JPS6225418A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPS6225418A JPS6225418A JP60164799A JP16479985A JPS6225418A JP S6225418 A JPS6225418 A JP S6225418A JP 60164799 A JP60164799 A JP 60164799A JP 16479985 A JP16479985 A JP 16479985A JP S6225418 A JPS6225418 A JP S6225418A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- commands
- command
- group
- input
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、LS I VLS I等の半導体デバイスを
製造する装置に関し、特に、装置の動作に関するコマン
ドやパラメータを任意にグループ化して、ユーザが装置
を容易に操作できるようにした半導体製造装置に関する
。
製造する装置に関し、特に、装置の動作に関するコマン
ドやパラメータを任意にグループ化して、ユーザが装置
を容易に操作できるようにした半導体製造装置に関する
。
[発明の背15I]
半導体集積回路の集積度の向上に伴い、半導体製造装置
の高機能化や高性能化が計られている。
の高機能化や高性能化が計られている。
これらの高機能化や高性能化に伴ってこの種の装置を動
作させる際のコマンドおよびパラメータも非常に増加し
てきた。これら数多くのコマンドおよびパラメータはそ
れぞれ半導体製造装置の動作を制御する上で重要な役割
を果たすものであり、装置の機能を最大限利用する場合
に欠くことができないものである。
作させる際のコマンドおよびパラメータも非常に増加し
てきた。これら数多くのコマンドおよびパラメータはそ
れぞれ半導体製造装置の動作を制御する上で重要な役割
を果たすものであり、装置の機能を最大限利用する場合
に欠くことができないものである。
ところが、その数が多いことから装置を操作するエンジ
ニアやオペレータ等がそれらすべてのコマンド等を記憶
することは全く不可能である。特に、オペレータは半導
体製造装置について主に日常の動作開始および停止の操
作を行なうために配置されている者であり、すべてのコ
マンド等を記憶することは不必要といえる。すなわち、
すべてのコマンドおよびパラメータにより装置を操作す
るのは、元来、熟練者であるエンジニアの仕事であり、
オペレータが日常、操作するパラメータはごく一部のも
ののみで充分である。以上のような事情から、例えば、
オペレータが日常使用するコマンド以外のコマンドを使
用するような場合には、脂気な記憶に頼るため、所望の
ものとは異なるコマンドを入力してしまうという誤操作
がかなりあった。
ニアやオペレータ等がそれらすべてのコマンド等を記憶
することは全く不可能である。特に、オペレータは半導
体製造装置について主に日常の動作開始および停止の操
作を行なうために配置されている者であり、すべてのコ
マンド等を記憶することは不必要といえる。すなわち、
すべてのコマンドおよびパラメータにより装置を操作す
るのは、元来、熟練者であるエンジニアの仕事であり、
オペレータが日常、操作するパラメータはごく一部のも
ののみで充分である。以上のような事情から、例えば、
オペレータが日常使用するコマンド以外のコマンドを使
用するような場合には、脂気な記憶に頼るため、所望の
ものとは異なるコマンドを入力してしまうという誤操作
がかなりあった。
通常、これらの誤操作を防止するためには、オペレータ
等のユーザは熟練者に聞いたりマニュアル等に頼らざる
を得ない状況にある。これは、装置の操作上非常に不便
である。例えば、装置を操作する際にコンソールの前で
オペレータがマニュアルを調べながらコマンドを入力す
るような場面がまま見られる。そのような場合、オペレ
ータの入力速度は極めて遅くなり、結果として、装置の
スルーブツトを落としたりオペレータがコンソールでの
操作に集中できずに入力間違いも多くなる。
等のユーザは熟練者に聞いたりマニュアル等に頼らざる
を得ない状況にある。これは、装置の操作上非常に不便
である。例えば、装置を操作する際にコンソールの前で
オペレータがマニュアルを調べながらコマンドを入力す
るような場面がまま見られる。そのような場合、オペレ
ータの入力速度は極めて遅くなり、結果として、装置の
スルーブツトを落としたりオペレータがコンソールでの
操作に集中できずに入力間違いも多くなる。
特に、コマンドやパラメータは1〜3文字程度の略称と
なっていたりコード化されている場合が多く、そのよう
