JPS62273945A - 4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミドの製造法 - Google Patents
4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミドの製造法Info
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- 150000001408 amides Chemical class 0.000 title claims abstract description 22
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 title claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 20
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims description 9
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 55
- -1 2-substituted oxyimino-3-silyloxy-3-butenoic acid ester Chemical class 0.000 abstract description 50
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 39
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 abstract description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 13
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 7
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 abstract description 3
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 abstract description 2
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 18
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 12
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 11
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 10
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 8
- MGXLNEQONXBEIA-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(C)=O)C(=O)OC MGXLNEQONXBEIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PDMXDQQSMYSAKV-XQRVVYSFSA-N (2z)-2-methoxyimino-3-oxobutanoic acid Chemical compound CO\N=C(\C(C)=O)C(O)=O PDMXDQQSMYSAKV-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 6
- CNWXYCWSJJDHPH-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfinylethyl 2-methoxyimino-3-trimethylsilyloxybut-3-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=C)C(=NOC)C(=O)OCCS(C)=O CNWXYCWSJJDHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N Heavy water Chemical compound [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229950003476 aminothiazole Drugs 0.000 description 4
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- XORNTXOONWZYJR-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methoxyimino-3-trimethylsilyloxybut-3-enoate Chemical compound CON=C(C(=O)OC)C(=C)O[Si](C)(C)C XORNTXOONWZYJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 4
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 4
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 4
- RGTVCBYWKSJLLE-UHFFFAOYSA-N (4-nitrophenyl)methyl 2-methoxyimino-3-trimethylsilyloxybut-3-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=C)C(=NOC)C(=O)OCC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 RGTVCBYWKSJLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VUNVICYLTWOUGZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfanylethyl 2-methoxyimino-3-trimethylsilyloxybut-3-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=C)C(=NOC)C(=O)OCCSC VUNVICYLTWOUGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1,3-oxazole-4-carbaldehyde Chemical compound FC1=CC=CC(C=2OC=C(C=O)N=2)=C1 BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPEGUEPWVGTJKA-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfinylethyl 4-bromo-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(=O)CBr)C(=O)OCCS(C)=O GPEGUEPWVGTJKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYEYBOSBBBHJIV-UHFFFAOYSA-N 2-oxobutanoic acid Chemical compound CCC(=O)C(O)=O TYEYBOSBBBHJIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- NCLIGEZQAPUUQU-UHFFFAOYSA-N 2-silylacetamide Chemical compound NC(=O)C[SiH3] NCLIGEZQAPUUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STQLBWSBVJOFBE-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-methoxyimino-3-oxobutanoyl chloride Chemical compound CON=C(C(Cl)=O)C(=O)CBr STQLBWSBVJOFBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWNGESOREPKWTG-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2-methoxyimino-3-oxobutanoic acid Chemical compound CON=C(C(O)=O)C(=O)CCl QWNGESOREPKWTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150041968 CDC13 gene Proteins 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CC DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJAIDGPTIFCPGD-YHYXMXQVSA-N methyl (2z)-2-(2-amino-1,3-thiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetate Chemical compound CO\N=C(/C(=O)OC)C1=CSC(N)=N1 MJAIDGPTIFCPGD-YHYXMXQVSA-N 0.000 description 2
- GJHFBYADZNZZED-UHFFFAOYSA-N methyl 4-bromo-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(=O)CBr)C(=O)OC GJHFBYADZNZZED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGTCKDDBCGYTDZ-UHFFFAOYSA-N methyl 4-chloro-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(=O)CCl)C(=O)OC HGTCKDDBCGYTDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229940087562 sodium acetate trihydrate Drugs 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- IXIQEDUELZGSRN-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-chloro-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(=O)CCl)C(=O)OC(C)(C)C IXIQEDUELZGSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl iodide Chemical compound C[Si](C)(C)I CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- AMTTUPGTZVAKBF-DAXSKMNVSA-N (2z)-4-bromo-2-methoxyimino-3-oxobutanoic acid Chemical compound CO\N=C(/C(O)=O)C(=O)CBr AMTTUPGTZVAKBF-DAXSKMNVSA-N 0.000 description 1
- KMPUQSOLODUGTM-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)methyl 4-chloro-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(=O)CCl)C(=O)OCC1=CC=C(OC)C=C1 KMPUQSOLODUGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004769 (C1-C4) alkylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazol-2-amine Chemical group NC1=NC=CS1 RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,3-dichloro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical group FC(F)(F)C1=CC(Cl)=C(Br)C(Cl)=C1 IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPXMOCRWAHNZMH-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfinylethyl 4-chloro-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(=O)CCl)C(=O)OCCS(C)=O UPXMOCRWAHNZMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJHCUMCGWYZKLJ-UHFFFAOYSA-N 2-silyloxybut-3-enoic acid Chemical compound C=CC(C(=O)O)O[SiH3] WJHCUMCGWYZKLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZQFCHRCTZAAER-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilylethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC[Si](C)(C)C LZQFCHRCTZAAER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 244000197975 Solidago virgaurea Species 0.000 description 1
- 235000000914 Solidago virgaurea Nutrition 0.000 description 1
- FYGNJYLXDRROPN-UHFFFAOYSA-N [2-(4-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazol-4-yl]methanamine Chemical compound NCC1=CSC(C=2C=CC(OCC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=N1 FYGNJYLXDRROPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N acetoacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(O)=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N bromo(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)Br IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N dbdmh Chemical compound CC1(C)N(Br)C(=O)N(Br)C1=O VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007257 deesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWISSTYMWZFAHN-UHFFFAOYSA-N disodium methanolate Chemical compound [Na+].[Na+].C[O-].C[O-] FWISSTYMWZFAHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hexane Chemical compound CCOCC.CCCCCC ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHZDSZZNHDLQKN-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyimino-3-trimethylsilyloxybut-3-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(=NOC)C(=C)O[Si](C)(C)C DHZDSZZNHDLQKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LULLGGWIEBUSRX-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-bromo-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=NOC)C(=O)CBr LULLGGWIEBUSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQTHNMBPRSXIHX-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-chloro-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=NOC)C(=O)CCl QQTHNMBPRSXIHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000336 imidazol-5-yl group Chemical group [H]N1C([H])=NC([H])=C1[*] 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 description 1
- AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N lithium;diethylazanide Chemical compound [Li+].CC[N-]CC AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- YWBGPTINUFKUAX-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(2-methoxy-2-oxoethoxy)imino-3-trimethylsilyloxybut-3-enoate Chemical compound COC(=O)CON=C(C(=O)OC)C(=C)O[Si](C)(C)C YWBGPTINUFKUAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMLFKFGJIONXMN-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxyimino-3-trimethylsilyloxybut-3-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=C)C(C(=O)OC)=NO[Si](C)(C)C(C)(C)C AMLFKFGJIONXMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFPLHRIETFFBRS-UHFFFAOYSA-N methyl 4-chloro-2-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethoxy]imino-3-oxobutanoate Chemical compound COC(=O)C(C(=O)CCl)=NOCC(=O)OC(C)(C)C LFPLHRIETFFBRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCVVUJPXSBQTRZ-UHFFFAOYSA-N methyl but-2-enoate Chemical compound COC(=O)C=CC MCVVUJPXSBQTRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000006216 methylsulfinyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)=O 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000004372 methylthioethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N n-trimethylsilylacetamide Chemical compound CC(=O)N[Si](C)(C)C LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDLNJZPZYFVRT-UHFFFAOYSA-N o-ethyl but-3-enethioate Chemical compound CCOC(=S)CC=C QUDLNJZPZYFVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZWPKUNUZHXVTR-UHFFFAOYSA-N o-methyl 2-methoxyimino-3-oxobutanethioate Chemical compound CON=C(C(C)=O)C(=S)OC OZWPKUNUZHXVTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZJZSARWMOBALB-UHFFFAOYSA-N o-methyl but-3-enethioate Chemical compound COC(=S)CC=C HZJZSARWMOBALB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 125000005646 oximino group Chemical class 0.000 description 1
- QQDGGBVWAGDTAG-UHFFFAOYSA-N phenyl 4-bromo-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(=O)CBr)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QQDGGBVWAGDTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBAPGWVIUDJJDP-UHFFFAOYSA-N phenyl 4-chloro-2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(=O)CCl)C(=O)OC1=CC=CC=C1 UBAPGWVIUDJJDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- NGQMPYHAZGBVKN-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(C)=O)C(=O)OC(C)(C)C NGQMPYHAZGBVKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WABRKQSNAXZWEJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methoxyimino-3-trimethylsilyloxybut-3-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=C)C(=NOC)C(=O)OC(C)(C)C WABRKQSNAXZWEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVRNIOPDBTVJKH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-chloro-4-dimethylsilyloxy-2-methoxyiminobut-3-enoate Chemical compound ClC(C(C(=O)OC(C)(C)C)=NOC)=CO[SiH](C)C GVRNIOPDBTVJKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKUYRAMKJLMYLO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OC(C)(C)C JKUYRAMKJLMYLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOQRLOHINNZSCO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-trimethylsilyloxy-2-trimethylsilyloxyiminobut-3-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C(=NO[Si](C)(C)C)C(=C)O[Si](C)(C)C JOQRLOHINNZSCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001981 tert-butyldimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([H])(C([H])([H])[H])[*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZYVBKUXNUFAND-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl 2-methoxyimino-3-trimethylsilyloxybut-3-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=C)C(=NOC)C(=O)O[Si](C)(C)C WZYVBKUXNUFAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FTVLMFQEYACZNP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound C[Si](C)(C)OS(=O)(=O)C(F)(F)F FTVLMFQEYACZNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000002061 vacuum sublimation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
[産業上の利用分野コ
本発明は、合成中間体特にセファロ化合物の合成中間体
として有用な4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3
−オキソ酪酸のエステルまたはアミド(以下“目的物(
1)“と称する)の工業的に有利な製造法に関する。
として有用な4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3
−オキソ酪酸のエステルまたはアミド(以下“目的物(
1)“と称する)の工業的に有利な製造法に関する。
[従来の技術]
4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸
のエステルまたはアミドは、たとえばセフメノキンムに
代表されるアミノチアゾールセファロスポリン類を製造
する際の重要な合成中間体である。アミノチアゾールセ
ファロスポリン類はきわめて広い抗菌スペクトルを有す
る抗生物質として既に数種類が市販されかつ臨床的にも
広く使用されており、その構造、薬理活性および製造法
については“アンゲバンテ ヘミイーインターナンヨナ
ル エディンヨン イン イングリッンユ”[Ange
w、 Chem、 Int、 Ed、 Engl、 2
41130〜202(1985)]、“ジャーナル オ
ブ アンチバイオチフス”[J。
のエステルまたはアミドは、たとえばセフメノキンムに
代表されるアミノチアゾールセファロスポリン類を製造
する際の重要な合成中間体である。アミノチアゾールセ
ファロスポリン類はきわめて広い抗菌スペクトルを有す
る抗生物質として既に数種類が市販されかつ臨床的にも
広く使用されており、その構造、薬理活性および製造法
については“アンゲバンテ ヘミイーインターナンヨナ
ル エディンヨン イン イングリッンユ”[Ange
w、 Chem、 Int、 Ed、 Engl、 2
41130〜202(1985)]、“ジャーナル オ
ブ アンチバイオチフス”[J。
入ntibiot、 381738〜に751(198
5)3等に記載されている。そして、これらのアミノチ
アゾールセファロスポリン類の製造法において、アミノ
チアゾール部分の合成中間体として用いられるのが目的
物(I)である。
5)3等に記載されている。そして、これらのアミノチ
アゾールセファロスポリン類の製造法において、アミノ
チアゾール部分の合成中間体として用いられるのが目的
物(I)である。
そして、目的物(1)またはその遊離酸は、従来2−置
換オキシイミノ−3−オキソ酪酸またはそのエステルあ
るいはアミド(以下“化合物(n)”と称子る)に直接
ハロゲン化剤を反応させる方法[特開昭54−9879
5.特開56−92894.特開昭60−228486
.特開昭60−248691、特開昭60−25247
3.ケミカル アンド ファーマスーチカル ブレチン
(Che+a、Pharm。
換オキシイミノ−3−オキソ酪酸またはそのエステルあ
るいはアミド(以下“化合物(n)”と称子る)に直接
ハロゲン化剤を反応させる方法[特開昭54−9879
5.特開56−92894.特開昭60−228486
.特開昭60−248691、特開昭60−25247
3.ケミカル アンド ファーマスーチカル ブレチン
(Che+a、Pharm。
Bull、)25巻 3115〜3117頁(1977
年);ジャーナル オブ アンチバイオチフスU、 A
ntibiot、)38巻 1738〜1751頁(1
985年);日本化学会誌(8化) 1981 No、
5.785〜803頁等に記載の方法コ、あるいは2−
置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸エステルを一旦アセ
タール誘導体に導いた後ハロゲン化剤と反応させ、次に
脱エステル化そしてアセタールの加水分解を行なう方法
[特開昭55−94354記載の方法]によって合成さ
れている。
年);ジャーナル オブ アンチバイオチフスU、 A
ntibiot、)38巻 1738〜1751頁(1
985年);日本化学会誌(8化) 1981 No、
5.785〜803頁等に記載の方法コ、あるいは2−
置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸エステルを一旦アセ
タール誘導体に導いた後ハロゲン化剤と反応させ、次に
脱エステル化そしてアセタールの加水分解を行なう方法
[特開昭55−94354記載の方法]によって合成さ
れている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、上記のごとき目的物(1)の従来合成法
では、反応を極めて強い酸性条件下で行なう必要がある
、あるいは目的物(1)と分離が極めて困難な副産物4
.4−ジハロゲノあるいは4,4゜4−トリハロゲノ−
2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまた
はアミドが生成する、あるいは反応工程数が長い、ある
いは収率が悪い等の欠点があり、工業的な製造法として
は有利なものとは言えない。
では、反応を極めて強い酸性条件下で行なう必要がある
、あるいは目的物(1)と分離が極めて困難な副産物4
.4−ジハロゲノあるいは4,4゜4−トリハロゲノ−
2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまた
はアミドが生成する、あるいは反応工程数が長い、ある
いは収率が悪い等の欠点があり、工業的な製造法として
は有利なものとは言えない。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、目的物(1)の工業的に有利な製造法を
種々検討した結果、化合物(If)とシリル化剤とを反
応させると、新規な化合物の2−置換オキシイミノ−3
−シリルオキシ−3−ブテン酸のエステルまたはアミド
(以下“化合物(I[[)“と称する)が得られること
、さらにこの化合物(III)にハロゲン化剤を反応さ
せると、予想外にも何ら高価な試薬を用いなくとも緩和
な条件下短工程で目的物(1)が高純度、高収率で得ら
れること、そしてこれらの反応が目的物(I)の工業的
製造法として従来法よりも有利なものであることを見出
し、これらに基づいて本発明を完成した。
種々検討した結果、化合物(If)とシリル化剤とを反
応させると、新規な化合物の2−置換オキシイミノ−3
−シリルオキシ−3−ブテン酸のエステルまたはアミド
(以下“化合物(I[[)“と称する)が得られること
、さらにこの化合物(III)にハロゲン化剤を反応さ
せると、予想外にも何ら高価な試薬を用いなくとも緩和
な条件下短工程で目的物(1)が高純度、高収率で得ら
れること、そしてこれらの反応が目的物(I)の工業的
製造法として従来法よりも有利なものであることを見出
し、これらに基づいて本発明を完成した。
即ち、本発明は、
(1)化合物(III)にハロゲン化剤を反応させるこ
とを特徴とする、目的物(1)の製造法、(2)化合物
(n)とシリル化剤とを反応させ、得られろ化合物([
II)にハロゲン化剤を反応させることを特徴とする、
目的物(1)の製造法、(3)化合物(III) に関するものである。
とを特徴とする、目的物(1)の製造法、(2)化合物
(n)とシリル化剤とを反応させ、得られろ化合物([
II)にハロゲン化剤を反応させることを特徴とする、
目的物(1)の製造法、(3)化合物(III) に関するものである。
上記中、化合物(I[)は、2−置換オキシイミノ−3
−オキソ酪酸またはそのエステルあるいはアミドである
が、このような化合物(n)の好ましい例としては、た
とえば式 %式% [式中、rtlは水素原子または置換基を有していても
よいアルキル基を、WはOR2,SR”またはいてもよ
い炭化水素基)を示す。]で表わされる化合物等が用い
られる。化合物(■′)中R1は、水素原子または置換
基を有していてもよいアルキル基を示す。R1で示され
るアルキル基としては、たとえばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル等の炭素数1〜4の直鎖状
または分枝状のアルキル基等が用いられる。そして、R
1で示されるアルキル基は、置換基を有していてもよく
、たとえばカルボキシル基(たとえばバラニトロベンジ
ル、t−ブチル等の脱離容易な保護基で保護されていて
もよい)、炭素数3〜6のシクロアルキル基(たとえば
シクロプロピル等)、複素環基(たとえばイミダゾール
−5−イル等の5員含窒素曳素環基等)等の置換基を1
〜2g!有していてもよい。
−オキソ酪酸またはそのエステルあるいはアミドである
が、このような化合物(n)の好ましい例としては、た
とえば式 %式% [式中、rtlは水素原子または置換基を有していても
