JPS62270768A

JPS62270768A - 真空成膜装置

Info

Publication number: JPS62270768A
Application number: JP11071186A
Authority: JP
Inventors: Shoji Kawakubo; 川窪　鐘治; Hiromi Isomae; 磯前　博巳; Jun Yamada; 純山田; Akitsuna Yuhara; 章綱湯原; Atsushi Sasaki; 淳佐々木
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1986-05-16
Filing date: 1986-05-16
Publication date: 1987-11-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】五　発明の詳細な説明〔産業上の利用分野〕本発明は、電子ビーム蒸着装置、真空蒸着装置、スパッ
タ蒸着装置等の真空成膜装置に係り、より詳しくは、複
数個の基板を同時に装着可能な治具の構造に関する。

〔従来技術〕

従来よシ、半導体製造技術等の分野においては、治具に
多数の基板を装着し、各基板の表面に同時忙薄膜を真空
成膜する技術が広く用いられている。

この糧の成膜手段に適用される真空成膜装置においては
、基板を装着する治具の形状、配置、駆動方式等が適当
でないと、治具上の基板取付位置によって成膜された薄
膜の厚さに不均一を生ずる。

そこで、従来よシかかる薄膜厚さの不均一を極力小さく
押えるため、基板取付治具として、プラネタリ−治具、
斜傾型治具、回転ドーム型治具、バレル型自公転治具等
が提案されている（麻蒔立男著「薄膜作成の基礎」）。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記した公知に属する治具は、単に平板状の治具を蒸発
源と対向に配置した場合に比べ、いずれも薄膜厚さの不
均一を改善する効果が認められる。

しかしながら、これらの治具を用いた場合においても、
治具上の基板取付位置の相違に基づいては±５〜１０％
の膜厚のバラツキが認められ、１つの基板内に関しては
±１０チもの膜厚のバラツキが認められる。

±５〜１０チの膜厚のバラツキがあると、エツチングに
よって不要部分の蒸着金属を除去し、所要の回路パター
ンを形成しようとする場合、精度の高い加工をすること
ができず、製品の歩留シが低下する。

かように、従来知られている真空成膜装置は、実用上充
分だ均一な厚さの薄膜を形成することができず、半導体
等の歩留りの向上を防げている。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上記した従来技術の問題点を解消し、均一な
厚さの薄膜を成膜可能な真空成膜装置を提供するため、
個々の基板を装着する基板取付部材とこれら複数個の基
板取付部材を回転自在に保持する治具本体とから治具を
構成し、これら基板取付部材と治具本体とをそれぞれ独
立に回転駆動するようにしたことを特徴とするものであ
る。

〔作用〕

本発明に係る真空成膜装置は、治具本体のみならず各基
板を装着する基板取付部材を回転駆動するようにしたの
で、基板が蒸発物質中を移動する距離が大きくな）、そ
の分だけ、膜厚の均一性が向上する。

〔実施例〕

以下、本発明の第１実施例を第１図乃至第３図に基づい
て説明する。

第１図は第１実施例の真空成膜装置に適用される治具の
平面図、第２図は第１図のＡ−Ａ断面図であって、１は
治具本体、２は治具本体１の中央部に固設された回転主
軸、３は上記治具本体１の周面の図示しない蒸発源側に
回転自在洗取シ付けられた複数個の基板取付部材、４は
上記回転主軸２から動力の伝達を受けて回転する中間軸
を示している。

上記回転主軸２は、図示しない駆動源とベルトあるいは
チェーンなどの動力伝達機構５を介して接続されておシ
、当該図示しない駆動源の回転駆動に伴って回転される
。

また、上記回転主軸２には、第３図に詳細に示すように
、例えばゴムローラの如き摩擦車６が設定されておシ、
上記中間軸４にはこれと接動する摩擦車７が設定されて
いる。従って、上記中間軸４は、回転主軸２の回転に伴
って回転駆動される。

上記中間軸４及び基板取付部材３を上記治具本体１に回
転自在に取シ付ける回転軸８には、プーリあるいはスプ
ロケット等の動力伝達機構９が取シ付けられておシ、上
記中間軸４の動力伝達機構９と１つの回転軸８の動力伝
達機構９との間、及び相隣接する回転軸８の動力伝達機
構９間に、例えばベルトあるいはチェーンなどの動力伝
達部材１０が巻回されている。

上記のように構成された第１実施例の治具は、図示外の
駆動源を回転すると、動力伝達機構５、回転主軸２を介
して治具本体１が回転駆動され、これに伴って基板取付
部材３が回転主軸２の回シを公転する。また、回転主軸
２の回転に伴って、摩擦車６．７を介して中間軸４が回
転され、さらに動力伝達機構９．９及び動力伝達部材１
ｏを介して各基板取付部材３が自転される。

尚、上記第１実施例においては、回転主軸２と中間軸４
との動力伝達機構として、摩擦車６，７を用いた場合に
ついて説明したが、本発明の要旨はこれに限定されるも
のではなく、第４図に示すように１歯車１１．１２を用
いることもできる。

次に、本発明の第２実施例を第５図乃至第７図に基づい
て説明する。

第５図は第２実施例の真空成膜装置に適用される治具の
平面図、第６図は第５図のＢ−Ｂ断面図であって、１３
は例えばゴムリングの如き摩擦輪、１４は上記摩擦輪を
固定する固定部材、１５は上記摩擦輪１３と接動する摩
擦車を示し、その仙薬１図及び第２図に示したと同様の
部材についてはこれと同一の符号をもって表示されてい
る。

上記摩擦輪１３は、上記固定部材１４によって治具本体
１の図示しない蒸発源とは反対側の面に固定される。ま
た、摩擦車１５は各基板取付部材３の回転軸８に個別に
固着されておシ、上記摩擦輪１３の内面に密接される。

上記のように構成された第２実施例の治具は、図示外の
駆動源を回転すると、動力伝達機構５、回転主軸２を介
して治具本体１が回転駆動され、これに伴って基板取付
部材３が回転主軸２の回シを公転する。また、摩擦輪１
３が治具本体１と一体に回転するので、これに密接され
た摩擦車１５が摩擦輪１とは反対方向に回転され、各基
板取付部材３が回転軸８の回シを自転する。

尚、上記第２実施例においては、治具本体１と回転軸８
の動力伝達機構として、摩擦輪１３及び摩擦車１５を用
いた場合について説明したが、本発明の要旨はこれに限
定されるものではなく、第８図に示すように、内歯歯車
１６とこれに噛み合うビニオン１７を用いることもでき
る。

また、上記各実施例においては、駆動源と回転主軸２と
の間、及び回軸主軸２又は治具本体１と基板取付部材３
の回転軸８との間をベルト等の動力伝達部材をもって直
接接続するようにした場合について説明したが、本発明
の要旨はこれに限定されるものではなく、各動力伝達部
材の間に、例えば無段変速機等の変速機構を設定し、上
記回転主軸２及び回転軸８の回転速度を適宜変更できる
ようにすることもできる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の真空成膜装置は、基板取
付部材を回転主軸の回シに公転すると共に回転軸の回シ
に自転するようにした治具を備えたので、蒸発物質中を
移動する基板の移動量が犬きくなり、その分だけ均一な
膜厚の薄膜を成膜することができる。

【図面の簡単な説明】

添付の図面は本発明の実施例図であって、第１図は第１
実施例に係る治具の平面図、第２図は第１図のＡ−Ａ断
面図、第３図は回転主軸と中間軸との動力伝達機構の一
例を示す斜視図、第４図は回転主軸と中間軸との動力伝
達機構の他の例を示す斜視図、第５図は第２実施例に係
る治具の平面図、第６図は第５図のＢ−Ｂ断面図、第７
図は回転輪と回転軸との動力伝達機構の一例を示す斜視
図、第８図は回転輪と回転軸との動力伝達機構の他の例
を示す斜視図である。１・・・治具本体２・・・回転主軸３・・・基板取付部材４・・・中間軸５・・・動力伝達機構６．７・・・摩擦車８・・・回転軸９・・・動力伝達機構１０・・・動力伝達部材１１．１２・・・歯車１６・・・摩擦輪１４・・・固定部材１５・・・摩擦車１６・・・内歯歯車１７・・・ピニオン。昆４図第３　図

Claims

【特許請求の範囲】１、複数個の基板を同時に装着可能な治具を備えた真空
成膜装置において、上記治具を、個々の基板を装着する
基板取付部材とこれら複数個の基板取付部材を回転自在
に保持する治具本体とから構成し、上記各基板取付部材
及び治具本体を個別に回転駆動可能な回転機構を備えた
ことを特徴とする真空成膜装置。２、特許請求の範囲第１項記載の真空成膜装置において
、各基板取付部材及び治具本体を個別に回転駆動する回
転機構の回転速度を任意に調整できるようにしたことを
特徴とする真空成膜装置。