JPS6250221B2 - - Google Patents
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- JPS6250221B2 JPS6250221B2 JP54139054A JP13905479A JPS6250221B2 JP S6250221 B2 JPS6250221 B2 JP S6250221B2 JP 54139054 A JP54139054 A JP 54139054A JP 13905479 A JP13905479 A JP 13905479A JP S6250221 B2 JPS6250221 B2 JP S6250221B2
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Landscapes
- Arc Welding Control (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は消耗性電極を定速度送給して溶接する
パルスアーク溶接方法に関するものである。
パルスアーク溶接方法に関するものである。
消耗電極を定速度送給して溶接するパルスアー
ク溶接方法は、一般に、溶融した消耗電極先端の
溶滴を細粒にして円滑に移行（以下、スプレー移
行という）させ、かつ、アーク長を一定に維持す
ることによつて、安定したアークを発生させて均
一な溶接結果を得るとともにスパツタの発生の少
ない溶接物を得ようとするものである。この消耗
電極には、スプレー移行が行なわれない程度の低
電流すなわち臨界電流値以下のベース電流と周期
的に臨界電流値以上の高電流によるためのパルス
電流とが供給されてスプレー移行が行われる。さ
らに消耗電極は定速度送給されているために、ア
ーク長の変動に対して溶接電源の自己制御作用に
よつてアーク長を略一定に維持するために、ベー
ス電流供給用電源（以下ベース電源という）か又
はパルス電流供給用電源（以下、パルス電源とい
う）のいずれかを定電圧特性にする必要がある。
そこで従来の消耗電極を定速度送給して溶接する
パルスアーク溶接方法においては、ベース電源を
定電圧特性としパルス電源を定電流特性又は多少
の傾斜を有する垂下特性（以下定電流特性とい
う）とする第１の方式と、逆にベース電源を定電
流特性としパルス電源を定電圧特性とする第２の
方式とがあつた。ここで、第１の方式および第２
の方式の電源特性およびアーク特性をそれぞれ第
２図および第３図に示し、両者の得失について検
討する。この検討の前に、以下の説明で使用する
用語および符号を第１図ａおよびｂを参照してつ
ぎのとおり定義する。
ク溶接方法は、一般に、溶融した消耗電極先端の
溶滴を細粒にして円滑に移行（以下、スプレー移
行という）させ、かつ、アーク長を一定に維持す
ることによつて、安定したアークを発生させて均
一な溶接結果を得るとともにスパツタの発生の少
ない溶接物を得ようとするものである。この消耗
電極には、スプレー移行が行なわれない程度の低
電流すなわち臨界電流値以下のベース電流と周期
的に臨界電流値以上の高電流によるためのパルス
電流とが供給されてスプレー移行が行われる。さ
らに消耗電極は定速度送給されているために、ア
ーク長の変動に対して溶接電源の自己制御作用に
よつてアーク長を略一定に維持するために、ベー
ス電流供給用電源（以下ベース電源という）か又
はパルス電流供給用電源（以下、パルス電源とい
う）のいずれかを定電圧特性にする必要がある。
そこで従来の消耗電極を定速度送給して溶接する
パルスアーク溶接方法においては、ベース電源を
定電圧特性としパルス電源を定電流特性又は多少
の傾斜を有する垂下特性（以下定電流特性とい
う）とする第１の方式と、逆にベース電源を定電
流特性としパルス電源を定電圧特性とする第２の
方式とがあつた。ここで、第１の方式および第２
の方式の電源特性およびアーク特性をそれぞれ第
２図および第３図に示し、両者の得失について検
討する。この検討の前に、以下の説明で使用する
用語および符号を第１図ａおよびｂを参照してつ
ぎのとおり定義する。
Ib：ベース電流の通電期間中の溶接電流の瞬時値