よいアルキル基を、WはOR2,SR”またはいてもよ
い炭化水素基)を示す。]で表わされる化合物等が用い
られる。化合物(■′)中R1は、水素原子または置換
基を有していてもよいアルキル基を示す。R1で示され
るアルキル基としては、たとえばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル等の炭素数1〜4の直鎖状
または分枝状のアルキル基等が用いられる。そして、R
1で示されるアルキル基は、置換基を有していてもよく
、たとえばカルボキシル基(たとえばバラニトロベンジ
ル、t−ブチル等の脱離容易な保護基で保護されていて
もよい)、炭素数3〜6のシクロアルキル基(たとえば
シクロプロピル等)、複素環基(たとえばイミダゾール
−5−イル等の5員含窒素曳素環基等)等の置換基を1
〜2g!有していてもよい。
R1で示される「置換基を有していてもよいアルキル基
」の具体例としては、たとえばメヂル、エチル。
」の具体例としては、たとえばメヂル、エチル。
シクロプロピルメチル、イミダゾール−5−イルメチル
、t−ブトキシカルボニルメチル、1−1−ブトキシカ
ルボニル−1−メチルエチル等が用いここにおいてR2
は水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基
を示す。R1で示される炭化水素基としては、たとえば
メチル、エチル、プロピル、イルプロピル、ブチル、イ
ソブチル、第3級ブチル、ペンチル、第3級ペンチル、
ヘキシル等の炭素数1〜6の直鎖状または分枝状のアル
キル基。
、t−ブトキシカルボニルメチル、1−1−ブトキシカ
ルボニル−1−メチルエチル等が用いここにおいてR2
は水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基
を示す。R1で示される炭化水素基としては、たとえば
メチル、エチル、プロピル、イルプロピル、ブチル、イ
ソブチル、第3級ブチル、ペンチル、第3級ペンチル、
ヘキシル等の炭素数1〜6の直鎖状または分枝状のアル
キル基。
ビニル、アリル等の炭素数2〜4のアルケニル基。
フェニル、ナフチル等の炭素数6〜IOのアリール基、
ベンジル、フェニルエチル等の炭素数7〜lOのアラル
キル基等の炭化水素基が用いられる。
ベンジル、フェニルエチル等の炭素数7〜lOのアラル
キル基等の炭化水素基が用いられる。
R1で示される炭化水素基は、置換基を有していてもよ
く、たとえばC1−4アルキルスルホニル基(たとえば
メチルスルホニル等)、C+−4アルキルスルフイニル
基(たとえばメチルスルフィニル等)、C。
く、たとえばC1−4アルキルスルホニル基(たとえば
メチルスルホニル等)、C+−4アルキルスルフイニル
基(たとえばメチルスルフィニル等)、C。
−4アルキルチオ基(たとえばメチルチオ等)、C2−
eシクロアルキル基(たとえばシクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロヘキシル等)、水酸基、ニトロ基。
eシクロアルキル基(たとえばシクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロヘキシル等)、水酸基、ニトロ基。
C1−4アルコキシ基(たとえばメトキシ、エトキシ等
)、ジー01−4アルキルアミノ基(たとえばツメチル
アミノ、ジエチルアミノ等)等の置換基を1〜2個有し
ていてもよく、さらにR1がアリール基、アラルキル基
を示す場合は、たとえばCI−4アルキル基(たとえば
メチル、エチル、プロピル、ブチル、t−ブチル等)等
を1〜2個置換基として有していてもよい。R1で示さ
れる「置換基を有していてもよい炭化水素基」の具体例
としては、たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、第3級ブチル、ペンチル
、第3級ペンチル、ヘキシル、1−シクロプロピルエチ
ル、アリル。
)、ジー01−4アルキルアミノ基(たとえばツメチル
アミノ、ジエチルアミノ等)等の置換基を1〜2個有し
ていてもよく、さらにR1がアリール基、アラルキル基
を示す場合は、たとえばCI−4アルキル基(たとえば
メチル、エチル、プロピル、ブチル、t−ブチル等)等
を1〜2個置換基として有していてもよい。R1で示さ
れる「置換基を有していてもよい炭化水素基」の具体例
としては、たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、第3級ブチル、ペンチル
、第3級ペンチル、ヘキシル、1−シクロプロピルエチ
ル、アリル。
メチルスルホニルエチル、メチルスルフィニルエチル、
メチルチオエチルなどの置換されていてもよい脂肪族炭
化水素基、フェニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメト
キシフェニル、3.5〜ジtertブチル−4−ヒドロ
キシフェニル、4−ジメチルアミノフェニルなどの置換
されていてもよい芳香族炭化水X基、ベンジル、p−ニ
トロベンジル、p−メトキンベンジル、2.4−ジメト
キシベンジルなどの置換されていてもよいベンジル基な
どが用いられるが、これらに限定されず公知のカルボキ
シ保護基がすべて用いられる。
メチルチオエチルなどの置換されていてもよい脂肪族炭
化水素基、フェニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメト
キシフェニル、3.5〜ジtertブチル−4−ヒドロ
キシフェニル、4−ジメチルアミノフェニルなどの置換
されていてもよい芳香族炭化水X基、ベンジル、p−ニ
トロベンジル、p−メトキンベンジル、2.4−ジメト
キシベンジルなどの置換されていてもよいベンジル基な
どが用いられるが、これらに限定されず公知のカルボキ
シ保護基がすべて用いられる。
従って、化合物(■′)の代表例としては、たとえば次
のごときもの等がある。
のごときもの等がある。
(i)2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル
(ii)2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸tert
−ブチル (山)2−メトキンイミノ−3−オキソ酪酸(iv)2
−エトキシカルボニルメトキシイミノ−3−オキソ酪酸
tert−ブチル (v)2−メトキシイミノ−3−オキソチオ酪酸メチル (vi)2−メトキンイミノ−3−オキソ酪酸アミド (vii)2−t−ブトキシカルボニルメトキンイミノ
−3−オキソ酪酸p−ニトロベンノル また、化合物(I[[)は、2−置換オキシイミノ−3
−シリルオキソ−3−ブテン酸のエステルまたはアミド
であり、化合物(I[[)の好ましい例としては、たと
えば式 [式中、R′′は置換基を有していてもよいアルキル基
またはR3を、W′はOR”、SR”または水素基ある
いはR3)を、R3はトリアルキルノリル基またはハロ
ゲノジアルキルシリル基を示す。]で表わされる化合物
等が用いられる。化合物(■′)中R”で示される「置
換基を有していてもよいアルキル基」としては、たとえ
ば上記化合物(■′)のR1で述べたごときもの等が用
いられる。また、R′′で示される[置換基を有してい
てもよい炭化水素基」としては、たとえば上記化合物(
■′)のR宜で述べたごときもの等が用いられる。R3
はトリアルキルシリル基またはハロゲノジアルキルシリ
ル基を示し、トリアルキルシリル基としては、たとえば
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシ
リル、 tert−ブチルジメチルシリル等のトリーC
1−4アルキルシリル基等が用いられ1、ハロゲノジア
ルキルシリル基としてはたとえばクロロジメチルシリル
等のハロゲノジメチルシリル基等が用いられる。化合物
(■′)の代表例としては、たとえば次のもの等がある
。
−ブチル (山)2−メトキンイミノ−3−オキソ酪酸(iv)2
−エトキシカルボニルメトキシイミノ−3−オキソ酪酸
tert−ブチル (v)2−メトキシイミノ−3−オキソチオ酪酸メチル (vi)2−メトキンイミノ−3−オキソ酪酸アミド (vii)2−t−ブトキシカルボニルメトキンイミノ
−3−オキソ酪酸p−ニトロベンノル また、化合物(I[[)は、2−置換オキシイミノ−3
−シリルオキソ−3−ブテン酸のエステルまたはアミド
であり、化合物(I[[)の好ましい例としては、たと
えば式 [式中、R′′は置換基を有していてもよいアルキル基
またはR3を、W′はOR”、SR”または水素基ある
いはR3)を、R3はトリアルキルノリル基またはハロ
ゲノジアルキルシリル基を示す。]で表わされる化合物
等が用いられる。化合物(■′)中R”で示される「置
換基を有していてもよいアルキル基」としては、たとえ
ば上記化合物(■′)のR1で述べたごときもの等が用
いられる。また、R′′で示される[置換基を有してい
てもよい炭化水素基」としては、たとえば上記化合物(
■′)のR宜で述べたごときもの等が用いられる。R3
はトリアルキルシリル基またはハロゲノジアルキルシリ
ル基を示し、トリアルキルシリル基としては、たとえば
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシ
リル、 tert−ブチルジメチルシリル等のトリーC
1−4アルキルシリル基等が用いられ1、ハロゲノジア
ルキルシリル基としてはたとえばクロロジメチルシリル
等のハロゲノジメチルシリル基等が用いられる。化合物
(■′)の代表例としては、たとえば次のもの等がある
。
(i)2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキ
シ−3−ブテン酸メチル (ii)2〜メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオ
キシ−3−ブテン酸エチル (iii) 2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリ
ルオキシ−3−ブテン酸tert−ブチル(iv)2−
メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブ
テン酸フェニル (v)2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキ
シ−3−ブテン酸アリル (vi)2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオ
キシ−3−ブテン酸メチルスルホニルエチル (vii) 2−メトキンイミノ−3−トリメチルシリ
ルオキシ−3−ブテン酸メチルスルフィニルエチル (vi) 2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリル
オキシ−3−ブテン酸メチルチオエチル(ix)2−メ
トキシイミノ−3−トリメチルノリルオキシ−3−ブテ
ン酸ベンジル (×)2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキ
シ−3−ブテン酸4−ニトロベンジル(xi)2−メト
キシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン
酸4−メトキンベンジル(xii) 2−メトキシイ
ミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸トリ
メチルシリル(X市) 3−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−(xiv) 3 tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−2−メトキシイミノ−3−ブ
テン酸エチル(x v ) 3−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ−2−メトキンイミノ−3−ブテン
酸tertーブチル (xvi) 2−メトキンカルボニルメトキシイミノ
−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸メチル (xvii) 2−エトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸ter
tーブチル (xvi)2−1)−二トロペンジルオキシカルボニル
メトキノイミノ−3−トリメチルノリルオキノー3−ブ
テン酸メチル (X ix) 2−tert−ブチルオキシカルボニ
ルメトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−
ブテン酸メチル (xx)3−トリメチルシリルオキシ−2−トリメチル
シリルオキンカルボニルメトキシイミノー3−ブテン酸
メチル (xxi)3−トリメチル′シリルオキンー2ートリメ
ヂルノリルオキンイミノ−3−ブテン酸メチ(x xi
i) 2−tert−ブチルジメチルシリルオキシイ
ミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸メチ
ル (xxiii) 3−クロロジメチルシリルオキシ−
2−メトキシイミノ−3−ブテン酸メチル(xxiv)
3−クロロジメチルシリルオキシ−2−メトキシイミノ
−3−ブテン酸tertーブチル(xxv) 2−メ
トキシイミノ−3−トリメチルシリルオキノー3−チオ
ブテン酸メチル(xxvi) 3−クロロジメチルシ
リルオキシ−2−メトキシイミノ−3−チオブテン酸エ
チルさらに、化合物(1)は、4−ハロゲノ−2−置換
オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミド
であり、化合物(1)の好ましい例としては、たとえば
式 %式% [式中、Xはハロゲン原子を、R1’及びW′は前記と
同意義を示す。]で表わされる化合物等が用いられる。
シ−3−ブテン酸メチル (ii)2〜メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオ
キシ−3−ブテン酸エチル (iii) 2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリ
ルオキシ−3−ブテン酸tert−ブチル(iv)2−
メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブ
テン酸フェニル (v)2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキ
シ−3−ブテン酸アリル (vi)2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオ
キシ−3−ブテン酸メチルスルホニルエチル (vii) 2−メトキンイミノ−3−トリメチルシリ
ルオキシ−3−ブテン酸メチルスルフィニルエチル (vi) 2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリル
オキシ−3−ブテン酸メチルチオエチル(ix)2−メ
トキシイミノ−3−トリメチルノリルオキシ−3−ブテ
ン酸ベンジル (×)2−メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキ
シ−3−ブテン酸4−ニトロベンジル(xi)2−メト
キシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン
酸4−メトキンベンジル(xii) 2−メトキシイ
ミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸トリ
メチルシリル(X市) 3−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−(xiv) 3 tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−2−メトキシイミノ−3−ブ
テン酸エチル(x v ) 3−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ−2−メトキンイミノ−3−ブテン
酸tertーブチル (xvi) 2−メトキンカルボニルメトキシイミノ
−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸メチル (xvii) 2−エトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸ter
tーブチル (xvi)2−1)−二トロペンジルオキシカルボニル
メトキノイミノ−3−トリメチルノリルオキノー3−ブ
テン酸メチル (X ix) 2−tert−ブチルオキシカルボニ
ルメトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−
ブテン酸メチル (xx)3−トリメチルシリルオキシ−2−トリメチル
シリルオキンカルボニルメトキシイミノー3−ブテン酸
メチル (xxi)3−トリメチル′シリルオキンー2ートリメ
ヂルノリルオキンイミノ−3−ブテン酸メチ(x xi
i) 2−tert−ブチルジメチルシリルオキシイ
ミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸メチ
ル (xxiii) 3−クロロジメチルシリルオキシ−
2−メトキシイミノ−3−ブテン酸メチル(xxiv)
3−クロロジメチルシリルオキシ−2−メトキシイミノ
−3−ブテン酸tertーブチル(xxv) 2−メ
トキシイミノ−3−トリメチルシリルオキノー3−チオ
ブテン酸メチル(xxvi) 3−クロロジメチルシ
リルオキシ−2−メトキシイミノ−3−チオブテン酸エ
チルさらに、化合物(1)は、4−ハロゲノ−2−置換
オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミド
であり、化合物(1)の好ましい例としては、たとえば
式 %式% [式中、Xはハロゲン原子を、R1’及びW′は前記と
同意義を示す。]で表わされる化合物等が用いられる。
化合物(ド)中Xはハロゲン原子を示し、この様なハロ
ゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素。
ゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素。
ヨウ素等が用いられる。また、化合物(f′)中のR”
及びW′は、上記化合物(■′)で述べたごときR”及
びW′と同じ意義を示す。そして、化合物(1’)の代
表例としては、たとえば次のごときもの等がある。
及びW′は、上記化合物(■′)で述べたごときR”及
びW′と同じ意義を示す。そして、化合物(1’)の代
表例としては、たとえば次のごときもの等がある。
(1)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪
酸メチル (ii)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸メチル (iii)4−ヨード−2−メトキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸メチル (iv)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸エチル (v)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪
酸エチル (vi)4−ブロモー2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸tert−ブチル (vii) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸tert−ブチル (vi)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸アリル (ix)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸アリル (×)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪
酸フェニル (xi)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸フェニル (xii) 4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸メチルスルホニルエチル (xiii) 4−クロロ−2−メトキンイミノ−3
−オキソ酪酸メチルスルホニルエチル (xiv)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸メチルスルフィニルエチル (xv)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸メチルスルフィニルエチル (xvi) 4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−
オキソ酪酸メチルチオエチル (xvii) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3
−オキソ酪酸メチルチオエチル (xvii) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3
−オキソ酪酸ベンジル (xix) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−
オキソ酪酸p−ニトロベンジル (xx) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸p−メトキシベンジル (xxi) 4−ブロモ−2−エトキシカルボニルメ
トキシイミノ−3−オキソ酪酸エチル (xxii) 4−クロロ−2−エトキシカルボニル
メトキシイミノ−3−オキソ酪酸エチル (xx山) 4−ブロモ−2−tert−ブトキンカル
ボニルメトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル(xxi
v)4−クロロ−2−tert−ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル(xxv) 4
−クロロ−2−(4−二トロペンジルオキシイミノ)−
3−オキソ酪酸メチル(xxvi)4−クロロ−2−メ
トキシイミノ−3−オキソ酪酸トリメチルノリル (xxvτ1)4−クロロ−2−トリメチルノリルオキ
シイミノ−3−オキソ酪酸メチル (xxvi)4−クロロ−2−(1−tert−ブトキ
ンカルボニル−1−メチルエトキンイミノ)−3−オキ
ソ酪酸メチル (xxix)4−クロロ−2−メトキンイミノ−3−オ
キソチオ酪酸メチル (xxx) 4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−
オキソチオ酪酸メチル (xxxi)4−ブロモ−2−メトキンイミノ−3−オ
キソ酪酸アミド なお、上記式(ド)、(■′)、(m′)における−C
−−C− −C−−C− −C〜 1(” U −C− ;1 ができ、いずれの状態にあっても本発明方法に含まれる
。
酸メチル (ii)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸メチル (iii)4−ヨード−2−メトキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸メチル (iv)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸エチル (v)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪
酸エチル (vi)4−ブロモー2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸tert−ブチル (vii) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸tert−ブチル (vi)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸アリル (ix)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸アリル (×)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪
酸フェニル (xi)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸フェニル (xii) 4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸メチルスルホニルエチル (xiii) 4−クロロ−2−メトキンイミノ−3
−オキソ酪酸メチルスルホニルエチル (xiv)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸メチルスルフィニルエチル (xv)4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸メチルスルフィニルエチル (xvi) 4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−
オキソ酪酸メチルチオエチル (xvii) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3
−オキソ酪酸メチルチオエチル (xvii) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3
−オキソ酪酸ベンジル (xix) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−
オキソ酪酸p−ニトロベンジル (xx) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸p−メトキシベンジル (xxi) 4−ブロモ−2−エトキシカルボニルメ
トキシイミノ−3−オキソ酪酸エチル (xxii) 4−クロロ−2−エトキシカルボニル
メトキシイミノ−3−オキソ酪酸エチル (xx山) 4−ブロモ−2−tert−ブトキンカル
ボニルメトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル(xxi
v)4−クロロ−2−tert−ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル(xxv) 4
−クロロ−2−(4−二トロペンジルオキシイミノ)−
3−オキソ酪酸メチル(xxvi)4−クロロ−2−メ
トキシイミノ−3−オキソ酪酸トリメチルノリル (xxvτ1)4−クロロ−2−トリメチルノリルオキ
シイミノ−3−オキソ酪酸メチル (xxvi)4−クロロ−2−(1−tert−ブトキ
ンカルボニル−1−メチルエトキンイミノ)−3−オキ
ソ酪酸メチル (xxix)4−クロロ−2−メトキンイミノ−3−オ
キソチオ酪酸メチル (xxx) 4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−
オキソチオ酪酸メチル (xxxi)4−ブロモ−2−メトキンイミノ−3−オ
キソ酪酸アミド なお、上記式(ド)、(■′)、(m′)における−C
−−C− −C−−C− −C〜 1(” U −C− ;1 ができ、いずれの状態にあっても本発明方法に含まれる
。
本発明においては、化合物(I[)とシリル化剤とを反
応させることにより化合物([[)を製造することがで
きる。
応させることにより化合物([[)を製造することがで
きる。
化合物([[)は、遊離酸の2−置換オキシイミノ−3
−オキソ酪酸である場合、たとえばナトリウム、カリウ
ム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属
と塩を形成していてもよい。シリル化剤としては、化合
物(n)を化合物(II[)に導き得るものであればよ
く、たとえばクロロトリメチルシラン、 tert−ブ
チルジメチルクロロシラン。
−オキソ酪酸である場合、たとえばナトリウム、カリウ
ム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属
と塩を形成していてもよい。シリル化剤としては、化合
物(n)を化合物(II[)に導き得るものであればよ
く、たとえばクロロトリメチルシラン、 tert−ブ
チルジメチルクロロシラン。
ブロモトリメチルシラン、ヨードトリメチルシランなど
のハロゲノトリアルキル(C,−、)シラン、トリフル
オロメタンスルホン酸トリメチルシリルなどのトリフル
オロメタンスルホン酸トリアルキル(CI−4)シリル
、2−(トリメチルシリル)酢酸エチルなどの2−[ト
リアルキル(C+−a:)シリル]酢酸アルキル(C,
−、)、N、O−ビストリメチルシリルアセトアミドな
どのN、O−ビストリアルキル(C1−4)シリルアセ
トアミド、N−トリメチルシリルアセトアミドなどのN
−トリアルキル(C、−、)シリルアセトアミド、ヘキ
サメチルジシラザンなどのヘキサアルキル(C、、)ジ
シラザン、ジクロロジメチルシランなどのジハロゲノジ
アルキル(CI−4)シランなどが用いられるが、なか
でもクロロトリメチルシランなどのハロゲノトリアルキ
ル(CI−4)シランなどが好んで用いられる。これら
のシリル化剤は通常化合物(n)1モルに対してl−1
0モル好ましくは1〜3モルが用いられる。なお、化合
物(II)のカルボキシル基が遊離している場合あるい
は2−置換オキシイミノ基がヒドロキシイミノ基である
場合には、カルボキシル基、ヒドロキシ基がシリル化剤
と反応してそれぞれシリルエステル、シリルエーテルを
形成するので、そのためのシリル化剤を余分に添加して
おくのが好ましい。
のハロゲノトリアルキル(C,−、)シラン、トリフル
オロメタンスルホン酸トリメチルシリルなどのトリフル
オロメタンスルホン酸トリアルキル(CI−4)シリル
、2−(トリメチルシリル)酢酸エチルなどの2−[ト
リアルキル(C+−a:)シリル]酢酸アルキル(C,
−、)、N、O−ビストリメチルシリルアセトアミドな
どのN、O−ビストリアルキル(C1−4)シリルアセ
トアミド、N−トリメチルシリルアセトアミドなどのN
−トリアルキル(C、−、)シリルアセトアミド、ヘキ
サメチルジシラザンなどのヘキサアルキル(C、、)ジ
シラザン、ジクロロジメチルシランなどのジハロゲノジ
アルキル(CI−4)シランなどが用いられるが、なか
でもクロロトリメチルシランなどのハロゲノトリアルキ
ル(CI−4)シランなどが好んで用いられる。これら
のシリル化剤は通常化合物(n)1モルに対してl−1
0モル好ましくは1〜3モルが用いられる。なお、化合
物(II)のカルボキシル基が遊離している場合あるい
は2−置換オキシイミノ基がヒドロキシイミノ基である
場合には、カルボキシル基、ヒドロキシ基がシリル化剤
と反応してそれぞれシリルエステル、シリルエーテルを
形成するので、そのためのシリル化剤を余分に添加して
おくのが好ましい。
本シリル化反応は通常実質的に水を含まない非プロトン
性有機溶媒中においておこなわれる。非プロトン性有機
溶媒としては反応に悪影響を与えないものなら何でもよ
く、たとえばアセトニトリルなどのニトリル類、テトラ
ヒドロフラン、l、2−ノメトキンエタン、ジオキサン
、ジエチルエーテルなどのエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルム。
性有機溶媒中においておこなわれる。非プロトン性有機
溶媒としては反応に悪影響を与えないものなら何でもよ
く、たとえばアセトニトリルなどのニトリル類、テトラ
ヒドロフラン、l、2−ノメトキンエタン、ジオキサン
、ジエチルエーテルなどのエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルム。
四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、
酢酸ブチルなどのエステル類、N、N−ジメチルホルム
アミド、N、N−ツメチルアセトアミドなどのアミド類
、ベンゼン、トルエン、キンレン、ヘキサン、ペンタン
などの炭化水素類など、またはこれらの混合物などが用
いられ、とりわけアセトニトリルなどのニトリル類、塩
化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類等が繁用される
。この様な非プロトン性有機溶媒の使用量は、化合物(
II)1モルに対して0.2〜21好ましくは1〜5Q
である。また、本シリル化反応は塩基の存在下に促進さ
せられるのがよく、この様な塩基としてはたトリメチル
アミン、トリブチルアミンなど)、環状アミン類(N−
メチルピロリジン、N−メチルビペリノン、N−メチル
モルホリン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、1.8−
ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン、l、
5−ジアザビシクロ[4,3゜0]−5−ノネン、 N
、 N−ジメチルアニリン、N−メチルイミダゾール
など)、ジアミン類(テトラメチルエチレンノアミンな
ど)などの第3級アミン類、リチウムジイソプロピルア
ミド、リチウムジエチルアミド、リチウムへキサメチル
ジンラジド、リチウム2,2.6.6−チトラメチルピ
ペリジド、リチウムジシクロヘキンルアミドなどの金属
アミド類2ナトリウムメトキシド、カリウムtert−
ブトキシドなどの金属アルコキシド類、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、水素化カルシウムなどの金属水素
化物類、ブチルリチウム、メチルリチウム、臭化エチル
マグネンウム、フェニルリチウム、5eC−ブチルリチ
ウム、 Lert−ブチルリチウムなどのアルキル金属
類などが用いられる。好ましい塩基は、fニとえばトリ
エチルアミン等のトリアルキル(C。
酢酸ブチルなどのエステル類、N、N−ジメチルホルム
アミド、N、N−ツメチルアセトアミドなどのアミド類
、ベンゼン、トルエン、キンレン、ヘキサン、ペンタン
などの炭化水素類など、またはこれらの混合物などが用
いられ、とりわけアセトニトリルなどのニトリル類、塩
化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類等が繁用される
。この様な非プロトン性有機溶媒の使用量は、化合物(
II)1モルに対して0.2〜21好ましくは1〜5Q
である。また、本シリル化反応は塩基の存在下に促進さ
せられるのがよく、この様な塩基としてはたトリメチル
アミン、トリブチルアミンなど)、環状アミン類(N−
メチルピロリジン、N−メチルビペリノン、N−メチル
モルホリン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、1.8−
ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン、l、
5−ジアザビシクロ[4,3゜0]−5−ノネン、 N
、 N−ジメチルアニリン、N−メチルイミダゾール
など)、ジアミン類(テトラメチルエチレンノアミンな
ど)などの第3級アミン類、リチウムジイソプロピルア
ミド、リチウムジエチルアミド、リチウムへキサメチル
ジンラジド、リチウム2,2.6.6−チトラメチルピ
ペリジド、リチウムジシクロヘキンルアミドなどの金属
アミド類2ナトリウムメトキシド、カリウムtert−
ブトキシドなどの金属アルコキシド類、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、水素化カルシウムなどの金属水素
化物類、ブチルリチウム、メチルリチウム、臭化エチル
マグネンウム、フェニルリチウム、5eC−ブチルリチ
ウム、 Lert−ブチルリチウムなどのアルキル金属
類などが用いられる。好ましい塩基は、fニとえばトリ
エチルアミン等のトリアルキル(C。
−4)アミン類等である。これらの塩基は通常化合物(
II)1モルに対して1〜lOモル好ましくは1〜3モ
ルが用いられる。反応温度は、反応が進行する限り特に
限定されないが、通常−50℃〜80℃好ましくは0〜
30℃である。原料(II)、溶媒、塩基、反応温度等
によって異なるが、反応を通常0,2〜6時間好ましく
は0.5〜3時間で完了するのがよい。代表的な本シリ
ル化反応は、アセトニトリル中においてトリエチルアミ
ンの存在下化合物(II)1モルに対してクロロトリメ
チル9921〜3モルを加えて20〜25℃でかくはん
することによりおこなわれる。この場合反応は反応条件
によっても異なるが通常0.5〜3時間で完了する。
II)1モルに対して1〜lOモル好ましくは1〜3モ
ルが用いられる。反応温度は、反応が進行する限り特に
限定されないが、通常−50℃〜80℃好ましくは0〜
30℃である。原料(II)、溶媒、塩基、反応温度等
によって異なるが、反応を通常0,2〜6時間好ましく
は0.5〜3時間で完了するのがよい。代表的な本シリ
ル化反応は、アセトニトリル中においてトリエチルアミ
ンの存在下化合物(II)1モルに対してクロロトリメ
チル9921〜3モルを加えて20〜25℃でかくはん
することによりおこなわれる。この場合反応は反応条件
によっても異なるが通常0.5〜3時間で完了する。
シリル化反応の結果生成した化合物(II[)は、反応
混合物より塩基を除いた後あるいは単離した後に次のハ
ロゲン化反応に使用されることができる。
混合物より塩基を除いた後あるいは単離した後に次のハ
ロゲン化反応に使用されることができる。
シリル化反応に使用した塩基はハロゲン化反応において
再ハロゲン化の原因になることがあるため、化合物([
[)の反応混合物より塩基を完全にとり除いておくこと
が望ましい。化合物(III)の反応混合物からの塩基
の除去あるいは化合物(III)の単離は、公知の手段
たとえば濃縮、減圧濃縮、ろ過、溶媒抽出、結晶化、再
結晶、蒸留、減圧蒸留、昇華、遠心分離。
再ハロゲン化の原因になることがあるため、化合物([
[)の反応混合物より塩基を完全にとり除いておくこと
が望ましい。化合物(III)の反応混合物からの塩基
の除去あるいは化合物(III)の単離は、公知の手段
たとえば濃縮、減圧濃縮、ろ過、溶媒抽出、結晶化、再
結晶、蒸留、減圧蒸留、昇華、遠心分離。
クロマトグラフィー、膜透過あるいはこれらの組み合わ
せなどによりおこなわれてもよい。たとえば塩基として
たとえばトリエチルアミンのような揮発性物質を用いた
場合には減圧濃縮などによりこれらを容易にとり除くこ
とができるので便利である。
せなどによりおこなわれてもよい。たとえば塩基として
たとえばトリエチルアミンのような揮発性物質を用いた
場合には減圧濃縮などによりこれらを容易にとり除くこ
とができるので便利である。
次に、本発明方法においては、化合物(I[I)にハロ
ゲン化剤を反応させることにより、目的物(1)を製造
することができる。
ゲン化剤を反応させることにより、目的物(1)を製造
することができる。
化合物(II[)としては、上記化合物(I)の製造法
で得られる反応混合物より塩基を除去したもの、あるい
は同反応混合物より単離された化合物(III)が用い
られることができる。ハロゲン化剤としては、たとえば
ハロゲン(塩素、臭素、ヨウ素など)、ハロゲン化スル
フリル(塩化スルフリルなど)、N−ハロゲノコハク酸
イミド(N−ブロモコハク酸イミド、N−クロロコハク
酸イミドなど)、1.3−ジブロモ−5,5−ジメチル
ヒダントインなどが用いられ、とりわけ臭素、塩化スル
フリル、N−ブロモコハク酸イミド等が繁用される。こ
れらのハロゲン化剤は通常化合物(III)に対して等
モル使用すれば充分であるが過剰(化合物([)1モル
に対して1〜1.5モル)に使用してもよい。このハロ
ゲン化反応は通常溶媒中でおこなわれる。この様な溶媒
としては反応に悪影響を与えないものなら何でもよいが
、たとえばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの炭化水素類、テトラヒドロフラン、イソプロピルエ
ーテル、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハ
ロゲン化炭化水素類、酢酸エチルなどのエステル類、ア
セトンなどのケトン類、N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類または
これらの混合物などが用いられる。好ましい溶媒として
は、たとえば塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類
、テトラヒドロフランなどのエーテル類などが用いられ
る。反応温度は目的のハロゲン化が進行する限り特に限
定されないが、通常−50〜80°C好ましくは一30
〜20°Cである。反応時間は、用いられる化合物(I
II)、溶媒、反応温度等によって異なるが1時間以内
好ましくは1〜30分間である。かくして得られる目的
物(Dは、反応混合物のまま合成中間体として用いても
よく、また公知の手段たとえば濃縮、液性変換、溶媒抽
出、結晶化、再結晶、クロマトグラフィーなどにより単
離、精製した後に合成中間体として提供されることもで
きる。
で得られる反応混合物より塩基を除去したもの、あるい
は同反応混合物より単離された化合物(III)が用い
られることができる。ハロゲン化剤としては、たとえば
ハロゲン(塩素、臭素、ヨウ素など)、ハロゲン化スル
フリル(塩化スルフリルなど)、N−ハロゲノコハク酸
イミド(N−ブロモコハク酸イミド、N−クロロコハク
酸イミドなど)、1.3−ジブロモ−5,5−ジメチル
ヒダントインなどが用いられ、とりわけ臭素、塩化スル
フリル、N−ブロモコハク酸イミド等が繁用される。こ
れらのハロゲン化剤は通常化合物(III)に対して等
モル使用すれば充分であるが過剰(化合物([)1モル
に対して1〜1.5モル)に使用してもよい。このハロ
ゲン化反応は通常溶媒中でおこなわれる。この様な溶媒
としては反応に悪影響を与えないものなら何でもよいが
、たとえばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの炭化水素類、テトラヒドロフラン、イソプロピルエ
ーテル、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハ
ロゲン化炭化水素類、酢酸エチルなどのエステル類、ア
セトンなどのケトン類、N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類または
これらの混合物などが用いられる。好ましい溶媒として
は、たとえば塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類
、テトラヒドロフランなどのエーテル類などが用いられ
る。反応温度は目的のハロゲン化が進行する限り特に限
定されないが、通常−50〜80°C好ましくは一30
〜20°Cである。反応時間は、用いられる化合物(I
II)、溶媒、反応温度等によって異なるが1時間以内
好ましくは1〜30分間である。かくして得られる目的
物(Dは、反応混合物のまま合成中間体として用いても
よく、また公知の手段たとえば濃縮、液性変換、溶媒抽
出、結晶化、再結晶、クロマトグラフィーなどにより単
離、精製した後に合成中間体として提供されることもで
きる。
なお、本発明において原料として用いられる化合物(I
I)は、たとえばジャーナル オブ ジ インディアン
ケミカル ソサエティ(Jour。
I)は、たとえばジャーナル オブ ジ インディアン
ケミカル ソサエティ(Jour。
Indian Chem、 Soc、)、第42巻、6
77〜680頁(1965年);薬学雑誌(YAKUG
AKU ZASSHI)、第87巻(No、 10 )
、 1209〜1211(1967年)、ジャーナルオ
ブ ジ アメリカン ケミカル ソサエティ(JAm、
Chem、 Soc、)、第60巻、 1328〜1
331頁(1938年);特開昭60−64986;特
開昭60−199894:特開昭60−252473な
どに記載されている方法あるいはそれに準じた方法等に
よって合成されることができる。
77〜680頁(1965年);薬学雑誌(YAKUG
AKU ZASSHI)、第87巻(No、 10 )
、 1209〜1211(1967年)、ジャーナルオ
ブ ジ アメリカン ケミカル ソサエティ(JAm、
Chem、 Soc、)、第60巻、 1328〜1
331頁(1938年);特開昭60−64986;特
開昭60−199894:特開昭60−252473な
どに記載されている方法あるいはそれに準じた方法等に
よって合成されることができる。
[作 用]
本発明方法では、目的物(1)が工業的に安価に、緩和
な反応条件下、短工程で、高純度かっ高収率で得られる
ので、本発明方法は目的物(1)の工業的製法としては
極めて有用である。その結果、目的物(I)を合成中間
体として使用する最終目的物の工業的製法において、本
発明方法はその合成中間体(1)の有利な製法となり得
る。たとえば、本発明方法で得られる目的物(1)とチ
オ尿素とを反応させ、得られる(Z)−2−置換オキシ
イミノ−2−(アミノチアゾール−4−イル)酢酸のエ
ステルまたはアミドを必要に応じてそのカルボキシル基
の反応性誘導体に導いた後に7−アミノ−3−無置換ま
たは置換−3−セフェム−4−カルポル酸またはその塩
あるいはエステルと反応させる、あるいは目的物(I)
を必要に応じてそのカルボキシル基の反応性誘導体に導
いた後に7−アミノ−3−無置換または置換−3−セフ
ェム−4−カルボン酸またはその塩あるいはエステルと
反応させ、次いでチオ尿素と反応させるなどにより、優
れた抗菌作用を有するアミノチアゾール系セファロスポ
リンの7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−(Z)−2−置換オキシイミノアセトアミド]−3
−無置換または置換−3−セフェム−4−カルボン酸ま
たはその塩あるいはエステルなどに導くことができる(
特開昭51−149296、特開昭52−102293
.特開昭52−125190、特開昭53−13798
8.特開昭54−9296.特開昭53−5193.特
開昭54−98795、特開昭60−64986.特開
昭6O−248691)]。
な反応条件下、短工程で、高純度かっ高収率で得られる
ので、本発明方法は目的物(1)の工業的製法としては
極めて有用である。その結果、目的物(I)を合成中間
体として使用する最終目的物の工業的製法において、本
発明方法はその合成中間体(1)の有利な製法となり得
る。たとえば、本発明方法で得られる目的物(1)とチ
オ尿素とを反応させ、得られる(Z)−2−置換オキシ
イミノ−2−(アミノチアゾール−4−イル)酢酸のエ
ステルまたはアミドを必要に応じてそのカルボキシル基
の反応性誘導体に導いた後に7−アミノ−3−無置換ま
たは置換−3−セフェム−4−カルポル酸またはその塩
あるいはエステルと反応させる、あるいは目的物(I)
を必要に応じてそのカルボキシル基の反応性誘導体に導
いた後に7−アミノ−3−無置換または置換−3−セフ
ェム−4−カルボン酸またはその塩あるいはエステルと
反応させ、次いでチオ尿素と反応させるなどにより、優
れた抗菌作用を有するアミノチアゾール系セファロスポ
リンの7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−(Z)−2−置換オキシイミノアセトアミド]−3
−無置換または置換−3−セフェム−4−カルボン酸ま
たはその塩あるいはエステルなどに導くことができる(
特開昭51−149296、特開昭52−102293
.特開昭52−125190、特開昭53−13798
8.特開昭54−9296.特開昭53−5193.特
開昭54−98795、特開昭60−64986.特開
昭6O−248691)]。
[実施例コ
以下に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが
、これらによって本発明は何ら限定されるものではない
。
、これらによって本発明は何ら限定されるものではない
。
なお、実施例、参考例で用いる記号は次のような意義を
有する。
有する。
S:ンングレット、 br:幅広い、d:ダブレット
。
。
ABq:AB型のクアルテット、 CD CI3:重
クロロホルム、 DMSO−doニジメチルスルホキ
シドdo、 D20 重水、 %・重量%N M R
(核磁気共鳴スペクトル)は特記しない場合60MHz
または90MHzにおいてテトラメチルシランまたは4
.4−ジメチル−4−シラペンタンスルホン酸ナトリウ
ム(重水を溶媒に用いた場合のみ)を内部標準に用いて
測定し、化学シフトの値をδ値(ppm)により示した
。
クロロホルム、 DMSO−doニジメチルスルホキ
シドdo、 D20 重水、 %・重量%N M R
(核磁気共鳴スペクトル)は特記しない場合60MHz
または90MHzにおいてテトラメチルシランまたは4
.4−ジメチル−4−シラペンタンスルホン酸ナトリウ
ム(重水を溶媒に用いた場合のみ)を内部標準に用いて
測定し、化学シフトの値をδ値(ppm)により示した
。
実施例!
2−メトキンイミノ−3−オキソ酪酸メチル795mg
をアセトニトリル15m1に溶解し、この中にトリエチ
ルアミン2 、1 mlを加えつづいてクロロトリメチ
ルシラン1.9mlを水冷下に滴下し、20〜25℃で
1時間かくはんしてシリル化反応をおこなった。反応液
を減圧下に濃縮し、残留物にヘキサン15m1を加えて
けんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶物を
とり除いた。ろ液を一30°Cに冷却し、臭素0.8g
を塩化メチレン2mlに溶解した溶液を反応液が赤かっ
色に着色し始めるまで滴下した。水10m1を加えて1
0分間かくはん後分液し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、ヘキサン−エーテル混液(1:lV/V
)I OOmlml用し、フラグ’Jaンを減圧濃縮し
て4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メ
チルの無色油状物1.olgを得た。
をアセトニトリル15m1に溶解し、この中にトリエチ
ルアミン2 、1 mlを加えつづいてクロロトリメチ
ルシラン1.9mlを水冷下に滴下し、20〜25℃で
1時間かくはんしてシリル化反応をおこなった。反応液
を減圧下に濃縮し、残留物にヘキサン15m1を加えて
けんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶物を
とり除いた。ろ液を一30°Cに冷却し、臭素0.8g
を塩化メチレン2mlに溶解した溶液を反応液が赤かっ
色に着色し始めるまで滴下した。水10m1を加えて1
0分間かくはん後分液し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、ヘキサン−エーテル混液(1:lV/V
)I OOmlml用し、フラグ’Jaンを減圧濃縮し
て4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メ
チルの無色油状物1.olgを得た。
収率 84.9%
NMR(CDC13): δ 3.89(3H,s)
、 4.15(3H,s)、 4.35(28,s)p
pm 実施例2 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795mg
をアセトニトリル15m1に溶解しこの中にトリエチル
アミン2 、1 mlを加え、つづいてクロロトリメチ
ルシラン1.9mlを水冷下に滴下し20〜25°Cで
1時間かくはんしてシリル化反応をおこなった。反応液
を減圧下に濃縮し、残留物にテトラヒドロフラン15m
1を加えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過し
て不溶物をとり除いた。ろ液を一30℃に冷却し、塩化
スルフリル0.405m1を滴下し、20℃まで昇温し
た。減圧濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、ヘキサン−エーテル(1:IV/V)混液100
m1で溶出し、フラクションを減圧濃縮して4−クロロ
−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチルの無色油
状物813mgを得た。収率84.1%N M R(C
D CI*): δ 3.90(3H,s)、 4.
17(3H,s)、 4.63(2!1.s)ppm 実施例3 実施例1と同様の操作によってシリル化反応をおこない
得られた反応液を減圧下に濃縮し、残留物にテトラヒド
ロフラン15m1を加えてけんだく液とし、これを窒素
気流中でろ過して不溶物をとり除いた。ろ液を一30℃
に冷却してヨウ素1゜27gのテトラヒドロフラン(5
ml)溶液を加え20℃まで昇温した。水5mlを加え
てしばらくかくはん後分液し、有機層をlO%食塩水1
0m1で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、塩化
メチレン100m1で溶出し、フラクションを減圧濃縮
して4−ヨード−2−メトキノイミノ−3−オキソ酪酸
メチルの無色油状物を得た。
、 4.15(3H,s)、 4.35(28,s)p
pm 実施例2 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795mg
をアセトニトリル15m1に溶解しこの中にトリエチル
アミン2 、1 mlを加え、つづいてクロロトリメチ
ルシラン1.9mlを水冷下に滴下し20〜25°Cで
1時間かくはんしてシリル化反応をおこなった。反応液
を減圧下に濃縮し、残留物にテトラヒドロフラン15m
1を加えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過し
て不溶物をとり除いた。ろ液を一30℃に冷却し、塩化
スルフリル0.405m1を滴下し、20℃まで昇温し
た。減圧濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、ヘキサン−エーテル(1:IV/V)混液100
m1で溶出し、フラクションを減圧濃縮して4−クロロ
−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチルの無色油
状物813mgを得た。収率84.1%N M R(C
D CI*): δ 3.90(3H,s)、 4.
17(3H,s)、 4.63(2!1.s)ppm 実施例3 実施例1と同様の操作によってシリル化反応をおこない
得られた反応液を減圧下に濃縮し、残留物にテトラヒド
ロフラン15m1を加えてけんだく液とし、これを窒素
気流中でろ過して不溶物をとり除いた。ろ液を一30℃
に冷却してヨウ素1゜27gのテトラヒドロフラン(5
ml)溶液を加え20℃まで昇温した。水5mlを加え
てしばらくかくはん後分液し、有機層をlO%食塩水1
0m1で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、塩化
メチレン100m1で溶出し、フラクションを減圧濃縮
して4−ヨード−2−メトキノイミノ−3−オキソ酪酸
メチルの無色油状物を得た。
NMR(CDC13): δ 3,86(3H,s)
、 4.14(3H,s)、 4.22(211,s)
ppm 元素分析(Ct+HeN O4Iとして)計算値:C2
5,28%、82.83%、N 4.91%測定値:C
25,41%、H2,82%、N 4.96%実施例4 2−メトキンイミノ−3−オキソ酪酸メチル79’5m
gの代りに2〜メトキシイミノ−3−オキソ酪酸jer
t−ブチル1.OOgを用いた以外は実施例1と同様の
操作をおこない4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−
オキソ酪酸tert−ブチルの無色油状物1.24gを
得た。収率8.9 、1%NMR(CDCl2):
δ 1.54(9H1s)、 4.12(3H1s)、
4.34(2+1.s)ppm 実施例5 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795mg
の代りに2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸tert
−ブチル1.OOgを用いた以外は実施例2と同様の操
作をおこない4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸tert−ブチルの無色油状物1.06gを得
た。収率90.5%N M R(CD CI3) δ
1.56(98,s)、 4.15(3H,s)。
、 4.14(3H,s)、 4.22(211,s)
ppm 元素分析(Ct+HeN O4Iとして)計算値:C2
5,28%、82.83%、N 4.91%測定値:C
25,41%、H2,82%、N 4.96%実施例4 2−メトキンイミノ−3−オキソ酪酸メチル79’5m
gの代りに2〜メトキシイミノ−3−オキソ酪酸jer
t−ブチル1.OOgを用いた以外は実施例1と同様の
操作をおこない4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−
オキソ酪酸tert−ブチルの無色油状物1.24gを
得た。収率8.9 、1%NMR(CDCl2):
δ 1.54(9H1s)、 4.12(3H1s)、
4.34(2+1.s)ppm 実施例5 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795mg
の代りに2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸tert
−ブチル1.OOgを用いた以外は実施例2と同様の操
作をおこない4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸tert−ブチルの無色油状物1.06gを得
た。収率90.5%N M R(CD CI3) δ
1.56(98,s)、 4.15(3H,s)。
4.60(2H,s)+)pm
実施例6
実施例1と同様の操作によってノリル化反応をおこない
得られた反応液にキシレンlomlを加え減圧下に濃縮
した。残った溶液にヘキサン15m1を加えてけんだく
液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶物をとり除い
た。ろ液を一30°Cに冷却し、臭素0.8gを塩化メ
チレン2mlに溶解した溶液を反応液が赤かっ色に着色
し始めるまで滴下した。水10m1を加えて10分間か
くはん後分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し減圧濃縮した。残った溶液にテトラヒドロフラン10
m1を加え、つづいてこの中にチオ尿素761mgと酢
酸ナトリウム3水和物2.04gを水10m1に溶ul
す−i+aメーhn+’)n〜’)c、”(’IQnI
A社!Q’+zどはんした。酢酸エチル10m1ずつで
抽出を2回おこない、合わけた抽出有機層を5%炭酸水
素ナトリウム水溶液10m1.水10m1で順次洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮をおこな
い、析出物をろ過により集め少量(2ml)のキシレン
で洗浄後、減圧乾燥して2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸メチルの
結晶性粉末875Bを得た。収率81.4% NMR(DMSO−d、): δ 3.75(3H,
s)、 3.82(3It、s)、 6.83(IH,
s)、 7.13(211;br、s)実施例7 実施例1と同様の操作によってシリル化反応をおこない
得られた反応液にキシレンl0m1を加え減圧下に濃縮
した。残った溶液にテトラヒドロフラン15m1を加え
てけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶物
をとり除いた。ろ液をO〜56Cに冷却し、この中にN
−ブロモコハク酸イミド890mgを少量ずつ加え、同
温度で30分間かくはんした。5%炭酸水素ナトリウム
水溶液10m1ずつで2回洗浄し、さらに10%食塩水
10m1で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
得られた反応液にキシレンlomlを加え減圧下に濃縮
した。残った溶液にヘキサン15m1を加えてけんだく
液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶物をとり除い
た。ろ液を一30°Cに冷却し、臭素0.8gを塩化メ
チレン2mlに溶解した溶液を反応液が赤かっ色に着色
し始めるまで滴下した。水10m1を加えて10分間か
くはん後分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し減圧濃縮した。残った溶液にテトラヒドロフラン10
m1を加え、つづいてこの中にチオ尿素761mgと酢
酸ナトリウム3水和物2.04gを水10m1に溶ul
す−i+aメーhn+’)n〜’)c、”(’IQnI
A社!Q’+zどはんした。酢酸エチル10m1ずつで
抽出を2回おこない、合わけた抽出有機層を5%炭酸水
素ナトリウム水溶液10m1.水10m1で順次洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮をおこな
い、析出物をろ過により集め少量(2ml)のキシレン
で洗浄後、減圧乾燥して2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸メチルの
結晶性粉末875Bを得た。収率81.4% NMR(DMSO−d、): δ 3.75(3H,
s)、 3.82(3It、s)、 6.83(IH,
s)、 7.13(211;br、s)実施例7 実施例1と同様の操作によってシリル化反応をおこない
得られた反応液にキシレンl0m1を加え減圧下に濃縮
した。残った溶液にテトラヒドロフラン15m1を加え
てけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶物
をとり除いた。ろ液をO〜56Cに冷却し、この中にN
−ブロモコハク酸イミド890mgを少量ずつ加え、同
温度で30分間かくはんした。5%炭酸水素ナトリウム
水溶液10m1ずつで2回洗浄し、さらに10%食塩水
10m1で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧濃縮をおこない、残留物にテトラヒドロフランl0
m1を加え、この中にチオ尿素761mgと酢酸ナトリ
ウム3水和物2.04gを水10m1に溶解した溶液を
加え、20〜25℃で30分間かくはんした。以後は実
施例6と同様の後処理をおこない2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸
メチルの結晶性粉末825mgを得た。収率76.7% 本品のNMRスペクトルは実施例6で得られたしのと一
致した。
m1を加え、この中にチオ尿素761mgと酢酸ナトリ
ウム3水和物2.04gを水10m1に溶解した溶液を
加え、20〜25℃で30分間かくはんした。以後は実
施例6と同様の後処理をおこない2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸
メチルの結晶性粉末825mgを得た。収率76.7% 本品のNMRスペクトルは実施例6で得られたしのと一
致した。
実施例8
実施例1と同様の操作によってシリル化反応をおこない
得られた反応液にキシレンlQmLを加え−減圧下に濃
縮した。残った溶液にテトラヒドロフラン15m1を加
えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶
物をとり除いた。ろ液を一306Cに冷却しこの中に塩
化スルフリル0.45m1を滴下し、20°Cまで昇温
した。減圧濃縮し、残留物のうちタール状物質を除いた
上澄み液にテトラヒドロフラン30m1を加え、この中
にチオ尿素761mgと酢酸ナトリウム3永和物2.0
4gを水30m1に溶解した溶液を加えて50〜60℃
に加温して4時間かくはんした。20℃に冷却後、実施
例6と同様の後処理をおこない2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸メ
チルの結晶性粉末850mgを得た。
得られた反応液にキシレンlQmLを加え−減圧下に濃
縮した。残った溶液にテトラヒドロフラン15m1を加
えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶
物をとり除いた。ろ液を一306Cに冷却しこの中に塩
化スルフリル0.45m1を滴下し、20°Cまで昇温
した。減圧濃縮し、残留物のうちタール状物質を除いた
上澄み液にテトラヒドロフラン30m1を加え、この中
にチオ尿素761mgと酢酸ナトリウム3永和物2.0
4gを水30m1に溶解した溶液を加えて50〜60℃
に加温して4時間かくはんした。20℃に冷却後、実施
例6と同様の後処理をおこない2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸メ
チルの結晶性粉末850mgを得た。
収率79.1%
本島NMRスペクトルは実施例6で得られたものと一致
した。
した。
実施例9
2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸tert−ブチル
1.00gをアセトニトリル15m1に溶解し、この中
にトリエチルアミン2.1mlを加えつづいてクロロト
リエチルシラン1.9mlを水冷下に滴下し、20〜2
5℃で1.5時間かくはんしてシリル化反応をおこなっ
た。反応液を減圧下に濃縮し、残留物にヘキサン15m
1を加えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過し
て不溶物をとり除いた。ろ液を一30℃に冷却し、この
中に臭素0.8gを塩化メチレン2mlに溶解した溶液
を反応液が赤かっ色に着色し始めるまで滴下した。水1
0m1を加えてしばらくかくはん後分液し、有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物に
トリフルオロ酢酸10m1を加え、20〜25℃で40
分間かくはんして脱エステル化反応をおこなった後、減
圧下にaraシた。四塩化炭素3mlより濃縮物の結晶
化をおこない、結晶をろ取し減圧乾燥して4−ブロモ−
2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸の結晶性粉末78
5mgを得た。収率70.5% NMR(CD CI*): δ 4.19(3H,s
)、 4J9(2H,s)、 9.4(IH,br、5
)l)N+I R(KBr): 2930.1735
.1710.1595.1045cm″″1元素分析(
c、H,NO4Brとして)計算値:C26,81%、
H2,70%、N 6.25%測定値・C27,16%
、H2,61%、N 6.37%実施例1O 実施例9と同様の操作によってシリル化反応をおこない
得られた反応液にキシレン10m1を加え減圧下に濃縮
した。残った溶液にテトラヒドロフラン15m1を加え
てけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶物
をとり除いた。ろ液を一30℃に冷却し、この中に塩化
スルフリル0゜405m1を滴下し20℃まで昇温した
。減圧濃縮し残留物のうちタール状物質を除いた上澄み
液に、水冷下においてトリフルオロ酢酸LO+nlを加
え、20〜25℃で40分間かくはんした。減圧濃縮し
残った溶液に水20m1を加え、20%水酸化ナトリウ
ム水溶液を滴下してpHを9.0にした。塩化メチレン
20mLずつで2回洗浄をおこない、分液した水層に濃
塩酸を滴下してpHを0.5にした。
1.00gをアセトニトリル15m1に溶解し、この中
にトリエチルアミン2.1mlを加えつづいてクロロト
リエチルシラン1.9mlを水冷下に滴下し、20〜2
5℃で1.5時間かくはんしてシリル化反応をおこなっ
た。反応液を減圧下に濃縮し、残留物にヘキサン15m
1を加えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過し
て不溶物をとり除いた。ろ液を一30℃に冷却し、この
中に臭素0.8gを塩化メチレン2mlに溶解した溶液
を反応液が赤かっ色に着色し始めるまで滴下した。水1
0m1を加えてしばらくかくはん後分液し、有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物に
トリフルオロ酢酸10m1を加え、20〜25℃で40
分間かくはんして脱エステル化反応をおこなった後、減
圧下にaraシた。四塩化炭素3mlより濃縮物の結晶
化をおこない、結晶をろ取し減圧乾燥して4−ブロモ−
2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸の結晶性粉末78
5mgを得た。収率70.5% NMR(CD CI*): δ 4.19(3H,s
)、 4J9(2H,s)、 9.4(IH,br、5
)l)N+I R(KBr): 2930.1735
.1710.1595.1045cm″″1元素分析(
c、H,NO4Brとして)計算値:C26,81%、
H2,70%、N 6.25%測定値・C27,16%
、H2,61%、N 6.37%実施例1O 実施例9と同様の操作によってシリル化反応をおこない
得られた反応液にキシレン10m1を加え減圧下に濃縮
した。残った溶液にテトラヒドロフラン15m1を加え
てけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶物
をとり除いた。ろ液を一30℃に冷却し、この中に塩化
スルフリル0゜405m1を滴下し20℃まで昇温した
。減圧濃縮し残留物のうちタール状物質を除いた上澄み
液に、水冷下においてトリフルオロ酢酸LO+nlを加
え、20〜25℃で40分間かくはんした。減圧濃縮し
残った溶液に水20m1を加え、20%水酸化ナトリウ
ム水溶液を滴下してpHを9.0にした。塩化メチレン
20mLずつで2回洗浄をおこない、分液した水層に濃
塩酸を滴下してpHを0.5にした。
水層に塩化ナトリウムを飽和するまで加え、エーテル2
0m1ずつで抽出を3回おこない、合わせた抽出有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。混合比
3:2の四塩化炭素−塩化メチレン混液5mlより濃縮
物の結晶化をおこない、結晶をろ取し減圧乾燥して4−
クロロ−2−メトキンイミノ−3−オキソ酪酸の結晶性
粉末670ml(を得た。収率75.1% NMR(CD 013): δ 4.23(3H,s
)、 4.65(2H,s)、 9.1(18,br、
s)ppm IR(KBr): 3000.1730.1705.