な場合は、ざらに誤操作が多くなるという欠点があった
。
なっていたりコード化されている場合が多く、そのよう
な場合は、ざらに誤操作が多くなるという欠点があった
。
[発明の目的1
本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、オペレータ等が
装置のコマンドや動作パラメータを入力する際の誤操作
を防止し、所望の操作を確実に行なうことのできる半導
体製造装置を捉供することを目的とする。
装置のコマンドや動作パラメータを入力する際の誤操作
を防止し、所望の操作を確実に行なうことのできる半導
体製造装置を捉供することを目的とする。
[実施例の説明]
以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
を示す。同図において、1は集積回路パターンを備えた
マスクで、他にマスクアライメントマークやマスク・ウ
ェハ・アライメントマークを備えている。2はマスクス
テージで、マスク1を保持してマスク1を平面内(XY
方向)及び回転方向(θ方向)に移動させる。3は縮小
投影レンズ、4は感光層を備えるウェハで、マスク・ウ
ェハ・アライメントマークとテレビ・ウェハアライメン
トマークを備えている。5はウェハステージである。ウ
ェハステージ5はウェハ4を保持してそれを平面内及び
回転方向に移動させるものであり、またウェハ焼付位置
(投影野内)とテレビ・ウェハアライメント位置間を移
動する。6はテレビ・ウェハアライメント用検知装置の
対物レンズ、7は踊像管または固体影像素子、9は双眼
ユニットで、投影レンズ3を介してウェハ4の表面を観
察するために役立つ。10は照明光学系およびマスク・
ウェハ・アライメント用の検知装置を収容する上部ユニ
ットであ′る。11は投影露光装置本体に指令を与える
コンソールのモニタ受像R(コンソールCRT)、12
は装置に指令を与えたりパラメータを入力するキーボー
トである。
を示す。同図において、1は集積回路パターンを備えた
マスクで、他にマスクアライメントマークやマスク・ウ
ェハ・アライメントマークを備えている。2はマスクス
テージで、マスク1を保持してマスク1を平面内(XY
方向)及び回転方向(θ方向)に移動させる。3は縮小
投影レンズ、4は感光層を備えるウェハで、マスク・ウ
ェハ・アライメントマークとテレビ・ウェハアライメン
トマークを備えている。5はウェハステージである。ウ
ェハステージ5はウェハ4を保持してそれを平面内及び
回転方向に移動させるものであり、またウェハ焼付位置
(投影野内)とテレビ・ウェハアライメント位置間を移
動する。6はテレビ・ウェハアライメント用検知装置の
対物レンズ、7は踊像管または固体影像素子、9は双眼
ユニットで、投影レンズ3を介してウェハ4の表面を観
察するために役立つ。10は照明光学系およびマスク・
ウェハ・アライメント用の検知装置を収容する上部ユニ
ットであ′る。11は投影露光装置本体に指令を与える
コンソールのモニタ受像R(コンソールCRT)、12
は装置に指令を与えたりパラメータを入力するキーボー
トである。
第2図は、第1図の投影露光装置の電気回路構成を示す
ブロック図である。同図において、21は装置全体の制
御を司る本体CPUで、マイクロコンピュータまたはミ
ニコンピユータ等の中央演算処理装置からなる。22は
ウェハステージ駆動装置、23はアライメント検出系、
24はレチクルステージ駆動装置、25は照明系、26
はシャッタ駆動装置。
ブロック図である。同図において、21は装置全体の制
御を司る本体CPUで、マイクロコンピュータまたはミ
ニコンピユータ等の中央演算処理装置からなる。22は
ウェハステージ駆動装置、23はアライメント検出系、
24はレチクルステージ駆動装置、25は照明系、26
はシャッタ駆動装置。
27はフォーカス検出系、28は2駆動装置で、これら
は、本体c p U 21により制御される。29は搬
送系である。
は、本体c p U 21により制御される。29は搬
送系である。
30はコンソールユニットで、本体CPU21にこの露
光装置の動作に関する各種の指令やパラメータを与える
ためのものである。31はコンソールCPU、32はパ
ラメータ等を記憶する外部メモリである。なお、CRT
llおよびキーボート12は第1図のものと同一である
。
光装置の動作に関する各種の指令やパラメータを与える
ためのものである。31はコンソールCPU、32はパ
ラメータ等を記憶する外部メモリである。なお、CRT
llおよびキーボート12は第1図のものと同一である
。
第3図は、コマンドをグループ化した様子を示す階層図
である。同図において、最下層は実行コマンドである。
である。同図において、最下層は実行コマンドである。
コマンド入力待ち状態においてこれらのコマンドを入力
