JPH04169590A - 含フッ素有機ケイ素化合物 - Google Patents
含フッ素有機ケイ素化合物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、新規な含フツ素有機ケイ素化合物に関し、よ
り詳細にはフッ素含有有機基を有するケイ素基をスチレ
ンの芳香環に導入してなる新規スチレン誘導体に関する
。
り詳細にはフッ素含有有機基を有するケイ素基をスチレ
ンの芳香環に導入してなる新規スチレン誘導体に関する
。
（従来技術）
スチレンは重合性モノマーとして重要な化合物であり、
スチレンの芳香核に含フツ素有機基を導入すれば、該含
フツ素有機基か有する耐熱性、離型性等の特性をスチレ
ン系ポリマーに与えることか期待される。
スチレンの芳香核に含フツ素有機基を導入すれば、該含
フツ素有機基か有する耐熱性、離型性等の特性をスチレ
ン系ポリマーに与えることか期待される。
例えば、パーフルオロアルキル基等の含フツ素有機基を
スチレンの芳香核に導入する方法としては、ウィリアム
ソンのエーテル合成法に従って、クロロメチルスチレン
と含フツ素アルコールとを塩基性触媒の存在下で反応さ
せる方法が知られているが（特開昭６１−２９３９４３
号）、ケイ素基を介して含フツ素有機基をスチレン芳香
核に導入することについては報告されていない。
スチレンの芳香核に導入する方法としては、ウィリアム
ソンのエーテル合成法に従って、クロロメチルスチレン
と含フツ素アルコールとを塩基性触媒の存在下で反応さ
せる方法が知られているが（特開昭６１−２９３９４３
号）、ケイ素基を介して含フツ素有機基をスチレン芳香
核に導入することについては報告されていない。
（発明が解決しようとする問題点）
従って本発明の目的は、ケイ素を介して含フツ素有機基
が芳香核上に導入された新規スチレン誘導体を提供する
にある。
が芳香核上に導入された新規スチレン誘導体を提供する
にある。
（問題点を解決するための手段）
本発明によれば、下記一般式ＣＩ）、
Ｍｅ
■
式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｒｆは炭素数３乃至６の
フッ素置換アルキル基を示す、 で表わされる含フツ素有機ケイ素化合物が提供される。
フッ素置換アルキル基を示す、 で表わされる含フツ素有機ケイ素化合物が提供される。
本発明の含フツ素有機ケイ素化合物（以下単にスチレン
誘導体と呼ぶ）を表わす前記一般式ＣＩ）において、基
Ｒｆは、一部または全部の水素原子をフッ素原子で置換
したフッ素置換アルキル基（炭素数３〜６）であるが、
フッ素の特性を十分に発揮させるためにはパーフルオロ
アルキル基であることが好ましく、最も好適にはノナフ
ルオロブチル基及びトリデカフルオロヘキシル基である
。
誘導体と呼ぶ）を表わす前記一般式ＣＩ）において、基
Ｒｆは、一部または全部の水素原子をフッ素原子で置換
したフッ素置換アルキル基（炭素数３〜６）であるが、
フッ素の特性を十分に発揮させるためにはパーフルオロ
アルキル基であることが好ましく、最も好適にはノナフ
ルオロブチル基及びトリデカフルオロヘキシル基である
。
スチレン誘導体の製造
本発明の新規スチレン誘導体は、前記一般式ＣＩ）中の
含フツ素有機基に対応する基を備えたクロロシラン、即
ち下記一般式（ＩＩ）、Ｍｅ ＲｆＣＨｔＣＨｚＳｉＣＩ！（ＩＦ ）Ｍｅ （式中、Ｒｆは、前述した意味を育する）で表わされる
クロロシランと、ハロゲン置換スチレンから誘導された
グリニヤール試薬とを反応させることによって製造され
る。
含フツ素有機基に対応する基を備えたクロロシラン、即
ち下記一般式（ＩＩ）、Ｍｅ ＲｆＣＨｔＣＨｚＳｉＣＩ！（ＩＦ ）Ｍｅ （式中、Ｒｆは、前述した意味を育する）で表わされる
クロロシランと、ハロゲン置換スチレンから誘導された
グリニヤール試薬とを反応させることによって製造され
る。
グリニヤール試薬の調製は、常法の手段によって行なう
ことかでき、例えばエーテル系溶剤、芳香族炭化水素系
溶剤或いはこれらの混合溶剤等の溶剤に金属マグネシウ
ムを加えておき、これにハロゲン置換スチレンを滴下す
ることによって調製される。この反応は下記式で表わさ
れる。
ことかでき、例えばエーテル系溶剤、芳香族炭化水素系
溶剤或いはこれらの混合溶剤等の溶剤に金属マグネシウ
ムを加えておき、これにハロゲン置換スチレンを滴下す
ることによって調製される。この反応は下記式で表わさ
れる。
（式中、ＸはＣＩ！、Ｂｒ又はＩを示す。）この場合、
前記反応に先立って金属マグネシウムを含む溶剤を加熱
しておき、金属マグネシウムを活性化しておくことが好
適であり、更にハロゲン置換スチレンの重合を抑制する
ために、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の重合禁
止剤を少量添加しておくことが好ましい。また金属マグ
ネシウムとハロゲン置換スチレンとの反応は、一般に５
０°Ｃ以下、特に３５〜４５°Ｃの範囲で行なうことが
好適である。
前記反応に先立って金属マグネシウムを含む溶剤を加熱
