JPS6241703B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は有用な薬理学性質、特に気管支分泌物
溶解(broncholytical)活性を示す一般式() のフエニルエタノール アミンを製造するための
新規な方法に関する。
溶解(broncholytical)活性を示す一般式() のフエニルエタノール アミンを製造するための
新規な方法に関する。
本発明による式のフエニルエタノール アミ
ンの新規製造方法は一般式() で示される新規なα−アシルオキシ−アセトアミ
ド化合物を中間体化合物として使用することを特
徴とする方法である。
ンの新規製造方法は一般式() で示される新規なα−アシルオキシ−アセトアミ
ド化合物を中間体化合物として使用することを特
徴とする方法である。
上記一般式およびにおいて、R1は塩素ま
たは臭素原子を表わし、R2はトリフルオロメチ
ル基、フツ素または塩素原子を表わし、R3はそ
れぞれ炭素原子3ないし5個を有する分枝鎖アル
キル基またはシクロアルキル基を表わし、そして
R4は低級アルカノイルまたはベンゾイル基を表
わす。
たは臭素原子を表わし、R2はトリフルオロメチ
ル基、フツ素または塩素原子を表わし、R3はそ
れぞれ炭素原子3ないし5個を有する分枝鎖アル
キル基またはシクロアルキル基を表わし、そして
R4は低級アルカノイルまたはベンゾイル基を表
わす。
基R3およびR4についての上記定義に関連し
て、R3は特に、イソプロピル、イソブチル、第
3ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、第3ペ
ンチル、シクロプロピル、シクロブチルまたはシ
クロペンチル基の意味を有することができ、そし
てR4は酢酸、プロピオン酸、トリメチル酢酸、
ヴアレリアン酸または安息香酸のようなカルボン
酸のアシル基、すなわち低級アルカノイルまたは
ベンゾイル基を意味しうる。
て、R3は特に、イソプロピル、イソブチル、第
3ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、第3ペ
ンチル、シクロプロピル、シクロブチルまたはシ
クロペンチル基の意味を有することができ、そし
てR4は酢酸、プロピオン酸、トリメチル酢酸、
ヴアレリアン酸または安息香酸のようなカルボン
酸のアシル基、すなわち低級アルカノイルまたは
ベンゾイル基を意味しうる。
本発明に従い、上記一般式のフエニルエタノ
ールアミンは一般式 (式中R1およびR2は上記定義のとおりであ
る)の4−アミノ−ベンズアルデヒドを、一般式 R3−NC () (式中R3は上記定義のとおりである)のイソ
ニトリルと、および一般式 R4−OH () (式中R4は上記定義のとおりである)のカル
ボン酸と反応させ、かくして得られる一般式の
α−アシルオキシ−アセトアミド(これは粗生成
物としてさらに反応させることもできる)を水素
化物、たとえばボラン/テトラヒドロフランまた
は水素化アルミニウムリチウムのごとき金属水素
化物または複合金属水素化物で還元することによ
り得ることができる。
ールアミンは一般式 (式中R1およびR2は上記定義のとおりであ
る)の4−アミノ−ベンズアルデヒドを、一般式 R3−NC () (式中R3は上記定義のとおりである)のイソ
ニトリルと、および一般式 R4−OH () (式中R4は上記定義のとおりである)のカル
ボン酸と反応させ、かくして得られる一般式の
α−アシルオキシ−アセトアミド(これは粗生成
物としてさらに反応させることもできる)を水素
化物、たとえばボラン/テトラヒドロフランまた
は水素化アルミニウムリチウムのごとき金属水素
化物または複合金属水素化物で還元することによ
り得ることができる。
一般式の4−アミノ−ベンズアルデヒドと一
般式のイソニトリルとのおよび一般式のカル
ボン酸との反応は塩化メチレン、クロロホルム、
ベンゼン、エーテル、テトラヒドロフランまたは
ジオキサンのごとき適当な溶媒中、低温、すなわ
ち−20〜75℃の温度であるが、好ましくは室温で
行なうのが適当である。しかしながら、この反応
は次のやり方、すなわち撹拌しながら室温で一般
式の化合物および一般式のカルボン酸をそれ
ぞれの滴下ロートから同時に一般式のアルデヒ
ドの溶液に滴加するか、または一般式のカルボ
ン酸を一般式のイソニトリルと一般式のアル
デヒドとの溶液に数時間、すなわち5−10時間内
に適加するかのどちらかのやり方で行なうことが
好ましい。両方の場合で、反応混合物を次いで10
〜165時間撹拌する。
般式のイソニトリルとのおよび一般式のカル
