JPS62289538A - フルオロアルキル置換ステレン誘導体 - Google Patents
フルオロアルキル置換ステレン誘導体Info
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- 125000003011 styrenyl group Chemical class [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 title claims 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract description 4
- 230000002940 repellent Effects 0.000 abstract description 3
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 abstract description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 2
- YOMBUJAFGMOIGS-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-1-phenylethanone Chemical compound FCC(=O)C1=CC=CC=C1 YOMBUJAFGMOIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 5
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 1-butanol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 4
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2,2'-azo-bis-isobutyronitrile Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000005968 1-Decanol Substances 0.000 description 1
- WLTPFXQNFLAKQT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(2,2,2-trifluoroethoxy)phenyl]ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(OCC(F)(F)F)C=C1 WLTPFXQNFLAKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXZBODIIBNVFSX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(2,2,2-trifluoroethoxy)benzene Chemical compound FC(F)(F)COC1=CC=C(C=C)C=C1 FXZBODIIBNVFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANWARHIWIFIGIK-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylbut-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C(C)=CCC1=CC=CC=C1 ANWARHIWIFIGIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylcatechol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(O)=C1 XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016455 AlBN Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N bromosilane Chemical compound Br[SiH3] VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000005817 fluorobutyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005804 perfluoroheptyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- IPNPIHIZVLFAFP-UHFFFAOYSA-N phosphorus tribromide Chemical compound BrP(Br)Br IPNPIHIZVLFAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガラス表面をその光透過性を損うことな(撥水
、10油性処理をしうるコーティング材料の原料として
有用な新規フルオロアルキル置換スは文献未載の新規化
合物である。該誘導体より得られる重合体はガラス表面
をその光必過性を損うことなく、fΩ水、18油性処理
、反射防止処理または耐薬品処理できるコーティング材
料として用いることができる。
、10油性処理をしうるコーティング材料の原料として
有用な新規フルオロアルキル置換スは文献未載の新規化
合物である。該誘導体より得られる重合体はガラス表面
をその光必過性を損うことなく、fΩ水、18油性処理
、反射防止処理または耐薬品処理できるコーティング材
料として用いることができる。
含フツ素重合体は、炭化水素系重合体に比較して耐食性
及び耐薬品性に優れ、さらに撥水、撥油性を有するため
、これらの特性を利用した防汚材料、非粘着材料への応
用がなされている。
及び耐薬品性に優れ、さらに撥水、撥油性を有するため
、これらの特性を利用した防汚材料、非粘着材料への応
用がなされている。
〔発明が解決しようとする間8点〕
しかしながら、ポリテトラフルオロエチレンやポリフッ
化ビニリデンのように主鎖にフッ素原子が導入されてい
る重合体は通常の有lll溶媒には不溶であるため、例
えばガラスや金属などの基材上にコーティングする際に
は加熱溶融した後に圧着する操作が必要となり、?3[
91な形状を有する基材上にはコーティングすることが
できない、また、含フツ素アクリル酸エステルあるいは
含フツ素メタクリル酸エステルの重合体は、酢酸エチル
等の有a溶媒に可溶で、この重合体溶液をコーティング
することにより繊維の撥水処理、防汚処理や光ファイバ
ーのコーティング材料などに利用されているが、これら
の重合体は加水分解性を有するエステル結合が存在する
ため、長期間にわたる使用に際しては撥水性や光透過性
などの性能低下が避けられない。
化ビニリデンのように主鎖にフッ素原子が導入されてい
る重合体は通常の有lll溶媒には不溶であるため、例
えばガラスや金属などの基材上にコーティングする際に
は加熱溶融した後に圧着する操作が必要となり、?3[
91な形状を有する基材上にはコーティングすることが
できない、また、含フツ素アクリル酸エステルあるいは
含フツ素メタクリル酸エステルの重合体は、酢酸エチル
等の有a溶媒に可溶で、この重合体溶液をコーティング
することにより繊維の撥水処理、防汚処理や光ファイバ
ーのコーティング材料などに利用されているが、これら
の重合体は加水分解性を有するエステル結合が存在する
ため、長期間にわたる使用に際しては撥水性や光透過性
などの性能低下が避けられない。
本発明者らは上記の問題点を解決するため鋭意研究した
結果、本発明のフルオロアルキル置換スび安定性を有す
