JPS6244717A - 表示装置 - Google Patents

表示装置

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JPS6244717A
JPS6244717A JP60185153A JP18515385A JPS6244717A JP S6244717 A JPS6244717 A JP S6244717A JP 60185153 A JP60185153 A JP 60185153A JP 18515385 A JP18515385 A JP 18515385A JP S6244717 A JPS6244717 A JP S6244717A
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voltage
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display
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淳一 大和田
Masayoshi Suzuki
鈴木 政善
Hideaki Kawakami
英昭 川上
Kenkichi Suzuki
堅吉 鈴木
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は表示装置に係り、詳しくは薄膜トランジスタ等
を用いたアクティブマトリクス表示装置に関する。
〔発明の背景〕
TPTなどのスイッチ素子と、液晶あるいはエレクトロ
ルミネセンス等とを組み合わせたアクティブマトリクス
は、“ビー ジエー レツシャーB、J、Lecher
)らにより、「液晶マトリックスディスプレイ(Liq
uid Crystal Matrix Displa
ys) Proc。
IEEE 59 、1566 (1971) J”に提
案されて以来。
各種のスイッチ素子について研究が続けられている。そ
の画素部の回路構成方式としては、1画素に1個のTP
Tを形成し、液晶を駆動する方式や、1画素に2個のT
PTと、電圧保持用の容量を形成し液晶層への電圧印加
時間を改善する方式などが提案されている。これらの方
式では、TPT素子に欠陥が発生した場合には、その画
素の液晶層に正常な駆動電圧が印加されなくなり、点欠
陥が発生し、ディスプレイの表示特性を劣化させてしま
う。また、断線等の欠陥が発生した場合には、その配線
に接続された表示画素が動作不能となり、線欠陥が発生
してしまう。一般に線欠陥が発生した場合には、ディス
プレイの使用ができなくなるとされている。
現在、これらの各種の欠陥の存在を知るための手段とし
ては、たとえばアクティブマトリクス基板上に対向ガラ
スを積層し、液晶を封入してディスプレイの形状として
、目視あるいは光学的測定により欠陥の存在を知る方法
が提案されている。
さらには、特開昭57−38498号公報に記載された
如く、画素または配線に付いた寄生容量に蓄積された電
荷量の変化を測定することにより、配線’    Iv
Io、、J、g*t=m、ttaヵ@’I−tJ!’1
lihlb、6゜しかしながら、前者の方法では、液晶
封入後に欠陥の有無を見い出して、しかる後に良品か不
良品かの判断を行うことは、欠陥品に対しては無駄な液
晶工程を施したことになり、生産性の著しい低下の原因
となってしまう。
また後者の方法によれば、液晶封入前にTPT基板を検
査することが可能であるが、基板内に存在する浮遊容量
を用いているためなどにより、TPT素子の特性まで正
確に知ることが不可能である。またTPT素子の特性を
正確に知るためには、画素部の透明電極上に探針等を接
触せしめ諸特性を測定することが最も有効な方法である
が。
表示画素数の膨大なディスプレイにおいてはこのような
測定をすることは測定時間が長時間となり、かつまた探
針等の機械的な接触により表面に傷などを生じせしめる
ことになるため、実用的な方法とはいえなかった。
〔発明の目的〕
本発明は上述した問題に鑑みてなされたものであり、そ