ボン酸との反応は塩化メチレン、クロロホルム、
ベンゼン、エーテル、テトラヒドロフランまたは
ジオキサンのごとき適当な溶媒中、低温、すなわ
ち−20〜75℃の温度であるが、好ましくは室温で
行なうのが適当である。しかしながら、この反応
は次のやり方、すなわち撹拌しながら室温で一般
式の化合物および一般式のカルボン酸をそれ
ぞれの滴下ロートから同時に一般式のアルデヒ
ドの溶液に滴加するか、または一般式のカルボ
ン酸を一般式のイソニトリルと一般式のアル
デヒドとの溶液に数時間、すなわち5−10時間内
に適加するかのどちらかのやり方で行なうことが
好ましい。両方の場合で、反応混合物を次いで10
〜165時間撹拌する。
得られた一般式のα−アシルオキシ−アセト
アミドの水素化物による還元はエーテル、テトラ
ヒドロフランまたはジオキサンのごとき適当な溶
媒中で、低温ないし僅かに上昇させた温度、すな
わち0ないし100℃の温度であるが、適当には反
応混合物の沸とう温度で行なうことが好ましい。
しかしながら、特に有利なやり方では、還元を溶
媒として用いるテトラヒドロフランの沸とう温度
で、ボラン/テトラヒドロフランを用いて行な
う。
アミドの水素化物による還元はエーテル、テトラ
ヒドロフランまたはジオキサンのごとき適当な溶
媒中で、低温ないし僅かに上昇させた温度、すな
わち0ないし100℃の温度であるが、適当には反
応混合物の沸とう温度で行なうことが好ましい。
しかしながら、特に有利なやり方では、還元を溶
媒として用いるテトラヒドロフランの沸とう温度
で、ボラン/テトラヒドロフランを用いて行な
う。
一般式の所望の最終生成物の単離は水性塩基
により、たとえば水/アンモニアにより行なうこ
とが適当であり、かくして場合によりまだ存在し
ているα−アシルオキシ基が分離除去される。
により、たとえば水/アンモニアにより行なうこ
とが適当であり、かくして場合によりまだ存在し
ているα−アシルオキシ基が分離除去される。
かくして得られた一般式のフエニルエタノー
ルアミンは次いで所望により無機または有機酸に
よりその生理学的に許容されうる酸付加塩に変換
できる。酸としては、たとえば塩酸、臭化水素
酸、硫酸、リン酸、乳酸、酒石酸、クエン酸、フ
マール酸またはマレイン酸を考慮しうる。
ルアミンは次いで所望により無機または有機酸に
よりその生理学的に許容されうる酸付加塩に変換
できる。酸としては、たとえば塩酸、臭化水素
酸、硫酸、リン酸、乳酸、酒石酸、クエン酸、フ
マール酸またはマレイン酸を考慮しうる。
原料化合物として用いる一般式およびの化
合物は文献から既知である。
合物は文献から既知である。
原料化合物として用いる一般式のアルデヒド
は、たとえば相当する4−アミノ−安息香酸ハロ
ゲン化物または4−アミノ−安息香酸エステルを
還元し、次いで場合により得られたベンジルアル
コールを二酸化マンガンで酸化することにより得
られる。
は、たとえば相当する4−アミノ−安息香酸ハロ
ゲン化物または4−アミノ−安息香酸エステルを
還元し、次いで場合により得られたベンジルアル
コールを二酸化マンガンで酸化することにより得
られる。
一般式のフエニルエタノールアミンの製造方
法は文献からすでに既知であり、この方法は一般
式 (式中R1,R2およびR3は上記定義のとおりで
ある)のグリコール酸アミドを複合金属水素化物
で還元することよりなる。
法は文献からすでに既知であり、この方法は一般
式 (式中R1,R2およびR3は上記定義のとおりで
ある)のグリコール酸アミドを複合金属水素化物
で還元することよりなる。
しかしながら、この方法の欠点は原料化合物と
して必須のグリコール酸アミドの製造が極めて困
難であることにある。
して必須のグリコール酸アミドの製造が極めて困
難であることにある。
パツセリーニ(Passerini)の反応が立体障害
を伴なうα,β−不飽和カルボニル化合物では実
施できないことが文献〔J.Amer.Chem.Soc.67、
1499−1500(1945)〕から知られていることか
ら、本発明による新しい方法により良好な収率が
得られることは当業者に予期されなかつたことで
ある。この文献には、α,β−不飽和カルボニル
化合物、すなわちクロトンアルデヒドのパツセリ
ーニの反応に対する非反応性が共鳴構造による、
すなわち隣接基の電子供与作用(electron−
delivering effect)に基づくカルボニル官能基の
親電性中心における中和によるものと明言してい
る: さらに、また、フエニル核のオルトまたはパラ
位にあるアミノ基が強力な電子供与作用を示すこ
とも知られている。
を伴なうα,β−不飽和カルボニル化合物では実
