。
また、光の検出を容易にするために、基板と記録層の間
に反射膜層を設けてもよい６反射膜層には金属を用い、
アルミニウムＡ１、銀Ａｇ、銅Ｃｕ等を用いる。反射膜
層の厚さは１ｏｏｏλ〜数μであり、スパッタリング法
、イオンプレーティング法、気相成長法、真空蒸着法等
により形成する。
に反射膜層を設けてもよい６反射膜層には金属を用い、
アルミニウムＡ１、銀Ａｇ、銅Ｃｕ等を用いる。反射膜
層の厚さは１ｏｏｏλ〜数μであり、スパッタリング法
、イオンプレーティング法、気相成長法、真空蒸着法等
により形成する。
さらに、記録された情報の再生を効率よく行うために、
基板上に案内溝を設け、その上に記録層を設ける構′造
とすることが望ましい、この構造により、再生装置の位
置精度が少し劣っていても、簡単なサーボ装置により容
易に位置補正を行うことができ、再生装置のコストを削
減することができる。また、基板上に記録層をもつ二枚
の光学記録媒体を、記録面を内側に配置して画記録層の
間にスペーサを設けたサンドインチ構造としてもよい。
基板上に案内溝を設け、その上に記録層を設ける構′造
とすることが望ましい、この構造により、再生装置の位
置精度が少し劣っていても、簡単なサーボ装置により容
易に位置補正を行うことができ、再生装置のコストを削
減することができる。また、基板上に記録層をもつ二枚
の光学記録媒体を、記録面を内側に配置して画記録層の
間にスペーサを設けたサンドインチ構造としてもよい。
この構造により、ゴミの付着、キズの発生、有毒ガスと
の接触から記録層を保護できるので、保存の面で有利で
ある。
の接触から記録層を保護できるので、保存の面で有利で
ある。
本発明の光記録媒体に記録再生を行うには、レーザ光を
用いる。レーザ光源としては、例えばネオン、ヘリウム
・カドミウム、アルゴン、ヘリウム・ネオン、ルビー、
半導体等のレーザ装置を用いることができるが、特に軽
量小型で取り扱いが容易なことから、半導体レーザ装置
が望ましい。
用いる。レーザ光源としては、例えばネオン、ヘリウム
・カドミウム、アルゴン、ヘリウム・ネオン、ルビー、
半導体等のレーザ装置を用いることができるが、特に軽
量小型で取り扱いが容易なことから、半導体レーザ装置
が望ましい。
また、本発明の光学記録媒体を、光学記録媒体の光記録
媒体の原盤として利用することができる。
媒体の原盤として利用することができる。
すなわち、上述の記録方法と同様に記録層にドツトを形
成し、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の有機樹
脂を流し込んで、記録層を反転させた形状の光学記録媒
体を複数個作成する。
成し、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の有機樹
脂を流し込んで、記録層を反転させた形状の光学記録媒
体を複数個作成する。
本発明の光学記録媒体は、再生専用の記録媒体である。
光、特に赤外線の吸収率が高い非晶質炭素薄膜を記録層
として用いるので、比較的低エネルギのレーザ光でこの
記録層を貫通するドツトを形成でき、これを記録ピット
として用いる。したがって、書き込み装置に用いられる
レーザ装置を小型軽量化できる。また、ドツトの直径は
照射したレーザ光スポットの直径に等しく、レーザ光の
集光精度でドツトを形成でき、高密度記録が可能である
。
として用いるので、比較的低エネルギのレーザ光でこの
記録層を貫通するドツトを形成でき、これを記録ピット
として用いる。したがって、書き込み装置に用いられる
レーザ装置を小型軽量化できる。また、ドツトの直径は
照射したレーザ光スポットの直径に等しく、レーザ光の
集光精度でドツトを形成でき、高密度記録が可能である
。
゛書き込まれた情報を再生するには、ドツトの部分と他
の部分との透過レーザ光強度の変化により情報を読み取
る。特にドツトが実質的に貫通している場合には、低エ
ネルギのレーザ光でも十分な光強度変化を得ることがで
き、小型軽量のレーザ装置で再生を行うことができる。
の部分との透過レーザ光強度の変化により情報を読み取
る。特にドツトが実質的に貫通している場合には、低エ
ネルギのレーザ光でも十分な光強度変化を得ることがで
き、小型軽量のレーザ装置で再生を行うことができる。
記録層に用いた非晶質炭素薄膜は、毒性がなく、安定性
にも優れている。
にも優れている。
Ｃ発明の効果〕
本発明の光学記録媒体は、媒体自体の製造が容易であり
、しかもこの媒体に記録再生を行う方法も単純である。
、しかもこの媒体に記録再生を行う方法も単純である。
また、書き込みに必要なレーザ光のエネルギが低い。し
たがって、書き込み装置および再生装置を小型軽量でし
かも安価に製造できる効果がある。また、記録ビットの
大きさが書き込みレーザ光のスポット径に等しく、高密