の目的は信号配線、走査配線の数を増加させることなく
外部の端子からのみ表示部の内部を測定、検査が可能な
構造を有する表示装置を提供することにある。
〔発明の慨要〕
上記目的を達成するため、本発明は、通常のアクティブ
マトリクスディスプレイにおいて、液晶封入前には開放
状態になっている透明電極等で形成されている表示電極
を、抵抗、容量等により電気的に他の配線に結合せしめ
、TPTの特性、配線の状態を測定、検査しようとする
ものである。
このようにした本発明によれば11車な構成で、確実に
表示装置の内部を測定できる。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図(a)乃至(d)は本発明の一実施例を示す回路
図である。
第1図(a)は表示部の一画素の構造を示したものであ
る。第1図(a)において、TPT素子1、信号電極2
,2A、走査電極3.3A、ITO(Indium T
in 0xide)等の透明電極により形成された画素
電極4、及び抵抗素子、容量等の画素電極4に対して信
号電極2Aから電圧を印加する手段のための素子5から
構成されている。
また、第1図(b)は他の実施例である。第1図(b)
の実施例が第1図(a)の構造と異なるところは、素子
5をTFT素子1の端子電極であるソース電極に直接接
続する構造とした点にある。
ここで本説明では、便宜的に信号電極2に接続したTP
T素子1の電極をドレイン電極、画素電極に接続した電
極をソース電極と呼ぶことにする。
第1図(c)は、さらに別の実施例である。第1図(c
)の実施例が前記第1図(a)の実施例と異なるところ
は、素子5を信号電極3Aに接続する構成とした点にあ
る。
第1図(d)はさらに他の実施例である。第1図(d)
の実施例が第1図(Q)と異なるところは素子5をTF
T素子1の端子電極であるソース電極と信号電極3Aと
の間に接続する構成とした点にある。
上述の実施例において、素子5の役割は第1図(a)、
(b)の場合には、信号電極2と2Aとの間に電気的に
回路を形成して、TPT素子1の特性を測定、検査する
とともに、信号電極2゜2A、あるいは走査電極3の断
線、短絡等の欠陥の有無を検出することを可能とするも
のである。
また、上記実施例において、第1図(C)。
(d)の場合には、信号電極2と走査電極3Aとの間で
電気的回路を形成し、同様の動作を実現するものである
ここで、素子5は、各種の素子を用いることが可能であ
る6以下の具体的な実施例に述べるように、液晶を封入
後に表示装置として動作させる場合には素子5の接続に
よっても従来から使用されている公知の駆動法が適用で
きる。
第2図は第1図(a)の素子5として静電容量6を用い
た構造である。この構造は従来の静電容量6の存在しな
い構造と比較し、特に製造工程を増加させることなく製
造が可能である。それでは、第2図に示す回路を実現す
る構造を第3図に示す。
多結晶シリコン薄膜、非晶質シリコン薄膜、あるいは熱
等を加えて再結晶化したシリコン薄膜等の半導体薄膜7
と、信号電極差TPT素子のドレイン電極8、走査電極
蓋TPT素子のゲート電極9、ITO等の透明電極材料
により形成された表示電極10、コンタクト穴11から
構成された1画素において、信号電極8と画素電極10
を信号電極上の符号12の部分で重量することにより、
静電容量を構成している。
第3図のA−A’間とB−B’間の断面構成をそれぞれ
第4図(a)と(b)とに示す。A−A′間の断面構造
は従来良く知られたTPT構造と全く同一である。また
B−B’間断面構造はTPT素子の保護用に形成された
SiO2、PSG等のパッシベーション膜を絶膜として
、透明画素電極1oと信号電極8との間で静電容量12
が形成されている。この構造では静電容量を形成するた
めに特別に新しい製造工程を導入する必要がなく、ホト
マスクのパターンの変更のみで素子が得られるため、デ
ィスプレイの製造コストを高めることなく製造すること
が可能である。
次に、第2図に示す構成の実施例について、第5図(a