（以下、ベース電流値という） Ip：パルス電流の通電期間中の溶接電流の瞬時値
（以下、パルス電流値という） Tb：ベース電流の通電期間（以下、ベース電流
期間という） Tp：パルス電流の通電期間（以下、パルス継続
時間という） Ｔ：周期であつてＴ＝Tb＋Tp ｆ：パルス周波数であつてｆ＝１／Ｔ 溶接電流
＝（ベース電流）＋（パルス電流） Iba：ベース電流の平均値１／Ｔ∫Ｔｂ ０Ibdt＝Ib・
Tb／Ｔ Ipa：パルス電流の平均値１／Ｔ∫Ｔｐ ０Ipdt＝Ip・
Tp／Ｔ Ia：溶接電流の平均値 Ia＝（Ib・Tb＋Ip・Tp）／Ｔ＝Iba＋Ipa Vb：ベース電流の通電期間中のアーク電圧の瞬
時値（以下、ベース電圧値という） Vp：パルス電流の通電期間中のアーク電圧の瞬
時値（以下、パルス電圧値という） Vba：ベース電圧の平均値１／Ｔ∫Ｔｂ ０Vb・dt＝
Vb・Tb／Ｔ Vpa：パルス電圧の平均値１／Ｔ∫Ｔｐ ０Vp・dt＝
Vp・Tp／Ｔ Va：アーク電圧の平均値 Va＝（Vb・Tb＋Vp・Tp）／Ｔ＝Vba＋Vpa 第２図において、横軸は電流値Ｉ、縦軸は電圧
Ｖを示し、実線のＢ−CPはベース電源の特性
（定電圧特性）、点線のＰ−CCはパルス電源の特
性（定電流特性）、一点鎖線L0、L1およびL2はア
ーク特性を示している。同図において、アーク長
L0、L1、又はL2が電極送給速度の変化、手振
れ、被溶接物の表面状態等によつて変動してもパ
ルス電流値Ipは変化しないので、安定したスプレ
ー移行が行われる利点があるが、アーク長が
L2、L0、L1と大になるにつれて直接Ｂ−CP上の
動作点が電流減少方向に移動してアーク電圧Va
がVa2、Va0、Va1と高くなつてベース電源の無負
荷電圧Vb0に近ずき、特にベース電流値を小さく
設定したときには無負荷電圧Vb0が小になるため
に、小電流で薄板の溶接をする場合、アークが不
安定になりやすい高速度溶接をする場合には、ア
ーク切れが生じる欠点があつた。つぎに第３図に
おいて、横軸、縦軸および一点鎖線は第２図の場
合と同様であるが、実線Ｂ−CCはベース電源の
特性（定電流特性）、点線のＰ−CPはパルス電源
の特性（定電圧特性）を示している。同図におい
て、ベース電流値を小さく設定した場合であつて
もベース電源の特性が定電流特性であるので、ア
ーク長が大になる方向に変動しても第２図のよう
にアーク切れが生じることがないが、アーク長
L0、L1又はL2の変動につれてパルス電流値が
Ip0、Ip1又はIp2と大幅に変化し、特にパルス電
流値が小になると消耗電極先端から離脱する溶滴
が大粒になるために、円滑なスプレー移行が行わ
れなくなる欠点があつた。
（以下、ベース電流値という） Ip：パルス電流の通電期間中の溶接電流の瞬時値
（以下、パルス電流値という） Tb：ベース電流の通電期間（以下、ベース電流
期間という） Tp：パルス電流の通電期間（以下、パルス継続
時間という） Ｔ：周期であつてＴ＝Tb＋Tp ｆ：パルス周波数であつてｆ＝１／Ｔ 溶接電流
＝（ベース電流）＋（パルス電流） Iba：ベース電流の平均値１／Ｔ∫Ｔｂ ０Ibdt＝Ib・
Tb／Ｔ Ipa：パルス電流の平均値１／Ｔ∫Ｔｐ ０Ipdt＝Ip・
Tp／Ｔ Ia：溶接電流の平均値 Ia＝（Ib・Tb＋Ip・Tp）／Ｔ＝Iba＋Ipa Vb：ベース電流の通電期間中のアーク電圧の瞬
時値（以下、ベース電圧値という） Vp：パルス電流の通電期間中のアーク電圧の瞬
時値（以下、パルス電圧値という） Vba：ベース電圧の平均値１／Ｔ∫Ｔｂ ０Vb・dt＝
Vb・Tb／Ｔ Vpa：パルス電圧の平均値１／Ｔ∫Ｔｐ ０Vp・dt＝
Vp・Tp／Ｔ Va：アーク電圧の平均値 Va＝（Vb・Tb＋Vp・Tp）／Ｔ＝Vba＋Vpa 第２図において、横軸は電流値Ｉ、縦軸は電圧
Ｖを示し、実線のＢ−CPはベース電源の特性
（定電圧特性）、点線のＰ−CCはパルス電源の特
性（定電流特性）、一点鎖線L0、L1およびL2はア
ーク特性を示している。同図において、アーク長
L0、L1、又はL2が電極送給速度の変化、手振
れ、被溶接物の表面状態等によつて変動してもパ