施できないことが文献〔J.Amer.Chem.Soc.67、
1499−1500(1945)〕から知られていることか
ら、本発明による新しい方法により良好な収率が
得られることは当業者に予期されなかつたことで
ある。この文献には、α,β−不飽和カルボニル
化合物、すなわちクロトンアルデヒドのパツセリ
ーニの反応に対する非反応性が共鳴構造による、
すなわち隣接基の電子供与作用(electron−
delivering effect)に基づくカルボニル官能基の
親電性中心における中和によるものと明言してい
る: さらに、また、フエニル核のオルトまたはパラ
位にあるアミノ基が強力な電子供与作用を示すこ
とも知られている。
従つて、当業者は一般式の4−アミノベンズ
アルデヒドのカルボニル官能基の親電子性中心が
一般式 のその共鳴構造に基づき脱活性化され、従つてパ
ツセリーニの反応を受け入れられないものと予想
せねばならない。驚くべきことに、本発明の場合
にはこれが生じない。
アルデヒドのカルボニル官能基の親電子性中心が
一般式 のその共鳴構造に基づき脱活性化され、従つてパ
ツセリーニの反応を受け入れられないものと予想
せねばならない。驚くべきことに、本発明の場合
にはこれが生じない。
次例は本発明を説明するためのものである:
例 1
α−アセトキシ−α−(4−アミノ−3,5−
ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル−アセ
トアミド 2個の別々の滴下ロートに入れた第3ブチルイ
ソニトリル3.32g(0.04モル)および氷酢酸4.8g
(0.08モル)を4−アミノ−3,5−ジクロル−
ベンズアルデヒド3.8g(0.02モル)の無水塩化
メチレン50ml溶液に、室温で撹拌しながら8時間
にわたり同じ速度で滴下して加える。次に、得ら
れた溶液を半分に蒸発させ、冷却する。かくして
沈殿した未反応の4−アミノ−3,5−ジクロル
−ベンズアルデヒドを吸引濾去し、濾液を再び半
量に蒸発させる。得られた混合物に同量のジイソ
プロピル エーテルを加え、かくして所望の生成
物を結晶として得る。生成物を吸引濾取し、ジイ
ソプロピル エーテルで洗う。
ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル−アセ
トアミド 2個の別々の滴下ロートに入れた第3ブチルイ
ソニトリル3.32g(0.04モル)および氷酢酸4.8g
(0.08モル)を4−アミノ−3,5−ジクロル−
ベンズアルデヒド3.8g(0.02モル)の無水塩化
メチレン50ml溶液に、室温で撹拌しながら8時間
にわたり同じ速度で滴下して加える。次に、得ら
れた溶液を半分に蒸発させ、冷却する。かくして
沈殿した未反応の4−アミノ−3,5−ジクロル
−ベンズアルデヒドを吸引濾去し、濾液を再び半
量に蒸発させる。得られた混合物に同量のジイソ
プロピル エーテルを加え、かくして所望の生成
物を結晶として得る。生成物を吸引濾取し、ジイ
ソプロピル エーテルで洗う。
融点:175〜176℃。
例 2
α−アセトキシ−α−(4−アミノ−3,5−
ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル−アセ
トアミド 第3ブチルイソシアニド45mlを4−アミノ−
3,5−ジクロル−ベンズアルデヒド30g(0.16
モル)の塩化メチレン280ml溶液に加える。この
溶液に氷酢酸40ml(約)を室温で撹拌しながら16
時間にわたり加える。反応混合物をさらに4時間
撹拌し、最初の結晶が得られるまで減圧で蒸発さ
せる。0℃に冷却させた後に沈殿した未反応の4
−アミノ−3,5−ジクロル−ベンズアルデヒド
を吸引濾過し、これは再び直接反応させる。濾液
をn−ヘキサンと混合すると、所望の生成物が沈
殿する。沈殿を吸引濾取し、n−ヘキサンで洗
い、次に乾燥させる。
ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル−アセ
トアミド 第3ブチルイソシアニド45mlを4−アミノ−
3,5−ジクロル−ベンズアルデヒド30g(0.16
モル)の塩化メチレン280ml溶液に加える。この
溶液に氷酢酸40ml(約)を室温で撹拌しながら16
時間にわたり加える。反応混合物をさらに4時間
撹拌し、最初の結晶が得られるまで減圧で蒸発さ
せる。0℃に冷却させた後に沈殿した未反応の4
−アミノ−3,5−ジクロル−ベンズアルデヒド
を吸引濾過し、これは再び直接反応させる。濾液
をn−ヘキサンと混合すると、所望の生成物が沈
殿する。沈殿を吸引濾取し、n−ヘキサンで洗
い、次に乾燥させる。
