JPS62269334A - ウエ−ハキヤリア - Google Patents
ウエ−ハキヤリアInfo
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- JPS62269334A JPS62269334A JP61115391A JP11539186A JPS62269334A JP S62269334 A JPS62269334 A JP S62269334A JP 61115391 A JP61115391 A JP 61115391A JP 11539186 A JP11539186 A JP 11539186A JP S62269334 A JPS62269334 A JP S62269334A
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- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 16
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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-
- H—ELECTRICITY
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
- B65G1/02—Storage devices
- B65G1/04—Storage devices mechanical
- B65G1/0471—Storage devices mechanical with access from beneath
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6732—Vertical carrier comprising wall type elements whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising sidewalls
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
二次電池を内蔵し運搬中はこの電池によりファンを廻し
て送気し、特定位置に置いた時は送気と同時にこの電池
に充電することの出来る空気清浄器を備えたウェーハキ
ャリアで、ウェーハ表面への塵埃付着を防止し、清浄に
保つ。
て送気し、特定位置に置いた時は送気と同時にこの電池
に充電することの出来る空気清浄器を備えたウェーハキ
ャリアで、ウェーハ表面への塵埃付着を防止し、清浄に
保つ。
本発明はウェーハキャリアの構造に関する。
半導体ウェーハの表面を常に清浄に保つことは重要なこ
とで、そのためにウェーハプロセスは全て、塵埃を少な
くしたクリーンルームの内部やクリーンベンチの内部で
行われている。特に半導体装置の集積度が上がるに従っ
て、このウェーハ表面への塵埃付着防止はまずます重要
になって来ている。
とで、そのためにウェーハプロセスは全て、塵埃を少な
くしたクリーンルームの内部やクリーンベンチの内部で
行われている。特に半導体装置の集積度が上がるに従っ
て、このウェーハ表面への塵埃付着防止はまずます重要
になって来ている。
各ウェーハ処理工程間におけるウェーハの運搬および保
管は通常ウェーハキャリアにウェーハを収納して行われ
るが、この時においてもウェーハへの塵埃付着防止に細
心の注意を要することは勿論である。
管は通常ウェーハキャリアにウェーハを収納して行われ
るが、この時においてもウェーハへの塵埃付着防止に細
心の注意を要することは勿論である。
従来のウェーハキャリアは収納箱の両側が開放になって
おり、運搬および保管は多くの場合、このウェーハキャ
リアを密閉式のホックスの中に収容して行う。しかし前
記ボックスへの出し入れ操作は人手によって行われ、又
時にはウエーハキャリアのままで運搬が行われたりする
。この場合は最も大きい“ゴミ°゛の発生源たる人間が
近くにあるため、開放口より塵埃が舞い込んでウェーハ
を汚す危険性が多分にある。
おり、運搬および保管は多くの場合、このウェーハキャ
リアを密閉式のホックスの中に収容して行う。しかし前
記ボックスへの出し入れ操作は人手によって行われ、又
時にはウエーハキャリアのままで運搬が行われたりする
。この場合は最も大きい“ゴミ°゛の発生源たる人間が
近くにあるため、開放口より塵埃が舞い込んでウェーハ
を汚す危険性が多分にある。
本発明はウェーハ収納部に常に清浄な空気を流し、塵埃
の侵入を防止し得る簡易なウェーハキャリアを提供しよ
うとするものである。
の侵入を防止し得る簡易なウェーハキャリアを提供しよ
うとするものである。
第3図は従来例におけるウェーハキャリアの構造斜視図
である。
である。
図において、1は側板であり、これに横方向に配列した
多数の溝2を設け、この溝2が対向するように側板lを
左右に置き、ごれを上板3および底板4 (底板4はこ
の図では隠れて見えない)により支える構造になっ°ζ
いて、前方と後方は何もなく開放され開口になっていて
いる。
多数の溝2を設け、この溝2が対向するように側板lを
左右に置き、ごれを上板3および底板4 (底板4はこ
の図では隠れて見えない)により支える構造になっ°ζ
いて、前方と後方は何もなく開放され開口になっていて
いる。
この禍2の深さは挿入されたウェーハ5が落ちない程度
となっていて、ウェーハ5は開放された前方または後方
の開10から、溝2に嵌めるように挿入する。ウェーハ
5の取り出しもこの前後の開L1より行う。
となっていて、ウェーハ5は開放された前方または後方
の開10から、溝2に嵌めるように挿入する。ウェーハ
5の取り出しもこの前後の開L1より行う。
このように従来のウェーハキャリア6は全く開放的な構
造であるため、クリーンルームの内においても、このウ
ェーハキャリア6を口承しないボックスに入れてから運
搬および保管を行うことをたてまえとしている。
