JPS6225421A - 半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、ＬＳｌ、ＶＬＳＩ等の半導体デバイスを製造
する装置に関し、特に、半導体デバイスの製造動作にお
ける各種動作条件を表わすパラメータを確認または設定
する際の装Ｒの操作を簡便、迅速かつ確実に行なうこと
ができる半導体製造装置に関する。

［発明の背景］ 半導体集積回路の集積度の向上に伴い、半導体製造装置
の高機能化や高性能化が計られている。

これらの高機能化や高性能化に伴ってこの種の装置を動
作させる際のパラメータも増加してきた。

このようなパラメータは、例えばステップアンドリピー
ト式の投影露光装置においては、数」−個から時には数
百側にも及ぶ場合がある。

これら数多くのパラメータはマスク工程やロフトを切換
えた場合等に、その設定状態を確認づる必要がある。し
かし、上記のように膨大な数のパラメータのチェックは
、最早、半導体製造装置について主に日常の動作開始お
にび停止１の操作を行なうために配置されているオペレ
ータにとっては不可能でさえある。また、すべてのパラ
メータをチェックするのは、元来、熟ＩＩＪ！者である
エンジニアの仕事であり、オペレータが日常、操作する
パラメータはごく一部のもののみで充分である。

以」二のような事情から、例えばマスクエ稈ごとにパラ
メータの最適値を記憶しておき、マスクエ稈が決まれば
記憶されているパラメータ値を一括して設定するように
した装置も近業されている。

しかし、この場合であってもピント位置や露光時間等は
雰囲気や経時等により変化し易く、変更しなければなら
ない場合がままある。従来の装置において、この一部の
パラメータを変更しようとすれば、上記の数百個にも及
ぶパラメータの内から所望のものを一覧表等により検索
し、そのパラメータのコード名をキー人力して特定した
後そのパラメータを変更設定しており、コード名を誤検
索したり誤人力し勝らＣあった。′？Ｊなわｔ）、オペ
レータにとってパラメータ変更の作業は至難の業であり
、誤操作従って半導体製品不良の発生するおそれが多分
にあった。

［発明の目的］ 本発明は、［述従来形の問題点に鑑み、オペレータが装
置の動作パラメータを確認したり変更したりする際の誤
操作を防止し、簡便、迅速かつ確実に操作することので
きる半導体製造装置を提供することを目的とする。

［実施例の説明１ 以下、図面に従って本発明の詳細な説明づる。

第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
を承り。同図において、１は集積回路パターンを備えた
マスクで、他にマスクアライメントマークやマスク・ウ
ェハ・アライメントマークを備えている。２はマスクス
テージで、マスク１を保持してマスク１を平面内（ＸＹ
ｈ向）及び回転方向（θ方向）に移ｖＪさせる。３は縮
小投影レンズ、４は感光層を備えるウェハで、マスク・
ウェハ・アライメントマークとテレビ・ウェハアライメ
ントマークを備えている。５はウェハステージである。

ウェハステージ５はウェハ４を保持してそれを平面内及
び回転方向に移動させるものであり、またウェハ焼イ１
位置（投影野内）とテレビ・ウェハアライメント位置間
を移動づる。６はテレビ・ウェハアライメント用検知装
置の対物レンズ、７は躍像管または固体影像素子、９は
双眼ユニッｌ−で、ｉＱ　ｔｌレンズ３を介してウェハ
４の表面を観察するために役立つ。１０は照明光学系お
よびマスク・・ウェハ・アライメント用の検知装置を収
容づる上部ユニットである。１１は投影露光装置本体に
指令を与えるコンソールのモニタ受像機（］ンソールＣ
ＲＴ）、１２は装置に指令を与えたりパラメータを入力
するキーボードである。

第２図は、第１図の投影露光装置の電気回路構成を示す
ブロック図であや。同図において、２１はｌ全体の制御
を司る本体ＣＰＵで、マイクロコンビコータまたはミニ
コンピユータ等の中央演算処理装置からなる。２２はウ
ニハスデージ駆動装置、２３はアライメント検出系、２
４はレヂクルステージ駆動装置、２５は照明系、２６は
シャッタ駆仙装固、２７はフォーカス検出系、２８はＺ
駆＠装首で、これらは、本体ＣＰｔＪ２１によりｔ、制
御される。２つは搬送系である。

３０はコンソールユニットで、本体ＣＰ　Ｕ　２１にこ
の露光装置の動作に関する各種の指令やパラメータを与
えるためのものである。３１はコンソールＣＰＵ、３２
はパラメータ等を記憶する外部メＵりである。なお、Ｃ
ＲＴＩＩおよびキーボード１２は第１図のものと同一で
ある。