融点:175〜176℃。
例 3
1−(4−アミノ−3,5−ジクロル−フエニ
ル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール ホウ化水素のテトラヒドロフラン中の1モル溶
液100mlをα−アセトキシ−α−(4−アミノ−
3,5−ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル
アセトアミド4.01gの無水テトラヒドロフラン50
ml溶液に加える。2時間還流させた後に、溶液を
蒸発させ、水100mlを加え、溶液を塩酸でPH2に
まで酸性にする。水性相を酢酸エチルで洗い、次
にアンモニアでアルカリ性にし、塩化メチレンで
抽出する。有機相を蒸発させてから、イソプロパ
ノールからエーテル性塩酸を加えた後に塩酸塩を
得る。
ル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール ホウ化水素のテトラヒドロフラン中の1モル溶
液100mlをα−アセトキシ−α−(4−アミノ−
3,5−ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル
アセトアミド4.01gの無水テトラヒドロフラン50
ml溶液に加える。2時間還流させた後に、溶液を
蒸発させ、水100mlを加え、溶液を塩酸でPH2に
まで酸性にする。水性相を酢酸エチルで洗い、次
にアンモニアでアルカリ性にし、塩化メチレンで
抽出する。有機相を蒸発させてから、イソプロパ
ノールからエーテル性塩酸を加えた後に塩酸塩を
得る。
塩酸塩の融点:174〜175℃。
例 4
α−アセトキシ−α−(4−アミノ−3−クロ
ル−5−トリフルオロメチル−フエニル)−酢
酸−第3ブチルアミド 4−アミノ−3−クロル−5−トリフルオロメ
チル−ベンズアルデヒド4.47g(20ミリモル)の
塩化メチレン50ml溶液に、室温で撹拌しながら第
3ブチルイソニトリル3.32g(40ミリモル)およ
び氷酢酸4.8g(80ミリモル)を5時間にわたり
同時に滴下して加える。次に、溶液を室温で65時
間撹拌する。溶媒を減圧で除去した後に、残留物
をエーテルに溶解し、水および飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液で遂次洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させ、次に減圧で蒸発乾燥させる。残留物をシ
リカゲル カラム上で溶出剤として塩化メチレン
を用いてクロマトグラフイ処理する。所望の化合
物を含有する留分を集め、蒸発させ、残留物をエ
ーテルから結晶化させる。
ル−5−トリフルオロメチル−フエニル)−酢
酸−第3ブチルアミド 4−アミノ−3−クロル−5−トリフルオロメ
チル−ベンズアルデヒド4.47g(20ミリモル)の
塩化メチレン50ml溶液に、室温で撹拌しながら第
3ブチルイソニトリル3.32g(40ミリモル)およ
び氷酢酸4.8g(80ミリモル)を5時間にわたり
同時に滴下して加える。次に、溶液を室温で65時
間撹拌する。溶媒を減圧で除去した後に、残留物
をエーテルに溶解し、水および飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液で遂次洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させ、次に減圧で蒸発乾燥させる。残留物をシ
リカゲル カラム上で溶出剤として塩化メチレン
を用いてクロマトグラフイ処理する。所望の化合
物を含有する留分を集め、蒸発させ、残留物をエ
ーテルから結晶化させる。
融点:155〜156℃。
例 5
1−(4−アミノ−3−クロル−5−トリフル
オロメチル−フエニル)−2−第3ブチルアミ
ノ−エタノール−塩酸塩 α−アセトキシ−α−(4−アミノ−3−クロ
ル−5−トリフルオロメチル−フエニル)−酢酸
−第3ブチルアミド2g(5.4ミリモル)を無水
テトラヒドロフラン15mlに溶解し、ホウ化水素の
テトラヒドロフラン中の1モル溶液27mlに窒素雰
囲気下に1度に加える。ホウ化水素の1モル溶液
をさらに15ml加え、反応混合物をさらに2時間還
流させる。次に、過剰のホウ化水素をアセトンで
分解し、ホウ素−複合化合物を水と混合し、次に
溶媒を減圧で蒸発させる。水性の蒸留残留物を
2n塩酸でPH1まで酸性化し、次にアンモニアで
アルカリ性にし、エーテルで抽出する。エーテル
抽出液を0.5n塩酸で抽出し、この酸溶液をエーテ
ルで洗い、アンモニアでアルカリ性にし、再びエ