ルス電流値Ipは変化しないので、安定したスプレ
ー移行が行われる利点があるが、アーク長が
L2、L0、L1と大になるにつれて直接Ｂ−CP上の
動作点が電流減少方向に移動してアーク電圧Va
がVa2、Va0、Va1と高くなつてベース電源の無負
荷電圧Vb0に近ずき、特にベース電流値を小さく
設定したときには無負荷電圧Vb0が小になるため
に、小電流で薄板の溶接をする場合、アークが不
安定になりやすい高速度溶接をする場合には、ア
ーク切れが生じる欠点があつた。つぎに第３図に
おいて、横軸、縦軸および一点鎖線は第２図の場
合と同様であるが、実線Ｂ−CCはベース電源の
特性（定電流特性）、点線のＰ−CPはパルス電源
の特性（定電圧特性）を示している。同図におい
て、ベース電流値を小さく設定した場合であつて
もベース電源の特性が定電流特性であるので、ア
ーク長が大になる方向に変動しても第２図のよう
にアーク切れが生じることがないが、アーク長
L0、L1又はL2の変動につれてパルス電流値が
Ip0、Ip1又はIp2と大幅に変化し、特にパルス電
流値が小になると消耗電極先端から離脱する溶滴
が大粒になるために、円滑なスプレー移行が行わ
れなくなる欠点があつた。
本発明の溶接方法は、上記の欠点を解消してア
ーク長が変動しても円滑なスプレー移行が行われ
るとともにベース電流値が小電流に設定された場
合であつてもアーク切れを生じることのない消耗
電極を定速度送給するパルスアーク溶接方法を実
現するものであつて、その目的を達成するため
に、パルス電流値を略一定にするとともに、ベー
ス電源を定電流特性とし、かつ検出したアーク電
圧値と設定値とを比較してその差信号によつて溶
接電流の平均値を制御することによつてアーク長
を増減してアーク電圧を略一定値に維持するパル
スアーク溶接方法を提案したものである。
ーク長が変動しても円滑なスプレー移行が行われ
るとともにベース電流値が小電流に設定された場
合であつてもアーク切れを生じることのない消耗
電極を定速度送給するパルスアーク溶接方法を実
現するものであつて、その目的を達成するため
に、パルス電流値を略一定にするとともに、ベー
ス電源を定電流特性とし、かつ検出したアーク電
圧値と設定値とを比較してその差信号によつて溶
接電流の平均値を制御することによつてアーク長
を増減してアーク電圧を略一定値に維持するパル
スアーク溶接方法を提案したものである。
パルスアーク溶接において、円滑なスプレー移
行を維持させるためのパルス電流の要素として
は、パルス電流値Ipとパルス継続時間Tpとパル
ス周波数ｆとがあるが、これらの３要素はベース
電流とともに消耗電極先端を加熱・溶融させるも
のであるが、パルス電流値Ipは溶融した電極先端
からＩ２ ｐに比例するピンチ力によつて溶滴を離脱
させる効果を有する最も重要な要素であり、パル
ス電流値Ipが大になれば細粒の溶滴が規則正しく
移行し逆にパルス電流値Ipが小になれば大粒の溶
滴が不規則に移行するようになる。したがつてパ
ルス電流値Ipを一定に保持しなければ円滑なスプ
レー移行を行うことができない。さらに、溶融し
た電極先端から溶滴を離脱させる条件として、所
定のパルス継続時間Tpも必要であるが、溶滴の
離脱がピンチ力によるものであるから、パルス継
続時間Tpは、上述したパルス電流値Ipとの関連
において溶滴の離脱を左右する。すなわち、スプ
レー移行が行われるためには、パルス電流値Ipと
パルス継続時間Tpとは、例えば第４図に示すよ
うな関係となる。同図において曲線1.6D、1.2D
および0.8Dはそれぞれ直径1.6mm、1.2mmおよび0.8
mmステンレス鋼を用いて２％O2＋Ar気中でのパ
ルスアーク溶接をした場合のスプレー移行が行わ
れる限界を示したものであつて、各曲線より上方
の範囲ではスプレー移行が行われるが、逆に下方
の範囲では大粒の移行（ドロツプ移行）になつて
しまう。点線の直線1.6I、1.2Iおよび0.8Iはそれ
ぞれステンレス電極の直径が1.6mm、1.2mmおよび
0.8mmにおける臨界電流値を示し、これらの値以
下の溶接電流の平均値ではスプレー移行は行われ
ない。すなわち、スプレー移行が行われるために