)、(b)及び第6図を参照しながら、その動作原理を
説明することにする。
第5図(a)は表示装置を検査するための回路であり、
試験用信号電圧源16、走査電圧源17、スイッチ回路
18、電流検出回路19、ディスプレイ基板20を有し
ている。また、Qxx+ uX21QX3.・・・・・
・は走査電極、QYl、 QY21 Qvat・・・・
・・は信号電極、Pxvは画素、VTは試験用の信号電
圧、V Xl、V Xl t V Xa m ”’ ”
’は走査電圧、また符号21は表示基板20の外部接続
端子部である。
このような要素を次の如く接続する。
表示基板20の外部接続端子部21に対し、走査電極Q
 Xi + Q Xl HQ Xl g・・・・・・に
対して走査電圧V Xl 、 V Xl 、 V Xl
 、・・・・・・を発生する回路17を接続し、また信
号電極Qvs、 Qvx、 Qvs、・・団・に対して
スイッチ回路18を通して試験用信号電圧VTを発生す
る回路16および信号電流検出回路19を接続する。そ
してスイッチ回路の接続を第5図に示す如く、たとえば
奇数番、目の信号線12Y1゜Qvs、 Qvs+・・
・・・・は電流検出回路19に接続し、偶数番目の信号
線は試験用信号電圧発生回路16に接続する。電流検出
回路19は、たとえば第5図(b)に示すように、抵抗
Rと演算増幅器○Pとで構成することができる。
以上のような回路構成において、第1行目の奇数個の画
素p11t Pts、 Pts、・・・・・・を検査す
る場合には、第6図に示した波形の電圧をそれぞれの端
子に印加する。まず、試験用信号電圧発生回路16から
出力される信号電圧VTとしては、電圧の立上りd v
 / d tが一定のランプ関数状の電圧波形としてQ
vx、* Qya、 QY8.・・・・・・の端子に印
加し、またvxt、 VX4.・・・・・・としては矩
形波の走査電圧を印加する。これに対して信号電極Qv
xvQvs、 Qvs、・・・・・・の端子から検出さ
れる電流は第6図(a)、(b)、(c)のようにTP
T素子特性により異なる電流波形が観測される。
この電流波形について第7図に示す1画素の等価回路を
用いて説明する。試験用の信号電圧VTを信号電極2A
に印加すると容量C,、TPTに付随した容量Cyst
 Cgdw Cas、及び画素電極の抵抗RPの各定数
と、TFTIのドレイン・ソース間の抵抗K”msによ
り出力電流iyが決定される。
まずVTとして第6図に示したランプ関数状の波形を印
加し、TFTIのゲート電圧vxiがTFT 1のしき
い値電圧以下でドレイン・ソース抵抗T”asが十分大
きい場合には電流ivは各容量により構成された回路を
流れる電流となる。このとき、容量Cu5p Cga、
 C−sの各容量を、容量Ctより、はるかに小さな値
となるようにすると、電流ivは、 となる、ここで、 CTFTはTFT素子1の容量でな
る。次に、走査電圧vxzがTFT素子1のしき、  
  ’t’fatEEV thmf k ft ’J 
、 r’ asfJDJ゛i5 @[l 2゜た場合に
は、 Ca5= CI、Czsの各容量は短絡さdす る。すなわち、TPT素子1がしきい値電圧Vthを越
えたときに、電流ivは上昇する波形となる。
次に、再びTPT素子1のゲート印加電圧をしきい値電
圧以下にして抵抗rasを十分大きな値とすると、iy
のレベルは初期の状態と等しくなり、低下する。一方、
もしTPT素子1のドレイン・ソース間がゲート電圧の
値にかかわらず常に低抵抗となる欠陥が発生した場合に
は、第6図(b)のように、信号電圧vtが印加されて
いる間大きな値の電流ivが流れる。これに対し、ドレ
イン・ソース間がゲート電圧の値にかかわらず常に高抵
抗の場合には、電流iyは常に低いレベルとなる。すな
わち、第6図に示す時刻tz 、 lz 、 tsで出
力パルスをサンプリングして、それらの各レベルを比較
することにより、TPT素子1の特性の良否が判別可能
となる。また、電流iyの波形の各レベルの大小を精密
に測定することによりTFT素子1のドレイン・ソース