すると、装置はそのコマンドに従った動作を行なう。実
行コマンドはいくつかまとめてグループ化し、中段に示
すようなグループ名を付している。1つの実行コマンド
が複数のグループに含まれることとしてもよい。
すると、装置はそのコマンドに従った動作を行なう。実
行コマンドはいくつかまとめてグループ化し、中段に示
すようなグループ名を付している。1つの実行コマンド
が複数のグループに含まれることとしてもよい。
次に、第4図のフローチャートおよび第5a〜5e図の
表示画面例を参照しながら、第1図および第2図に示す
装置においてコマンドのグループを定義する際の動作を
説明する。
表示画面例を参照しながら、第1図および第2図に示す
装置においてコマンドのグループを定義する際の動作を
説明する。
この装置においては、電源投入侵の初期化を終了したと
き、および所定の動作指令(コマンド)を実行し終えた
とき、コマンド待ち状態となる。
き、および所定の動作指令(コマンド)を実行し終えた
とき、コマンド待ち状態となる。
つまり、コンソールCP U 31はキーボート12に
おけるキー操作を待機し、本体CP U 21はコンソ
ールCP U 31からの通信待ち状態となる。そして
、この状態でキーボート12からコマンドのグループ定
義のためのコマンド(例えばGD)が入力されると、コ
ンソールCPU31の制御のもとに以下のグループ定義
処理を開始する。
おけるキー操作を待機し、本体CP U 21はコンソ
ールCP U 31からの通信待ち状態となる。そして
、この状態でキーボート12からコマンドのグループ定
義のためのコマンド(例えばGD)が入力されると、コ
ンソールCPU31の制御のもとに以下のグループ定義
処理を開始する。
なお、ここでは予め定義しであるグループに新たな実行
コマンドをメンバとして登録する場合について説明する
。グループを新たに定義するのか、または、予め存在す
るグループの定義を変更するのかについての区別はグル
ープ定義コマンドを入力するときに行なう。例えば、上
記の]マントGDをグループ名のパラメータ例えばAA
を付与してrGD AAJと入力したとき、そのグル
ープAAの定義の変更とし、パラメータ無しで入力した
とき、新たなグループの定義とすればよい。
コマンドをメンバとして登録する場合について説明する
。グループを新たに定義するのか、または、予め存在す
るグループの定義を変更するのかについての区別はグル
ープ定義コマンドを入力するときに行なう。例えば、上
記の]マントGDをグループ名のパラメータ例えばAA
を付与してrGD AAJと入力したとき、そのグル
ープAAの定義の変更とし、パラメータ無しで入力した
とき、新たなグループの定義とすればよい。
グループ定義処理においては、まず、処理するグループ
の名称、パスワード等をCRTllに表示する(ステッ
プ81)。このときの画面表示は第5a図に示すような
ものである。また、これらのデータは外部メモリ32に
記憶されている。ここでは、グループ名がrAAJ、パ
スワードがrCanX×」、コメントが「MOS」、メ
ンバが「oC」、rWAJおよびrRcJである。各メ
ンバにはそれぞれコメントが付与されている。下段のr
sIect No、 Or EndJはプロンプ
トメツセージであり、どの項目を変更するか、あるいは
グループ定義処理を終了するかについての入力を促して
いる(ステップS2)。ここで、それぞれの項目に付さ
れているナンバを入力することでそれらを変更すること
ができる。例えば、「1」を入力するとステップ53J
5よびS4においてグループ名の変更が可能である。パ
スワードおよびコメントについても同様にステップ85
〜S8で変更できる。
の名称、パスワード等をCRTllに表示する(ステッ
プ81)。このときの画面表示は第5a図に示すような
ものである。また、これらのデータは外部メモリ32に
記憶されている。ここでは、グループ名がrAAJ、パ
スワードがrCanX×」、コメントが「MOS」、メ
ンバが「oC」、rWAJおよびrRcJである。各メ
ンバにはそれぞれコメントが付与されている。下段のr
sIect No、 Or EndJはプロンプ
トメツセージであり、どの項目を変更するか、あるいは
グループ定義処理を終了するかについての入力を促して
いる(ステップS2)。ここで、それぞれの項目に付さ
れているナンバを入力することでそれらを変更すること
ができる。例えば、「1」を入力するとステップ53J
5よびS4においてグループ名の変更が可能である。パ
スワードおよびコメントについても同様にステップ85
〜S8で変更できる。
第5a図の画面ではメンバについて処理するため「4」
を入力している(ステップ89)。すると、画面は第5
b図に示すようなものとなる。この画面では、グループ
に関する定義情報は第5a図と同一だが、下段のプロン