度記録が可能である。さらに、炭素材料を用いているの
で、毒性の心配もなく安定性に優れている。したがって
、本発明の光学記録媒体は、再生専用の記録媒体として
用いて効果がある。
たがって、書き込み装置および再生装置を小型軽量でし
かも安価に製造できる効果がある。また、記録ビットの
大きさが書き込みレーザ光のスポット径に等しく、高密
度記録が可能である。さらに、炭素材料を用いているの
で、毒性の心配もなく安定性に優れている。したがって
、本発明の光学記録媒体は、再生専用の記録媒体として
用いて効果がある。
次に本発明の詳細な説明する。以下の実施例では円盤状
の光学記録媒体を例に説明するが、カード状または他の
形状の光学記録媒体でも、同様に本発明を実施できる。
の光学記録媒体を例に説明するが、カード状または他の
形状の光学記録媒体でも、同様に本発明を実施できる。
以下の実施例はあくまでも本発明の一例であり、本発明
の技術範囲を限定するものではない。
の技術範囲を限定するものではない。
（実施例１）
フラン系ガラス状炭素の円盤をターゲットに用いて、ス
パッタリング法により、円板状のソーダライムガラス基
板上に膜厚８００人の非晶質炭素薄膜を形成した。スパ
ッタリング条件は、アルゴンガス圧力３ Ｘ １Ｏ−３
Ｔｏｒｒ、基板温度４０℃、アルゴンガスをイオン化す
るための高周波電力３００Ｗとした。
パッタリング法により、円板状のソーダライムガラス基
板上に膜厚８００人の非晶質炭素薄膜を形成した。スパ
ッタリング条件は、アルゴンガス圧力３ Ｘ １Ｏ−３
Ｔｏｒｒ、基板温度４０℃、アルゴンガスをイオン化す
るための高周波電力３００Ｗとした。
これにより得られた光学記録媒体を第１図ないし第３図
に示す。第１図は平面図であり、第２図は側面図であり
、第３図はドツト近傍の断面拡大図である。ガラス基板
ｌ上に形成された非晶質炭素薄膜層２の色は暗褐色であ
った。この非晶質炭素薄膜Ｍ２に、出力５ｍＷのヘリウ
ム・ネオンレーザ光を、光学レンズで直径約１μｍに絞
って２ｍ秒間照射した。この結果、照射部にのみ直径約
１ ｐｍの無色のドツト３が形成された。無色であるの
は、第３図に示すように、完全に貫通したドツト３が形
成されたことによると考えられる。
に示す。第１図は平面図であり、第２図は側面図であり
、第３図はドツト近傍の断面拡大図である。ガラス基板
ｌ上に形成された非晶質炭素薄膜層２の色は暗褐色であ
った。この非晶質炭素薄膜Ｍ２に、出力５ｍＷのヘリウ
ム・ネオンレーザ光を、光学レンズで直径約１μｍに絞
って２ｍ秒間照射した。この結果、照射部にのみ直径約
１ ｐｍの無色のドツト３が形成された。無色であるの
は、第３図に示すように、完全に貫通したドツト３が形
成されたことによると考えられる。
（実施例２）
人造黒鉛の円盤をターゲットに用い、実施例と同様に、
ソーダライムガラス基板上に膜厚８００人の非晶質炭素
薄膜を形成した。ただし、スパッタリング条件のアルゴ
ンガス圧力だけは異なり、５Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒとし
た。次に、出力１０ｎ＋Ｗのへリウムーネオンレーザ光
を、光学レンズで直径約１μｍに絞って２ｍ秒間照射し
た。この結果、照射部のみに薄い橙色のドツトが形成さ
れた。このドツトは実施例１のドツトとは異なり、完全
には貫通していないと考えられる。
ソーダライムガラス基板上に膜厚８００人の非晶質炭素
薄膜を形成した。ただし、スパッタリング条件のアルゴ
ンガス圧力だけは異なり、５Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒとし
た。次に、出力１０ｎ＋Ｗのへリウムーネオンレーザ光
を、光学レンズで直径約１μｍに絞って２ｍ秒間照射し
た。この結果、照射部のみに薄い橙色のドツトが形成さ
れた。このドツトは実施例１のドツトとは異なり、完全
には貫通していないと考えられる。
（実施例３）
実施例２で作った光学記録媒体を原盤とし、これにポリ
カーボネート樹脂を流し込み、固化した後に原盤から取
り外してポリカーボネート製光記録媒体を作成した。こ
のポリカーボネート製光記録媒体の拡大断面図を第４図
に示す。ポリカーボネート基板４から記録ビット５が飛
び出しており、この媒体をレーザ光で走査したときの記
録ビット５により光学的変化により、記録された情報を
読み取ることができる。同一の原盤から１０枚のポリカ
ーボネート製光記録媒体を作成したが、原盤の非晶質炭
素薄膜層が剥がれるようなことはなかった。
カーボネート樹脂を流し込み、固化した後に原盤から取
り外してポリカーボネート製光記録媒体を作成した。こ
のポリカーボネート製光記録媒体の拡大断面図を第４図
に示す。ポリカーボネート基板４から記録ビット５が飛
び出しており、この媒体をレーザ光で走査したときの記
録ビット５により光学的変化により、記録された情報を