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
結果、本発明のフルオロアルキル置換スび安定性を有す
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明のフルオロアルキル置換スチレン誘導体は、一般
式 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし
、R1は水素原子または低級ポリフルオロアルキル基を
表わし、R3はポリフルオロアルキt (但し、R4及びR8は低級アルキル基を表わす、)、
)で示される。
式 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし
、R1は水素原子または低級ポリフルオロアルキル基を
表わし、R3はポリフルオロアルキt (但し、R4及びR8は低級アルキル基を表わす、)、
)で示される。
R8で示される低級ポリフルオロアルキル基としては、
ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2から4
個のフッ素原子で置換されたエチル基、ペルフルオロエ
チル基、2から6個のフッチル基、ペルフルオロブチル
基などを挙げることができる。特にペルフルオロメチル
基、ペルフルオロエチル基が好適な反応性、撥水、撥油
性を与える意味で好ましい、Rゝで示されるポリフルオ
ロアルキル基としてはアルキル鎖中にエーテル結合を有
してもよく、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチ
ル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基
、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、
ペルフルオロヘプチル基、ペルフルオロオクチル基、ペ
ルフルオロノニル基、ペルフルオロデシル基、ジフルオ
ロメチル基、2から4個のフン素原子で置換されたエチ
ル基、2から6個のフッ素原子で置換されたプロピル基
、2から8個のフッ素原子で置換されたブチル基、3−
オキサ−2−トリフルオロメチル−2゜4.4.5.5
.6,6.6−オクタフルオロヘキシル基などを例示す
ることができる。特にペルフルオロアルキル基あるいは
2.2,3.3.4゜4.5,5.5−ノナフルオロペ
ンチル基等のアルキル末端が完全にフン素化されたアル
キル基が高い撥水、撥油性を発現する点で好ましい。
ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2から4
個のフッ素原子で置換されたエチル基、ペルフルオロエ
チル基、2から6個のフッチル基、ペルフルオロブチル
基などを挙げることができる。特にペルフルオロメチル
基、ペルフルオロエチル基が好適な反応性、撥水、撥油
性を与える意味で好ましい、Rゝで示されるポリフルオ
ロアルキル基としてはアルキル鎖中にエーテル結合を有
してもよく、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチ
ル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基
、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、
ペルフルオロヘプチル基、ペルフルオロオクチル基、ペ
ルフルオロノニル基、ペルフルオロデシル基、ジフルオ
ロメチル基、2から4個のフン素原子で置換されたエチ
ル基、2から6個のフッ素原子で置換されたプロピル基
、2から8個のフッ素原子で置換されたブチル基、3−
オキサ−2−トリフルオロメチル−2゜4.4.5.5
.6,6.6−オクタフルオロヘキシル基などを例示す
ることができる。特にペルフルオロアルキル基あるいは
2.2,3.3.4゜4.5,5.5−ノナフルオロペ
ンチル基等のアルキル末端が完全にフン素化されたアル
キル基が高い撥水、撥油性を発現する点で好ましい。
本発明の一般式(1)で示されるフルオロアルアル置換
スチレンFAR体のうちXが一〇−のものは、例えばフ
ルオロアセトフェノンと塩基存在下含フツ素アルコール
とを反応させるかあるいはヒドロキシアセトフェノンと
含フツ素アルコールのトリフルオロメタンスルホン酸エ
ステルとを塩基存在下に反応させて得られるアセトフェ
ノン誘導体を還元し、生成するカルビノールを脱水する
ことにより合成することができる。塩基としては、水素
化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化
物、ナトリウム、カリウム、リチウムなどのアルカリ金
属及びジアザビシクロ[3,4゜0〕ノネン−5(DB
N) 、1.5−ジアザビシクロ(5,4,O)ウンデ
セン−5(DBU)等のアミン類を例示することができ
る。
スチレンFAR体のうちXが一〇−のものは、例えばフ
ルオロアセトフェノンと塩基存在下含フツ素アルコール
とを反応させるかあるいはヒドロキシアセトフェノンと
含フツ素アルコールのトリフルオロメタンスルホン酸エ
ステルとを塩基存在下に反応させて得られるアセトフェ
ノン誘導体を還元し、生成するカルビノールを脱水する
ことにより合成することができる。塩基としては、水素
化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化
物、ナトリウム、カリウム、リチウムなどのアルカリ金
属及びジアザビシクロ[3,4゜0〕ノネン−5(DB
N) 、1.5−ジアザビシクロ(5,4,O)ウンデ
セン−5(DBU)等のアミン類を例示することができ
る。
また、含フツ素アルコールとしては、2.2゜2−トリ
フルオロエタノール、2.2.3.3゜3−ペンタンフ
ルオロ−1−プロパツール、2゜2.3.3.4.4.
4−へブタフルオロ−1−ブタノール、2.2.3.3
.4.4.5.5゜6.6.7,7.8.8.8−ペン
タデカフルオロ−1−オクタツール、2,2.2−)リ
フル第1:l−1−()リフルオロメチル)エタノール
、2゜2−ジフルオロエタノール、2.2.3.3.4
゜4−へキサフルオロ−1−ブタノール、2,2゜3.
3−テトラフルオロ−1−プロパツール、2゜2.3.
3.4.4.5.5−オクタフルオロ−1−ペンタノー
ル、3.3.4.4.4−ペンタフルオロ−1−ブタノ
ール、4,4.4−)リフルオロ−1−ブタノール、1
.1.1,3.3゜3−ヘキサフルオロ−2−プロパツ
ール、4,4゜5.5.6.6.7.7.8.8.9.
9.10゜10、10−へブタデカフルオロ−1−デカ
ノール、1.1.1,6.6.7.7.7−オクタフル
オロ−2−ヘプタツール、3−オキサ−2−トリフルオ
ロメチル−2,4,4,5,5,6,6,6−オクタフ
ルオロヘキサノール、3.3.4.4゜5.5.6,6
.6−ノナフルオロヘキサノールなどを例示することが
できる。
フルオロエタノール、2.2.3.3゜3−ペンタンフ
ルオロ−1−プロパツール、2゜2.3.3.4.4.
4−へブタフルオロ−1−ブタノール、2.2.3.3
.4.4.5.5゜6.6.7,7.8.8.8−ペン
タデカフルオロ−1−オクタツール、2,2.2−)リ
フル第1:l−1−()リフルオロメチル)エタノール
、2゜2−ジフルオロエタノール、2.2.3.3.4
゜4−へキサフルオロ−1−ブタノール、2,2゜3.
3−テトラフルオロ−1−プロパツール、2゜2.3.
3.4.4.5.5−オクタフルオロ−1−ペンタノー
ル、3.3.4.4.4−ペンタフルオロ−1−ブタノ
ール、4,4.4−)リフルオロ−1−ブタノール、1
.1.1,3.3゜3−ヘキサフルオロ−2−プロパツ
ール、4,4゜5.5.6.6.7.7.8.8.9.
