JP4435066B2 - ハロゲン化水素ガスの検知装置およびハロゲン化水素ガスの吸収装置 - Google Patents
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- 239000007789 gas Substances 0.000 title claims description 133
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 title claims description 70
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 title claims description 70
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 title claims description 20
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 42
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 34
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 34
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 11
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 2
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 32
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 18
- -1 for example Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100496858 Mus musculus Colec12 gene Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- YQNQTEBHHUSESQ-UHFFFAOYSA-N lithium aluminate Chemical compound [Li+].[O-][Al]=O YQNQTEBHHUSESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JXGGISJJMPYXGJ-UHFFFAOYSA-N lithium;oxido(oxo)iron Chemical compound [Li+].[O-][Fe]=O JXGGISJJMPYXGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L strontium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Sr+2] UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001866 strontium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
- G01N33/0027—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector
- G01N33/0036—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector specially adapted to detect a particular component
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
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Description
前記絶縁支持体上に支持され、ハロゲン化水素ガスと反応して水を生成するリチウム化複合酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物から選ばれる少なくとも一つの粒状物である複数の吸収材からなる検知部材と、
前記検知部材の両端に取り付けられた一対の電極と
を備えたことを特徴とするハロゲン化水素ガスの検知装置が提供される。
前記吸収塔内に充填され、ハロゲン化水素ガスと反応して水を生成するリチウム化複合酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物から選ばれる少なくとも一つの粒状物からなる複数の吸収材と、
前記吸収塔の少なくとも前記被処理ガスの出口側に位置する前記吸収材に互いに対向すると共に離間して挿着される一対の電極と
を備えたことを特徴とするハロゲン化水素ガスの吸収装置が提供される。
この第1実施形態に係るハロゲン化水素ガスの検知装置は、絶縁支持体と、前記絶縁支持体上に支持され、ハロゲン化水素ガスと反応して水を生成する吸収材からなる検知部材と、前記検知部材の両端に取り付けられ、前記吸収材によるハロゲン化水素ガスの反応に伴う水の生成、抵抗値または静電容量の変化を測定するための一対の電極とを具備した構造を有する。
Li2SiO3(s)+2HCl→2LiCl(s)+SiO2(s)+H2O …(2)
Li2ZrO3(s)+2HCl→2LiCl(s)+ZrO2(s)+H2O …(3)
2LiFeO2(s)+2HCl→2LiCl(s)+Fe2O3(s)+H2O…(4)
2LiNiO2(s)+2HCl→2LiCl(s)+Ni2O3(s)+H2O…(5)
Li2TiO3(s)+2HCl→2LiCl(s)+TiO2(s)+H2O …(6)
2LiAlO2(s)+2HCl→2LiCl(s)+Al2O3(s)+H2O…(7)
Mg(OH)2(s)+2HCl→MgCl2(s)+2H2O …(8)
Ca(OH)2(s)+2HCl→CaCl2(s)+2H2O …(9)
Sr(OH)2(s)+2HCl→SrCl2(s)+2H2O …(10)
Ba(OH)2(s)+2HCl→BaCl2(s)+2H2O …(11)
前記リチウム化複合酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物は、前記各式に示すように塩化水素ガスと反応して吸収することが可能である。同時に、水を生成して吸収材が泥状化される。
この第2実施形態に係るハロゲン化水素ガスの吸収装置は、ハロゲン化水素ガスを含む被処理ガスが流通される絶縁材料からなる筒状吸収塔と、この吸収塔内に充填され、ハロゲン化水素ガスと反応して水を生成する複数の吸収材と、前記吸収塔の少なくとも前記被処理ガスの出口側に位置する前記吸収材部分に配置され、当該部分での吸収材によるハロゲン化水素ガスの反応に伴う水の生成、抵抗値または静電容量の変化を測定するための一対の電極とを具備した構造を有する。
平均粒径1μmの酸化ケイ素粉末と平均粒径1μmの炭酸リチウム粉末とを1:2のモル比で混合して混合粉末を調製した。この混合粉末を大気中900℃で焼成して平均粒径1μmのリチウムシリケート(Li4SiO4)粒子からなる吸収材を得た。
実施例1で得たリチウムシリケート粒子とバインダ樹脂(PVA)とを1:0.01の重量比で混合し、この混合物を転動法により水の存在下で転動させることにより平均粒径500μmの球に近似した形状の吸収材を得た。
Claims (2)
- 絶縁支持体と、
前記絶縁支持体上に支持され、ハロゲン化水素ガスと反応して水を生成するリチウム化複合酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物から選ばれる少なくとも一つの粒状物である複数の吸収材からなる検知部材と、
前記検知部材の両端に取り付けられた一対の電極と
を備えたことを特徴とするハロゲン化水素ガスの検知装置。 - ハロゲン化水素ガスを含む被処理ガスが流通される絶縁材料からなる筒状吸収塔と、
前記吸収塔内に充填され、ハロゲン化水素ガスと反応して水を生成するリチウム化複合酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物から選ばれる少なくとも一つの粒状物からなる複数の吸収材と、