プトメツセージが異なる。
を入力している(ステップ89)。すると、画面は第5
b図に示すようなものとなる。この画面では、グループ
に関する定義情報は第5a図と同一だが、下段のプロン
プトメツセージが異なる。
このメツセージ「3elect (0:ADD、
1 :[)ELETE、E:END)Jはメンバを新た
に追加するのか、削除するのかまたはメンバの変更処理
を終了するのかについての入力を促している(ステップ
510)。この入力後は追加、削除または終了の別を判
別し、追加のときはステップS11および812、削除
のときはステップ813およびS14でそれぞれの処理
を行なう。第5b図の画面ではメンバの追加を示すrO
Jを入力している(ステップ511)。この入力により
画面は第5C図に示すようなものとなる。下段にはrA
DD (4)Jとメツセージが表示され、4番目のメン
バの追加処理を行なっている旨を示している。ここで同
図のように、r RA : Co1unent D
J ヲMtニーなメンバとして入力すると、画面は第5
d図のようになり、新規メンバが追加登録される(ステ
ップ512)。その後、シーケンスはステップS10に
戻り、再びメンバの変更処理を続行することができる。
1 :[)ELETE、E:END)Jはメンバを新た
に追加するのか、削除するのかまたはメンバの変更処理
を終了するのかについての入力を促している(ステップ
510)。この入力後は追加、削除または終了の別を判
別し、追加のときはステップS11および812、削除
のときはステップ813およびS14でそれぞれの処理
を行なう。第5b図の画面ではメンバの追加を示すrO
Jを入力している(ステップ511)。この入力により
画面は第5C図に示すようなものとなる。下段にはrA
DD (4)Jとメツセージが表示され、4番目のメン
バの追加処理を行なっている旨を示している。ここで同
図のように、r RA : Co1unent D
J ヲMtニーなメンバとして入力すると、画面は第5
d図のようになり、新規メンバが追加登録される(ステ
ップ512)。その後、シーケンスはステップS10に
戻り、再びメンバの変更処理を続行することができる。
メンバ変更処理を終了する場合は、ステップ310の入
力において、すなわち第5d図の画面においてrEJを
入力しくステップ515)、ステップS2に戻る。グル
ープの定義処理を終了する場合は、ステップS2におい
て、第5e図のようにrEJを入力する(ステップ51
6)。これにより、グループの各種定義データは外部メ
モリ32に記憶される。
力において、すなわち第5d図の画面においてrEJを
入力しくステップ515)、ステップS2に戻る。グル
ープの定義処理を終了する場合は、ステップS2におい
て、第5e図のようにrEJを入力する(ステップ51
6)。これにより、グループの各種定義データは外部メ
モリ32に記憶される。
次に、第6図のフローチャートおよび第7図の表示画面
例を参照しながら、第1図および第2図に示す装置にお
けるコマンド入力の動作を説明する。
例を参照しながら、第1図および第2図に示す装置にお
けるコマンド入力の動作を説明する。
まず、コマンド入力持ち状態からコマンドが入力される
とくステップ521)、実行レベルのコマンドかどうか
を判別する(ステップ522)。もし、実行レベルのコ
マンドのときは、その入力された実行コマンドに応じた
処理を実行する。実行レベルのコマンドでない場合は、
グループ名かどうかを判別しくステップ523)、グル
ープ名でもないときはエラーを表示しくステップ524
)、再びコマンド入力待ちの状態に戻る(ステップ52
1)。
とくステップ521)、実行レベルのコマンドかどうか
を判別する(ステップ522)。もし、実行レベルのコ
マンドのときは、その入力された実行コマンドに応じた
処理を実行する。実行レベルのコマンドでない場合は、
グループ名かどうかを判別しくステップ523)、グル
ープ名でもないときはエラーを表示しくステップ524
)、再びコマンド入力待ちの状態に戻る(ステップ52
1)。
ステップ823でグループ名の場合は、グループを構成
する実行レベルコマンド等のグループのデータを外部メ
モリ32から読み出しCRTllに一見表示する(ステ
ップ525)。このときの画面は第7図のようなもので
ある。同図において、画面の上段にはコマンド入カニリ
アがあり、グループ名としてrAAJが入力されている
。中段には、それに対応してグループ名AAを構成する
すべてのコマンドがコメントとともに表示されている。
する実行レベルコマンド等のグループのデータを外部メ
モリ32から読み出しCRTllに一見表示する(ステ
ップ525)。このときの画面は第7図のようなもので
ある。同図において、画面の上段にはコマンド入カニリ