9.10゜10、10−へブタデカフルオロ−1−デカ
ノール、1.1.1,6.6.7.7.7−オクタフル
オロ−2−ヘプタツール、3−オキサ−2−トリフルオ
ロメチル−2,4,4,5,5,6,6,6−オクタフ
ルオロヘキサノール、3.3.4.4゜5.5.6,6
.6−ノナフルオロヘキサノールなどを例示することが
できる。
■。
わされるフルオロアルキル置換スチレン誘導体は、例え
ば一般式 (式中、Rt 、、、 RSは前記と同一であり、Yは
ハロゲン原子を表わす、) で示されるフルオロアルキル基置換ハロシランとビニル
置換フェニルマグネシウムハライドの反応により合成す
ることができる。
ば一般式 (式中、Rt 、、、 RSは前記と同一であり、Yは
ハロゲン原子を表わす、) で示されるフルオロアルキル基置換ハロシランとビニル
置換フェニルマグネシウムハライドの反応により合成す
ることができる。
−a式(II)で表わされるフルオロアルキル基置換ハ
ロシランは、例えばフルオロアルキル基を有するオレフ
ィンへのヒドロシリル化反応の他、公知の方法により合
成しうる化合物であり、ジメチル(3,3,3−トリフ
ルオロプロピル)クロロシラン、ジメチル(3,3,4
,4,5,5゜6.6.7.7.8.8.8−)リデカ
フルオロオクチル)クロロシラン、ジエチル(4,4,
5゜5.6.6□ 7.7.7−ノナフルオロヘプチル
)ブロモシラン、ジメチル(3−()リフルオロメチル
)−3,4,4,4−テトラフルオロブチル)フルオロ
シラン、ジメチル(2,2,3,3,4゜4.4−ヘプ
タフルオロブチル)クロロシラン等を例示することがで
きる。
ロシランは、例えばフルオロアルキル基を有するオレフ
ィンへのヒドロシリル化反応の他、公知の方法により合
成しうる化合物であり、ジメチル(3,3,3−トリフ
ルオロプロピル)クロロシラン、ジメチル(3,3,4
,4,5,5゜6.6.7.7.8.8.8−)リデカ
フルオロオクチル)クロロシラン、ジエチル(4,4,
5゜5.6.6□ 7.7.7−ノナフルオロヘプチル
)ブロモシラン、ジメチル(3−()リフルオロメチル
)−3,4,4,4−テトラフルオロブチル)フルオロ
シラン、ジメチル(2,2,3,3,4゜4.4−ヘプ
タフルオロブチル)クロロシラン等を例示することがで
きる。
本発明のフルオロアルキル置換スチレン誘導体は、通常
のラジカル重合法により容易に高分子量の重合体とする
ことが可能であり、この際反応はバルク重合、溶液重合
、乳化重合など公知の方法を用いることができる。ラジ
カル重合反応は単に熱、紫外線の照射またはラジカル開
始剤の添加により速かに開始される0反応に好適に用い
られるラジカル開始剤としてはジラウロイルペルオキシ
ド、ベンゾイルペルオキシドなどの有機過酸化合物ある
いはα、α′−アゾビスイソブチロニトリルのようなア
ゾ化合物などを例示することができる。
のラジカル重合法により容易に高分子量の重合体とする
ことが可能であり、この際反応はバルク重合、溶液重合
、乳化重合など公知の方法を用いることができる。ラジ
カル重合反応は単に熱、紫外線の照射またはラジカル開
始剤の添加により速かに開始される0反応に好適に用い
られるラジカル開始剤としてはジラウロイルペルオキシ
ド、ベンゾイルペルオキシドなどの有機過酸化合物ある
いはα、α′−アゾビスイソブチロニトリルのようなア
ゾ化合物などを例示することができる。
重合反応に利用できる有1at8媒として生成する重合
体が可溶である溶媒を選択することが高分子量体を得る
上で好ましく、例えばベンゼン、トルエン、クロロベン
ゼン、テトラヒドロフラン、四塩化炭素、クロロホルム
、メチルエチルケトン、フルオロベンゼン、ヘキサフル
オロベンゼン等を用いることができるが、これらに限定
されるものではない0反応は通常40℃から100℃の
範囲で行う。
体が可溶である溶媒を選択することが高分子量体を得る
上で好ましく、例えばベンゼン、トルエン、クロロベン
ゼン、テトラヒドロフラン、四塩化炭素、クロロホルム
、メチルエチルケトン、フルオロベンゼン、ヘキサフル
オロベンゼン等を用いることができるが、これらに限定
されるものではない0反応は通常40℃から100℃の
範囲で行う。
さらに本発明のフルオロアルキル置換スチレン誘導体と
他の一種類または数種類の単量体とを混合し、ラジカル
重合することにより共重合体を得ることができる。共重
合することのできる単量体としてはスチレン、p−メチ
ルスチレン、p−クロスチレンなどのスチレン誘導体、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート、ブチルアクリレート、ポリフ
ルオロアルキルアクリレートなどのアクリル酸エステル
類、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、シクロへキシルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、ポリフルオロアル
キルメタクリレートなどのメタクリル酸エステル類、ア
クリルニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、
アクロレイン、アクリル酸、メタクリル酸などを用いる
ことができる0重合反応は溶媒中で行うのが好ましく、
溶媒としては単量体及び重合開始剤を均一に溶解するも
のであれば制限な(用いることができる。特に、テトラ
ヒドロフラン(THF)、ベンゼン、クロロベンゼンが
ラジカル連鎖移動による停止反応を引き起こし難く、高
分子量体を得られる点で好ましく用いることができる。
他の一種類または数種類の単量体とを混合し、ラジカル
重合することにより共重合体を得ることができる。共重
合することのできる単量体としてはスチレン、p−メチ
ルスチレン、p−クロスチレンなどのスチレン誘導体、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート、ブチルアクリレート、ポリフ
ルオロアルキルアクリレートなどのアクリル酸エステル
類、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、シクロへキシルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、ポリフルオロアル
キルメタクリレートなどのメタクリル酸エステル類、ア
クリルニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、
アクロレイン、アクリル酸、メタクリル酸などを用いる
ことができる0重合反応は溶媒中で行うのが好ましく、
溶媒としては単量体及び重合開始剤を均一に溶解するも
のであれば制限な(用いることができる。特に、テトラ
ヒドロフラン(THF)、ベンゼン、クロロベンゼンが
ラジカル連鎖移動による停止反応を引き起こし難く、高
分子量体を得られる点で好ましく用いることができる。
次に、参考例、実施例、試験例、比較例によって本発明
をさらに具体的に説明する。
をさらに具体的に説明する。
参考例1
ヘキサメチルホスホルアミド(HMPA)50ml中に
50%水素化ナトリウム(油性)2.6gを加え、アル
ゴン気流下に攪拌する。これを10℃以下に冷却し2.