は、パルス継続時間Tpが小なる範囲、本図では
例えば５ｍｓ以下ではＩ２ ｐ・Tpが消耗電極の直径
ごとに定まる略一定値を有しておればよい。すな
わち、パルス継続時間Tpが小なる範囲では、こ
のTpはパルス電流値Ipとともに溶滴の離脱の可
否を左右するが、ある程度以上大になると、溶滴
の離脱の可否はIpのみによつて定まり、このTp
はベース電流とともに電極先端の加熱・溶融に寄
与するようになる。つぎに、溶滴が移行するの
は、パルス電流が通電されたときであるが、電極
先端が加熱・溶融されておらなければ、パルス電
流が通電されても溶滴移行は行われない。このこ
とは、パルス周波数ｆが大になれば、ベース電流
とともにパルス電流によつて電極先端の加熱・溶
融は促進されるが、パルス周波数ｆが大になつて
も、必ずしもそれに対応して溶適の移行が行われ
るものではない。したがつて、パルス周波数ｆは
前述したＩ２ ｐ・Tpのように溶滴の離脱の可否を直
接に左右するものではない。
行を維持させるためのパルス電流の要素として
は、パルス電流値Ipとパルス継続時間Tpとパル
ス周波数ｆとがあるが、これらの３要素はベース
電流とともに消耗電極先端を加熱・溶融させるも
のであるが、パルス電流値Ipは溶融した電極先端
からＩ２ ｐに比例するピンチ力によつて溶滴を離脱
させる効果を有する最も重要な要素であり、パル
ス電流値Ipが大になれば細粒の溶滴が規則正しく
移行し逆にパルス電流値Ipが小になれば大粒の溶
滴が不規則に移行するようになる。したがつてパ
ルス電流値Ipを一定に保持しなければ円滑なスプ
レー移行を行うことができない。さらに、溶融し
た電極先端から溶滴を離脱させる条件として、所
定のパルス継続時間Tpも必要であるが、溶滴の
離脱がピンチ力によるものであるから、パルス継
続時間Tpは、上述したパルス電流値Ipとの関連
において溶滴の離脱を左右する。すなわち、スプ
レー移行が行われるためには、パルス電流値Ipと
パルス継続時間Tpとは、例えば第４図に示すよ
うな関係となる。同図において曲線1.6D、1.2D
および0.8Dはそれぞれ直径1.6mm、1.2mmおよび0.8
mmステンレス鋼を用いて２％O2＋Ar気中でのパ
ルスアーク溶接をした場合のスプレー移行が行わ
れる限界を示したものであつて、各曲線より上方
の範囲ではスプレー移行が行われるが、逆に下方
の範囲では大粒の移行（ドロツプ移行）になつて
しまう。点線の直線1.6I、1.2Iおよび0.8Iはそれ
ぞれステンレス電極の直径が1.6mm、1.2mmおよび
0.8mmにおける臨界電流値を示し、これらの値以
下の溶接電流の平均値ではスプレー移行は行われ
ない。すなわち、スプレー移行が行われるために
は、パルス継続時間Tpが小なる範囲、本図では
例えば５ｍｓ以下ではＩ２ ｐ・Tpが消耗電極の直径
ごとに定まる略一定値を有しておればよい。すな
わち、パルス継続時間Tpが小なる範囲では、こ
のTpはパルス電流値Ipとともに溶滴の離脱の可
否を左右するが、ある程度以上大になると、溶滴
の離脱の可否はIpのみによつて定まり、このTp
はベース電流とともに電極先端の加熱・溶融に寄
与するようになる。つぎに、溶滴が移行するの
は、パルス電流が通電されたときであるが、電極
先端が加熱・溶融されておらなければ、パルス電
流が通電されても溶滴移行は行われない。このこ
とは、パルス周波数ｆが大になれば、ベース電流
とともにパルス電流によつて電極先端の加熱・溶
融は促進されるが、パルス周波数ｆが大になつて
も、必ずしもそれに対応して溶適の移行が行われ
るものではない。したがつて、パルス周波数ｆは
前述したＩ２ ｐ・Tpのように溶滴の離脱の可否を直
接に左右するものではない。
以上の検討の結果、スプレー移行が円滑に行わ
れるかどうかは、溶融した電極先端からの溶滴の
離脱を左右するパルス電流値Ipによつて定まるた
めに、このパルス電流値を設定した略一定値に維
持しなければならない。つぎにアーク長は、電極
先端の溶融速度の大小に左右され、この溶融速度
を左右する要素としては、前述したパルス周波数
ｆ（周期Ｔ＝１／ｆ）又はパルス継続時間Tp、さらに これらの要素を含んだ消耗電極の先端に通電する