読み取ることができる。同一の原盤から１０枚のポリカ
ーボネート製光記録媒体を作成したが、原盤の非晶質炭
素薄膜層が剥がれるようなことはなかった。
第１図は本発明実施例光学記録媒体の平面図。
第２図は側面図。
第３図はドツト近傍の拡大断面図。
第４図はポリカーボネート製光記録媒体の拡大断面図。
１）・・・ガラス基板、２・・・非晶質炭素薄膜層、３
・・・ドツト、４・・・ポリカーボネート基板、５・・
・記録ビット。
・・・ドツト、４・・・ポリカーボネート基板、５・・
・記録ビット。
Claims (6)
- （１）基板と、 この基板上に形成され、情報信号で変調された光学的ま
たは熱的エネルギを加えることにより情報を検出可能な
変化として記録し、しかも記録された情報を光学的変化
として再生できる記録層とを備えた光学記録媒体におい
て、 上記記録層は光照射により除去可能な非晶質炭素薄膜層
を含む ことを特徴とする光学記録媒体。 - （２）非晶質炭素薄膜層はガラス状炭素を原料として形
成された特許請求の範囲第（１）項に記載の光学記録媒
体。 - （３）非晶質炭素薄膜層はスパッタリング法により形成
された特許請求の範囲第（２）項に記載の光学記録媒体
。 - （４）非晶質炭素薄膜層は気相成長法により形成された
特許請求の範囲第（２）項に記載の光学記録媒体。 - （５）非晶質炭素薄膜層は真空蒸着法により形成された
特許請求の範囲第（２）項に記載の光学記録媒体。 - （６）非晶質炭素薄膜層はイオンプレーティング法によ
り形成された特許請求の範囲第（２）項に記載の光学記
録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60193467A JPH062429B2 (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60193467A JPH062429B2 (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 光学記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6253883A true JPS6253883A (ja) | 1987-03-09 |
| JPH062429B2 JPH062429B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=16308493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60193467A Expired - Lifetime JPH062429B2 (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 光学記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062429B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009050857A1 (ja) * | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Fujifilm Corporation | 凹部形成方法、凹凸製品の製造方法、発光素子の製造方法および光学素子の製造方法 |
-
1985
- 1985-09-02 JP JP60193467A patent/JPH062429B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009050857A1 (ja) * | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Fujifilm Corporation | 凹部形成方法、凹凸製品の製造方法、発光素子の製造方法および光学素子の製造方法 |
| US8445186B2 (en) | 2007-10-15 | 2013-05-21 | Fujifilm Corporation | Recessed portion forming method, method for manufacturing pit-projection product, method for manufacturing light emitting element, and method for manufacturing optical element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH062429B2 (ja) | 1994-01-12 |
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