2.2−)リフルオロエタノール10.0gを加え30
分攪拌する0次にp−フルオロアセトフェニン6.06
m1を加え、10℃以下で2.5時間、さらに室温にて
15時間攪拌を続ける0反応混合物を水中に投じ、有機
相をエーテルで抽出する。これを硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下でエーテルを留去する。粗生成物をクロロ
ホルム/酢酸エチル(10/1)混合液を溶出液とした
シリカゲルカラムにより精製した。溶出液を減圧留去し
、収18.54g、収率77.6%にてp−(2,2,
2−トリフルオロエトキシ)アセトフェノン(p−TF
EA)を得た。
50%水素化ナトリウム(油性)2.6gを加え、アル
ゴン気流下に攪拌する。これを10℃以下に冷却し2.
2.2−)リフルオロエタノール10.0gを加え30
分攪拌する0次にp−フルオロアセトフェニン6.06
m1を加え、10℃以下で2.5時間、さらに室温にて
15時間攪拌を続ける0反応混合物を水中に投じ、有機
相をエーテルで抽出する。これを硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下でエーテルを留去する。粗生成物をクロロ
ホルム/酢酸エチル(10/1)混合液を溶出液とした
シリカゲルカラムにより精製した。溶出液を減圧留去し
、収18.54g、収率77.6%にてp−(2,2,
2−トリフルオロエトキシ)アセトフェノン(p−TF
EA)を得た。
元素分析値(%);
理論値:C:55.1.H二4.2
実測値:c:ss、1.H:4.1
1Rむs−’):3000〜2800.1610(芳香
環)、1690 (C−0)、1280゜1240(C
F3)。
環)、1690 (C−0)、1280゜1240(C
F3)。
NMR(ppm); 2.56 (3H)、4.19
〜4.63 (2H)、6.80〜7.0’7 (
2)1)。
〜4.63 (2H)、6.80〜7.0’7 (
2)1)。
7.75〜8.06 (2)1)。
参考例2
含フツ素アルコールを2.2.3.3.4.4゜4−ヘ
プタフルオロ−1−ブタノールに替えた以外は参考例1
と同様の方法によりp−(2,2゜3.3.4,4.4
−ヘプタフルオロブトキシ)アセトフェノン(p−HF
BA)を収率50%で得た。
プタフルオロ−1−ブタノールに替えた以外は参考例1
と同様の方法によりp−(2,2゜3.3.4,4.4
−ヘプタフルオロブトキシ)アセトフェノン(p−HF
BA)を収率50%で得た。
元素分析値(%) ;
理論値:C:45.3.H:2.9
実測値:C:45.2.H:2.7
NMR(ppm): 2.53 (3H)、4.33〜
4.72 (2H)、6.83〜7.11 (2H)。
4.72 (2H)、6.83〜7.11 (2H)。
7.8〜8.07 (2H)。
参考例3
含フツ素アルコールを3.3.4.4.5.5゜6.6
.6−ノナフルオロ−1−ヘキサノールに替えた以外は
参考例1と同様の方法によりp−(3,3,4,4,5
,5,6,6,6−ノナフルオロへキサオキシ)アセト
フェノン<p−NF)(A)を収率57%で得た。
.6−ノナフルオロ−1−ヘキサノールに替えた以外は
参考例1と同様の方法によりp−(3,3,4,4,5
,5,6,6,6−ノナフルオロへキサオキシ)アセト
フェノン<p−NF)(A)を収率57%で得た。
元素分析値(%) ;
理論値:C:44.Q、 H:2.9
実測値:C!43.7.H:2.7
NMR(ppm) ; 2.52 (3H)、
2.3〜3.0 (2H)、 4.1〜4.4
(2)り、 6.7〜7.0 (2H)、 7.9
〜8.1 (2H) 。
2.3〜3.0 (2H)、 4.1〜4.4
(2)り、 6.7〜7.0 (2H)、 7.9
〜8.1 (2H) 。
参考例4
50%水素化ナトリウム(油性)1.26gにHMPA
3Gmlに溶解したp−ヒドロキシアセトフェノン4.
76gをアルゴン気流下にて滴下した。これを20分攪
拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸2,2.3.
3.4.4.4−へブタフルオロブチル(TFHB)1
2.8gを溶解した。HMPAlomlを滴下した。こ
れを140℃にて20時間攪拌し、反応混合液を氷水中
に注ぎエーテルで有機相を抽出した。減圧下でニーチル
を抽出した後、粗生成物をクロロホルム/酢酸エチル(
20/1)混合液を溶出液としたシリカゲルカラムによ
り精製し、収量8.0g、収率71.8%でp−HFP
Aを得た。
3Gmlに溶解したp−ヒドロキシアセトフェノン4.
76gをアルゴン気流下にて滴下した。これを20分攪
拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸2,2.3.