間抵抗rasの測定が可能となる。
このような方法により第5図の第1行目奇数列目の画素
の検査が終了する。その後、スイッチ18の各スイッチ
を反対側に切りかえ、上述と同様な測定方法により偶数
列目の画素の検査を行う。
すなわち1表示部1行の検査は、2回の測定により終了
する。このため高速の検査が可能となる。
また、各信号線間の容量等による結合が存在するため、
試験用の信号電圧Vtが近接した信号線に影響を及ぼし
、出力電流ivの波形が乱れる場合には、たとえば3列
の信号線を1組として、そのうち2本を検査に使用し、
もう1本を一定電位に保持する等の手段により、各出力
電流ivの波形を安定させることが可能である。
また、第6図では走査波形として矩形波信号を用いた場
合について述べたが、TPT素子1の走査電極と信号電
極の容量結合により、走査波形の微分波形が重畳された
波形となり、この成分が測定の雑音成分となる。これを
小さくするため、第8図に信号vxi^とじて示したよ
うな、立上り、立下りを緩やかにした走査波形が考えら
れる。また、第6図では、試験用の信号電圧としてラン
プ関数状の波形について述べたが、これは、第8図に信
号VT^とじて示したような正弦波状の波形、あるいは
信号VTRのように負のランプ関数状の波形を用いても
検査が可能であることはいうまでもない。
さらに1本実施例において、走査電圧VXI。
vxz、・・・・・・をΩXlp QX2e Qxap
・旧・・と走査することにより、また、出力電流ivの
出力端子Qv5n vze Q vse・・・・・・位
置を評定することにより、走査配線及び信号配線の断線
及び走査電極と信号電極との短絡の有無、および断線の
発生場所を検出することが可能である。つまり、もし、
走査電極Qxnにおいて、第に列とに+1列との間が断
線しているとすると、走査電圧VXnを印加したときに
、第に列目の画素までは第6図に示したいずれかの波形
が観測されるが、第に+1列目以降では、第6図(b)
または(Q)の波形に対し走査電圧の微分波形が重畳さ
れない波形が出力されるためである。
もし、信号電極Qvヨにおいて、第に行目と第に+1行
目の間に断線が存在すると、走査電圧が第に行目までは
信号電極QYnの出力電流ivが観測されるが、第に+
1行目以降は出力電流が観測されなくなる。
一方、もし走査電極と信号電極との間に短絡が存在する
と、短絡した走査線に走査電圧vxが印加されたとき走
査電圧が出力端子flvに直接印加されるため、大きな
電流が観測される。
以上述べたように、それぞれの電流波形と出力とを比較
することにより、表示部におけるTPTの欠陥、さらに
は配線の断線と配線間の短絡の有無を検査することがで
きる。
以上述べた構造の画素では1画素電極4と信号電極2′
との間に容量6が接続されるが、液晶封入後ディスプレ
イとして動作させる場合には、従来より公知の駆動法が
、変更なしに適用できることはいうまでもない。
第9図は1本発明の具体的な実施例を示す回路図である
第9図は第1図(a)の素子5に対してTPT素子22
を用いた構成である。この実施例は、第2図に示す実施
例のごとく容量C1を用いたときと比較して出力電流i
yを大きくでき、しかもTPT素子1内あるいは配線間
等に存在する容量の影響を受けにくいという利点がある
かかる実施例を検査する試験回路の構成は第5図に示す
構成のものを用いてよく、また印加電圧としては第10
図に示した波形のものを印加すればよい。ただし、出力
電圧icが互いに干渉しないように、 mYa、 Qv
yI◆工t nYs+1の3本を1組として検査する。
しかして、試験用電圧VTを印加した信号配線11Yl
l◆1の両側の信号線fAvn* Qvva+sからそ
れぞれ信号電流ic e ic^を検出してTPT素子
1の特性を評価するのである。さらに具体的にその作用
を説明する。すなわち、1画素中の2個のTPT素子1
のいずれも正常に動作する場合、または1個が正常で、
1個のソース・ドレインが短絡状態の場合には第10図