溶接電流の平均値Ia＝（Ib・Tb＋Ip・Tp）／Ｔが
ある。この平均値Iaは、ベース電流値Ib、ベース
電流期間Tb、パルス電流値Ip、パルス継続時間
Tpによつて定まるが、Ipは前述したように設定
した略一定値に保持しなければならないので、変
化させることができない。TbはＴ−Tpで定まる
ので通常、独立して変化させられない。Ibを変化
させることによつてIaを変化させることはでき
る。しかし、通常のパルスアーク溶接機において
は、ベース電源の特性をフイードバツク回路を用
いて定電流特性にすることによつてIbを一定値に
しているので、ベース電源の制御が容易になるか
又はベース電流調整用の他の電源を必要としない
という利点を有しているが、Ibを変化させると、
この利点は失われる。Tpはその継続時間が短い
ときは、溶滴の離脱の可否を左右するが、ある程
度例えば５ｍｓ以上では溶滴の離脱の可否を左右
することがなくなるので、このTpを変化させて
Iaを変化させることができる。したがつて、消耗
電極先端に通電する溶接電流の平均値を変化させ
る要素としては、周期Ｔが最も望ましく、次にパ
ルス継続時間Tp、さらにベース電流Ibがある。
れるかどうかは、溶融した電極先端からの溶滴の
離脱を左右するパルス電流値Ipによつて定まるた
めに、このパルス電流値を設定した略一定値に維
持しなければならない。つぎにアーク長は、電極
先端の溶融速度の大小に左右され、この溶融速度
を左右する要素としては、前述したパルス周波数
ｆ（周期Ｔ＝１／ｆ）又はパルス継続時間Tp、さらに これらの要素を含んだ消耗電極の先端に通電する
溶接電流の平均値Ia＝（Ib・Tb＋Ip・Tp）／Ｔが
ある。この平均値Iaは、ベース電流値Ib、ベース
電流期間Tb、パルス電流値Ip、パルス継続時間
Tpによつて定まるが、Ipは前述したように設定
した略一定値に保持しなければならないので、変
化させることができない。TbはＴ−Tpで定まる
ので通常、独立して変化させられない。Ibを変化
させることによつてIaを変化させることはでき
る。しかし、通常のパルスアーク溶接機において
は、ベース電源の特性をフイードバツク回路を用
いて定電流特性にすることによつてIbを一定値に
しているので、ベース電源の制御が容易になるか
又はベース電流調整用の他の電源を必要としない
という利点を有しているが、Ibを変化させると、
この利点は失われる。Tpはその継続時間が短い
ときは、溶滴の離脱の可否を左右するが、ある程
度例えば５ｍｓ以上では溶滴の離脱の可否を左右
することがなくなるので、このTpを変化させて
Iaを変化させることができる。したがつて、消耗
電極先端に通電する溶接電流の平均値を変化させ
る要素としては、周期Ｔが最も望ましく、次にパ
ルス継続時間Tp、さらにベース電流Ibがある。
本発明の消耗電極を定速度送給して溶接するパ
ルスアーク溶接方法を実施するためのベース電源
およびパルス電源の各特性およびアーク特性を第
５図に示す。同図において横軸は電流、縦軸は電
圧であつて、点線Ｐ−CCは、パルス電源の特性
であるが、前述したようにパルス電流値Ipを設定
した略一定値に維持するために、パルス電源の特
性を第２図と同様に定電流特性にする。この定電
流特性は、パルス電流値Ip又はその平均値Ipaを
検出して設定値と比較してその差の信号によつて
パルス電流値を制御するためのフイードバツク回
路を用いて得ることができる。つぎに、ベース電
源の特性としては無負荷電圧を高くしてアーク切
れのない安定なアークを得るためにベース電源を
定電流特性にする。しかしベース電源が定電流特
性になると電源によるアークの自己制御作用効果
が小さくなるために、アーク長の変動を検出して
アーク長が略一定値になるように制御しなければ
ならない。アーク長の制御は、定速度送給する消
耗電極の溶融速度を変化させる必要があり、その
ためには消耗電極先端に通電する溶接電流の平均
値を増減させて行う。
ルスアーク溶接方法を実施するためのベース電源
およびパルス電源の各特性およびアーク特性を第
５図に示す。同図において横軸は電流、縦軸は電