しておき、金属マグネシウムを活性化しておくことが好
適であり、更にハロゲン置換スチレンの重合を抑制する
ために、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の重合禁
止剤を少量添加しておくことが好ましい。また金属マグ
ネシウムとハロゲン置換スチレンとの反応は、一般に５
０°Ｃ以下、特に３５〜４５°Ｃの範囲で行なうことが
好適である。
かくして調製されたグリニヤール試薬は、これを前記一
般式（Ｉ［）で表わされるクロロシランと反応させるこ
とにより、本発明の新規スチレン誘導体が得られる。こ
の反応は、次式で表わされる。
般式（Ｉ［）で表わされるクロロシランと反応させるこ
とにより、本発明の新規スチレン誘導体が得られる。こ
の反応は、次式で表わされる。
ｐ
かかる反応は、一般に前記クロロシランをトルエン等の
溶剤に溶解させた溶液をグリニヤール試薬に滴下するこ
とにより行われるが、その反応温度は３０℃以下の範囲
とするのがよい。更に、クロロシランの溶液には、ジメ
チルジチオカルバミン酸銅、２，２°−メチレンビス（
４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等の重合禁止
剤を少量加えておくことが、スチレンの重合反応による
ポリマーの副生を抑制する上で好ましい。
溶剤に溶解させた溶液をグリニヤール試薬に滴下するこ
とにより行われるが、その反応温度は３０℃以下の範囲
とするのがよい。更に、クロロシランの溶液には、ジメ
チルジチオカルバミン酸銅、２，２°−メチレンビス（
４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等の重合禁止
剤を少量加えておくことが、スチレンの重合反応による
ポリマーの副生を抑制する上で好ましい。
用途
上記の如くして得られた本発明の新規スチレン誘導体は
、これを単独重合あるいは他の重合性モノマーと共重合
させることにより、耐熱性、ガス透過性、離型性等を有
する樹脂、フィルムとして有効に使用される。
、これを単独重合あるいは他の重合性モノマーと共重合
させることにより、耐熱性、ガス透過性、離型性等を有
する樹脂、フィルムとして有効に使用される。
特に本発明の新規スチレン誘導体を用いて合成されたポ
リマーは、フッ素原子を有しているにもかかわらず屈折
率が高いという特性を有しており、コンタクトレンズ等
の光学材料として極めて有用である。
リマーは、フッ素原子を有しているにもかかわらず屈折
率が高いという特性を有しており、コンタクトレンズ等
の光学材料として極めて有用である。
尚、このスチレン誘導体を用いたポリマーの合成は、そ
れ自体公知の各種ラジカル重合開始剤を用いてのラジカ
ル重合反応により行なうことができる。またこれと共重
合可能なモノマーとしては、例えばエチレングリコール
／ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール／ジ
（メタ）アクリレート、トリエチレングリコール／ジ（
メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール／ジ（
メタ）アクリレート、プロピレングリコール／ジ（メタ
）アクリレート、１．４−ブタンジオール／ジ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコール／ジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパン／トリ（メタ）ア
クリレート等の多官能（メタ）アクリレート、ジアリル
フタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフ
タレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシ
アヌレート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート等の多官能アリル化合物；アリル（メタ）アクリレ
ートの様な多官能ビニル化合物；メチル（メタ）アクリ
レート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（
メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレー
ト、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、トロフルオロエ
チル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロイソプロピ
ル（メタ）アクリレート、３，３．．４，４．４−ペン
タフルオロブチル（メタ）アクリレート、メチルビス（
トリメチルシロキシ）シリプロピル（メタ）アクリレー
ト、トリス（トリメチルシロキシ）シリルプロピル（メ
タ）アクリレート、トリス（ペンタメチルジシロキサニ
ルオキシ）シリルプロピル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシ−３−トリス（トリメチルシロキシ）シリル
プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アク
リレート等の（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル等のビニルエステル；エチルビニルエー
テル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル；その
他スチレン、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸
アミド、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２
−オキサゾリドン等を挙げることができ、これらは単独
または２種以上の組み合わせで本発明のスチレン誘導体
と共重合させ得る。
れ自体公知の各種ラジカル重合開始剤を用いてのラジカ
ル重合反応により行なうことができる。またこれと共重
合可能なモノマーとしては、例えばエチレングリコール
／ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール／ジ
（メタ）アクリレート、トリエチレングリコール／ジ（
メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール／ジ（
メタ）アクリレート、プロピレングリコール／ジ（メタ
）アクリレート、１．４−ブタンジオール／ジ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコール／ジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパン／トリ（メタ）ア
クリレート等の多官能（メタ）アクリレート、ジアリル
フタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフ
タレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシ
アヌレート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート等の多官能アリル化合物；アリル（メタ）アクリレ
ートの様な多官能ビニル化合物；メチル（メタ）アクリ
レート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（
メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレー
ト、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、トロフルオロエ
チル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロイソプロピ
ル（メタ）アクリレート、３，３．．４，４．４−ペン
タフルオロブチル（メタ）アクリレート、メチルビス（
トリメチルシロキシ）シリプロピル（メタ）アクリレー
ト、トリス（トリメチルシロキシ）シリルプロピル（メ
タ）アクリレート、トリス（ペンタメチルジシロキサニ
ルオキシ）シリルプロピル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシ−３−トリス（トリメチルシロキシ）シリル
プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アク
リレート等の（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル等のビニルエステル；エチルビニルエー
テル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル；その
他スチレン、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸
アミド、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２
−オキサゾリドン等を挙げることができ、これらは単独
または２種以上の組み合わせで本発明のスチレン誘導体
と共重合させ得る。
（実施例）
実施例１
マグネシウム２８．８ｇ（１，２モル）とテトラヒドロ
フラン／トルエンのｌ／１（容量）の混合溶媒１００ｍ
Ｎを仕込み、ヨウ素０．０２ｇと臭化エチル１〜２ｇ加
え混合物を加熱し、マグネシウムを活性化する。
フラン／トルエンのｌ／１（容量）の混合溶媒１００ｍ
Ｎを仕込み、ヨウ素０．０２ｇと臭化エチル１〜２ｇ加
え混合物を加熱し、マグネシウムを活性化する。
活性化後ハイドロキノンモノメチルエーテル０．３ｇを
加え温度を３０°Ｃ〜４０″Ｃに保つ。ｐ−クロロスチ
レン１５３ｇ（１，１モル）のテトラヒドロフラン／ト
ルエンの１７１（容量）の混合溶媒６５〇−溶液を内温
か５０°Ｃ以上にならないように滴下しく５時間）、滴
下後４０〜４５°Ｃで１〜２時間熟成を行ない、グリニ
ヤール試薬を得る。
加え温度を３０°Ｃ〜４０″Ｃに保つ。ｐ−クロロスチ
レン１５３ｇ（１，１モル）のテトラヒドロフラン／ト
ルエンの１７１（容量）の混合溶媒６５〇−溶液を内温
か５０°Ｃ以上にならないように滴下しく５時間）、滴
下後４０〜４５°Ｃで１〜２時間熟成を行ない、グリニ
ヤール試薬を得る。
このグリニヤール試薬を１０〜２０°Ｃに冷却し、２−
（ノナフルオロブチル）エチルジメタルクロロシラン３
０７ ｇ（０，９モル）、ジメチルジチオカルバミン酸
銅０．１３ｇ、 ２，２°−メチレンビス（４−エチル
−ｔ７プチルフエノール）０．１３ｇのトルエン４０〇
−溶・液を内温か３０℃以上にならないようにして２〜
３時間、かけて滴下する。滴乍後、１５時間室温で熟成
する。 ′ 次いで内温か３０°Ｃ以上にならない様に反応混合物に
氷水を加え、加水分解を行なった。
（ノナフルオロブチル）エチルジメタルクロロシラン３
０７ ｇ（０，９モル）、ジメチルジチオカルバミン酸
銅０．１３ｇ、 ２，２°−メチレンビス（４−エチル
−ｔ７プチルフエノール）０．１３ｇのトルエン４０〇
−溶・液を内温か３０℃以上にならないようにして２〜
３時間、かけて滴下する。滴乍後、１５時間室温で熟成
する。 ′ 次いで内温か３０°Ｃ以上にならない様に反応混合物に
氷水を加え、加水分解を行なった。
有機層をＮａ２ＳＯ４の飽和水溶液で５回洗浄した後、
ＮａｔＳＯａで乾燥する。有機溶剤を留去した後、減圧
蒸溜すると、８８〜９０°Ｃ／ １．４Ｘ １０−’ｍ
ｍＨｇの留分としてｐ−（２−（ノナフルオロブチル）
エチルジメチル〕シリルスチレンが３４９ｇ （収率８
５％）得られた。
ＮａｔＳＯａで乾燥する。有機溶剤を留去した後、減圧
蒸溜すると、８８〜９０°Ｃ／ １．４Ｘ １０−’ｍ
ｍＨｇの留分としてｐ−（２−（ノナフルオロブチル）
エチルジメチル〕シリルスチレンが３４９ｇ （収率８
５％）得られた。
尚、この生成物について、元素分析、分子量、赤外吸収
スペクトル及びＮＭＲスペクトル分析の結果は、次の通
りであった。
スペクトル及びＮＭＲスペクトル分析の結果は、次の通
りであった。
ＣＨＳｉ
計算値（％） ４７．０５ ４．２０ ６．８８
実測値（％’） ４６，９０ ４．３１ ７．０
２〔分子量〕 ：ガスマススペクトル分析４０８〔赤外
吸収スペクトル〕 ： １６３０、１５９８．１５４２ａｎ−’ ； スチ
リル基１２００−１２６０ｃｍ−’ ； Ｃ−
Ｆ結合チャートを第１図に示す。
実測値（％’） ４６，９０ ４．３１ ７．０
２〔分子量〕 ：ガスマススペクトル分析４０８〔赤外
吸収スペクトル〕 ： １６３０、１５９８．１５４２ａｎ−’ ； スチ
リル基１２００−１２６０ｃｍ−’ ； Ｃ−
Ｆ結合チャートを第１図に示す。
（ＮＭＲスペクトル分析〕；ｃｃ１４溶媒、内部標準Ｃ
Ｈ２Ｃｌ。
Ｈ２Ｃｌ。
δ値（ｐｐｍ）
０．０５ （Ｓ、 ６Ｈ，ＳｉＭｅ ）０．４０
〜１．０３ （ｍ、 ２Ｈ，Ｓｉ ＣＨ２）１．００
〜２．３３ （ｍ、 ２Ｈ，−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｃ）４
．７３〜５．７０（２Ｈ，Ｃ肚＝ＣＨ−）６．０３〜６
．７３ （ＩＨ，ＣＨ，＝帷−）６．８０〜７．３０
（４Ｈ，芳香環水素）実施例２ 実施例１と同様にｐ−クロロスチレン５０ｇ（０，３６
モル）とマグネシウム９．６ｇ （０，４０モル）とか
らグリニヤール試薬を調製し、これに２−（トリデカフ
ルオロヘキシル）エチルジメチルジクロロシラン１３２
ｇ （０，３モル）を反応させたところ、ｐ−［２−（
）リデカフルオロヘキシル）エチルジメチル］シリルス
チレンが９６〜９８°Ｃ／ １．８Ｘ１０−’ｍｍＨｇ
の留分として１２３ｇ （収率８１％）得られた。
〜１．０３ （ｍ、 ２Ｈ，Ｓｉ ＣＨ２）１．００
〜２．３３ （ｍ、 ２Ｈ，−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｃ）４
．７３〜５．７０（２Ｈ，Ｃ肚＝ＣＨ−）６．０３〜６
．７３ （ＩＨ，ＣＨ，＝帷−）６．８０〜７．３０
（４Ｈ，芳香環水素）実施例２ 実施例１と同様にｐ−クロロスチレン５０ｇ（０，３６
モル）とマグネシウム９．６ｇ （０，４０モル）とか
らグリニヤール試薬を調製し、これに２−（トリデカフ
ルオロヘキシル）エチルジメチルジクロロシラン１３２
ｇ （０，３モル）を反応させたところ、ｐ−［２−（
）リデカフルオロヘキシル）エチルジメチル］シリルス
チレンが９６〜９８°Ｃ／ １．８Ｘ１０−’ｍｍＨｇ
の留分として１２３ｇ （収率８１％）得られた。
この生成物について、元素分析、分子量、赤外吸収スペ
クトルの結果は次の通りであった。
クトルの結果は次の通りであった。
ＣＨＳｉ
計算値（％）４２．５２ ３．３８ ５．５２実測
値（％） ４２．６０ ３．４０ ５．３５〔分
子量〕 ；ガスマススペクトル分析５０８〔赤外吸収ス
ペクトル〕 １６３０、１５９８．１５４２ａｎ利 ； スチリル基
１１８０〜１２６０ａｎ−’ ； Ｃ−Ｆ結合
チャートを第２図に示す。
