JPS6225420A - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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JPS6225420A
JPS6225420A JP60164801A JP16480185A JPS6225420A JP S6225420 A JPS6225420 A JP S6225420A JP 60164801 A JP60164801 A JP 60164801A JP 16480185 A JP16480185 A JP 16480185A JP S6225420 A JPS6225420 A JP S6225420A
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JP
Japan
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Application number
JP60164801A
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English (en)
Inventor
Ryuichi Sato
隆一 佐藤
Masanori Numata
沼田 正徳
Fumiyoshi Hamazaki
浜崎 文栄
Naoki Ayada
綾田 直樹
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPS6225420A publication Critical patent/JPS6225420A/ja
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野1 本発明は、LSl、VLSl等の半導体デバイスを製造
する装置に関し、特に、多数の動作パラメータの設定内
容をファイル化しておき、必要時に1つのファイルを指
定して」ニ記動作パラメータを一括して設定可能にする
とともに、これらのファイルの管理をより確実にした半
導体製j5装首に関する。
[発明の背景] 半導体集積回路の集積度の向上に伴い、この半導体集積
回路を製造する装置の高機能化や高性能化が計られてい
る。これらの高機能化や高性能化に伴ってこの種の装置
を動作させる際のパラメータも増加してきた。このよう
なパラメータは、例えばステップアントリビー1〜式の
投影露光装置においては、数十個から時には数百側にも
及ぶ。従って、このような装置において、マスク工程や
ロットを切換えた場合等の必要時に、パラメータの設定
状態を確認するためには上記のように膨大な数のパラメ
ータをチェックする必要があり、これは、最早、半導体
製造装置について主に日常の動作開始および停止の操作
を行なうために配置されているオペレータにとっては不
可能でさえある。
そこで、例えばマスク工程等の作業単位ごとにパラメー
タの最適値をファイル化して記憶してd3き、作業内容
に相当してファイルに記憶されているパラメータ圃を一
括1ノで設定するようにした装置も提案されている。こ
の場合、全動作パラメータについて1つでも設定内容が
異なるものは異なるファイルとして作成され、通常、複
数種のファイルがフロッピや磁気テープ等の外部メモリ
に記憶されている。そして、品種や工程の変更時等には
、これlうのフj・イルのうら1つが心合に応じて読出
され、そのファイル内の動作パラメータが装量に設定さ
れる。
ところで、このような外部メモリは、既存のフ1イルを
訂正したり、新しいファイルを追加覆るために既存のI
llいファイルを削除することが可能である。そして、
この場合、誰もが既存ファイルにアクセス可能にしてお
くと、悪意はなくとも誤操作によって間違ったファイル
の内容を調き換えてしまったり、間違ったファイルを消
去してしまう可能性がある。さらに、装置を動作させる
ためのパラメータを設定する際、間違ったファイルを指
定してしまう型合もある。これらの場合、動作パラメー
タは不適当なものとなり、装置は不本意に動作して半導
体製品不良の発生するおそれが多分にある。
[発明の目的] 本発明の目的は、上述従来形の問題点に鑑み、動作パラ
メータをファイル化した半導体製造装置において、各フ
ァイルへのアクセスおよび使用を特定名に限定すること
を可能とし、これにより装置の誤操作および製品不良の
発生を防止することにある。
[実施例の説明1 以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
を承り。同図において、1は集積回路パターンを員えた
マスクで、他にマスクアライメントマークやマスク・ウ
ェハ・アライメントマークを貝えるものとする。2はマ
スクステージで、マスク1を保持してマスク1を平面内
(XY方向)及び回転方向(θ方向)に移動さ1!る。
3は縮小投影レンズ、4は感光層を具えるウェハで、マ
スク・ウェハ・アレイメン1ヘマークとテレビ・ウェハ
アライメントマークを具えるものとする。5はウェハス
テージである。ウェハステージ5はウェハ4を保持して
それを平佃内a3よび回転方向に移動させろものCあり