圧であつて、点線Ｐ−CCは、パルス電源の特性
であるが、前述したようにパルス電流値Ipを設定
した略一定値に維持するために、パルス電源の特
性を第２図と同様に定電流特性にする。この定電
流特性は、パルス電流値Ip又はその平均値Ipaを
検出して設定値と比較してその差の信号によつて
パルス電流値を制御するためのフイードバツク回
路を用いて得ることができる。つぎに、ベース電
源の特性としては無負荷電圧を高くしてアーク切
れのない安定なアークを得るためにベース電源を
定電流特性にする。しかしベース電源が定電流特
性になると電源によるアークの自己制御作用効果
が小さくなるために、アーク長の変動を検出して
アーク長が略一定値になるように制御しなければ
ならない。アーク長の制御は、定速度送給する消
耗電極の溶融速度を変化させる必要があり、その
ためには消耗電極先端に通電する溶接電流の平均
値を増減させて行う。
つぎにアーク長が変動した場合に上述した溶接
電流の平均値を制御してアーク長を略一定値に維
持するためには、消耗電極と被溶接物との間のア
ーク電圧値を検出して設定値と比較し、アーク電
圧値が設定値よりも大なるときには、パルス電源
のパルス周波数ｆを小にするか、パルス継続時間
Tpを小にするか又はベース電流Ibを小にして溶
接電流の平均値を減少させて電極先端の溶融速度
を小にしてアーク長の復帰をはかる。アーク電圧
値が設定値よりも小なるときは上記と逆になる。
ここでアーク電圧値としては前記定義したベース
電圧の平均値Vba又はアーク電圧の平均値Vaであ
つてもよいが、パルス継続時間Tpがある程度大
であるときは、パルス電流値Ipおよびアーク電圧
値Vpが大であつて高精度の検出ができるパルス
電圧の平均値Vpaが望ましい。さらにアーク電圧
としてベース電流期間Tbにサンプリングしたベ
ース電圧値Vb又はパルス継続時間Tpにサンプリ
ングしたパルス電圧値Vpであつてもよい。
電流の平均値を制御してアーク長を略一定値に維
持するためには、消耗電極と被溶接物との間のア
ーク電圧値を検出して設定値と比較し、アーク電
圧値が設定値よりも大なるときには、パルス電源
のパルス周波数ｆを小にするか、パルス継続時間
Tpを小にするか又はベース電流Ibを小にして溶
接電流の平均値を減少させて電極先端の溶融速度
を小にしてアーク長の復帰をはかる。アーク電圧
値が設定値よりも小なるときは上記と逆になる。
ここでアーク電圧値としては前記定義したベース
電圧の平均値Vba又はアーク電圧の平均値Vaであ
つてもよいが、パルス継続時間Tpがある程度大
であるときは、パルス電流値Ipおよびアーク電圧
値Vpが大であつて高精度の検出ができるパルス
電圧の平均値Vpaが望ましい。さらにアーク電圧
としてベース電流期間Tbにサンプリングしたベ
ース電圧値Vb又はパルス継続時間Tpにサンプリ
ングしたパルス電圧値Vpであつてもよい。
以上のように、本発明の消耗電極を定速度送給
して溶接するパルスアーク溶接方法によれば、パ
ルス電流値Ipを設定した略一定値に維持すること
ができるので、溶融した電極先端からの溶滴の離
脱が均一に行なわれるとともに溶け込み深さが均
一になつて良好な裏波溶接ができ、かつベース電
源を定電流特性又は垂下特性とすることによつ
て、ベース電流値の設定値が小なる場合であつて
もアーク切れが生じないために、安定したアーク
を維持することができるので、小電流による薄板
の溶接、高速度溶接をも、短絡移行のようなスパ
ツタの発生をともなわないで行うことができ効果
が大である。
して溶接するパルスアーク溶接方法によれば、パ
ルス電流値Ipを設定した略一定値に維持すること
ができるので、溶融した電極先端からの溶滴の離
脱が均一に行なわれるとともに溶け込み深さが均
一になつて良好な裏波溶接ができ、かつベース電
源を定電流特性又は垂下特性とすることによつ
て、ベース電流値の設定値が小なる場合であつて
もアーク切れが生じないために、安定したアーク
を維持することができるので、小電流による薄板
の溶接、高速度溶接をも、短絡移行のようなスパ
ツタの発生をともなわないで行うことができ効果
が大である。