(a)のような波形が観測される。2個のTFTともソ
ース・ドレインが短絡状態の場合には第10図(b)に
示すような波形が観測される。さらに2個のTFTとも
ソース・ドレインがオープン状態の場合には第10図(
c)の波形が観測されることになる。そして、時刻tz
 + tz t taの各時点での電流の大小を比較す
ることにより、上記の3状態を判別し。
表示部内のTPT素子の欠陥の有無を検査できることに
なる。
また、本実施例でも上述の実施例と同様に、走査電圧と
出力波形の場所の評定から第1の実施例と同様に、走査
電極及び信号電極の断線、さらに。
それぞれの電極間の短絡の有無を検査することが可能で
ある。
さて、第9図の実施例の構成を液晶を封入してディスプ
レイとして駆動するとき、まず線順次走査を行う場合に
は、TPT22の形状をTFTIの形状に比べて、チャ
ル幅Wとチャネル長りの比W/Lを十分小さく設計する
必要がある。これによって表示電極4に対し、信号電極
JIYnの電圧が十分に印加できるようになり、良好な
表示が実現できる。しかしながら、第9図の構造で点順
次走査を使用する場合は、走査電極3に対し走査電圧が
印加されている期間に信号電極fiYnから印加された
信号電圧がTPT素子22を通して隣りの信号電極ΩY
n”lにリークするため1表示が可能となる。いずれに
しろ1本実施例は、線順次走査を用いたアクティブマト
リクスディスプレイの検査法に有効である。
第11図は本実施例を実現するための表示部の平面構造
の一例を示す平面図である。第11図では、第9図に示
したTPT素子22に相当するTPT素子23を隣りの
画素のTPT素子1と同一の半導体島上に形成している
。このように構成したことにより1画素開口率をそれほ
ど低下させずにディスプレイを作成することができる。
第12図は本発明の他の具体的実施例を示す回路図であ
って、第9図の変形例である。ここで、第1図(a)に
示す素子5に相当するものはTPT素子24である。
第12図に示す実施例が第9図のものと異なるところは
、TPT素子24のゲート電極を次段の走査電極3Aに
接続した点にあり、他の構成には変更がない。
上述した回路構成の実施例を検査する場合には。
第13図に示すような波形を用いればよい。検査をする
ために上記回路に接続する装置としては、第5図に示す
ものでよい、ここで、第13図で示す信号の印加タイミ
ングとしては第10図に示すものとは異なっている。す
なわち、信号電極2Aに印加する矩形波の試験用信号電
圧v7に対し。
走査電極3および3Aに印加する走査電圧VXieVX
Zをタイミングをずらして重畳するように印加する。こ
の波形により、出力電流iyは1画素中のTFTI、2
4が2個とも正常に動作する場合には第13図(a)の
波形となり、またTFT24のソース・ドレイン間が常
に短絡状態のときには第13図(b)の波形となり、T
FTIのソ]−″″)′μ″″が常に短絡状態″lには
第13図(cンの波形となり、さらに2個TFTl。
24のうちいずれか1個以上のTPTのソース・ドレイ
ン間が常にオープン状態のときには第13図(d)のよ
うな波形となる。
このような波形に対して時刻txltzwtaのそれぞ
れの時点において、電流iyの大きさを観測することに
より、上記の4つの状態が判別できる。すなわち、第1
0図の実施例に対して、欠陥の判別の情報量が1つ増加
したことになる。
さて、本実施例の場合にも、先に述べた実施例と同様な
方法により、走査配線、信号配線それぞれの断線、およ
びそれらの間の短絡を検査することが可能である。
また、本実施例において液晶を封入してディスプレイを
駆動する場合には、線順次走査及び点順次走査のいずれ
も可能である。ただし、従来公知の駆動方法を用いた場
合には、表示状態を決定する信号電圧を印加するタイミ
ングが1ラインずつ遅れる。すなわち、従来、走査電極
3に走査電圧が印加されてTFTIを通して表示電極4
に信号電圧が印加されていたのに対し、本実施例では、
走査電極3Aに走査電圧が印加されて、1ライン前の走