、またウェハ焼付位置(IQ l形視野内)とテレビ・
ウェハアライメント位置間を移+Jt する。6はテレ
ビ・つ1ハアライメント用検知装置の対物レンズ、7は
画像管(または固体層像素子)である、9は双眼ユニツ
1〜C1投影レンズ3を介してウェハ4の表面を観察す
るために役立つ。10は照明光学系およびマスク・つ玉
ハ・アライメント用の検知装置を収容する上部ユニット
である。11はしニタ受像は(コンソールCRT )、
12は装置における各種の動作指令やパラメータを入力
するだめのキーボードである。
第2図は、第1図の装置の電気回路↑に成夕示す。
同図において、21は装置全体の制御を司る本体CPU
で、マイク[Jコンピュータまたはミニコンビコータ等
の中央演→処理装置からなる。22(ユウエハステージ
駆動装首、23はアライメント検出系、24はレチクル
ステージ駆りJ装置、25は照明系、26はシャッタ駆
1liJJ装置、27は〕A−カス検出系、28は7駆
f)J装置で、これらは、本体CPU21により制御さ
れる。29は搬送系である。
30はコンソールユニットで、本体CP U 21にこ
の露光装置4の動作に関する各種の指令やバラメータを
与えるためのものである。31はコンソールCPU、3
2はパラメータ等を記憶する外部メモリである。なお、
CRTllおよびキーボード12は第1図のものと同一
である。
本実施例の装置においては、作業単位を■半導体製品の
品種単位の作業、 ■工程単位の作業、および ■ショット単位の作業 に階層化し、多数の動作パラメータのうち主なもの(設
定変更の頻度の高いもの)をこれらの作業中位に関連づ
けて階層化している。
この動作パラメータの階層化は、例えば(上)品種単位
で定まる動作パラメータ(レイアウトに関するもの) ステップサイズ、行および列数等 (中)工程単位で定まる動作パラメータ(プロセスに関
するもの) モード(ファースミ−マスクであるか否か、セカンドマ
スク以降であればアライメント方式はTTLダイバイダ
イかTTLグローバルか)、レヂクルナンパ、アライメ
ントマーク位置1,15よびTプリアライメント位買等 (下)ショットに関する動作パラメータ露光時間、およ
びマスキングブレードコン1〜ロール(実素子焼付か、
テスl〜チップまたはTVブリアライメン1〜マークの
焼付か)等 のように分類することによって実現する。
次に、第3図のフローチャートならびに第4I′3よび
5図の表示画面例を参照しながら、本実施例の装置の動
作を説明する。
この装置においては、先ず、第7図に示すように、各階
層ごとに動作パラメータの設定内容が様々な複数のファ
イルを作成し、次に各階にりから1つずつのファイルを
選択して繋ぎ合せることにより、1つのジョブを作成す
る。第3図のフローチャートは、本実施例の装置におけ
るジョブ作成処理を示す。
第1図の装置においては、電源投入後の初期化が終了し
たとき等にコマンド人力待機状態となる。
つまり、コンソールCPU31はキーボード12におけ
るキー操作を待機し、本体CP U 21はコンソール
CP U 31からの通信待ち状態となる。そして、こ
の状態でキーボード12からジョブ作成のためのコマン
ド(例えばJOB)が入力されると、コンソールCPU
31の制御のもとに以下のジョブ作成処理を開始する。
第3図を参照して、ステップ50では、図示しないがC
RTllにファイル作成モード(F/G)とファイルリ
ンクモード(F/L)とジ]ブ作成終了モード(END
)のうちいずれを選択するか、その入力を促すプロンプ
トメツセージを表示する。
そして、キーボード12からの入力データを基に選択さ
れたモードを判定する。
ステップ50において、ファイル作成モード(F/G)
が選択されたときは、ステップ51に進む。
ステップ51では、CRT 11の画面表示を第4図(
a)のものく但し、点線部43内のデータは表示されて
いない)に切換え、キーボード12がら順次入力される
数字または英字をCRTllの画面の最下段(第4図(
a)の点線部43)に表示し、ざらに、キーボード12
で改行キーが押下された模この改行キーが押下される前
までに入力されたデータ(またはデータ列)に基づいて
CR−’r 11の画面に表示された項目(1,レイア
ウトファイル、2゜プロセスファイル、3.ショットフ
ァイル)で示されるいずれかの階層のファイル作成モー
ドまたはファイル作成終了モードのいずれが選択された
かを判定する。ここでは、各モードは上記項目に付され
た1〜3の数字および終了を示すEのいずれかをキー人
力することにより選択される。
ステップ51において2がキー人力されプロレスファイ
ル作成モードが選択されたときは、ステップ52に進む
。ステップ52では、CRTllにプロ廿スフ?イル名
の入力を促すプロンプトメツセージを表示する。そして
、キーボード12がらファイル名が入力されると、外部
メモリ32に格納されているファイルを検索して該当す
るプロセスファイルを読出しくステップ53)、さらに
、ステップ54でそのファイルにパスワード(P 、/
’ W >が付されているか否かを判定する。もし、パ
スワードが付されていれば後述するステップ60以下の
パスワード入力処理を実行した後、パスワードが付され