1600.104104O’元素分析(CsHaNO,
CIとして)計算値:C33,45%、H3,37%、
N 7.80%測定値:C33,:11%、H3,30
%、N 7.95%実施例2 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸725mgをアセ
トニトリル15alに溶解し、この中にトリエチルアミ
ン2.8mlを加えつづいてクロロトリメチルシラン2
.5mlを水冷下に滴下し、20〜25°Cで2時間か
くはんした。この中にキンレン10m1を加え減圧下に
濃縮し、残った溶液にテトラヒドロフラン15m1を加
えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶
物をとり除いた。
0m1ずつで抽出を3回おこない、合わせた抽出有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。混合比
3:2の四塩化炭素−塩化メチレン混液5mlより濃縮
物の結晶化をおこない、結晶をろ取し減圧乾燥して4−
クロロ−2−メトキンイミノ−3−オキソ酪酸の結晶性
粉末670ml(を得た。収率75.1% NMR(CD 013): δ 4.23(3H,s
)、 4.65(2H,s)、 9.1(18,br、
s)ppm IR(KBr): 3000.1730.1705.
1600.104104O’元素分析(CsHaNO,
CIとして)計算値:C33,45%、H3,37%、
N 7.80%測定値:C33,:11%、H3,30
%、N 7.95%実施例2 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸725mgをアセ
トニトリル15alに溶解し、この中にトリエチルアミ
ン2.8mlを加えつづいてクロロトリメチルシラン2
.5mlを水冷下に滴下し、20〜25°Cで2時間か
くはんした。この中にキンレン10m1を加え減圧下に
濃縮し、残った溶液にテトラヒドロフラン15m1を加
えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶
物をとり除いた。
この2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸トリメチルシ
リルのトリメチルシリルエノールエーテル(即ち、2−
メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブ
テン酸トリメチルシリル)を含んでいるろ液−30℃に
冷却し、この中に塩化スルフリル0.45m1を滴下し
20℃まで昇温した。減圧濃縮し残った溶液に水20m
1を加え、10分間かくはんしてトリメチルシリルエス
テルの加水分解をおこない2規定水酸化ナトリウム水溶
液を滴下してp)(を9.0にした。塩化メチレン20
m1ずつで2回洗浄をおこない、水層に濃塩酸を滴下し
てpHを0.5にした。塩化ナトリウムを飽和するまで
水層に加え、エーテル20m1ずつで抽出を3回おこな
い合わせた抽出有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下に濃縮をおこない4−クロロ−2−メトキシ
イミノ−3−オキソ酪酸を得た。
リルのトリメチルシリルエノールエーテル(即ち、2−
メトキシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブ
テン酸トリメチルシリル)を含んでいるろ液−30℃に
冷却し、この中に塩化スルフリル0.45m1を滴下し
20℃まで昇温した。減圧濃縮し残った溶液に水20m
1を加え、10分間かくはんしてトリメチルシリルエス
テルの加水分解をおこない2規定水酸化ナトリウム水溶
液を滴下してp)(を9.0にした。塩化メチレン20
m1ずつで2回洗浄をおこない、水層に濃塩酸を滴下し
てpHを0.5にした。塩化ナトリウムを飽和するまで
水層に加え、エーテル20m1ずつで抽出を3回おこな
い合わせた抽出有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下に濃縮をおこない4−クロロ−2−メトキシ
イミノ−3−オキソ酪酸を得た。
実施例12
2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795n+
gをアセトニトリル15m1に溶解し、この中にトリエ
チルアミン2 、1 mlを加えつづいてクロロトリメ
チルシラン1.9mlを水冷下に滴下し20〜25℃で
1時間かくはんしてシリル化反応をおこなった。反応液
を減圧下に濃縮した。残留物に四塩化炭素10m1を加
えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶
物をとり除いた。
gをアセトニトリル15m1に溶解し、この中にトリエ
チルアミン2 、1 mlを加えつづいてクロロトリメ
チルシラン1.9mlを水冷下に滴下し20〜25℃で
1時間かくはんしてシリル化反応をおこなった。反応液
を減圧下に濃縮した。残留物に四塩化炭素10m1を加
えてけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過して不溶
物をとり除いた。
減圧下にろ液の濃縮をおこない2−メトキシイミノ−3
−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸メチルの油状
物1.00gを得た。収率86.5%NMR(CC1,
): δ 0.21(9H,s)、 3.85(38
,s)。
−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン酸メチルの油状
物1.00gを得た。収率86.5%NMR(CC1,
): δ 0.21(9H,s)、 3.85(38
,s)。
3.98(38,s)、 4.63(2H,br、s)
ppm実施例13 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795mg
の代りに2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸tert
−ブチル1.06gを用いた以外は実施例12と同様の
操作をおこない、2−メトキシイミノ−3−トリメチル
シリルオキシ−3−ブテン酸tert−ブチルの油状物
1.27gを得た。収率88゜2% NMR(CCl、): δ 0.22(9H,s)、
3.93(3H,s)。
ppm実施例13 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795mg
の代りに2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸tert
−ブチル1.06gを用いた以外は実施例12と同様の
操作をおこない、2−メトキシイミノ−3−トリメチル
シリルオキシ−3−ブテン酸tert−ブチルの油状物
1.27gを得た。収率88゜2% NMR(CCl、): δ 0.22(9H,s)、
3.93(3H,s)。
4.58と4.64(211,ABq、J=2Hz)I
)pm実施例14 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795mg
とヨウ化ナトリウム2.25gをアセトニトリル20m
1に溶解し、この中にトリエチルアミン2 、 l m
lを加えつづいてtert−プチルンメチルクロロンラ
ン1.13gをアセトニトリル10m1に溶かした溶液
を滴下し6.5時間還流をおこなった。
)pm実施例14 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795mg
とヨウ化ナトリウム2.25gをアセトニトリル20m
1に溶解し、この中にトリエチルアミン2 、 l m
lを加えつづいてtert−プチルンメチルクロロンラ
ン1.13gをアセトニトリル10m1に溶かした溶液
を滴下し6.5時間還流をおこなった。
減圧濃縮し残留物にヘキサン20m1と水20m1を加
えて溶解後置液し、有機層を5%炭酸水素ナトリウム2
0 ml、 l規定塩酸20m1.水20m1にて順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。
えて溶解後置液し、有機層を5%炭酸水素ナトリウム2
0 ml、 l規定塩酸20m1.水20m1にて順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付しヘ
キサン−エーテル混液(5:l V/V)100ml
で溶出し、フラクションを減圧濃縮して3−tert−
ブチルジメチルシリルオキシ−2−メトキシイミノ−3
−ブテン酸メチルの油状物を得た。
キサン−エーテル混液(5:l V/V)100ml
で溶出し、フラクションを減圧濃縮して3−tert−
ブチルジメチルシリルオキシ−2−メトキシイミノ−3
−ブテン酸メチルの油状物を得た。
NMR(CD CI3): δ O,1K611.s
)、 0.93(9H,s)、 3.85(3H,s)
、 3.96(3H9s)、4.67(2H,s)pp
m実施例15 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795Bの
代りに2−エトキシカルボニルメトキンイミノ−3−オ
キソ酪酸tert−ブヂル1.37gを用いた以外は実
施例2と同様の操作をおこない、4−クロロ−2−エト
キシカルボニルメトキシイミノ−3−オキソ酪酸ter
t−ブチルの無色油状物1.33gを得た。収率86.
2% N M R(CD CI3): δ IJI(311
,t、J=7Hz)、 i。
)、 0.93(9H,s)、 3.85(3H,s)
、 3.96(3H9s)、4.67(2H,s)pp
m実施例15 2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸メチル795Bの
代りに2−エトキシカルボニルメトキンイミノ−3−オ
キソ酪酸tert−ブヂル1.37gを用いた以外は実
施例2と同様の操作をおこない、4−クロロ−2−エト
キシカルボニルメトキシイミノ−3−オキソ酪酸ter
t−ブチルの無色油状物1.33gを得た。収率86.
2% N M R(CD CI3): δ IJI(311
,t、J=7Hz)、 i。
56(911,s)、 4.27(2H,q、J=71
1z)、 4.54(2H,s)、 4.76(2H,
s)I)pm 実施例16 2−ヒドロキソイミノ−3−オキソ酪酸tert−ブチ
ル1.07gをアセトニトリル15+nlに溶解し、こ
の中にトリエチルアミン2 、8 mlを加えつづいて
クロロトリメチルシラン25m1を水冷下に滴下し、2
0〜25°Cで1.5時間かくはんした。
1z)、 4.54(2H,s)、 4.76(2H,
s)I)pm 実施例16 2−ヒドロキソイミノ−3−オキソ酪酸tert−ブチ
ル1.07gをアセトニトリル15+nlに溶解し、こ
の中にトリエチルアミン2 、8 mlを加えつづいて
クロロトリメチルシラン25m1を水冷下に滴下し、2
0〜25°Cで1.5時間かくはんした。
減圧下に濃縮し残った溶液にテトラヒドロフラン15m
1を加え゛てけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過
して不溶物をとり除いた。この2−トリメチルシリルオ
キシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン
酸tert−ブチルを含んでいるる液を一30°Cに冷
却し、この中に塩化スルフリル0.46m1を滴下し2
0℃まで昇温した。減圧濃縮後ンリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、ヘキサ:/ −ニー7− ル混液
(1: l Y/’/)lQQmlで溶出し、フラク
ションを減圧濃縮して4−クロロ−2−ヒドロキシイミ
ノ−3−オキソ酪酸tert−ブチルの無色油状物1.
08gを得た。収率85゜2% NMR(CDCl2): δ 1.51(9H,s)
、 4.50(2H,s)99m 参考例1 (1)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪
酸2.02gを塩化メチレン15m1に溶解し、0〜5
℃で五塩化リン2.06gを少量ずつ加えた。
1を加え゛てけんだく液とし、これを窒素気流中でろ過
して不溶物をとり除いた。この2−トリメチルシリルオ
キシイミノ−3−トリメチルシリルオキシ−3−ブテン
酸tert−ブチルを含んでいるる液を一30°Cに冷
却し、この中に塩化スルフリル0.46m1を滴下し2
0℃まで昇温した。減圧濃縮後ンリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、ヘキサ:/ −ニー7− ル混液
(1: l Y/’/)lQQmlで溶出し、フラク
ションを減圧濃縮して4−クロロ−2−ヒドロキシイミ
ノ−3−オキソ酪酸tert−ブチルの無色油状物1.
