JPS62265139A - レ−ザ−ガラスのエツジクラツデイング法 - Google Patents

レ−ザ−ガラスのエツジクラツデイング法

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JPS62265139A
JPS62265139A JP10657986A JP10657986A JPS62265139A JP S62265139 A JPS62265139 A JP S62265139A JP 10657986 A JP10657986 A JP 10657986A JP 10657986 A JP10657986 A JP 10657986A JP S62265139 A JPS62265139 A JP S62265139A
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JP
Japan
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glass
laser glass
cladding
cast
casting
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JP10657986A
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Hisayoshi Toratani
久良 虎溪
Ii Maisunaa Herumuuto
ヘルムート イー マイスナー
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Hoya Corp
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Hoya Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0612Non-homogeneous structure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/02Other methods of shaping glass by casting molten glass, e.g. injection moulding
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] レーザーガラス、特に核融合用レーザーガラスにおいて
は、レーザーガラス側面の反射によって生ずる奇生発振
が問題となるため、レーデ−ガラス側面には反射を防止
し、不要光を吸収するエツジクラツディングが必要とな
る。本発明はそうしたレーザーガラスのエツジクラップ
イン法に関する。
[従来の技術]   ” 従来、レーザーガラスの周囲にこのクラツディング用の
ガラスを施す方法としては、先ずレーザーガラスを鋳込
み成形した後徐冷し、さらに必要形状に明石加工後研磨
1ノでからこの成形加工したレーザーガラスを、周囲に
空隙を残してモールド内に設置し、この空隙部にクラツ
ディング用ガラスを鋳込むことにより、エツジクラツデ
ィングを行っていた。
[発明が解決しようとする問題点] このように従来の方法では、クラツディングする萌に、
徐冷、切断、加工、研磨など多くの工程を要し、レーザ
ーガラスのコストを著るしく高いものにしていたばかり
でなく、切断、加工研磨のための装置も準備しなければ
ならなかった。
さらに従来の方法は量産に適していない。レーザーガラ
スは連続溶融方法を採用することにより、量産化が可能
となるが、エツジクラツディングの工程でa産生できな
くなるという欠点があった。
すなわち、レーザーガラスの方は量産化により、短期間
に数多く製造することは出来るが、エツジクラツディン
グの段階で極めて長い111@を要することになるので
ある。
また、従来の方法では必要形状に切断加工するため、こ
の工程で20〜30%の加工ロスが生じていた。
本発明は、上記従来の欠点を解消するためになされたも
のであり、第1の目的は、レーザーガラスにエツジクラ
ツディングを行う前に従来は必要な工程を省略すること
により、コストダウンをはかることにあり、第2の目的
はエツジクラツディング工程の量産化をはかり、工程時
間の短縮を可能とすることにあり、第3の目的はレーザ
ーガラスを必要な形状に加工する際に生ずるロスをなく
すことにある。
[問題点を解決するための手段] 本発明は上記目的を達成するためになされたものであり
、エツジクラツディングを施すべき部分に対応する部分
が耐火性多孔質部材で構成された型中に、該多孔質部材
の他の側面からガスを供給しつつ、レーザーガラス溶融
物を鋳込んだ後、該多孔質部材を除去又は移動して間隙
を形成させ、この間隙にクラファイングガラス溶融物を
鋳込むことにより、上記目的の達成が可能となる。
ここで多孔質部材には、焼結ステンレススティール、ニ
ッケル、グラファイト、シリコンカーバイド、ニッケル
合金等の材料が使用される。また、多孔質部材に供給す
るガスは空気でも差支えないが、多孔質部材が著るしく
酸化される場合には、窒素、アルゴン、水素を5%まで
含有する窒素などの非酸化性ガスが望ましい。そして供
給されるガスの圧力はガラスの粘性、多孔質部材の気孔
率、孔の径にもよるが、1.1〜4.0気圧の範囲であ
ることが望ましい。1.1気圧以下であると、充分必要
とされる鏡面を持つガラスが得られず、4気圧を越える
と、ガスがガラス中に取り込まれて、気泡になる可能性
が強くなる。
[作  用] このように本発明においては、多孔質体を介して供給さ
れるガスにより、レーザーガラスにエツジクラツディン
グを施すべき部分は充分必要とされる鏡面が得られ、そ
の後ただちに多孔質部材を移動又は除去してクラツディ
ングガラス溶融体を鋳込むため、従来必要とされたガラ
スの切断加工や鏡面を得るための研磨を省くことができ
る。
[実施例J 以下、本発明の実施例について述べる。
第1図は本発明の実施例に係わる装置の平面図を示した
ものである。本装置は回転テーブル1とその上に設置さ
れた4つの型2からなる。Aの位置にある型2aにはレ
ーザーガラス溶融物5が鋳込まれ、Bの位置にある型2
bではすでに鋳込まれたガラスが必要な温度にまで冷却
される。ここで必要な温度とはレーザーガラスの転移温
度から転移温度の10%増程度までの温度範囲にある温
度である。Cの位置にある型2Gでは、多孔質部材3及
びこれを支持している支持枠4が外側に移動して間隙が
形成され、この間隙にクラツディングガラス溶融体6が
鋳込まれる。Dの位置にある型2dでは、エツジクラツ
ディングされたレーザーガラスが徐冷に必要なだけ冷却
され、型から取り出される。上に述べた型2は回転テー
ブル1の回転に従って、それぞれの位置で上記の操作が
加え   ゛られ、連続的にレーザーガラスの鋳込みと
エツジクラツディングが行われる。
第2図(a)は第1図の位置AおよびBにおける型の断
面図、第2図(b)は同じく位置CおよびDにおける型
の断面図を示す。型2の中に裏面を支持枠4で覆った多
孔質部材3を、所望のレーザーガラスの形状に従って配
置する。支持枠4にはガス供給管7が配設され、550
℃に加熱された1、5気圧の空気が供給する。供給され
たガスは多孔質部材3を介して鋳込まれたレーザーガラ
ス5の側面に吹き付けられ、ガラスを鏡面とするのに役
立っている。鋳込まれたレーザーガラス溶融体5が転移
温度から転移温度の10%増までの温度範囲に冷却され
た後、第2図(b)に示すように、多孔質部材3及びこ
れを支持している支持枠4は、クラツディングガラス溶
融体6が鋳込まれるに充分な間隔だけ移動して間隙部を
形成し、その部分にクラツディングガラス溶融体6が鋳
込まれることになる。
本実施例においては、レーザーガラスとしてホーヤ(株
)製のLHG8が使用された。このガラスを使用した場
合、型への鋳込み温度は900℃であり、クラツディン
グガラスが鋳込まれる時に520℃まで冷却された。ク
ラツディングガラス溶融体が鋳込まれる間隔としては約
15nu++程度が適当である。
クラツディングガラスとしては、該レーザーガラスに0
.5%のCuOを添加したガラスが使用され、1000
℃の温度で型がCの位置にきたとき鋳込まれた。
こうしてエツジクラツディングされたレーザーガラスは
レーザーガラスの転移点まで冷却され、徐冷炉に入れて
エツジクラツディングガラスの歪点まで冷却され、しば
らくその温度で保持した後、0.5℃/分の冷加速度で
冷却され、充分に歪が除かれた。実施例で使用された耐
熱多孔質部材は気孔率50%の焼結ステンレススティー
ルで、連続気孔の孔径は約40μmであった。
[発明の効果1 本発明においては、従来エツジクラツディングを施す前
に必要とされていた徐冷工程や必要な形状にするための
切断加工、エツジクラツディングに必要な鏡面を得るた
めの研磨工程が不要となるため、大幅な工程の短縮及び
これに伴うコストダウンが可能となったほか、レーザー
ガラスの連続溶融によるm産生に対応したエツジクラツ
ディング工程が可能となるため、大幅な工程時間の短縮
に成功した。また必要な形状にするための切断加工工程
を要しないため、この切断、加工によって生ずるロスを
全くなくすことが可能となった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法の実施例に使用された装置の平面
図、第2図は本発明の方法の実施例に使用された型の断
面図で(a)はクラツディングガラスを鋳込む前の状態
、(b)はクラツディングガラスを鋳込んだ後の状態を
示す。 1・・・回転テーブル、2a・・・Aの位置にある型、
2b・・・Bの位置にある型、2C・・・Cの位置にあ
る型、2d・・・Dの位置にある型、3・・・多孔質部
材、4・・・支持枠、5・・・レーザーガラス又はその
溶融物、6・・・クラツディングガラス又は溶融物、7
・・・ガス供給管。 出 願 人  ホーヤ株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 エッジクラッディングを施すべき部分に対応する部
    分が耐火性多孔質部材で構成された型中に、該多孔質部
    材の他の側面からガスを供給しつつ、レーザーガラスを
    鋳込んだ後、該多孔質部材を移動又は除去して間隙を形
    成させ、この間隙にクラッディングガラスを鋳込むこと
    からなるレーザーガラスのエッジクラディング法。 2 耐火性多孔質部材が焼結ステンレススティール、ニ
    ッケルグラファイト、シリコンカーバイド、ニッケル合
    金の中から選ばれた材質であることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載のレーザーガラスのエッジクラッデ
    ィング法。
JP10657986A 1986-05-12 1986-05-12 レ−ザ−ガラスのエツジクラツデイング法 Granted JPS62265139A (ja)

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JP10657986A JPS62265139A (ja) 1986-05-12 1986-05-12 レ−ザ−ガラスのエツジクラツデイング法

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JPS62265139A true JPS62265139A (ja) 1987-11-18
JPH0463816B2 JPH0463816B2 (ja) 1992-10-13

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ID=14437129

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5563743A (en) * 1991-04-23 1996-10-08 Shin-Etsu Quartz Co, Ltd. Base body of a reflecting mirror and method for the preparation thereof
CN102875014A (zh) * 2012-10-26 2013-01-16 中国科学院上海光学精密机械研究所 激光玻璃的键合包边方法
CN103698302A (zh) * 2013-12-30 2014-04-02 合肥知常光电科技有限公司 激光增益介质包边剩余反射的多角度多点测量装置及方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5563743A (en) * 1991-04-23 1996-10-08 Shin-Etsu Quartz Co, Ltd. Base body of a reflecting mirror and method for the preparation thereof
CN102875014A (zh) * 2012-10-26 2013-01-16 中国科学院上海光学精密机械研究所 激光玻璃的键合包边方法
CN103698302A (zh) * 2013-12-30 2014-04-02 合肥知常光电科技有限公司 激光增益介质包边剩余反射的多角度多点测量装置及方法

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