ーテルで抽出する。エーテル抽出液を水洗し、硫
酸マグネシウムを用いて乾燥させ、次に減圧蒸発
させる。油状の蒸発残留物をエーテルに溶解し、
エーテル性塩酸で酸性にする。沈殿した結晶を吸
引濾取し、エーテルで洗浄する。
オロメチル−フエニル)−2−第3ブチルアミ
ノ−エタノール−塩酸塩 α−アセトキシ−α−(4−アミノ−3−クロ
ル−5−トリフルオロメチル−フエニル)−酢酸
−第3ブチルアミド2g(5.4ミリモル)を無水
テトラヒドロフラン15mlに溶解し、ホウ化水素の
テトラヒドロフラン中の1モル溶液27mlに窒素雰
囲気下に1度に加える。ホウ化水素の1モル溶液
をさらに15ml加え、反応混合物をさらに2時間還
流させる。次に、過剰のホウ化水素をアセトンで
分解し、ホウ素−複合化合物を水と混合し、次に
溶媒を減圧で蒸発させる。水性の蒸留残留物を
2n塩酸でPH1まで酸性化し、次にアンモニアで
アルカリ性にし、エーテルで抽出する。エーテル
抽出液を0.5n塩酸で抽出し、この酸溶液をエーテ
ルで洗い、アンモニアでアルカリ性にし、再びエ
ーテルで抽出する。エーテル抽出液を水洗し、硫
酸マグネシウムを用いて乾燥させ、次に減圧蒸発
させる。油状の蒸発残留物をエーテルに溶解し、
エーテル性塩酸で酸性にする。沈殿した結晶を吸
引濾取し、エーテルで洗浄する。
融点:192〜193℃。
例 6
α−アセトキシ−α−(4−アミノ−3,5−
ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル−アセ
トアミド 酢酸3.6g(0.06モル)および第3ブチル−イ
ソニトリル2.5g(0.03モル)を4−アミノ−
3,5−ジクロル−ベンズアルデヒド14.1g
(0.08モル)の塩化メチレン60ml溶液に室温で撹
拌しながら加える。次いで、反応混合物を3時間
還流させる。上記操作(酢酸および第3ブチル−
イソニトリルの添加および還流)を4回繰返して
から、反応混合物を冷2N水酸化ナトリウム溶液
中に注入し、有機相を分離採取する。有機相を水
洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥させた後に、反応
生成物を減圧蒸発させ、残留物を塩化メチレン/
ヘキサンから結晶化させる。
ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル−アセ
トアミド 酢酸3.6g(0.06モル)および第3ブチル−イ
ソニトリル2.5g(0.03モル)を4−アミノ−
3,5−ジクロル−ベンズアルデヒド14.1g
(0.08モル)の塩化メチレン60ml溶液に室温で撹
拌しながら加える。次いで、反応混合物を3時間
還流させる。上記操作(酢酸および第3ブチル−
イソニトリルの添加および還流)を4回繰返して
から、反応混合物を冷2N水酸化ナトリウム溶液
中に注入し、有機相を分離採取する。有機相を水
洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥させた後に、反応
生成物を減圧蒸発させ、残留物を塩化メチレン/
ヘキサンから結晶化させる。
融点:175〜176℃。
例 7
α−(4−アミノ−3,5−ジクロル−フエニ
ル)−α−ベンゾイルオキシ−N−第3ブチル
−アセトアミド クロロホルム中の4−アミノ−3,5−ジクロ
ル−ベンズアルデヒド、第3ブチル−イソニトリ
ルおよび安息香酸から還流温度において例4と同
様にして製造する。
ル)−α−ベンゾイルオキシ−N−第3ブチル
−アセトアミド クロロホルム中の4−アミノ−3,5−ジクロ
ル−ベンズアルデヒド、第3ブチル−イソニトリ
ルおよび安息香酸から還流温度において例4と同
様にして製造する。
融点:189〜192℃(185℃から半融)。
例 8
α−(4−アミノ−3,5−ジクロル−フエニ
ル)−α−ヴアレロイルオキシ−N−第3ブチ
ル−アセトアミド 4−アミノ−3,5−ジクロル−ベンズアルデ
ヒド、第3ブチル−イソニトリルおよびヴアレリ
アン酸から例4と同様にして製造する。
ル)−α−ヴアレロイルオキシ−N−第3ブチ
ル−アセトアミド 4−アミノ−3,5−ジクロル−ベンズアルデ
ヒド、第3ブチル−イソニトリルおよびヴアレリ
アン酸から例4と同様にして製造する。
融点:95〜98℃。
例 9
1−(4−アミノ−3,5−ジクロル−フエニ
ル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール テトラヒドロフラン中でα−(4−アミノ−
3,5−ジクロル−フエニル)−α−ベンゾイル
オキシ−N−第3ブチル−アセトアミドおよびリ