値（％） ４２．６０ ３．４０ ５．３５〔分
子量〕 ；ガスマススペクトル分析５０８〔赤外吸収ス
ペクトル〕 １６３０、１５９８．１５４２ａｎ利 ； スチリル基
１１８０〜１２６０ａｎ−’ ； Ｃ−Ｆ結合
チャートを第２図に示す。
（ＮＭＲスペクトル分析）；ＣＣＩ！４溶媒、内部標準
ＣＨ２Ｃｆ２ δ値（ｐｐｍ） ０．０６ （Ｓ、 ６Ｈ，ＳｉＭｅ ）０．４３
〜１．０３ （ｍ、 ２Ｈ，Ｓｉ ＣＨ２−Ｃ）０．
９７〜２．４３ （ｍ、 ２Ｈ，−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｃ
）４．８０〜５．７０ （２Ｈ，ＣＨ２＝ＣＨ）６．１
３〜６．７０ （ＩＨ，ＣＨ２＝ＣＨ）６．７７〜７．
３０ （４Ｈ，芳香環水素）
ＣＨ２Ｃｆ２ δ値（ｐｐｍ） ０．０６ （Ｓ、 ６Ｈ，ＳｉＭｅ ）０．４３
〜１．０３ （ｍ、 ２Ｈ，Ｓｉ ＣＨ２−Ｃ）０．
９７〜２．４３ （ｍ、 ２Ｈ，−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｃ
）４．８０〜５．７０ （２Ｈ，ＣＨ２＝ＣＨ）６．１
３〜６．７０ （ＩＨ，ＣＨ２＝ＣＨ）６．７７〜７．
３０ （４Ｈ，芳香環水素）
第１図及び第２図は、それぞれ実施例１及び実施例２で
得られた赤外吸収スペクトルのチャートを示す。
得られた赤外吸収スペクトルのチャートを示す。
Claims (1)
- （１）下記一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｒｆは炭素数３乃至６の
フッ素置換アルキル基を示す、 で表わされる含フッ素有機ケイ素化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2295109A JPH04169590A (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2295109A JPH04169590A (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04169590A true JPH04169590A (ja) | 1992-06-17 |
Family
ID=17816413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2295109A Pending JPH04169590A (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04169590A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60255105A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-16 | Toray Ind Inc | 選択透過膜 |
| JPS62289538A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-16 | Sagami Chem Res Center | フルオロアルキル置換ステレン誘導体 |
| JPS6397215A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-04-27 | Sagami Chem Res Center | 気体透過性重合体膜 |
| JPS649207A (en) * | 1987-02-03 | 1989-01-12 | Sagami Chem Res | Photo-crosslinkable fluorinated styrene polymer |
-
1990
- 1990-10-31 JP JP2295109A patent/JPH04169590A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60255105A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-16 | Toray Ind Inc | 選択透過膜 |
| JPS62289538A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-16 | Sagami Chem Res Center | フルオロアルキル置換ステレン誘導体 |
| JPS6397215A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-04-27 | Sagami Chem Res Center | 気体透過性重合体膜 |
| JPS649207A (en) * | 1987-02-03 | 1989-01-12 | Sagami Chem Res | Photo-crosslinkable fluorinated styrene polymer |
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