第１図ａおよびｂはそれぞれ消耗電極パルスア
ーク溶接方法によつて溶接したときの時間の経過
に対する溶接電流およびアーク電圧の変化を示す
図、第２図および第３図は従来の消耗電極パルス
アーク溶接方法を実施するベース電源およびパル
ス電源の外部特性とアーク特性とを示す図、第４
図はスプレー移行を維持するために必要なパルス
電流値Ipとパルス継続時間Tpとの関係を示す
図、第５図は本発明の消耗電極パルスアーク溶接
方法を実施するためのベース電源およびパルス電
源の外部特性を示す図である。
ーク溶接方法によつて溶接したときの時間の経過
に対する溶接電流およびアーク電圧の変化を示す
図、第２図および第３図は従来の消耗電極パルス
アーク溶接方法を実施するベース電源およびパル
ス電源の外部特性とアーク特性とを示す図、第４
図はスプレー移行を維持するために必要なパルス
電流値Ipとパルス継続時間Tpとの関係を示す
図、第５図は本発明の消耗電極パルスアーク溶接
方法を実施するためのベース電源およびパルス電
源の外部特性を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 消耗性電極を定速度送給して溶接するパルス
アーク溶接方法において、設定した一定尖頭値の
パルス電流と定電流特性のベース電流とから成る
溶接電流を消耗電極に供給し、かつ検出したアー
ク電圧値と設定値とを比較してその差信号によつ
て溶接電流の平均値を制御することによつてアー
ク長を増減してアーク電圧を一定値に維持するパ
ルスアーク溶接方法。 ２ 前記溶接電流の平均値を、パルス電流の周期
を変化させることによつて制御する特許請求の範
囲第１項に記載のパルスアーク溶接方法。 ３ 前記溶接電流の平均値を、前記ベース電流値
を変化させることによつて制御する特許請求の範
囲第１項に記載のパルスアーク溶接方法。 ４ 前記溶接電流の平均値を、前記パルス電流の
継続時間を変化させることによつて制御する特許
請求の範囲第１項に記載のパルスアーク溶接方
法。 ５ 前記検出したアーク電圧値が、ベース電流期
間とパルス継続時間とのアーク電圧の平均値であ
る特許請求の範囲第１項に記載のパルスアーク溶
接方法。 ６ 前記検出したアーク電圧値が、ベース電流期
間又はパルス継続時間中のアーク電圧の平均値で
ある特許請求の範囲第１項に記載のパルスアーク
溶接方法。 ７ 前記検出したアーク電圧値が、ベース電流期
間又はパルス継続時間中にサンプリングしたアー
ク電圧の瞬時値である特許請求の範囲第１項に記
載のパルスアーク溶接方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13905479A JPS5662674A (en) | 1979-10-26 | 1979-10-26 | Pulse arc welding method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13905479A JPS5662674A (en) | 1979-10-26 | 1979-10-26 | Pulse arc welding method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5662674A JPS5662674A (en) | 1981-05-28 |
| JPS6250221B2 true JPS6250221B2 (ja) | 1987-10-23 |
Family
ID=15236397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13905479A Granted JPS5662674A (en) | 1979-10-26 | 1979-10-26 | Pulse arc welding method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5662674A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5973179A (ja) * | 1982-10-19 | 1984-04-25 | Daihen Corp | パルスア−ク溶接方法および溶接装置 |
| JPS5973180A (ja) * | 1982-10-19 | 1984-04-25 | Daihen Corp | パルスア−ク溶接方法および溶接装置 |
| JPS5973178A (ja) * | 1982-10-19 | 1984-04-25 | Daihen Corp | パルスア−ク溶接方法および溶接装置 |
| JPH0641027B2 (ja) * | 1984-06-19 | 1994-06-01 | 松下電器産業株式会社 | 消耗電極式パルス溶接用電源装置 |
| KR100506854B1 (ko) * | 2002-08-30 | 2005-08-08 | 한국전기연구원 | 펄스 아크 용접 방법 |
| JP4643161B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2011-03-02 | 株式会社ダイヘン | 定電流特性による消耗電極ガスシールドアーク溶接方法 |
| JP2009072818A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Toshiba Plant Systems & Services Corp | 溶接アーク制御方法 |
| JP5429790B2 (ja) * | 2009-05-11 | 2014-02-26 | 株式会社ダイヘン | パルスアーク溶接の出力制御方法 |
| JP5558881B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2014-07-23 | 株式会社ダイヘン | プラズマミグ溶接方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS508702A (ja) * | 1973-05-29 | 1975-01-29 | ||
| JPS51131440A (en) * | 1975-04-30 | 1976-11-15 | Inst Elektroswarki Patona | Device of pulse arc welding and builddup of metals |
| JPS546021A (en) * | 1977-06-16 | 1979-01-17 | Bayer Ag | Production of azo dyestuff |
| JPS5421188A (en) * | 1977-07-18 | 1979-02-17 | Ricoh Watch | Planoconvex attcut crystal vibrator |
-
1979
- 1979-10-26 JP JP13905479A patent/JPS5662674A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS508702A (ja) * | 1973-05-29 | 1975-01-29 | ||
| JPS51131440A (en) * | 1975-04-30 | 1976-11-15 | Inst Elektroswarki Patona | Device of pulse arc welding and builddup of metals |
| JPS546021A (en) * | 1977-06-16 | 1979-01-17 | Bayer Ag | Production of azo dyestuff |
| JPS5421188A (en) * | 1977-07-18 | 1979-02-17 | Ricoh Watch | Planoconvex attcut crystal vibrator |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5662674A (en) | 1981-05-28 |
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