査のタイミングで印加された信号電圧を書き換えること
により、表示電極4の電圧が決定される。このことから
、TFT24は第10図の実施例と異なり、画素電極4
に信号電圧を印加する役割があるため、TPT24はT
FTIと同等なチャネル幅Wとチャネル長りとの比に設
計することが必要である。
また1本実施例の場合にはTFTIとTFT24とのい
ずれか1個に欠陥が発生し、ソース・ドレイン間が常に
オープン状態になったとき、さらにTFTIに接続され
た走査電極3と信号電極2の組、あるいはTFT24に
接続された走査電極3Aと信号電極2Aの組のいずれか
の組の中の電極に断線が発生したときも画素電極4に信
号電圧を印加することが可能となる。すなわち、ディス
プレイとして使用する場合に1回路に冗長性が生じ、欠
陥の救済にも有効な構成となる。上記の欠陥が発生した
時には隣接した画素と同じ信号電圧が印加されることに
なるが、表示画像としてテレビ画像などの中間調表示が
多く、画面の濃淡が急激に変化しない画像に対しては特
に有効となる。
第14図は、第1図(c)に示す実施例の具体的な回路
構成例を示す回路図である。第1図(Q)の素子5に相
当するものとしては容量25である。
本実施例の回路を検査する場合には、第15図に示すよ
うな回路をディスプレイ基板に接続し、検査を行うもの
である。第15図の実施例が第5図のものと異なるとこ
ろは、電圧源16およびスイッチ回路18をなくした点
にある。また第15@に示す回路における走査電圧VX
l+ VX2p VX8g・・・・・・の波形及び相互
のタイミングの関係は第16図に示すようになる。すな
わち、走査電圧VX□。
VX4. VX8.・・・・・・はそれ自身、負の傾き
を有するランプ関数状の試験用信号電圧と走査電圧との
2つの機能を有する。それゆえに、第5図に述べた検査
法において信号側電極に接続されたスイッチ回路18は
不要となる。
次に1本実施例の動作を第14図及び第16図を用いて
説明する。走査電圧VXII VX2.・・・・・・は
走査電極QX1. nxz、・・・・・・に印加するも
のであるが、試験用の信号電圧と走査電圧が重畳された
波形とする。すなわち、第16図において、負の傾きを
有するランプ関数状の電圧は試験用の信号電圧であり、
また、矩形波の電圧は走査用の電圧である。ここで、ラ
ンプ関数状の電圧を負の値にするのはTPT素子がnチ
ャネル構造であり試験用電圧により、TPT素子がオン
状態となるのを防止するためである。もし、TPT素子
がPチャネル構造の場合には、試験用のランプ関数状の
電圧を正、走査電圧を負というように、試験用の電圧と
走査電圧とを逆極性になるようにする必要がある。
さて、第14図において、走査電極3に電圧VXI、走
査電極3Aに電圧vxzを第16図のタイミングで印加
する。このとき、容量25を通して流れる電流icは、
vxzのランプ関数電圧印加時ではランプ関数電圧の立
上り特性と走査電極3Aから信号電極2に至る回路に付
随した容量によって決定する。もしこの期間に走査電極
3に印加された電圧VXIの電圧がTFTIのし・きい
値電圧を越えて上昇すると、TFTIのソース・ドレイ
ン間がオン状態となり、ソース・ドレイン間を短絡した
状態となるため、容量25を通して流れる電流は負の方
向に増加する。このようにして、信号電極2から出力さ
れる電流波形を観測すると、TFTIが正常に動作して
いる場合には第16図(a)の波形となり、TFTIの
ソース・ドレイン間が常に短絡している場合には第16
図(b)の波形となり、常にオープン状態では第16図
(Q)のような波形が測定できる。このとき時刻tx 
、tzにおいて、電流値を測定することにより、TPT
の素子特性を検査することが可能である。 また、本実
施例において、走査電圧と出力電流との端子位置を評定
することにより、欠陥のあるTPTの位置、あるいは配
線の断線、短絡等の検査、それらの位置の評定もさきに
述べた方法と同様な方法で可能である。
第17図は第14図に示す実施例を実現するための、表
示部の平面構造を示す平面図である。透明電極で形成さ