08gを得た。収率85゜2% NMR(CDCl2): δ 1.51(9H,s)
、 4.50(2H,s)99m 参考例1 (1)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪
酸2.02gを塩化メチレン15m1に溶解し、0〜5
℃で五塩化リン2.06gを少量ずつ加えた。
同温度で5分間かくはんし20〜25℃でさらに1時間
かくはんしたのち減圧濃縮した。残留物にヘキサン20
m1を加えてしばらくかくはん後、静置し上澄液を減圧
濃縮して4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸クロリドの油状物2゜1gを得た。収率96% NMR(CD CI3 ): δ 4.18(3H,
s)、 4.29(2H。
かくはんしたのち減圧濃縮した。残留物にヘキサン20
m1を加えてしばらくかくはん後、静置し上澄液を減圧
濃縮して4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸クロリドの油状物2゜1gを得た。収率96% NMR(CD CI3 ): δ 4.18(3H,
s)、 4.29(2H。
s)ppm
(2)7β−アミノ−3−(l−メチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸1.64gと炭酸水素ナトリウム1.6 sg
を水50m1とテトラヒドロフラン35m1の混合溶媒
に溶解した。この中に4−ブロモ−2−メトキシイミノ
−3−オキソ酪酸クロリド2゜1gをテトラヒドロフラ
ン!5mlに溶解した溶液を加えて20〜25℃で5分
間かくはんしたのち、チオ尿素1.52gを水20m1
に溶解した溶液を加えて同温度で1時間かくはんした。
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸1.64gと炭酸水素ナトリウム1.6 sg
を水50m1とテトラヒドロフラン35m1の混合溶媒
に溶解した。この中に4−ブロモ−2−メトキシイミノ
−3−オキソ酪酸クロリド2゜1gをテトラヒドロフラ
ン!5mlに溶解した溶液を加えて20〜25℃で5分
間かくはんしたのち、チオ尿素1.52gを水20m1
に溶解した溶液を加えて同温度で1時間かくはんした。
20%炭酸ナトリウム水溶液を加えてpHを7.0にし
、減圧濃縮後ダイヤイオンHP−40(三菱化成社製)
のカラムクロマトグラフィーに付し、水とイソプロピル
7 /L/ :lI−At (7)混液(9: I
V/V)400 mlテ溶出した。フラクションを凍結
乾燥して7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3
−(+−メチル−1F■−テトラゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボン酸のナトリウム
塩235gを得た。収率882% 高速液体クロマトグラフィーによる定量により(E)−
異性体の量は(Z)−異性体の1%以下であった。
、減圧濃縮後ダイヤイオンHP−40(三菱化成社製)
のカラムクロマトグラフィーに付し、水とイソプロピル
7 /L/ :lI−At (7)混液(9: I
V/V)400 mlテ溶出した。フラクションを凍結
乾燥して7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3
−(+−メチル−1F■−テトラゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボン酸のナトリウム
塩235gを得た。収率882% 高速液体クロマトグラフィーによる定量により(E)−
異性体の量は(Z)−異性体の1%以下であった。
N M n (D t O) : δ 3.43と3
.79(2)1.ABq、J= t811z)、 3
.95(3H,s)、 3.98(3H,s)、
4.02と4J2(2+1.ABq、J=14Hz)、
5.13(lH,d、J=5Hz)、 5.72(I
H,d、J=5tlz)、 6.92(IH,s)pp
m参考例2 7β−アミノ−3−(1,,2,3−チアジアゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
1.65gを用いて参考例1(2)と同様の操作をおこ
ない、7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
’)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3
−(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸のナトリウム塩2.
24gを得た。収率83.8% 高速液体クロマトグラフィーによる定量により(E)−
異性体の量は(Z)−異性体の1%以下であった。
.79(2)1.ABq、J= t811z)、 3
.95(3H,s)、 3.98(3H,s)、
4.02と4J2(2+1.ABq、J=14Hz)、
5.13(lH,d、J=5Hz)、 5.72(I
H,d、J=5tlz)、 6.92(IH,s)pp
m参考例2 7β−アミノ−3−(1,,2,3−チアジアゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
1.65gを用いて参考例1(2)と同様の操作をおこ
ない、7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
’)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3
−(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸のナトリウム塩2.
24gを得た。収率83.8% 高速液体クロマトグラフィーによる定量により(E)−
異性体の量は(Z)−異性体の1%以下であった。
N M R(D 20 ) : δ 3.37と3.
72(2H,ABq、J = 18Hz)、 3.9
5(3H,s)、 3.92と4.33(2+1.A
Bq、J= 14Hz)。
72(2H,ABq、J = 18Hz)、 3.9
5(3H,s)、 3.92と4.33(2+1.A
Bq、J= 14Hz)。
5.13(II、d、J=5Hz)、 5.71(I
H,d、J=511z)、 6.92(IH,s)、
8.59(IH,s)ppm[発明の効果] 本発明方法により目的物(1)が工業的に有利に製造さ
れるので、本発明は目的物(1)を合成中間体とする最
終目的物の工業的製法における合成中間体(I)の供給
をより有利に行うことができろ。
H,d、J=511z)、 6.92(IH,s)、
8.59(IH,s)ppm[発明の効果] 本発明方法により目的物(1)が工業的に有利に製造さ
れるので、本発明は目的物(1)を合成中間体とする最
終目的物の工業的製法における合成中間体(I)の供給
をより有利に行うことができろ。
Claims (3)
- (1)2−置換オキシイミノ−3−シリルオキシ−3−
ブテン酸のエステルまたはアミドにハロゲン化剤を反応
させることを特徴とする、4−ハロゲノ−2−置換オキ
シイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミドの製
造法。 - (2)2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸またはそ
のエステルあるいはアミドとシリル化剤とを反応させ、
得られる2−置換オキシイミノ−3−シリルオキシ−3
−ブテン酸のエステルまたはアミドにハロゲン化剤を反
応させることを特徴とする、4−ハロゲノ−2−置換オ
キシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミドの
製造法。 - (3)2−置換オキシイミノ−3−シリルオキシ−3−
ブテン酸のエステルまたはアミド。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61116673A JPH0830051B2 (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミドの製造法 |
US07/050,332 US4845257A (en) | 1986-05-21 | 1987-05-18 | 4-halogeno-2-oxyimino-3-oxobutyric acids and derivatives |
DE8787107226T DE3783270T2 (de) | 1986-05-21 | 1987-05-19 | 4 halogen-2-oxyimino-3-oxo-buttersaeure. |
AT87107226T ATE84023T1 (de) | 1986-05-21 | 1987-05-19 | 4 halogen-2-oxyimino-3-oxo-buttersaeure. |
EP87107226A EP0246603B1 (en) | 1986-05-21 | 1987-05-19 | 4-halogeno-2-oxyimino-3-oxobutyric acids |
ES87107226T ES2052511T3 (es) | 1986-05-21 | 1987-05-19 | Acidos 4-halogeno-2-oxiimino-3-oxobutiricos. |
CA000537532A CA1295334C (en) | 1986-05-21 | 1987-05-20 | 4-halogeno-2-oxyimino-3-oxobutyric acids |
CN87103668A CN1014408B (zh) | 1986-05-21 | 1987-05-20 | 制备4-卤代-2-羟亚氨基-3-氧代丁酸的方法 |
HU872281A HU197560B (en) | 1986-05-21 | 1987-05-21 | Process for producing 4-halogen-2-(oxyimino)-3-oxobutyric acid derivatives |
KR870005048A KR870011080A (ko) | 1986-05-21 | 1987-05-21 | 4-할로게노-2-옥시이미노-3-옥소부티르산류의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61116673A JPH0830051B2 (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミドの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62273945A true JPS62273945A (ja) | 1987-11-28 |
JPH0830051B2 JPH0830051B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=14693058
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61116673A Expired - Lifetime JPH0830051B2 (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミドの製造法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4845257A (ja) |
EP (1) | EP0246603B1 (ja) |
JP (1) | JPH0830051B2 (ja) |
KR (1) | KR870011080A (ja) |
CN (1) | CN1014408B (ja) |
AT (1) | ATE84023T1 (ja) |
CA (1) | CA1295334C (ja) |
DE (1) | DE3783270T2 (ja) |
ES (1) | ES2052511T3 (ja) |
HU (1) | HU197560B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4959495A (en) * | 1986-07-28 | 1990-09-25 | American Cyanamid Company | Process for the preparation of intermediates used to produce aminothiazoloximino cephalosporins |
DE3809845A1 (de) * | 1988-03-24 | 1989-10-12 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von 4-halo-3-oxo-2-alkoxyiminobuttersaeureestern |
KR0145352B1 (ko) * | 1994-05-28 | 1998-07-15 | 김은영 | (+)2-벤조일-3-(실릴옥시프로피-2(s)-일)아미노 아크릴레이트 유도체 및 그 제조방법 |
US5912377A (en) * | 1995-06-05 | 1999-06-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aromatic cyanate ester silane coupling agents |
JPH11307604A (ja) | 1998-04-17 | 1999-11-05 | Toshiba Corp | プロセスモニタ方法及びプロセス装置 |
IN192139B (ja) | 2001-11-26 | 2004-02-21 | Lupin Ltd |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3560543A (en) * | 1968-02-19 | 1971-02-02 | Dow Corning | Polyimino organosilicon compounds |
GB1400713A (en) * | 1971-09-29 | 1975-07-23 | Dow Corning Ltd | Organosilicon compounds |
US3856848A (en) * | 1973-12-26 | 1974-12-24 | Lilly Co Eli | Process for preparing a protected arginine |
JPS5498795A (en) * | 1978-01-13 | 1979-08-03 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephalosporin derivative and its preparation |
GB2023583B (en) * | 1978-02-15 | 1982-07-28 | Fujisawa Pharmaceutical Co | 3,7-disubstituted 3- cephem-4-carboxylic acid compounds and processes for the preparation thereof |
EP0009671B1 (en) * | 1978-09-12 | 1984-06-13 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Starting compounds for preparing cephem compounds and processes for their preparation |
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JPS5936684A (ja) * | 1982-08-24 | 1984-02-28 | Shionogi & Co Ltd | 1−オキサセフアム化合物の製造方法 |
GB8322317D0 (en) * | 1983-08-18 | 1983-09-21 | Dow Corning Ltd | Organosilicon compounds |
JPH0662635B2 (ja) * | 1984-04-26 | 1994-08-17 | 富山化学工業株式会社 | セフアロスポリン類の新規製造法 |
GB2161476B (en) * | 1984-05-25 | 1988-01-27 | Toyama Chemical Co Ltd | 2-aminothiazolyl-2-methoxyimino acetamides and their use in preparing cephalosporins |
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US4709067A (en) * | 1986-05-20 | 1987-11-24 | Union Carbide Corporation | Method for preparing methacryloxy and acryloxy containing organosilanes and organosilicones |
-
1986
- 1986-05-21 JP JP61116673A patent/JPH0830051B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-05-18 US US07/050,332 patent/US4845257A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-05-19 AT AT87107226T patent/ATE84023T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-05-19 EP EP87107226A patent/EP0246603B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-19 DE DE8787107226T patent/DE3783270T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-05-19 ES ES87107226T patent/ES2052511T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-20 CN CN87103668A patent/CN1014408B/zh not_active Expired
- 1987-05-20 CA CA000537532A patent/CA1295334C/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-21 HU HU872281A patent/HU197560B/hu not_active IP Right Cessation
- 1987-05-21 KR KR870005048A patent/KR870011080A/ko not_active Application Discontinuation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN87103668A (zh) | 1988-04-13 |
HU197560B (en) | 1989-04-28 |
ATE84023T1 (de) | 1993-01-15 |
JPH0830051B2 (ja) | 1996-03-27 |
US4845257A (en) | 1989-07-04 |
EP0246603B1 (en) | 1992-12-30 |
CA1295334C (en) | 1992-02-04 |
EP0246603A3 (en) | 1989-09-27 |
HUT45006A (en) | 1988-05-30 |
EP0246603A2 (en) | 1987-11-25 |
DE3783270D1 (en) | 1993-02-11 |
CN1014408B (zh) | 1991-10-23 |
ES2052511T3 (es) | 1994-07-16 |
DE3783270T2 (de) | 1993-04-29 |
KR870011080A (ko) | 1987-12-19 |
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