3.4.4.4−へブタフルオロブチル(TFHB)1
2.8gを溶解した。HMPAlomlを滴下した。こ
れを140℃にて20時間攪拌し、反応混合液を氷水中
に注ぎエーテルで有機相を抽出した。減圧下でニーチル
を抽出した後、粗生成物をクロロホルム/酢酸エチル(
20/1)混合液を溶出液としたシリカゲルカラムによ
り精製し、収量8.0g、収率71.8%でp−HFP
Aを得た。
元素分析値(%);
理論値:C:45.3.H:2.9
実測値:c:4s、s、H:2.8
IR(cs−’);3000〜2800.1610(芳
香環)、1690 (C−0)、1280〜1160(
C−F)。
香環)、1690 (C−0)、1280〜1160(
C−F)。
NMR(ppm); 2.54 (3H)、4.33〜
4.71 (2H)、6.78〜7.09 (2H)。
4.71 (2H)、6.78〜7.09 (2H)。
7.78〜8.04 (2H)。
参考例5
TF)(Bをトリフルオロメタンスルホンf!!2゜2
.3.3,4.4.5.5,6.6.7.7゜8.8.
8−ペンタデカフルオロオクチルに替えた以外は参考例
4と同様の方法でP−(2,2゜3.3.4.4.5.
5.6.6,7.7,8゜8.8−ペンタデカフルオロ
オクチルオキシ)アセトフェノン(p−PFOA)を収
率94%で得た。
.3.3,4.4.5.5,6.6.7.7゜8.8.
8−ペンタデカフルオロオクチルに替えた以外は参考例
4と同様の方法でP−(2,2゜3.3.4.4.5.
5.6.6,7.7,8゜8.8−ペンタデカフルオロ
オクチルオキシ)アセトフェノン(p−PFOA)を収
率94%で得た。
元素分析値(%);
理論値:C:37.1.H:1.8
実測値:C:37.2.H:2.O
NMR(ppm): 2.52 (3H)、4.33〜
4.73 (2H)、6.9〜7.1 (2H) 。
4.73 (2H)、6.9〜7.1 (2H) 。
7.87〜8.1 (2H)。
参考例6
参考例1で得たp−TFEA8.54gを溶解したエー
テル40m1をリチウムアルミニウムハイドライドo、
szgを含むエーテル40m1中にアルゴン気流下にて
滴下した。室温にて1時間攪拌した後、5.8mlの水
を加え、さらに3Nの塩酸78 rn 1を加えた。有
機相をエーテルにて抽出し、減圧下にてエーテルを留去
、粗生成物をクロロホルム/酢酸エチル(10/1)混
合液を溶出液としたシリカゲルカラムにて精製し、収1
8.0g、収率92%でp −(2,2,2−)リフル
オロエトキシ)フェニルメチルカルビノール<p−TF
EC)を得た。
テル40m1をリチウムアルミニウムハイドライドo、
szgを含むエーテル40m1中にアルゴン気流下にて
滴下した。室温にて1時間攪拌した後、5.8mlの水
を加え、さらに3Nの塩酸78 rn 1を加えた。有
機相をエーテルにて抽出し、減圧下にてエーテルを留去
、粗生成物をクロロホルム/酢酸エチル(10/1)混
合液を溶出液としたシリカゲルカラムにて精製し、収1
8.0g、収率92%でp −(2,2,2−)リフル
オロエトキシ)フェニルメチルカルビノール<p−TF
EC)を得た。
元素分析値(%);
理論値:C:54.5.H:5.0
実測値:C:54.8.H:5.2
IR(cm−’);3700〜3100 (01()。
1610.1510. (芳香環)、107G(C−
0)、1280.1240 (CF、)。
0)、1280.1240 (CF、)。
NMR(Ppm): i、42〜1.49 (3H)
。
。
1.93 (IH,OH)、 4.12〜4.46
(2H)、4.67〜4.97 (I H)、6.7
7〜6.99 (2H)、 7.17〜7.41
(2H)。
(2H)、4.67〜4.97 (I H)、6.7
7〜6.99 (2H)、 7.17〜7.41
(2H)。
参考例7
p−TFHAを参考例2および参考例4で得たp−HF
BAに替えた以外は参考例6と同様の方法でp−(2,
2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシ)フ
ェニルメチルカルビノール(p−HFBC)を収率75
%得た。
BAに替えた以外は参考例6と同様の方法でp−(2,
2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシ)フ
ェニルメチルカルビノール(p−HFBC)を収率75
%得た。
IR(cm−’);3700〜3100 (OH)。
1620.1520. (芳香環)、1300〜11
60(C−F)。
60(C−F)。
NMR(ppm); 1.27〜1.53 (3H)。
2.37 <IH)、4.17〜4.6(2H)。
4.6〜4.92 (IH)、6.7〜6.97(2H
)、7.1〜7.37 (2H)。
)、7.1〜7.37 (2H)。
参考例8
p−TFEAを参考例5で得たp−PFOAに替えた以
外は参考例6と同様の方法でp −(2゜2.3,3,
4.4,5.5,6.6.7.7゜8.8.8−ペンタ
デカフルオロオクチルオキシ)フェニルメチルカルビノ
ール(p−PFOC)を収率72%で得た。
外は参考例6と同様の方法でp −(2゜2.3,3,
4.4,5.5,6.6.7.7゜8.8.8−ペンタ
デカフルオロオクチルオキシ)フェニルメチルカルビノ
ール(p−PFOC)を収率72%で得た。
NMR(ppm): 1.37〜1.57 (3H)。
1.92 <IH)、4.23〜4.63 (2H)。
4.63〜4.98 (I H)、6.8〜7.05(
2H)、7.2〜7・、47 (2H)。
2H)、7.2〜7・、47 (2H)。
参考例9
p−TFEAを参考例3で得たp−NFHAに替えた以
外は参考例6と同様の方法でp−(3゜3.4.4.5
.5,6.6.6−ノナフルオロへキシルオキシ)フェ
ニルメチルカルビノール(p−、NFHC)を収率69
%で得た。
外は参考例6と同様の方法でp−(3゜3.4.4.5
.5,6.6.6−ノナフルオロへキシルオキシ)フェ
ニルメチルカルビノール(p−、NFHC)を収率69
%で得た。
NMR(ppm); 1.30〜1.55 (3H)。
2.20 (I H)、2.2〜2.9 (2H)、3
.8〜4.2 (2H)、4.52〜4.85 (I
H)。
.8〜4.2 (2H)、4.52〜4.85 (I
H)。
6.75〜7.0 (2H)、7.13〜7.41(2
H)。
H)。
実施例1
トリブロモホスフィン5.7gに48%臭化水素水を1
滴加え、アルゴン気流下にてこれに参考例5で得たp−
TFECllgを滴下し、10℃にて1時間攪拌した0
次に室温にて15時間攪拌を続けた後反応混合物に氷水
20m1を加え、有機相をエーテルで抽出した。エーテ
ルを減圧留去した後、これにキノリン12.4ml及び
少量のp−tert−ブチルカテコールを加え、120
℃2mmHgにて1留した。蒸留物に希塩酸を加えた後
、有機相をエーテルで抽出した。エーテルを減圧留去し
、粗生成物をn−ヘキサン/エーテル(2/l)混合物
を溶出液としたシリカゲルカラムにより精製し、収13
.68g、収率52%でp−(2,2,2−トリフルオ
ロエトキシ)スチレン(TFES)を得た。
滴加え、アルゴン気流下にてこれに参考例5で得たp−
TFECllgを滴下し、10℃にて1時間攪拌した0
次に室温にて15時間攪拌を続けた後反応混合物に氷水
20m1を加え、有機相をエーテルで抽出した。エーテ
ルを減圧留去した後、これにキノリン12.4ml及び
少量のp−tert−ブチルカテコールを加え、120
℃2mmHgにて1留した。蒸留物に希塩酸を加えた後
、有機相をエーテルで抽出した。エーテルを減圧留去し
、粗生成物をn−ヘキサン/エーテル(2/l)混合物
を溶出液としたシリカゲルカラムにより精製し、収13
.68g、収率52%でp−(2,2,2−トリフルオ
ロエトキシ)スチレン(TFES)を得た。
元素分析値(%);
計算値:C:59.4.H:4.5
実測値:C:59.1.H:4.4
IR(cn−’);3000〜2800.1610(芳
香環)、1615 (CHI−CH)。
香環)、1615 (CHI−CH)。
1280.1240 (CFs)。
NMR(ppm) : 4.12〜4.47 (
2H)。
2H)。
5.03〜5.73 (2H)、 6.43〜6.
77(IH)、 6.77〜7.00 (2H)、
7.17〜7.45 (2H)。
77(IH)、 6.77〜7.00 (2H)、
7.17〜7.45 (2H)。
実施例2
p−TFECを実施例6で得たp−HFBGに替えた以
外は実施例1と同様の方法によりp −(2,2,3,
3,4,4,4−へブタフルオロブトキシ)スチレン(
HF B S)を収率36%で得た。
外は実施例1と同様の方法によりp −(2,2,3,
3,4,4,4−へブタフルオロブトキシ)スチレン(
HF B S)を収率36%で得た。
元素分析値(%):
理論値:C:47.7.H:3.0
実測値:C:47.6.H:3.1
HMR(Ppm); 4.2〜4.6 (2H)。
5.03〜5.27 (IH)、5.47〜5.75(
IH)、6.47〜6.8 (I H) 、 6.8
〜6.98 (2H)、 7.1〜7.47 (
2H)。
IH)、6.47〜6.8 (I H) 、 6.8
〜6.98 (2H)、 7.1〜7.47 (
2H)。
実施例3
p−TFECを参考例7で得たp−PFOCに替えた以
外は実施例1と同様の方法にてp −(2゜2.3.3
,4.4.5.5.6,6.7.7゜8.8.8−ペン
タデカフルオロオクチルオキシ)スチレン(PFO3)
を収率26%で得た。
外は実施例1と同様の方法にてp −(2゜2.3.3
,4.4.5.5.6,6.7.7゜8.8.8−ペン
タデカフルオロオクチルオキシ)スチレン(PFO3)
を収率26%で得た。
元素分析値(%);
環1自イ直 :C:38.3. H:1.3実測値:
C:3B、2.H: 1.9 HMR(ppm); 4.23〜4.65 (2H)。
C:3B、2.H: 1.9 HMR(ppm); 4.23〜4.65 (2H)。
5.03〜5.29 (IH)、5.45〜5.77(
I H)、6.45〜6.77 (IH)、6.77〜
7.03 (2H)、7.23〜7.47 (2H)。
I H)、6.45〜6.77 (IH)、6.77〜
7.03 (2H)、7.23〜7.47 (2H)。
実施例4
p−TFECを参考例9で得たp−NFHCに替えた以
外は実施例1と同様の方法にてp−(3゜3.4.4.
5.5.6.6.6−ノナフルオロヘキシルオキシ)ス
チレン(N F HS)を収率30%で得た。
外は実施例1と同様の方法にてp−(3゜3.4.4.