れた画素電極10と走査電極9との間に容量部26を形
成している。このように本実施例の構造では特に新しい
プロセスを付は加えることなく容量を形成することがで
きる。
本実施例の構成においても、液晶封入後にディスプレイ
として用いる場合には、その駆動波形は従来より公知の
、線順次走査法、点順次走査法等を全く変更することな
く適用することはいうまでもない。
このように、上記各実施例によれば、アクティブマトリ
クスディスプレイの表示画素中にTPT素子や配線等の
欠陥の有無を検査するための素子を設け、かつ検査用の
配線を新たに設けることなく、従来の走査配線、信号配
線を用いて、表示部内の欠陥の存在を測定できるため、
素子検査法の簡易化、高速化がはかれ、また液晶等を封
入、積層する前に基板の状態で検査できるため、欠陥の
あるディスプレイを液晶封入工程を施すことがなくなる
から、製造工程の簡易化が可能である。
さらに、本実施例は検査にパルス電圧を用い、出力の検
出も多チャネルの電流検出回路を用いるため、1枚の基
板の測定時閲す大幅に短縮することが可能であり、実用
性が大きい、加えて、表示部に対し、探針による接触や
電子ビーム、光等の走査をしないため、表度部を劣化さ
せることがない。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば、マトリックスディ
スプレイの表示画素中にTPT素子・配線の欠陥の有無
を検査する素子を設けたので、新たな配線が不要となり
、かつ素子検査が容易にして高速化が図れ、液晶封入前
に検査ができるため、製造工程の簡素化ができる効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基本構成を示す回路図、第2図、第9
図、第12図および第14図は本発明の具体的な実施例
を示す回路図、第3図、第11図および第17図は一画
素の平面構造を示す平面図、第4図は第3図のA−A’
線、B−B’線に沿って示す断面図、第5図および第1
5図は検査回路を示す構成図、第6図、第8図、第10
図、第13図および第16図は駆動及び出力波形を示す
波形図、第7図は第2図の1画素の等価回路を示す回路
図である。 1.22,24・・・TFT素子、2,2A・・・信号
電極、3,3A・・・走査電極、4・・・表示電極、5
・・・素子、6.25・・・静電容量、7・・・半導体
薄膜、8・・・信号電極、9・・・走査電極、10・・
・表示電極、11・・・コンタクト穴、12・・・静電
容量、13・・・ガラス基板、14.15・・・絶縁膜
、16・・・試験用信号電圧源、17・・・走査電圧源
、18・・・スイッチ回路、19・・・電源検出回路、
20・・・ディスプレイ基板、21・・・接続点。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、表示電極間に液晶を挾持可能とされ、複数の走査電
    極と複数の信号電極との各々の交点にスイッチ素子を設
    け、その交点の走査電極と信号電極の双方に信号がある
    ときに作動するスイッチ素子により前記表示電極間に信
    号が印加されるようにしてなる表示装置において、上記
    スイッチ素子の基板側の表示電極および上記スイッチ素
    子の端子電極のいずれかと、周辺の走査電極・信号電極
    のいずれかとの間に、電圧を印加する電圧印加手段を接
    続し、該走査電極・信号電極・該電圧印加手段・該スイ
    ッチ素子を含んで電気的回路を形成可能とし、その電気
    的回路に電圧を印加して電気的回路の形成状態を検査で
    きるようにしてなることを特徴とする表示装置。 2、特許請求の範囲第1項において、前記電圧加印手段
    は、静電容量であることを特徴とする表示装置。 3、特許請求の範囲第1項において、前記電圧印加手段
    は、スイッチ素子としてなることを特徴とする表示装置
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