ていなければそのまま、ステップ55の処理に進む。な
お、ステップ53においでキー人力されたファイル名の
ファイルが外部メモリ32に格納されていないときは、
新たなプロセスファイルを作成する場合であるからパス
ワード無しのときと同様にそのままステップ55に進む
ステップ55においては、第4図(b)に示すように、
プロセスファイル作成モードである旨と、変更または設
定すべき項目とを表示し、ざらにいずれかの項目を番号
で選択すべき旨をプロンプト表示する。この表示に応じ
て、いずれかの項目番号が選択されると、第4図(C)
に示すようにその項目の該当データ入力を促すプロンプ
トメツセージを表示しくステップ56)、該当データが
キーボード12から入力されると、このデータに基づい
てファイルの変更もしくは作成くステップ57)または
パスワードの変更5しくは設定(ステップ58)の迅埋
を実行した((、ステップ55に戻る。また、ステップ
55の表示に応じてキーボード12からr E Jを入
力すると、プロセスファイル作成し一ドを終了してステ
ップ51に戻る。
ステップ51にJ3いて1または3がキー人力されたと
ぎは、そのキー人力に応じてレイアウトファイル作成モ
ードまたはショットファイル作成モードの処理を実行す
るが、これらの処理は、上述のプロセスファイル作成モ
ードにおいて、「プロセス」が「レイアウト」または「
ショット」に、そして各表示J3よび入力項目が各階層
に応じたものに変更されることを除いては全く同様にし
て実行する。
ステップ50にJ3いて、ファイルリンクモード(F/
L)が選択されたときは、ステップ11に進む。ステッ
プ71では、CRTllにジョブファイル名の入力を促
すプロンプトメツセージを表示する。
そして、キーボード12かうファイル名が入力される(
ステップ72)と、外部メモリ32に格納されているフ
ァイルを検索して該当するジョブファイルt 2出し、
さらに、ステップ13でそのファイルにパスワード(P
/W)が付されているか否かを判定する。ちし、パスワ
ードが付されていれば後述するステップ60以下のパス
ワード入力処理を実行した’<M、パスワードが付され
ていなければそのまま、ステップ74の処理に進む。な
お、ステップ74においてキー人力されたファイル名の
ファイルが外部メ[す32に格納されていないときは、
新たなジョブファイルを作成する場合であるからパスワ
ード無しのときと同様にそのままステップ74に進む。
ステップ74においては、CRTllにファイルリンク
(ジョブファイル作成)モードである旨と、外部メ七り
32から読出したジョブファイルの内容とを表示し、さ
らに変更または設定すべき項目を番号で選択すべき旨を
ブロンブ]−表示するく第5図(a ) ) 、この表
示に応じて、いずれかの項目番号が選択されると、第5
図(b)に示すようにその項目の該当データ入力を促す
ブロンプl−メツセージを表示しくステップ75)、該
当データがキーボード12から入力されると、このデー
タに基づいてファイルの変更もしくは作成(ステップ7
6)またはパスワードの変更もしくは設定(ステップ1
7)を実行した後、ステップ74に戻る。また、ステッ
プ74の表示に応じてキーボード12から[E」を入力
すると、ファイルリンクモードを終了してステップ50
に戻る。
上記の各ファーイル作成処理において、ファイルにパス
ワードが付されているときくステップ54または73)
は、ステップ60のパスワード入力処理に移行する。こ
のパスワード入力処理において、先ず、ステップ61で
はCRTllにパスワードの入力を促すプロンプトメツ
セージを表示する。そして、1−ボード12からパスワ
ードが入力される(ステップ62)と、先のステップで
読出したパスワードと比較する(ステップ63)。もし
、一致すればこのパスワード入力処理を終了し、もとの
ルーチン(ステップ55または14)に戻る。一方、不
一致の場合はエラー表示した(ステップ64)の後、ス
デツブ65に進む。ステップ65ではパスワードの不一
致回数をカウントしており、この不一致回数が3回未満
であればステップ61に戻ってパスワードの再入力を待
機する。一方、ステップ65でパスワード不一致が3回
目になっていれば、ステップ6Gに進んで]ニラ−表示
した後、現在のファイル作成モードを解除してステップ
50に戻る。
このようにパスワードを登録したファイルを呼出す際は
、必ずパスワードの入力を要求し、この入力したパスワ
ードと登録されているパスワードとが一致しない限りそ
のファイルへのアクセスを禁止することによって、ファ
イル内容が知らないうちに書換られ、そのファイルを用
いた場合に装置が不本意に動作し製品不良が発生すると
いうような事故を防止することができる。
第6図は、上)ホのようにして作成したファイルを用い
て装置の主動作であるステップアンドリピート露光動作
を実行する際の処理を示す。
上記コマンド入力待ち状態において、キーボード12よ
りスタート(主動作開始)コマンドおよび該主動作に、
むいて用いるジコゾファイル名が入力される(ステップ
81)と、コンソールCPU21は、外部メモリ32に
格納されているファイルを検索して該当するジョブファ
イルを読出し、さらに、そのファイルにパスワード(P