5.5.6.6.6−ノナフルオロヘキシルオキシ)ス
チレン(N F HS)を収率30%で得た。
元素分析値(%);
理論値:C:45.9.H:3.Q
実測値:C:45.7.H:2.9
HMR(PPm); 2.2〜3.0 (2H)。
4.0〜4.3 <2H)、4.95〜5.2 (I
H) 。
H) 。
5.4〜5.7 (I H)、6.4〜6.7(IH)
。
。
6.7〜6.9 (2H)、7.2〜7.45 (2H
)。
)。
実施例5
MeSiMe
C142C1−12(CF2) 7CF3アルゴン気流
下、マグネシウム0.4958にTHFを5ml加えた
中に、少量の臭化エチルを加え反応を開始させた。そこ
へp−クロロスチレン2.82gのTHF15ml溶液
をゆっくりと滴下した0滴下終了後、80℃で1時間攪
拌し、10gのジメチル(3,3,4,4,5,5,6
゜6.7. 7. 8. 8. 9. 9.10.10
.10−ヘプタデカフルオロデシル)クロロシランを滴
下した。
下、マグネシウム0.4958にTHFを5ml加えた
中に、少量の臭化エチルを加え反応を開始させた。そこ
へp−クロロスチレン2.82gのTHF15ml溶液
をゆっくりと滴下した0滴下終了後、80℃で1時間攪
拌し、10gのジメチル(3,3,4,4,5,5,6
゜6.7. 7. 8. 8. 9. 9.10.10
.10−ヘプタデカフルオロデシル)クロロシランを滴
下した。
加熱還流を約30分間行なった後、反応液を冷却し、そ
の汲水をあけエーテル抽出した。エーテル相を水洗後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し
た。粗生成物は蒸留ののち(沸点144〜146℃/
l m m Hg )さらにシリカゲルカラムクロマト
により精製し、4−〔ジメチル(3,3,4,4,5,
5,6,6,7゜7、 8. 8. 9. 9.10.
10.10−へブタデカフルオロデシル)シリル〕スチ
レン(SiFS)を4.8g得た。収率40.5% 元素分析値(%); 実測値:C:39.4. H:2.9 理論値:C:39.S、H:2.8 HMR(ppm); 0.51〜0.80 (2H)。
の汲水をあけエーテル抽出した。エーテル相を水洗後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し
た。粗生成物は蒸留ののち(沸点144〜146℃/
l m m Hg )さらにシリカゲルカラムクロマト
により精製し、4−〔ジメチル(3,3,4,4,5,
5,6,6,7゜7、 8. 8. 9. 9.10.
10.10−へブタデカフルオロデシル)シリル〕スチ
レン(SiFS)を4.8g得た。収率40.5% 元素分析値(%); 実測値:C:39.4. H:2.9 理論値:C:39.S、H:2.8 HMR(ppm); 0.51〜0.80 (2H)。
1.3〜1.97 (2H)、4.79〜5.0(IH
)、5.25〜5.34 (IH)、6.15〜6.5
3 (IH)、7.05 (4H)。
)、5.25〜5.34 (IH)、6.15〜6.5
3 (IH)、7.05 (4H)。
参考例10
(Jul’12しr’3 (
X、’l−42UF。
X、’l−42UF。
実施例1で得たTFE3607■を重合用アンプルに取
り、重合開始剤としてα、α′−アゾビスイソブチロニ
トリル(AIBN)2.46■及び溶媒としてTHF2
.4mlを加え、常法に従い脱気後、高真空下(10−
’mmHg以下)で封管した。これを60℃にて24時
間振り混ぜ重合反応を行った0反応混合物を大量のメタ
ノール中に投じることにより重合体を沈殿させこれを濾
別後真空乾燥した。収量134■、収率22%。
り、重合開始剤としてα、α′−アゾビスイソブチロニ
トリル(AIBN)2.46■及び溶媒としてTHF2
.4mlを加え、常法に従い脱気後、高真空下(10−
’mmHg以下)で封管した。これを60℃にて24時
間振り混ぜ重合反応を行った0反応混合物を大量のメタ
ノール中に投じることにより重合体を沈殿させこれを濾
別後真空乾燥した。収量134■、収率22%。
元素分析値(%);
理論値:C:59.4.H:4.5
実測値:C:58.9. H:4.4
分子量;3.7XlO’ (ポリスチレン換算)参考
例11〜13 フルオロアルコキシ置換スチレン誘導体の種類を替え、
参考例1Oと同様の方法にて華独重合体を得た。結果を
表1に示す。
例11〜13 フルオロアルコキシ置換スチレン誘導体の種類を替え、
参考例1Oと同様の方法にて華独重合体を得た。結果を
表1に示す。
参考例14
0CI−12CF3
実施例1で得たTFESおよびスチレン(St)の仕込
みモル組成比がTFES/5t=0.810.2になる
ように各々1.05gおよび0.14gを重合用アンプ
ルに仕込み、これにAIBN5.34■およびTHF5
.3mlを加え、常法に従い脱気後、高真空下に封管し
た。これを60℃にて22時間振り混ぜることにより共
重合反応を行ない、反応混合物を大量のメタノール中に
投じ、重合体を沈殿させた。これを濾別し真空乾燥する
ことにより収量62■、収率5.294でTFES−3
t共重合体を得た0元素分析値より共重合体中のTFE
Sモル分率は0.80であった。
みモル組成比がTFES/5t=0.810.2になる
ように各々1.05gおよび0.14gを重合用アンプ
ルに仕込み、これにAIBN5.34■およびTHF5
.3mlを加え、常法に従い脱気後、高真空下に封管し
た。これを60℃にて22時間振り混ぜることにより共
重合反応を行ない、反応混合物を大量のメタノール中に
投じ、重合体を沈殿させた。これを濾別し真空乾燥する
ことにより収量62■、収率5.294でTFES−3
t共重合体を得た0元素分析値より共重合体中のTFE
Sモル分率は0.80であった。
元素分析値(%);c: 63.2.H: 5.OIR
(am−’) : 1600 (芳香環)。
(am−’) : 1600 (芳香環)。
1280.1210 (CFs)。
分子量:5.lX10’ (ポリスチレン換算)参考
例15〜22 実施例1〜4で得たフルオロアルコキシ置換スチレン誘
導体及びStとの仕込みモル組成比を種々に変化させて
共重合体を合成した。結果を表2に示す。
例15〜22 実施例1〜4で得たフルオロアルコキシ置換スチレン誘
導体及びStとの仕込みモル組成比を種々に変化させて
共重合体を合成した。結果を表2に示す。
参考例23
CH2田z(”F2)4’s
参考例14で得た5iFS1.521gを重合用アンプ
ルに取り、重合開始剤として、AlBN2.06■及び
溶媒として、1,4ビス(トリフルオロメチル)ベンゼ
ンl m lを加え常法に従い脱気後、高真空下(10
−’mmHg以下)で封管した。これを60℃にて29
.2時間振り混ぜ重合反応を行なった0反応混合物を大
量のメタノール中に投じることにより、重合体を沈澱さ
せこれを濾別後真空乾燥した。収1489■ 収率32
%元素分析値(%); 実測値:C:39.3.H:2.1 理論値:C:39.5.Hl、8 試 験 例 1 (撥水、撥油性の評価)参考例10〜
13で得られたフルオロアルコキシ置換スチレン重合体
のQ、5wt%テトラヒドロフラン(THF)溶液を調
製し、この溶液をガラス板上に流延した。40℃にて2
4時間保ちTHFを留去した後、2日間真空乾燥した。
ルに取り、重合開始剤として、AlBN2.06■及び
溶媒として、1,4ビス(トリフルオロメチル)ベンゼ
ンl m lを加え常法に従い脱気後、高真空下(10
−’mmHg以下)で封管した。これを60℃にて29
.2時間振り混ぜ重合反応を行なった0反応混合物を大
量のメタノール中に投じることにより、重合体を沈澱さ
せこれを濾別後真空乾燥した。収1489■ 収率32
%元素分析値(%); 実測値:C:39.3.H:2.1 理論値:C:39.5.Hl、8 試 験 例 1 (撥水、撥油性の評価)参考例10〜
13で得られたフルオロアルコキシ置換スチレン重合体
のQ、5wt%テトラヒドロフラン(THF)溶液を調
製し、この溶液をガラス板上に流延した。40℃にて2
4時間保ちTHFを留去した後、2日間真空乾燥した。
得られたガラス板表面の水及びn−オクタン接触角をコ
ンタクトアングルゴニオメータ−(協和科学製)にて測
定した。結果を表3に示す、なお、比較のために、ポリ
スチレン及びポリジメチルシロキサンの表面の液滴接触
角を測定した結果について、それぞれ比較例1及び比較
例2として表3に示す。
ンタクトアングルゴニオメータ−(協和科学製)にて測
定した。結果を表3に示す、なお、比較のために、ポリ
スチレン及びポリジメチルシロキサンの表面の液滴接触
角を測定した結果について、それぞれ比較例1及び比較
例2として表3に示す。
表 3 表面の液滴接触角測定結果
水 n−オクタン
参考例9 109 45参考例10
113 4g参考例11 117
49参考例12 124 54参考例
13 120 49比較例1
90 <10比較例2 101
<10試験例2 参考例14〜22で得られたフルオロアルコキシ置換ス
チレンとスチレンとの共重合体表面の純水およびn−オ
クタン接触角を試験例1と同様の方法により測定した。
113 4g参考例11 117
49参考例12 124 54参考例
13 120 49比較例1
90 <10比較例2 101
<10試験例2 参考例14〜22で得られたフルオロアルコキシ置換ス
チレンとスチレンとの共重合体表面の純水およびn−オ
クタン接触角を試験例1と同様の方法により測定した。
結果を表4に示す。
表 4 表面の液滴接触角測定結果
水 n−オクタン
参考例14 109 44’参考例15
107 40参考例16 103
31参考例17 100 20参考
例18 113 45参考例19
110 40参考例20 104
33参考例21 106 40参考例22
114 42手続補正書(自発) 昭和62年2月コS日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和61年特許願第 131890 号2、発明の名
称 フルオロアルキル置換スチレン誘導体 3、補正をする者 4、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 (11本願明細書第6頁第10〜11行の「フルオロア
ルアル」をrフルオロアルキルJに訂正する。
107 40参考例16 103
31参考例17 100 20参考
例18 113 45参考例19
110 40参考例20 104
33参考例21 106 40参考例22
114 42手続補正書(自発) 昭和62年2月コS日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和61年特許願第 131890 号2、発明の名
称 フルオロアルキル置換スチレン誘導体 3、補正をする者 4、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 (11本願明細書第6頁第10〜11行の「フルオロア
ルアル」をrフルオロアルキルJに訂正する。
(2) 同第13頁第6行の「アセトフェニン」を「
アセトフェノンJに訂正する。
アセトフェノンJに訂正する。
(3)同第17頁第4行のrHFPAjをr HF B
AJに訂正する。
AJに訂正する。
(4)同第22頁最下行より2行目から最下行の7」に
訂正する。
訂正する。
(6) 同第25頁第3行の「参考例7」をr参考例
8Jに訂正する。
8Jに訂正する。
(7)同第35頁第3行の「参考例14」を「実施例5
」に訂正する。
」に訂正する。
(8)同第36頁第2行の「参考例10〜13」の次に
「および23Jを挿入する。
「および23Jを挿入する。
(9)同第37頁表3を別紙の通り訂正する。
以上
刃)入
表 3 表面の液滴接触角測定結果
液滴接触角(度)
重合体 □
水 n−オクタン
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子または低級アルキル基を表わ
し、R^2は水素原子または低級ポリフルオロアルキル
基を表わし、R^3はポリフルオロアルキル基を表わし
、Xは−O−又は▲数式、化学式、表等があります▼を
表わす(但し、R^4及びR^5は低級アルキル基を表
わす。)。)で示されるフルオロアルキル置換スチレン
誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13189086A JPS62289538A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | フルオロアルキル置換ステレン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13189086A JPS62289538A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | フルオロアルキル置換ステレン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62289538A true JPS62289538A (ja) | 1987-12-16 |
JPH0475899B2 JPH0475899B2 (ja) | 1992-12-02 |
Family
ID=15068540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13189086A Granted JPS62289538A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | フルオロアルキル置換ステレン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62289538A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04169590A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
-
1986
- 1986-06-09 JP JP13189086A patent/JPS62289538A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04169590A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0475899B2 (ja) | 1992-12-02 |
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