JPS6225417A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
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- JPS6225417A JPS6225417A JP60164798A JP16479885A JPS6225417A JP S6225417 A JPS6225417 A JP S6225417A JP 60164798 A JP60164798 A JP 60164798A JP 16479885 A JP16479885 A JP 16479885A JP S6225417 A JPS6225417 A JP S6225417A
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- JP
- Japan
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- semiconductor manufacturing
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- Granted
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60164798A JPS6225417A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
US07/752,986 US5197118A (en) | 1985-07-25 | 1991-09-03 | Control system for a fine pattern printing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60164798A JPS6225417A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6107398A Division JPH07311607A (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | シーケンス制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6225417A true JPS6225417A (ja) | 1987-02-03 |
JPH0535565B2 JPH0535565B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1993-05-26 |
Family
ID=15800133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60164798A Granted JPS6225417A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6225417A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002231621A (ja) * | 2001-11-19 | 2002-08-16 | Canon Inc | 露光装置およびそのユニットの駆動方法 |
JPWO2006019166A1 (ja) * | 2004-08-19 | 2008-05-08 | 株式会社ニコン | アライメント情報表示方法とそのプログラム、アライメント方法、露光方法、デバイス製造方法、表示システム、表示装置、プログラム及び測定/検査装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57188340U (enrdf_load_stackoverflow) * | 1981-05-25 | 1982-11-30 | ||
JPS58159110A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-21 | Mitsubishi Electric Corp | 対話形図形デ−タベ−ス作成及び修正方式 |
JPS6084605A (ja) * | 1983-07-25 | 1985-05-14 | ラ テレメカニク エレクトリク | プログラマブルコントローラ用プログラムを作成するプログラミング端末装置 |
JPS60101540A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-05 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影光学装置 |
-
1985
- 1985-07-25 JP JP60164798A patent/JPS6225417A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57188340U (enrdf_load_stackoverflow) * | 1981-05-25 | 1982-11-30 | ||
JPS58159110A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-21 | Mitsubishi Electric Corp | 対話形図形デ−タベ−ス作成及び修正方式 |
JPS6084605A (ja) * | 1983-07-25 | 1985-05-14 | ラ テレメカニク エレクトリク | プログラマブルコントローラ用プログラムを作成するプログラミング端末装置 |
JPS60101540A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-05 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影光学装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002231621A (ja) * | 2001-11-19 | 2002-08-16 | Canon Inc | 露光装置およびそのユニットの駆動方法 |
JPWO2006019166A1 (ja) * | 2004-08-19 | 2008-05-08 | 株式会社ニコン | アライメント情報表示方法とそのプログラム、アライメント方法、露光方法、デバイス製造方法、表示システム、表示装置、プログラム及び測定/検査装置 |
JP4715749B2 (ja) * | 2004-08-19 | 2011-07-06 | 株式会社ニコン | アライメント情報表示方法とそのプログラム、アライメント方法、露光方法、デバイス製造方法、表示システム、表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0535565B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1993-05-26 |
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