アがあり、グループ名としてrAAJが入力されている
。中段には、それに対応してグループ名AAを構成する
すべてのコマンドがコメントとともに表示されている。
このコメントによりコマンドの動作の概要を知ることが
できる。その後は、画面を見て実行コマンドを入力すれ
ばよい(ステップ526)。
できる。その後は、画面を見て実行コマンドを入力すれ
ばよい(ステップ526)。
なお、ここでは実行コマンドの入力を略称で行なうよう
にしているが、第7図に示す一覧表示においてコマンド
にナンバを付しておき、そのナンバを入力することによ
り実行コマンドと同様な機能を実行するようにもできる
。
にしているが、第7図に示す一覧表示においてコマンド
にナンバを付しておき、そのナンバを入力することによ
り実行コマンドと同様な機能を実行するようにもできる
。
前述したように、本実施例の投影露光装置においては、
実行レベルのコマンドのグループをユーザが自由に定義
できる。また、1つの実行コマンドが複数のグループの
構成要素となることもできるし、グループの名称も自由
に付与できる。従って、例えば実行コマンドの機能別、
名称別、使用者別等のさまざまな分は方でグループ化を
行なっておけば、不明瞭なコマンドを検索する上で非常
に効果がある。すなわち、ユーザが装置の操作途中で入
力したい所望のコマンドが不明になったときには、いろ
いろなグループ名でコマンドの確認が行なえるため、装
置の誤操作を防止することができる。また、これらのコ
マンドの確認部ユーザがコンソールをそのまま使用して
行なえるので、ユーザはコンソールに対する一連の操作
の流れをマニュアルを参照する等でときらせることなく
、コンソールに集中したまま操作を続行することができ
る。
実行レベルのコマンドのグループをユーザが自由に定義
できる。また、1つの実行コマンドが複数のグループの
構成要素となることもできるし、グループの名称も自由
に付与できる。従って、例えば実行コマンドの機能別、
名称別、使用者別等のさまざまな分は方でグループ化を
行なっておけば、不明瞭なコマンドを検索する上で非常
に効果がある。すなわち、ユーザが装置の操作途中で入
力したい所望のコマンドが不明になったときには、いろ
いろなグループ名でコマンドの確認が行なえるため、装
置の誤操作を防止することができる。また、これらのコ
マンドの確認部ユーザがコンソールをそのまま使用して
行なえるので、ユーザはコンソールに対する一連の操作
の流れをマニュアルを参照する等でときらせることなく
、コンソールに集中したまま操作を続行することができ
る。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、半導体製造装置
において、コマンドおよび動作パラメータをグループ化
しグループ名を付して記憶し、コマンド入力待ち状態で
このグループ名が入力された場合には、グループを構成
するコマンドおよび動作パラメータを表示するようにし
ているので、オペレータ等がコマンドやパラメータを入
力する際の誤操作を防止し、所望の操作を確実に行なう
ことができる。
において、コマンドおよび動作パラメータをグループ化
しグループ名を付して記憶し、コマンド入力待ち状態で
このグループ名が入力された場合には、グループを構成
するコマンドおよび動作パラメータを表示するようにし
ているので、オペレータ等がコマンドやパラメータを入
力する際の誤操作を防止し、所望の操作を確実に行なう
ことができる。
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
図、 第2図は、上記実施例の投影露光装置の制御回路を示す
ブロック図、 第3図は、コマンドをグループ化した様子を示す階層図
、 第4図は、上記実施例においてコマンドのグループを定
義する際の動作および作用を説明するためのフローチャ
ート、 第5図は、上記実施例においてコマンドのグループを定
義する際の表示画面例、 第6図は、上記実施例においてコマンド入力する際の動
作および作用を説明するためのフローチャート、 第7図は、上記実施例においてコマンド入力する際の表
示画面例である。 11・・・モニタ用CRT、12・・・キーボート、2
1・・・本体CPU130・・・コンソール、31・・
・コンソールCPU132・・・外部メモリ。 第50図 115b図 E5cl1 15daW 第5e図 第6図
図、 第2図は、上記実施例の投影露光装置の制御回路を示す
ブロック図、 第3図は、コマンドをグループ化した様子を示す階層図
、 第4図は、上記実施例においてコマンドのグループを定
義する際の動作および作用を説明するためのフローチャ
ート、 第5図は、上記実施例においてコマンドのグループを定
義する際の表示画面例、 第6図は、上記実施例においてコマンド入力する際の動
作および作用を説明するためのフローチャート、 第7図は、上記実施例においてコマンド入力する際の表
示画面例である。 11・・・モニタ用CRT、12・・・キーボート、2
1・・・本体CPU130・・・コンソール、31・・
・コンソールCPU132・・・外部メモリ。 第50図 115b図 E5cl1 15daW 第5e図 第6図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、多数のコマンドおよび動作パラメータに従って動作
する半導体製造装置であつて、該コマンドおよび動作パ
ラメータをグループ化しグループ名を付して記憶すると
ともに、コマンド入力待ち状態における該グループ名の
入力によりグループを構成するコマンドおよび動作パラ
メータを表示することを特徴とする半導体製造装置。 2、前記グループ化が、前記コマンドおよび動作パラメ
ータとともにコメントを記憶し、前記表示の際に前記コ
マンドおよび動作パラメータとともに該コメントを表示
する特許請求の範囲第1項記載の半導体製造装置。 3、前記動作が露光動作である特許請求の範囲第1また
は2項記載の半導体製造装置。 4、前記グループ化が、キーボートからの入力データに
基づいて変更可能である特許請求の範囲第1〜3項のい
ずれか1つに記載の半導体製造装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60164799A JPS6225418A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
US07/752,986 US5197118A (en) | 1985-07-25 | 1991-09-03 | Control system for a fine pattern printing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60164799A JPS6225418A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6107400A Division JP2614188B2 (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | コマンド管理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6225418A true JPS6225418A (ja) | 1987-02-03 |
JPH0535566B2 JPH0535566B2 (ja) | 1993-05-26 |
Family
ID=15800152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60164799A Granted JPS6225418A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6225418A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0273616A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Canon Inc | 露光装置の制御方法 |
JPH02111801U (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-06 | ||
DE102015007831A1 (de) | 2015-06-18 | 2016-12-22 | Michael Klemt | Schaltungsanordnung zur Galvanisch isolierten Ansteuerung eines ladungsgesteuerten Leistungsschalters |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5549713A (en) * | 1978-10-02 | 1980-04-10 | Nec Corp | Automatic work processing system |
JPS6084605A (ja) * | 1983-07-25 | 1985-05-14 | ラ テレメカニク エレクトリク | プログラマブルコントローラ用プログラムを作成するプログラミング端末装置 |
-
1985
- 1985-07-25 JP JP60164799A patent/JPS6225418A/ja active Granted
Patent Citations (2)
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