造であるため、クリーンルームの内においても、このウ
ェーハキャリア6を口承しないボックスに入れてから運
搬および保管を行うことをたてまえとしている。
然しなからウェーハ5をウェーハキャリア6に出し入れ
すること、およびウェーハ収納のウェーハキャリア6を
ボックスに出し入れすることは、多くの場合、人手によ
って行われる。この時、クリーンルームの内では最大の
ゴミの発生源である人体がウェーハキャリア6の近くに
あることは、ウェーハギヤリア6に収納したウェーハ5
に巻き込まれた塵埃が付着するので極めて好ましくない
ことである。
すること、およびウェーハ収納のウェーハキャリア6を
ボックスに出し入れすることは、多くの場合、人手によ
って行われる。この時、クリーンルームの内では最大の
ゴミの発生源である人体がウェーハキャリア6の近くに
あることは、ウェーハギヤリア6に収納したウェーハ5
に巻き込まれた塵埃が付着するので極めて好ましくない
ことである。
また、自動化されていない限り、運1般、保管が常にウ
ェーハキャリアをボックスに収納して行っているとの保
証もない。
ェーハキャリアをボックスに収納して行っているとの保
証もない。
従って、従来例の前後面開放型のウェーハキャリアは塵
埃の侵入を許すもので、この点を改善した取扱い簡易な
装置が望まれている。
埃の侵入を許すもので、この点を改善した取扱い簡易な
装置が望まれている。
従来のウェーハキャリアは内部に塵埃が容易に侵入する
構造であった。
構造であった。
上記問題点の解決は、ウェーハを複数平行に収納するウ
ェーハ収納部(7)と、電源(13)と、該電源(13
)により作動し、外部の空気を取り込みフィルター(1
2)を介して、前記ウェーハ収納部(7)に送るファン
(10)とを備えてなる本発明によるウェーハキャリア
により達成される。
ェーハ収納部(7)と、電源(13)と、該電源(13
)により作動し、外部の空気を取り込みフィルター(1
2)を介して、前記ウェーハ収納部(7)に送るファン
(10)とを備えてなる本発明によるウェーハキャリア
により達成される。
二次電池を内蔵し運搬中はこの二次電池によりファンを
動かして送気し、特定位置に置いた時は、この電池に充
電しなから送気を行うことが出来る空気清浄器を備えた
ウェーハキャリアで、ウェー八表面への塵埃付着を防止
し、清浄に保つ。
動かして送気し、特定位置に置いた時は、この電池に充
電しなから送気を行うことが出来る空気清浄器を備えた
ウェーハキャリアで、ウェー八表面への塵埃付着を防止
し、清浄に保つ。
第1図(a) 、(b)は本発明の実施例(1)におげ
ろウェーハキャリアの構造図で、(a)は斜視図、(b
)は側断面図である。
ろウェーハキャリアの構造図で、(a)は斜視図、(b
)は側断面図である。
これら図において、7はウェーハ収納部であり、これの
後方開口部に接して空気清浄器8を有する構造となって
いる。
後方開口部に接して空気清浄器8を有する構造となって
いる。
ウェーハ収納部7は全〈従来のウェーハキャリアと全く
同じ構造であり、又空気清浄器8は上方に空気取入口9
を有し、この空気取入口9の下にはファン10があり、
これにより空気を吸入し下方のチェンバー11に送気す
る。このチェンバー11の前部にはフィルター12が設
けられ、このフィルター12を通して濾過された清浄な
空気がウェーハ収納部7の後方開口部に送り出される。
同じ構造であり、又空気清浄器8は上方に空気取入口9
を有し、この空気取入口9の下にはファン10があり、
これにより空気を吸入し下方のチェンバー11に送気す
る。このチェンバー11の前部にはフィルター12が設
けられ、このフィルター12を通して濾過された清浄な
空気がウェーハ収納部7の後方開口部に送り出される。
更にファンIOの両側には二次電池13としてNiCd
電池を設け、また空気清浄器8の外側下方に二次電池1
3に充電するための端子14を有する。これによりウェ
ーハキャリア6を運搬している場合等には二次電池13
によりファン10を作動させ、ウェーハキャリア6を定
位置に置いて保管したり、あるいは装置にセットして加
工作業に使用する場合には、二次電池I3に充電しなが
らファン10を作動させる。
電池を設け、また空気清浄器8の外側下方に二次電池1
3に充電するための端子14を有する。これによりウェ
ーハキャリア6を運搬している場合等には二次電池13
によりファン10を作動させ、ウェーハキャリア6を定
位置に置いて保管したり、あるいは装置にセットして加
工作業に使用する場合には、二次電池I3に充電しなが
らファン10を作動させる。
第2図(a) 、(b)は本発明の実施例(2)におけ
るウェーハキャリアの構造図で、(a)は斜視図、(b
)は側断面図である。
るウェーハキャリアの構造図で、(a)は斜視図、(b
)は側断面図である。
これは空気清浄器8をウェーハ収納部7の上部に取りつ
げた型のもので、後側板15をもつためフィルター12
を通過した空気流は、ウェーハ収納部7の前方および下
方に向かう空気流となり、ウェーハ収納部内において圧
力の低いウェーハ間の部分を流れ外部に放出される。よ
って、このウェーハキャリアにおいても塵埃の侵入の防
止および表面の浄化がなされ、機能的にはウェーハ収納
部7を後部に取りつけた実施例(1)の型のものと同様
な効果が得られる。
げた型のもので、後側板15をもつためフィルター12
を通過した空気流は、ウェーハ収納部7の前方および下
方に向かう空気流となり、ウェーハ収納部内において圧
力の低いウェーハ間の部分を流れ外部に放出される。よ
って、このウェーハキャリアにおいても塵埃の侵入の防
止および表面の浄化がなされ、機能的にはウェーハ収納
部7を後部に取りつけた実施例(1)の型のものと同様
な効果が得られる。
本発明における空気清浄器付きウェーハキャリアの成績
は次の如くであった。
は次の如くであった。
周囲雰囲気としては、クラス10万以上の一般事務所に
おいて、フィルター12にHEPAフィルターを使用し
、ウェーハ収納部7における吹き出し風速0.2〜0.
5 m /secで、0.1 μm以上の粒子数が数ケ
/cf tの結果を得ることが出来た。
おいて、フィルター12にHEPAフィルターを使用し
、ウェーハ収納部7における吹き出し風速0.2〜0.
5 m /secで、0.1 μm以上の粒子数が数ケ
/cf tの結果を得ることが出来た。
空気清浄器付きウェーハキャリアは塵埃の侵入を防止し
、またウェーハから発生ずるガスがあるときはこれを除
去することが出来る。
、またウェーハから発生ずるガスがあるときはこれを除
去することが出来る。
例えばトライエツチング直後は生成ガスが付着した状態
でウェーハが出て来ることがある。これを従来は密閉し
たボックスに入れて保管、運搬していた。本発明による
と、これも改善することが出来る。
でウェーハが出て来ることがある。これを従来は密閉し
たボックスに入れて保管、運搬していた。本発明による
と、これも改善することが出来る。
第1図(a) 、(b)は本発明の実施例(1)におけ
るウェーハキャリアの構造M。 第2図(a) 、(b)は本発明の実施例(2)におけ
ろ lウェーハキャリアの構造図、 第3図は従来例におけるウェーハキャリア構造斜視図で
ある。 図において、 1は側板、 2は溝、 3は上板、 4は底板、 5はウェーハ、 6はウェーハキャリア、 7はウェーハ収納部、 8は空気清浄器、 9は空気取入口、 10はファン、 11はチェンバー、 12はフィルター、 13は二次電池(NiCd電池)、 14ば端子、 15は後側板
るウェーハキャリアの構造M。 第2図(a) 、(b)は本発明の実施例(2)におけ
ろ lウェーハキャリアの構造図、 第3図は従来例におけるウェーハキャリア構造斜視図で
ある。 図において、 1は側板、 2は溝、 3は上板、 4は底板、 5はウェーハ、 6はウェーハキャリア、 7はウェーハ収納部、 8は空気清浄器、 9は空気取入口、 10はファン、 11はチェンバー、 12はフィルター、 13は二次電池(NiCd電池)、 14ば端子、 15は後側板
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ウェーハを複数平行に収納するウェーハ収納部(7)
と、 電源(13)と、該電源(13)により作動し、外部の
空気を取り込みフィルター(12)を介して、前記ウェ
ーハ収納部(7)に送るファン(10)とを備えてなる ことを特徴とするウェーハキャリア。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61115391A JPH0736418B2 (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | ウエーハキャリア |
US07/048,350 US4770680A (en) | 1986-05-19 | 1987-05-11 | Wafer carrier for a semiconductor device fabrication, having means for sending clean air stream to the wafers stored therein |
KR8704880A KR900004050B1 (en) | 1986-05-19 | 1987-05-18 | Water carrier for semiconductor device fabrication |
DE8787107139T DE3767362D1 (de) | 1986-05-19 | 1987-05-18 | Wafer-traeger fuer halbleiterbauteilerzeugung. |
EP87107139A EP0246587B1 (en) | 1986-05-19 | 1987-05-18 | Wafer carrier for semiconductor device fabrication. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61115391A JPH0736418B2 (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | ウエーハキャリア |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62269334A true JPS62269334A (ja) | 1987-11-21 |
JPH0736418B2 JPH0736418B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=14661386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61115391A Expired - Lifetime JPH0736418B2 (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | ウエーハキャリア |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4770680A (ja) |
EP (1) | EP0246587B1 (ja) |
JP (1) | JPH0736418B2 (ja) |
KR (1) | KR900004050B1 (ja) |
DE (1) | DE3767362D1 (ja) |
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