/W)が付されているか否かを判定する(ステップ82
〉。もし、パスワードが付されていれば現在使用しよう
としているジョブファイルのパスワードと一致するパス
ワードがキーボード12から入力されるまで待ったくス
テップ83および84Hu、一方、パスワードが付され
ていな)Jればそのまま、ステップ85に進む。
ステップ85では、上記ジョブファイルの内容のうち所
定の動作パラメータを選択してCRT 12に表示する
。ここで表示する動作パラメータは、焦点位置(FOC
US)および露光時間(EX、TIME)等オペレータ
による変更の可能性が高いものを表示する。この模、必
要に応じて動作パラメータ変更(モード選択キー人力C
)等を実行し、ステップ85の状態で主動作開始確認(
同Y)すれば、主動作が開始する。また、ステップ85
の状態で主動作中止(同N)を選択すれば、装置はコマ
ンド侍ら状態に戻る。このように、スター1へ時、使用
しようとするジョブファイルにパスワードが付されてい
るときはそのパスワードをキーボード12から入力しな
い限り動作を開始できないようにしているため、オペレ
ータが指定外のジョブフッイルを誤使用すること、およ
びそれによる不良発生を未然に防止することができる。
[発明の効果] 以上のように、本発明によると、各動作パラメータファ
イルにパスワードを付し、このパスワードを入力しない
限り、そのファイルを使用したり、そのファイルへアク
セスすることを禁止するようにしたため、担当者の知ら
ないうらにファイルの中身が書き換えられたり、オペレ
ータが間違ったファイルを指定することによる装置の誤
動作および半導体製品の不良発生を防止することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
斜視図、 第2図は、第1図の装置の電気回路構成図、第333よ
び6図は第1図の装置の動作を説明するためのフローチ
セート、 第4および5図は、第1図の装置に、r3けるCRTの
表示画面例を示す図、 第7図は、第1図の装置にJ5ける階層化の様子を示す
図である。 11:モニタ用C1で丁、12:キーボード、21:本
体CPU、31:コンソールCPU、32:外部メ[す

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、多数の動作パラメータを設定内容に応じて複数のフ
    ァイルとして記憶し、これらのファイルのうち所定のも
    のから読出された動作パラメータ設定値に従つて動作す
    る半導体製造装置であつて、パスワード入力手段と、所
    望のファイルにパスワードを付する手段と、パスワード
    を付されたファイルにアクセスしまたは該ファイルの内
    容に従つた動作を開始する際パスワードの入力を要求す
    る手段と、ファイルに付されたパスワードと上記パスワ
    ード入力手段から入力されるパスワードとが一致した場
    合のみ該フアイルへのアクセスまたは上記動作開始を可
    能化する手段とを備えたことを特徴とする半導体製造装
    置。 2、前記動作パラメータが、半導体製品の品種に関する
    もの、工程に関するもの、およびショットに関するもの
    のいずれかにグループ化されており、前記ファイルが、
    これらの各グループごとに作成されている小ファイルを
    組合せて作成されたものである特許請求の範囲第1項記
    載の半導体製造装置。 3、前記動作がステップアンドリピート方式の露光動作
    である特許請求の範囲第1または2項記載の半導体製造
    装置。
JP60164801A 1985-07-25 1985-07-25 半導体製造装置 Pending JPS6225420A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60164801A JPS6225420A (ja) 1985-07-25 1985-07-25 半導体製造装置
US07/752,986 US5197118A (en) 1985-07-25 1991-09-03 Control system for a fine pattern printing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60164801A JPS6225420A (ja) 1985-07-25 1985-07-25 半導体製造装置

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JPS6225420A true JPS6225420A (ja) 1987-02-03

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ID=15800186

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60164801A Pending JPS6225420A (ja) 1985-07-25 1985-07-25 半導体製造装置

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