チウムアルミニウム水素化物から例3と同様にし
て製造する。
ル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール テトラヒドロフラン中でα−(4−アミノ−
3,5−ジクロル−フエニル)−α−ベンゾイル
オキシ−N−第3ブチル−アセトアミドおよびリ
チウムアルミニウム水素化物から例3と同様にし
て製造する。
塩酸塩の融点:174〜175℃。
例 10
1−(4−アミノ−3,5−ジクロル−フエニ
ル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール 4−アミノ−3,5−ジクロル−ベンズアルデ
ヒド、第3ブチル−イソニトリルおよびヴアレリ
アン酸から、形成されたα−(4−アミノ−3,
5−ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル−α
−ヴアレロイルオキシ−アセトアミドを単離せず
に、例2および5と同様にして製造する。
ル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール 4−アミノ−3,5−ジクロル−ベンズアルデ
ヒド、第3ブチル−イソニトリルおよびヴアレリ
アン酸から、形成されたα−(4−アミノ−3,
5−ジクロル−フエニル)−N−第3ブチル−α
−ヴアレロイルオキシ−アセトアミドを単離せず
に、例2および5と同様にして製造する。
塩酸塩の融点:174〜175℃。
前記例と同様にして、次の化合物を製造する:
1−(4−アミノ−3−ブロモ−5−フルオル−
フエニル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール
−塩酸塩、 融点:207〜208℃。
フエニル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール
−塩酸塩、 融点:207〜208℃。
1−(4−アミノ−3−クロル−5−フルオル−
フエニル)−2−シクロプロピルアミノ−エタノ
ール−塩酸塩、 融点:175〜177℃。
フエニル)−2−シクロプロピルアミノ−エタノ
ール−塩酸塩、 融点:175〜177℃。
1−(4−アミノ−3−クロル−5−フルオル−
フエニル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール
−塩酸塩、 融点:206〜208℃。
フエニル)−2−第3ブチルアミノ−エタノール
−塩酸塩、 融点:206〜208℃。
1−(4−アミノ−3−クロル−5−トリフルオ
ロメチル−フエニル)−2−シクロブチルアミノ
−エタノール−塩酸塩、 融点:177〜178℃。
ロメチル−フエニル)−2−シクロブチルアミノ
−エタノール−塩酸塩、 融点:177〜178℃。
1−(4−アミノ−3−ブロモ−5−フルオル−
フエニル)−2−シクロブチルアミノ−エタノー
ル−塩酸塩、 融点:164〜166℃。
フエニル)−2−シクロブチルアミノ−エタノー
ル−塩酸塩、 融点:164〜166℃。
1−(4−アミノ−3−クロル−5−トリフルオ
ロメチル−フエニル)−2−第3ペンチルアミノ
−エタノール−塩酸塩、 融点:176〜178℃(分解)。
ロメチル−フエニル)−2−第3ペンチルアミノ
−エタノール−塩酸塩、 融点:176〜178℃(分解)。
1−(4−アミノ−3−クロル−5−フルオル−
フエニル)−2−イソプロピルアミノ−エタノー
ル−塩酸塩、 融点:152〜154℃(分解)。
フエニル)−2−イソプロピルアミノ−エタノー
ル−塩酸塩、 融点:152〜154℃(分解)。
1−(4−アミノ−3−ブロモ−5−トリフルオ
ロメチル−フエニル)−2−シクロペンチルアミ
ノ−エタノール、 融点:100〜102.5℃(分解)。
ロメチル−フエニル)−2−シクロペンチルアミ
ノ−エタノール、 融点:100〜102.5℃(分解)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中R1は塩素または臭素原子を表わし、R2
はトリフルオロメチル基、フツ素または塩素原子
を表わし、そしてR3はそれぞれ炭素原子3〜5
個を有する分枝鎖アルキル基またはシクロアルキ
ル基を表わす)で示されるフエニルエタノール
アミンならびにその無機または有機酸による生理
学的に許容されうる酸付加塩の製造方法であつ
て、一般式 (式中R1およびR2は前記定義のとおりであ
る)の4−アミノ−ベンズアルデヒドを一般式 R3−NC () (式中R3は前記定義のとおりである)のイソ
ニトリルと、および一般式 R4−OH () (式中R4は低級アルカノイルまたはベンゾイ
ル基を表わす)のカルボン酸と反応させ、かくし
て得られた一般式 (式中R1〜R4は前記定義のとおりである)の
α−アシルオキシ−アセトアミドを水素化物、た
とえば金属水素化物または複合金属水素化物で還
元し、次に所望により得られた一般式のフエニ
ルエタノール アミンを無機または有機酸により
その生理学的に許容されうる酸付加塩に変換する
ことよりなる方法。 2 反応を溶媒中で行なう特許請求の範囲第1項
に記載の方法。 3 最初の反応工程を−20〜75℃の温度、好まし
くは室温で行なう特許請求の範囲第1項および第
2項のいずれか一つに記載の方法。 4 還元を低温ないし僅かに上昇させた温度、た
とえば0ないし100℃の温度で行なう特許請求の
範囲第1項および第2項のいずれか一つに記載の
方法。 5 反応を使用する溶媒の沸とう温度で行なう特
許請求の範囲第1項、第2項および第4項のいず
れか一つに記載の方法。 6 ボラン/テトラヒドロフランを水素化物とし
て使用し、そしてテトラヒドロフランを溶媒とし
て使用する特許請求の範囲第1項、第2項、第4
項および第5項のいずれか一つに記載の方法。 7 還元に、一般式のα−アシルオキシ−アセ
トアミドの粗生成物を使用する特許請求の範囲第
1項、第2項および第4項〜第6項のいずれか一
つに記載の方法。 8 仕上げ工程を水性塩基、たとえば水/アンモ
ニアを用いて行なう特許請求の範囲第1項および
第4項〜第7項のいずれか一つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI790067 | 1979-01-10 | ||
FI790067A FI59396C (fi) | 1979-01-10 | 1979-01-10 | Foerfarande foer framstaellning av 2-(4-amino-3,5-diklorfenyl)-2-karboxi-n-tert-butylacetamider |
DE2942723.4 | 1979-10-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61171459A JPS61171459A (ja) | 1986-08-02 |
JPS6241703B2 true JPS6241703B2 (ja) | 1987-09-04 |
Family
ID=8512294
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60580A Granted JPS5594347A (en) | 1979-01-10 | 1980-01-09 | Alphaaacyloxyyacetoamide |
JP616986A Granted JPS61171459A (ja) | 1979-01-10 | 1986-01-14 | フエニルエタノールアミン化合物の新規な製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60580A Granted JPS5594347A (en) | 1979-01-10 | 1980-01-09 | Alphaaacyloxyyacetoamide |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPS5594347A (ja) |
FI (1) | FI59396C (ja) |
-
1979
- 1979-01-10 FI FI790067A patent/FI59396C/fi not_active IP Right Cessation
-
1980
- 1980-01-09 JP JP60580A patent/JPS5594347A/ja active Granted
-
1986
- 1986-01-14 JP JP616986A patent/JPS61171459A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI790067A (fi) | 1980-07-11 |
JPS61171459A (ja) | 1986-08-02 |
JPS6123783B2 (ja) | 1986-06-07 |
FI59396B (fi) | 1981-04-30 |
FI59396C (fi) | 1981-08-10 |
JPS5594347A (en) | 1980-07-17 |
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