JPS62289222A - 気体吸着捕捉装置 - Google Patents
気体吸着捕捉装置Info
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- JPS62289222A JPS62289222A JP61133090A JP13309086A JPS62289222A JP S62289222 A JPS62289222 A JP S62289222A JP 61133090 A JP61133090 A JP 61133090A JP 13309086 A JP13309086 A JP 13309086A JP S62289222 A JPS62289222 A JP S62289222A
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- Treating Waste Gases (AREA)
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61133090A JPS62289222A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 気体吸着捕捉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61133090A JPS62289222A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 気体吸着捕捉装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62289222A true JPS62289222A (ja) | 1987-12-16 |
JPH0251654B2 JPH0251654B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1990-11-08 |
Family
ID=15096614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61133090A Granted JPS62289222A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 気体吸着捕捉装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62289222A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03202128A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Ebara Res Co Ltd | Nf↓3の除害方法 |
EP0962248A1 (en) * | 1998-06-02 | 1999-12-08 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Abatement system for CIF3 containing exhaust gases. |
JP2003159513A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-06-03 | Seiko Epson Corp | 有機ハロゲン化合物ガスの除害方法、有機ハロゲン化合物ガスの除害装置、半導体装置の製造システム及び半導体装置の製造方法 |
US6945925B2 (en) | 2003-07-31 | 2005-09-20 | Joel Pooler | Biosequestration and organic assimilation of greenhouse gases |
JP2009268962A (ja) * | 2008-05-07 | 2009-11-19 | Japan Pionics Co Ltd | フッ素化合物の分解処理システム |
JP2010158620A (ja) * | 2009-01-08 | 2010-07-22 | Ebara Corp | フッ素化合物を含有する排ガスの処理方法及び処理用反応槽 |
US20140260989A1 (en) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Universal Laser Systems, Inc. | Multi-stage air filtration systems and associated apparatuses and methods |
JP2022169836A (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-10 | SyncMOF株式会社 | ガス処理システム、ガス処理方法及び制御装置 |
-
1986
- 1986-06-09 JP JP61133090A patent/JPS62289222A/ja active Granted
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03202128A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Ebara Res Co Ltd | Nf↓3の除害方法 |
EP0962248A1 (en) * | 1998-06-02 | 1999-12-08 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Abatement system for CIF3 containing exhaust gases. |
JP2003159513A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-06-03 | Seiko Epson Corp | 有機ハロゲン化合物ガスの除害方法、有機ハロゲン化合物ガスの除害装置、半導体装置の製造システム及び半導体装置の製造方法 |
US6945925B2 (en) | 2003-07-31 | 2005-09-20 | Joel Pooler | Biosequestration and organic assimilation of greenhouse gases |
JP2009268962A (ja) * | 2008-05-07 | 2009-11-19 | Japan Pionics Co Ltd | フッ素化合物の分解処理システム |
JP2010158620A (ja) * | 2009-01-08 | 2010-07-22 | Ebara Corp | フッ素化合物を含有する排ガスの処理方法及び処理用反応槽 |
US20140260989A1 (en) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Universal Laser Systems, Inc. | Multi-stage air filtration systems and associated apparatuses and methods |
US9155988B2 (en) * | 2013-03-14 | 2015-10-13 | Universal Laser Systems, Inc. | Multi-stage air filtration systems and associated apparatuses and methods |
JP2022169836A (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-10 | SyncMOF株式会社 | ガス処理システム、ガス処理方法及び制御装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0251654B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1990-11-08 |
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