JPS62278793A - Elデイスプレイパネル - Google Patents

Elデイスプレイパネル

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Publication number
JPS62278793A
JPS62278793A JP61121293A JP12129386A JPS62278793A JP S62278793 A JPS62278793 A JP S62278793A JP 61121293 A JP61121293 A JP 61121293A JP 12129386 A JP12129386 A JP 12129386A JP S62278793 A JPS62278793 A JP S62278793A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating film
insulating layer
display panel
layer
light emitting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61121293A
Other languages
English (en)
Inventor
見田 充郎
林 直司
真澄 小泉
関戸 睦弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP61121293A priority Critical patent/JPS62278793A/ja
Publication of JPS62278793A publication Critical patent/JPS62278793A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 (産業上の利用分野) 本発明は、ディスプレイ装置等に用いられる薄膜EL(
エレクトロルミネッセンス)ディスプレイ・/E’ネル
において、発光層と背面電極の間に着色した有機絶縁膜
を形成し、コントラストを大きくしたELパネルに関す
るものである。
(従来の技術) 従来、この種の技術として本願出願人の先の出願に係る
特願昭60−193135号に開示される技術がある。
第2図は、二重絶縁膜構造を有する従来のELディスプ
レイ・/セイ・ルの膜構成を示す模式図である。ストラ
イプ状に、−eターニングされたIndiumTin 
0xide (以下ITOと呼ぶ)等の透明電極12の
形成されたガラス等の透明のELパネル基板上1ノに、
SiO2,Ta205の絶縁膜材料を順次積層して二重
絶縁膜構造のスパンタリング法等により第1絶縁層13
を形成し、その上に発光膜材料ZnS、等にMnなどを
発光中心としてドープした発光膜材料を電子ビーム蒸着
法等を用いて発光層14を形成する。更に第2絶縁層5
を前記絶縁層13と同等な方法でTa205.SiO2
の順に二重絶縁膜構造に形成し最後に透明電極1に直交
するようストライプ状のAt等から成る背面電極16を
形成する。
発光は透明電極12と背面電極16との間に交流電圧を
印加することにより両電極の交差部分より得られる。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら上記構成のELディスグレイノRネルでは
、背面電極16として反射率1の大きいAtを使用して
いるため、発光層14から出る光や外部光がAt面と他
の膜面で反射を繰返しELディスプレイパネルのコント
ラストを悪化させる原因になるという問題点があった。
本発明は以上述べた背面電極16のAtの反射を減少さ
せコントラストの優れたELディスプレイパネルを提供
することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明の目的の達成を図るため、本発明において、透明
基板上に、透明電極と、第1絶縁層と、発光層と、第2
絶縁層と、背面電極とを順次積層してなるELディスプ
レイパネルにおいて、前記発光層と前記背面電極との間
に50〜300nm厚の着色した有機絶縁膜を具備する
ようにしたものである。
この場合、前記有機絶縁膜は前記発光層と前記第2絶縁
層との間に設けることが好ましく、また、少くとも前記
第2絶縁層は二重絶縁膜構造であっても良い。さらに第
2絶縁層を二重絶縁膜構造とする場合、この二重絶縁膜
のうちの一方の絶縁膜と他方の絶縁膜との間に前記有機
絶縁膜を設けるようにしても良い。
(作用) 本発明のELディスプレイ・母ネルは、発光層とAt等
からなる背面電極との間に着色した有機絶縁膜を設けた
ことによシ、背面電極からの反射光を低減させ、高コン
トラストの表示を行なう。
(実施例) 第1図は、本発明の第1の実施例を示すELディスプレ
イノ母ネルの膜構成であって、ストライプ状に・ぐター
ニングされた透明電極22の形成されたガラス等からな
る透明のELA’ネル基板21上にY2O5,5t02
 、 Si3N4. Ta205等の絶縁膜材料を積層
して第1絶縁層23を形成し、その上に発光膜材料Zn
S 、 CaS 、 SrS等にMn若しくは希土類化
合物などを発光中心としてドーグした発光膜材料を用い
て発光層24を形成する。この上にコントラスト改善用
のインジウムフタロシアニン等からなる着色された有機
絶縁膜25を電子ビーム法ス/Jツタリング法等を用い
て50〜300 nm厚に形成した後第1絶縁層と同様
にして第2絶縁層26を形成し、さらに背面電極27を
形成する。
第3図はこの着色した有機絶縁膜の作用を示し発光層2
4から背面電極27方向へ出た光はこの有機絶縁膜25
で吸収され、膜面内での反射は減少する。同様に・セネ
ル外部からの入射光もこの有機絶縁膜25で吸収される
ため、反射光は減少する。
第4図は前述の有機絶縁膜25としてインジウム・フタ
ロシアニンを電子ビーム蒸着法で1100n厚に形成し
、発光層24どしてZnS:Mnを600nm厚に形成
したEL/#ネルの印加電圧−輝度特性を示す。従来の
素子(曲線a)に比べ本素子(曲線b)は低電圧で発光
するが、発光層24から出た光が背面電極27で反射を
うけずツクネル前面に出てこないこと等の理由で飽和域
の輝度は減少する。
ここで、従来のELパネルのコントラスト比が15:l
程度であるのに対して本発明のELパネルは20:1程
度でコントラストの向上が得られる。
第5図は本発明の第2の実施例を示すELディスプレイ
・ぞネルの膜構成で、第1の実施例の飽和輝度減少を改
善するよう改良したもので背面電極側の絶縁層を2種類
の材料で2層に形成し、2層の絶縁層の間に有機絶縁膜
を挿入している。
第5図において、31は透明基板、32は透明電極、3
3はY2O3,5io2.5i3N4. Ta2oS等
の絶縁膜材料を2層積層した二重絶縁膜構造の第1絶縁
層であり、ここではSiO□、Ta2o5の順に積層さ
れてなっている。34は発光層であり、前述の第1の実
施例と同様のものである。この発光層34の上に、第2
絶縁層35をTa205を電子ビームで100〜300
 nm厚に形成後インジウム・フタロシアニン等を用い
た有機絶縁膜36を50〜300nm厚に形成し、さら
に第3絶縁層37としてS iO2を40〜100 n
m厚に形成し、背面電極38をAtでストライプ状に形
成している。
第6図に第2の実施例の輝度−印加電圧特性(曲線C)
従来のE L z#ネル(曲線d)と比較して示した。
コントラストは第1の実施例とほぼ同じである。
なお前述の第2の実施例では第2絶縁層35と第3絶縁
層37との間に有機絶縁膜36を設けた構成を示したが
、これに代えて発光層34と第2絶縁層35との間に有
機絶縁膜36を設け、第2絶縁層35と第3絶縁層とは
連続的に積層する構成としてもよい。
また有機絶縁膜としては、インジウム・フタロ77ニノ
ノ他ニガリウム・フタロシアニン、アルミニウム・フタ
ロシアニン、銅・フタロシアニン等が用いられる。
これらの各フタロシアニンは青色もしくは緑色を呈する
(発明の効果) 以上説明したように本発明のgLディスプレイパネルに
よれば、着色した有機絶縁膜を発光層と背面電極の間に
形成したので、背面電極からの反−射が防止できコント
ラストの改善が期待できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例の構造を示す断面図、第
2図は従来のELディスプレイ・9ネルの構造を示す断
面図、第3図は第1図のELディスプレイ・ぞネルにお
ける反射光の状態の説明図、第4図は第1図のELディ
スプレイパネルにおける印加電圧−輝度特性を示した図
、第5図は本発明の第2の実施例の構造を示す断面図、
第6図は第5図のELディスプレイパネルにおける印加
電圧−輝度特性を示した図。 21.31・・・透明基板、22.32・・・透明電極
、23.33・・・第1絶縁層、24.34・・・発光
層、25.36・・・有機絶縁膜、26.35・・・第
2絶縁層、37・・・第3絶縁層、27.38・・・背
面電極。 特許出願人 沖電気工業株式会社 オ書91g);乍叱る旺テ1.ズ、プレイ)2オルの構
、?艷。 第1図 A丈&yEL−r’!(ス2)゛レイ」ぐ木ルa11’
L%第2図 丸打え(設四図 第3図 印加を圧(V) キ7[sa謎シル1携印叩魁−塵昧 第4図 オ璃シ1■1111へ忙吐しデ1ス丁レイJぐネルの剣
へS翫第5図 印Rflifh  (V) y#、53q εミL +#ノlz+C@ibFIIj
m’マjrt−、%%艷)1第6図 手続補正書(自制 醇♂1・1斉22B

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1.  (1)透明基板上に、透明電極と、第1絶縁層と、発
    光層と、第2絶縁層と、背面電極とを順次積層してなる
    ELディスプレイパネルにおいて、前記発光層と前記背
    面電極との間に50〜300nm厚の着色した有機絶縁
    膜を具備することを特徴とするELディスプレイパネル
  2.  (2)前記有機絶縁膜が前記発光層と前記第2絶縁層
    との間に設けられることを特徴とする特許請求の範囲第
    (1)項記載のELディスプレイパネル。
  3.  (3)前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層のうちの少
    なくとも前記第2絶縁層が二重絶縁膜構造であり、当該
    第2絶縁層の二重絶縁膜のうちの一方の絶縁膜と他方の
    絶縁膜との間に前記有機絶縁膜を設けてなることを特徴
    とする特許請求の範囲第(1)項記載のELディスプレ
    イパネル。
  4.  (4)前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層のうちの少
    なくとも前記第2絶縁層が二重絶縁膜構造であることを
    特徴とする特許請求の範囲第(2)項記載のELディス
    プレイパネル。
JP61121293A 1986-05-28 1986-05-28 Elデイスプレイパネル Pending JPS62278793A (ja)

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JP61121293A JPS62278793A (ja) 1986-05-28 1986-05-28 Elデイスプレイパネル

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JPS62278793A true JPS62278793A (ja) 1987-12-03

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01313893A (ja) * 1988-06-10 1989-12-19 Sharp Corp 薄膜el素子

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01313893A (ja) * 1988-06-10 1989-12-19 Sharp Corp 薄膜el素子

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