前記吸収塔の少なくとも前記被処理ガスの出口側に位置する前記吸収材に互いに対向すると共に離間して挿着される一対の電極と
を備えたことを特徴とするハロゲン化水素ガスの吸収装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005284061A JP4435066B2 (ja) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | ハロゲン化水素ガスの検知装置およびハロゲン化水素ガスの吸収装置 |
US11/534,801 US20070071651A1 (en) | 2005-09-29 | 2006-09-25 | Detecting device for hydrogen halide gas and absorbing apparatus for hydrogen halide gas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005284061A JP4435066B2 (ja) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | ハロゲン化水素ガスの検知装置およびハロゲン化水素ガスの吸収装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007093423A JP2007093423A (ja) | 2007-04-12 |
JP4435066B2 true JP4435066B2 (ja) | 2010-03-17 |
Family
ID=37894234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005284061A Expired - Fee Related JP4435066B2 (ja) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | ハロゲン化水素ガスの検知装置およびハロゲン化水素ガスの吸収装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070071651A1 (ja) |
JP (1) | JP4435066B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8267081B2 (en) * | 2009-02-20 | 2012-09-18 | Baxter International Inc. | Inhaled anesthetic agent therapy and delivery system |
US10215658B2 (en) * | 2016-10-12 | 2019-02-26 | Walmart Apollo, Llc | Systems, devices, and methods for detecting spills |
JP7312401B2 (ja) * | 2019-09-24 | 2023-07-21 | 独立行政法人国立高等専門学校機構 | ガスセンサ及びアルカリ土類フェライトの製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3255324A (en) * | 1962-05-28 | 1966-06-07 | Energy Conversion Devices Inc | Moisture responsive resistance device |
US3471746A (en) * | 1967-05-26 | 1969-10-07 | Gen Electric | Halogen gas detector with inherent temperature sensing |
US3751968A (en) * | 1971-01-22 | 1973-08-14 | Inficon Inc | Solid state sensor |
US4203199A (en) * | 1977-10-12 | 1980-05-20 | Inficon Leybold-Heraeus, Inc. | Solid state sensor |
US4171341A (en) * | 1977-10-12 | 1979-10-16 | Inficon Leybold-Heraeus Inc. | Solid state sensor |
US4744954A (en) * | 1986-07-11 | 1988-05-17 | Allied-Signal Inc. | Amperometric gas sensor containing a solid electrolyte |
JPS63186136A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-01 | Nikon Corp | ハロゲンセンサ |
JP3411597B2 (ja) * | 1992-10-28 | 2003-06-03 | 三菱重工業株式会社 | 湿式排煙脱硫プラントの制御装置 |
JP2932056B2 (ja) * | 1993-03-17 | 1999-08-09 | 日本酸素株式会社 | 有害成分の固体検知剤 |
JP3339651B2 (ja) * | 1993-08-12 | 2002-10-28 | 理研計器株式会社 | 定電位電解式酸性ガスセンサー |
JP2838254B2 (ja) * | 1993-12-25 | 1998-12-16 | 忠弘 大見 | 導電率の測定方法とその装置 |
IT1285562B1 (it) * | 1996-02-12 | 1998-06-18 | Univ Bologna | Composti ad attivita' di fissaggio di gas |
JP4905752B2 (ja) * | 2001-07-24 | 2012-03-28 | エスティー・ラボ株式会社 | 揮発性有機塩素化合物センサ |
JP4164401B2 (ja) * | 2003-04-30 | 2008-10-15 | 理研計器株式会社 | 定電位電解型ガスセンサー |
JP3770608B2 (ja) * | 2003-09-11 | 2006-04-26 | 株式会社東芝 | ハロゲンガス吸収材、ハロゲンガスの除去方法およびハロゲンガス処理装置 |
-
2005
- 2005-09-29 JP JP2005284061A patent/JP4435066B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2006
- 2006-09-25 US US11/534,801 patent/US20070071651A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070071651A1 (en) | 2007-03-29 |
JP2007093423A (ja) | 2007-04-12 |
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JPH0251653B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090309 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090908 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091201 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091222 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4435066 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130108 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130108 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140108 Year of fee payment: 4 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |