CN220132325U - 一种薄膜沉积装置 - Google Patents
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- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000007888 film coating Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000009501 film coating Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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Abstract
本申请公开了一种薄膜沉积装置，包括：装置主体、蒸发源、旋转组件与多个装载盘；装置主体内部设置有镀膜腔；蒸发源设置于镀膜腔的底部；旋转组件包括：旋转驱动器、外齿环、转动盘与多个内齿轮；外齿环固定于镀膜腔内的顶部；转动盘可转动设置于镀膜腔内；多个内齿轮可转动设置于转动盘上，且与外齿环的内周啮合连接；多个装载盘一一对应连接多个内齿轮，用于装载镀膜的工件；旋转驱动器设置于装置主体上，且与转动盘传动连接，用于带动转动盘转动。在旋转驱动器后，装载盘会带着工件自转的同时绕转动盘公转，进而使得膜料分子更均匀的铺设在工件上，实现为工件上的微孔侧壁和和平面上连续且均匀的镀膜，使得膜层更加连续和均匀。
Description
技术领域
本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种薄膜沉积装置。
背景技术
随着现代工业的发展需求，真空镀膜应用领域越来越广泛，诸如光学、建筑、航空航天、医疗、集成电路等。
现有的镀膜设备在镀膜时，一般是在通过旋转驱动器带动载盘往一个方向旋转，使得薄膜分子沉积在载盘上的工件表面；而这种方式会导致工件上的膜层均匀性较差，且容易出现明显的单向性。
实用新型内容
有鉴于此，本申请的目的是提供一种薄膜沉积装置，用于解决现有的镀膜设备镀膜效果较差的问题。
为达到上述技术目的，本申请提供一种薄膜沉积装置，包括：装置主体、蒸发源、旋转组件与多个装载盘；
所述装置主体内部设置有镀膜腔；
所述蒸发源设置于所述镀膜腔的底部；
所述旋转组件包括：旋转驱动器、外齿环、转动盘与多个内齿轮；
所述外齿环固定于所述镀膜腔内的顶部；
所述转动盘可转动设置于所述镀膜腔内；
多个所述内齿轮可转动设置于所述转动盘上，且与所述外齿环的内周啮合连接；
多个所述装载盘一一对应连接多个所述内齿轮，用于装载镀膜的工件；
所述旋转驱动器设置于所述装置主体上，且与所述转动盘传动连接，用于带动所述转动盘转动。
进一步地，所述内齿轮与所述装载盘分别设置于所述转动盘的上方和下方。
进一步地，所述旋转组件还包括：连接轴与轴承；
所述转动盘上设置有穿孔；
所述轴承设置于所述穿孔内；
所述连接轴穿设于所述轴承内，且顶端固定连接所述内齿轮，底端连接所述装载盘。
进一步地，所述装载盘与所述内齿轮可拆卸连接。
进一步地，所述装载盘上设置有多个镂空的装载槽；
所述装载槽内设置有用于供工件放置的托片。
进一步地，所述装载盘上的多个装载槽呈圆周均匀分布。
进一步地，所述蒸发源包括多个，且绕所述转动盘的圆心呈圆周均匀间隔分布。
进一步地，多个所述内齿轮在所述转动盘上呈圆周均匀间隔分布。
从以上技术方案可以看出，本申请提供一种薄膜沉积装置，包括：装置主体、蒸发源、旋转组件与多个装载盘；所述装置主体内部设置有镀膜腔；所述蒸发源设置于所述镀膜腔的底部；所述旋转组件包括：旋转驱动器、外齿环、转动盘与多个内齿轮；所述外齿环固定于所述镀膜腔内的顶部；所述转动盘可转动设置于所述镀膜腔内；多个所述内齿轮可转动设置于所述转动盘上，且与所述外齿环的内周啮合连接；多个所述装载盘一一对应连接多个所述内齿轮，用于装载镀膜的工件；所述旋转驱动器设置于所述装置主体上，且与所述转动盘传动连接，用于带动所述转动盘转动。
在旋转驱动器后，装载盘会带着工件自转的同时绕转动盘公转，进而使得膜料分子更均匀的铺设在工件上，实现为工件上的微孔侧壁和和平面上连续且均匀的镀膜，使得膜层更加连续和均匀，有效解决现有的镀膜设备镀膜效果较差的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本申请实施例提供的一种薄膜沉积装置的整体结构截面图；
图2为本申请实施例提供的一种薄膜沉积装置的装载盘示意图；
图3为本申请实施例提供的一种薄膜沉积装置的内齿轮与装载盘连接结构图；
图4为本申请实施例提供的一种薄膜沉积装置的转动盘示意图；
图中：1、装置主体；2、蒸发源；3、装载盘；4、旋转组件；5、工件；11、镀膜腔；31、装载槽；32、托片；41、旋转驱动器；42、外齿环；43、转动盘；44、内齿轮；45、连接轴；46、轴承。
具体实施方式
下面将结合附图对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请说明书中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请所请求保护的范围。
在本申请实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本申请实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可更换连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可依具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。
请参阅图1与图2，本申请实施例中提供的一种薄膜沉积装置，包括：装置主体1、蒸发源2、旋转组件4与多个装载盘3。
装置主体1内部设置有镀膜腔11；其中，装置主体1上可以设置有可以开闭的密封门；在密封门关闭时，可以将镀膜腔11抽气后形成密闭的真空腔体。
蒸发源2设置于镀膜腔11的底部，用于将膜料从细小颗粒加热至气化后，在真空腔体中使分子向上蒸发。
旋转组件4包括：旋转驱动器41、外齿环42、转动盘43与多个内齿轮44；外齿环42固定于镀膜腔11内的顶部；转动盘43可转动设置于镀膜腔11内；多个内齿轮44可转动设置于转动盘43上，且与外齿环42的内周啮合连接；多个装载盘3一一对应连接多个内齿轮44，用于装载镀膜的工件5；旋转驱动器41设置于装置主体1上，且与转动盘43传动连接，用于带动转动盘43转动。
具体来说，镀膜腔11中气化的膜料会覆盖在工件5上形成膜层；在镀膜过程中，启动旋转驱动器41，以旋转驱动器41带动转动盘43顺时针转动为例，转动盘43会带动内齿轮44绕转动盘43的转动中心顺时针转动；在内齿轮44绕转动盘43的转动中心顺时针转动的过程中，受外齿环42的啮合作用，内齿轮44会绕自身的轴心逆时针运动。
由于装载盘3与内齿轮44同步转动连接，因此在旋转驱动器41后，装载盘3会带着工件5一边逆时针自转，一边绕转动盘43的转动中心顺时针公转，进而使得膜料分子更均匀的铺设在工件5上，实现为工件5上的微孔侧壁和和平面上连续且均匀的镀膜，使得膜层更加连续和均匀。
在一个实施例中，内齿轮44与装载盘43分别设置于转动盘43的上方和下方。
具体来说，内齿轮44位于转动盘43上方；装载盘3位于转动盘43下方；内齿轮44与装载盘3二者同步转动连接。在蒸发源2由下往上吹出料膜分子的过程中，转动盘43可以为内齿轮44起到遮挡作用，避免料膜分子过多的覆盖在内齿轮44上。
在更具体的实施例中，请参阅图3与图4，旋转组件4还包括：连接轴45与轴承46；转动盘43上设置有穿孔；轴承46设置于穿孔内；连接轴45穿设于轴承46内，且顶端固定连接内齿轮44，底端连接装载盘3。
通过轴承46和连接轴45使得内齿轮44与装载盘43同轴转动连接。其中，装载盘3与内齿轮44可拆卸连接；在上料时，可以先将装载盘3取消后，将工件5装于装载盘3之后，再将装载盘3安装在轴承46下方。装载盘3与内齿轮44可拆卸连接的方式可以是通过螺丝与垫片连接。
在一个实施例中，请参阅图2，装载盘3上设置有多个镂空的装载槽31；装载槽31内设置有用于供工件5放置的托片32。
在上下料时，工件5可以通过吸笔吸取后放置到装载槽31上。
在另一个实施例中，装载盘3上的多个装载槽31呈圆周均匀分布；蒸发源2包括多个，且绕转动盘43的圆心呈圆周均匀间隔分布；多个内齿轮44在转动盘43上呈圆周均匀间隔分布。
圆周均匀间隔分布的装载槽31、内齿轮44和蒸发源2有助于料膜分子更均匀的进行镀膜，从而进一步提升镀膜效果。
以上为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照实例对本申请进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述实例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，但是凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种薄膜沉积装置，其特征在于，包括：装置主体(1)、蒸发源(2)、旋转组件(4)与多个装载盘(3)；
所述装置主体(1)内部设置有镀膜腔(11)；
所述蒸发源(2)设置于所述镀膜腔(11)的底部；
所述旋转组件(4)包括：旋转驱动器(41)、外齿环(42)、转动盘(43)与多个内齿轮(44)；
所述外齿环(42)固定于所述镀膜腔(11)内的顶部；
所述转动盘(43)可转动设置于所述镀膜腔(11)内；
多个所述内齿轮(44)可转动设置于所述转动盘(43)上，且与所述外齿环(42)的内周啮合连接；
多个所述装载盘(3)一一对应连接多个所述内齿轮(44)，用于装载镀膜的工件(5)；
所述旋转驱动器(41)设置于所述装置主体(1)上，且与所述转动盘(43)传动连接，用于带动所述转动盘(43)转动。
2.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述内齿轮(44)与所述装载盘(3)分别设置于所述转动盘(43)的上方和下方。
3.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述旋转组件(4)还包括：连接轴(45)与轴承(46)；
所述转动盘(43)上设置有穿孔；
所述轴承(46)设置于所述穿孔内；
所述连接轴(45)穿设于所述轴承(46)内，且顶端固定连接所述内齿轮(44)，底端连接所述装载盘(3)。
4.根据权利要求1至3任一项所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述装载盘(3)与所述内齿轮(44)可拆卸连接。
5.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述装载盘(3)上设置有多个镂空的装载槽(31)；
所述装载槽(31)内设置有用于供工件(5)放置的托片(32)。
6.根据权利要求4所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述装载盘(3)上的多个装载槽(31)呈圆周均匀分布。
7.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述蒸发源(2)包括多个，且绕所述转动盘(43)的圆心呈圆周均匀间隔分布。
8.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，多个所述内齿轮(44)在所述转动盘(43)上呈圆周均匀间隔分布。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202321628194.0U CN220132325U (zh) | 2023-06-26 | 2023-06-26 | 一种薄膜沉积装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202321628194.0U CN220132325U (zh) | 2023-06-26 | 2023-06-26 | 一种薄膜沉积装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN220132325U true CN220132325U (zh) | 2023-12-05 |
Family
ID=88962041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202321628194.0U Active CN220132325U (zh) | 2023-06-26 | 2023-06-26 | 一种薄膜沉积装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN220132325U (zh) |
-
2023
- 2023-06-26 CN CN202321628194.0U patent/CN220132325U/zh active Active
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |