JPH03202128A - Ｎｆ↓３の除害方法 - Google Patents
Ｎｆ↓３の除害方法Info
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- JPH03202128A JPH03202128A JP1338271A JP33827189A JPH03202128A JP H03202128 A JPH03202128 A JP H03202128A JP 1338271 A JP1338271 A JP 1338271A JP 33827189 A JP33827189 A JP 33827189A JP H03202128 A JPH03202128 A JP H03202128A
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＨＰ３の除害方法に係り、特にＩＩＦ。
５ｉｎ１．１２等の弗化物及び／又は窒素酸化物が共存
しているガス中から、ＮＦ、を効率よく分解除去するこ
とのできるＮｈの除害方法に関する。
しているガス中から、ＮＦ、を効率よく分解除去するこ
とのできるＮｈの除害方法に関する。
ＮＦ３はロケット燃料のほか、最近では超ＬＳＩのエツ
チングガスやＣＶＤのクリーニングガスとして使用され
ている。しかしながらこのガスは常温できわめて安定で
あると同時に水に対する溶解度も低く、かつまたＴＬＶ
値がｌＱｐｐｍとされており、除害すべきではあるが処
理困難な物質の１つである。
チングガスやＣＶＤのクリーニングガスとして使用され
ている。しかしながらこのガスは常温できわめて安定で
あると同時に水に対する溶解度も低く、かつまたＴＬＶ
値がｌＱｐｐｍとされており、除害すべきではあるが処
理困難な物質の１つである。
ＨＰ３の除害方法としては、（１）炭素塊と３００〜６
００℃で反応させる方法（特開昭６２−２３７９２９号
公報） 、（２）金属チタンと２００ｔ：以上の温度で
接触させる方法（特開昭６１−２８７４２４号公報）
、（３）金属シリコンと１００℃以上で反応させる方法
（特開昭６３−１２３２２号公報）、（４）金属タング
ステンないし金属モリブテンと２５０℃以上の温度で接
触させる方法（特開昭６２−２２５２２８号公報）があ
る。
００℃で反応させる方法（特開昭６２−２３７９２９号
公報） 、（２）金属チタンと２００ｔ：以上の温度で
接触させる方法（特開昭６１−２８７４２４号公報）
、（３）金属シリコンと１００℃以上で反応させる方法
（特開昭６３−１２３２２号公報）、（４）金属タング
ステンないし金属モリブテンと２５０℃以上の温度で接
触させる方法（特開昭６２−２２５２２８号公報）があ
る。
従来技術はいずれも単体とＮＦａを高温で反応させる方
法を採用しているが、一般的にＮＦ３を含む排ガスは弗
化物等を含む場合が多く、そのような場合には弗化物等
により処理剤が消耗しＮＦ３処理容量が低下する。
法を採用しているが、一般的にＮＦ３を含む排ガスは弗
化物等を含む場合が多く、そのような場合には弗化物等
により処理剤が消耗しＮＦ３処理容量が低下する。
処理剤としてｓｌ、 Ｗ１ＴＩ％ ５Ｉ０２等を使用し
た場合にはその弗化物が、また、活性炭等を使用した場
合にはＨＰや窒素酸化物が生成し、いずれの場合も、さ
らに、これらの反応生成物を処理するためのガス処理工
程が必要となる。
た場合にはその弗化物が、また、活性炭等を使用した場
合にはＨＰや窒素酸化物が生成し、いずれの場合も、さ
らに、これらの反応生成物を処理するためのガス処理工
程が必要となる。
そこで、本発明は、上記のような問題点のない、弗化物
とか窒素酸化物が共存していてもＮＦ３処理容量の低下
がなく、また副生ガスの心配のないＮＦ３の除害方法を
提供することを目的とする。
とか窒素酸化物が共存していてもＮＦ３処理容量の低下
がなく、また副生ガスの心配のないＮＦ３の除害方法を
提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明では、ＩＩＦ。
ＳｉＦ４、Ｐ２等の弗化物及び／又は窒素酸化物とＮＦ
３とを含むガスを、収着剤により処理した後、残留する
ＮＰｓを２５０℃以上の温度で、当該金属処理剤と反応
させることを特徴とするＮＦ３の除害方法としたもので
ある。
３とを含むガスを、収着剤により処理した後、残留する
ＮＰｓを２５０℃以上の温度で、当該金属処理剤と反応
させることを特徴とするＮＦ３の除害方法としたもので
ある。
すなわち、本発明は、弗化物及び／又は窒素酸化物とＮ
Ｆ３を含むガスを処理するにあたってまず初めに、活性
炭、アルミナ、シリカゲル、モレキュラシーブ、ＣｕＯ
ｌＭｎＯ２、ホブカライド、Ｃａ （Ｏ）Ｉ） ２ 、
ＣａＯ、ＭｇＯ１Ｍｇ （ＯＨ） ２等からなる収着剤
により、弗化物、窒素酸化物を処理し、しかる後に、残
留するＮＦ、を処理することにより、弗化物等による処
理剤の消耗をなくした。
Ｆ３を含むガスを処理するにあたってまず初めに、活性
炭、アルミナ、シリカゲル、モレキュラシーブ、ＣｕＯ
ｌＭｎＯ２、ホブカライド、Ｃａ （Ｏ）Ｉ） ２ 、
ＣａＯ、ＭｇＯ１Ｍｇ （ＯＨ） ２等からなる収着剤
により、弗化物、窒素酸化物を処理し、しかる後に、残
留するＮＦ、を処理することにより、弗化物等による処
理剤の消耗をなくした。
ＮＦ、処理剤として、当該金属の弗化物の融点がＮＦ、
との反応温度以上である金属処理剤を用いて、ＮＦ３を
反応させ分解除去することにより、処理後のガス中には
反応生成物が存在せず、それ以上の除害工程を必要とし
ない。
との反応温度以上である金属処理剤を用いて、ＮＦ３を
反応させ分解除去することにより、処理後のガス中には
反応生成物が存在せず、それ以上の除害工程を必要とし
ない。
ＮＦ３処理剤である金属を繊維状に成形することにより
、処理剤とＮＦ、との接触面積を増やし処理効率を上げ
ることができる。
、処理剤とＮＦ、との接触面積を増やし処理効率を上げ
ることができる。
フッ化物及び／又は窒素酸化物とＮＦａを含むガスを、
活性炭、アルくす、シリカゲル、モレキュラシーブ、Ｃ
ｕＯｌＭｎＬ、ホブカライド、Ｃａ（０）１）ａ 、Ｃ
ａＯ、ＭｇＯ１Ｍｇ （ＯＨ＞、等の収着剤により、フ
ッ化物、窒素酸化物を処理し、しかる後に、残留するＮ
Ｆ、を処理することにより、フッ化物等によるＮＦ３処
理剤の消耗をなくし、安定したＮＦ、処理性能を実現し
た。
活性炭、アルくす、シリカゲル、モレキュラシーブ、Ｃ
ｕＯｌＭｎＬ、ホブカライド、Ｃａ（０）１）ａ 、Ｃ
ａＯ、ＭｇＯ１Ｍｇ （ＯＨ＞、等の収着剤により、フ
ッ化物、窒素酸化物を処理し、しかる後に、残留するＮ
Ｆ、を処理することにより、フッ化物等によるＮＦ３処
理剤の消耗をなくし、安定したＮＦ、処理性能を実現し
た。
ＮＦ３処理剤として、当該金属のフッ化物の融点がＮＦ
３との反応温度以上である金属、たとえばＰｅ Ｃｕ、
を用いて、２５０℃以上当該金属の融点以下で、ＮＦ、
を処理することにより、反応にまり生成した金属フッ化
物は気化することなく、処理装置内に捕捉される。した
がって、ＮＦ３処理後のガスは無害化されており、さら
に処理、工程を設ける必要がない。
３との反応温度以上である金属、たとえばＰｅ Ｃｕ、
を用いて、２５０℃以上当該金属の融点以下で、ＮＦ、
を処理することにより、反応にまり生成した金属フッ化
物は気化することなく、処理装置内に捕捉される。した
がって、ＮＦ３処理後のガスは無害化されており、さら
に処理、工程を設ける必要がない。
Ｎ１７．処理剤の形状を、繊維状にすることにより、処
理剤とＮｈとの接触面積を増やし、処理効率を上げた。
理剤とＮｈとの接触面積を増やし、処理効率を上げた。
また、繊維状であるので空気抵抗が低く、圧力損失が少
ない。
ない。
繊維の形状としては、１ ｍ＋ｎφ以下、好ましくは１
００μｍφ以下とし、長さは適宜調節できる。
００μｍφ以下とし、長さは適宜調節できる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明は、これらの実施例に限定されるものではない。
明は、これらの実施例に限定されるものではない。
実施例１
４０φのＳｕＳ製容器に層高１００ ｍｍになるようフ
ァイバー状に成形した鉄を充填し、処理剤層の中心温度
が３５０ｔ：±５０℃になるよう外部からヒータで加熱
し、三弗化窒素２ ｖｏ１％、窒素９８ｖｏ１％の組成
を有する混合ガスを０．５１／ｌ１ｌＩｎの流量にて導
入し、８時間連続して処理゛を行った。
ァイバー状に成形した鉄を充填し、処理剤層の中心温度
が３５０ｔ：±５０℃になるよう外部からヒータで加熱
し、三弗化窒素２ ｖｏ１％、窒素９８ｖｏ１％の組成
を有する混合ガスを０．５１／ｌ１ｌＩｎの流量にて導
入し、８時間連続して処理゛を行った。
連続処理時間中排ガスのＮＦ、 １５度は１０ｐｐｍ以
下、窒素酸化物は１ ｐｐｍ以下、フッ素分は３ｐｐｍ
以下であった。
下、窒素酸化物は１ ｐｐｍ以下、フッ素分は３ｐｐｍ
以下であった。
実施例２
４０φのアクリル容器に層高８０１１ＩＩ１１になるよ
うＣａ （ＯＨ） ２を充填し、その後に実施例１で用
いたＮＰ３処理カラムをもうけ、三弗化窒素２ ｖｏ１
％、フッ素４ ｖｏ１％、窒素９４ ｖｏ１％の組成を
有する混合ガスを０．５Ａ／ｍｉｎの流量にて導入し、
８時間連続して処理を行った。
うＣａ （ＯＨ） ２を充填し、その後に実施例１で用
いたＮＰ３処理カラムをもうけ、三弗化窒素２ ｖｏ１
％、フッ素４ ｖｏ１％、窒素９４ ｖｏ１％の組成を
有する混合ガスを０．５Ａ／ｍｉｎの流量にて導入し、
８時間連続して処理を行った。
連続処理時間中、排ガスのＮＦ、濃度は１０ ｐｐｍ以
下、窒素酸化物は１ｐｐｍ以下、フッ素分は３ｐｐｍ以
下であった。
下、窒素酸化物は１ｐｐｍ以下、フッ素分は３ｐｐｍ以
下であった。
実施例３
１００φのアクリル容器に層高１００凧になるようＣａ
（ＯＨ） ２を充填し、さらに層高７０ｍｍになるよ
うに活性炭を充填し、その後に実施例１で用いたＮＰ３
処理カラムをもうけ、三弗化窒素２ｖ０１％、フッ素４
ｖｏ１％、二酸化窒素４ ｖｏ１％、−酸化窒素２
ｖｏ１％、窒素８８ｖｏ１％の組成を有する混合ガスを
０．５ｊ？／ｍｉｎの流量にて導入し、８時間連続して
処理を行った。
（ＯＨ） ２を充填し、さらに層高７０ｍｍになるよ
うに活性炭を充填し、その後に実施例１で用いたＮＰ３
処理カラムをもうけ、三弗化窒素２ｖ０１％、フッ素４
ｖｏ１％、二酸化窒素４ ｖｏ１％、−酸化窒素２
ｖｏ１％、窒素８８ｖｏ１％の組成を有する混合ガスを
０．５ｊ？／ｍｉｎの流量にて導入し、８時間連続して
処理を行った。
連続処理時間中、排ガスのＮＦ３濃度は１０ｐｐｍ以下
、窒素酸化物は１ ｐｐｍ以下、フッ素分は３ｐｐｍ
３２１下であった。
、窒素酸化物は１ ｐｐｍ以下、フッ素分は３ｐｐｍ
３２１下であった。
本発明によれば、ＮＦ３の除害処理において５ＩＦ４．
１２等のフッ化物及び／又は窒素酸化物等が共存しても
これらの妨害をうけることなく ＮＦ。
１２等のフッ化物及び／又は窒素酸化物等が共存しても
これらの妨害をうけることなく ＮＦ。
を効率よく除去することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ＨＦ、ＳｉＦ＿４、Ｆ＿２等の弗化物及び／又は窒
素酸化物とＮＦ＿３とを含むガスを、収着剤により処理
した後、残留するＮＦ＿３を、２５０℃以上の温度で、
当該金属の弗化物の融点が反応温度以上である金属処理
剤と反応させることを特徴とするＮＰ＿３の除害方法。 ２、収着剤が、活性炭、アルミナ、シリカゲル、モレキ
ュラシーブ、ＣｕＯ、ＭｎＯ＿２、ホプカライト、Ｃａ
（ＯＨ）＿２、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｍｇ（ＯＨ）＿２から
選ばれた１種以上からなる請求項１記載のＮＦ＿３の除
害方法。 ３、金属処理剤が、繊維状の形状である請求項１記載の
ＮＦ＿３の除害方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1338271A JPH03202128A (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | Ｎｆ↓３の除害方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1338271A JPH03202128A (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | Ｎｆ↓３の除害方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03202128A true JPH03202128A (ja) | 1991-09-03 |
| JPH0523814B2 JPH0523814B2 (ja) | 1993-04-05 |
Family
ID=18316556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1338271A Granted JPH03202128A (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | Ｎｆ↓３の除害方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03202128A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09267027A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-14 | Japan Pionics Co Ltd | 有害ガスの浄化剤 |
| JP2006314905A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-24 | Hitachi Ltd | フッ素化合物含有ガスの処理方法及び処理装置 |
| WO2010095512A1 (ja) * | 2009-02-23 | 2010-08-26 | セントラル硝子株式会社 | 三フッ化窒素の分解方法及び分解装置 |
| CN102447486A (zh) * | 2010-10-06 | 2012-05-09 | 三星电机株式会社 | 具有自适应延迟控制功能的数据接口设备 |
| JP2013086088A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-13 | Taiyo Nippon Sanso Corp | ハロゲン化物粒子を含むガスの除害方法 |
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-
1989
- 1989-12-28 JP JP1338271A patent/JPH03202128A/ja active Granted
Patent Citations (5)
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Also Published As
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