次に、第３図のフローチャートおよび第４図の表示画面
例を参照しながら、第１図および第２図に示す装置の動
作を説明する。

この装置においては、電源投入後の初期化を終了したと
さ、および所定の動作指令（コマンド〉を実行し終えた
とぎ、コマンド侍ら状態となる。

つまり、コンソールＣＰ　Ｕ　３１はキーボード１２に
おけるキー操作を待機し、本体ＣＰ　Ｕ　２１はコンソ
ールＣＰＵ３１からの通信持ち状態となる。そして、こ
の状態でキーボード１２から動作パラメータの表示のた
めのコマンド（例えばＰＤ）が入力されると、コンソー
ルＣＰ　Ｕ　３１の制御の乙とに以下のパラメータ表示
／変更処理を開始する。

本実施例ではオペレータ［−ドおよびエンジニアモード
の２つの表示［−ドが用意されている。

ステップＳ１では、ＣＲＴ　１１に表示モード選択を促
すプロング（−メツセージを表示し、キーボード１２か
らの入力データに基づいてこれらのモードのうちいずれ
が選択されたかを判定する。

ステップＳ１でオペレータモードが選択された場合（ま
、外部メモリ３２に記憶されている多数のパラメータの
うちオペレータモードに応じた特定のパラメータのみを
ＣＲＴｌｌに表示する（ステップＳ２）。この特定のパ
ラメータは、メーカ設定としてもよく、またはエンジニ
アにより変更可能にしておいてもよいが、現時点では既
に設定されているものとする。同時に、変更するデータ
を示すノンバまたは終了コードの入力を促寸プロンプト
メツセージを表示する。このとき、表示画面は第４図の
Ｄｌのようなものとなる。画面Ｄ１の上段には、コマン
ド入カニリアが有り、キーボード１２から入力した袋口
本体に対する杯々の指令をモニタできるようになってい
る。このコマンド入カニリアに表示されているｒＯＰＪ
は、オペレータモードでパラメータの変更を行なうこと
を示すコマンドである。中段の１から３はオペレータモ
ードにおいて表示される特定の動作パラメータである。

これらの特定パラメータは、オペレータがＶｉ首を操作
する際に変更する可能性が大きいものである。従って、
パラメータ表示指令の入力後、画面Ｄ１のように特定パ
ラメータを表示することによって、オペレータは主要な
パラメータを確実に確認することができ、例えばパラメ
ータが間違ったまま露光動作等の主動作を行なうという
誤操作を防止できる。また、この表示パラメータは、元
来オペレータが変更する可能性の多いもののみであり、
参照しなくてもよいようなものは含まれていない。従っ
て、その個数もそれ程多くはないため、確認は簡便かつ
迅速に行なうことができる。また。

これらのパラメータとして前回の露光動作において用い
たものを表示するようにすれば、パラメータ変更は工程
変更等露光条件を変更する必要がある場合にのみ行なえ
ばよく、作業を簡略にすることができる。

画面Ｄ１の下段の表示ｒ　ＣＨＡ　Ｎ　Ｇ　Ｅ　　Ｎ　
Ｏ。

ＯＲＥＮＤ　　？Ｊは、変更項目ナンバまたは終了コー
ドの入力を促すプロング１へメツセージである。寸なわ
ら、表示されたパラメータの中に変更を要するものがあ
る場合は、そのナンバをキーボード１２から人力する。

画面Ｄ１では、ナンバ３のパラメータハ露光時間（Ｅ　
Ｘ　Ｐ　ＯＳ　Ｕ　ＲＥ　　ＴＩ　Ｍ　Ｅ　）を示しそ
の値は２００ｍ３である。ここで、変更データのナンバ
として「３」をキー人力すると（ステップＳ３）、表示
画面は第４図の画面［〕２に示すようになる。Ｄ２の下
段のｒＥＸＰＯ３ＬＪＲＥ　　ＴＩＭＥ　　２００ｎ＋
ＳＪは、ナンバ３の動作パラメータの現在値を示してお
り、現在この項目を変更していることを示している。こ
の値は、外部メモリ３２に記憶されていたしのである。

この２００ｍ５を変更するためには変更データを入力す
る（ステップＳ４）。ここでは露光時間を１５０ｍ３に
変更するように１−１５０Ｊをキー人力している。その
結果、露光時間は変更され表示両面はＤ３（但し、ｒＥ
Ｊはなし）のようなものとなる。さらに変更すべき項目
がある場合はステップＳ２より上記のパラメータ変更操
作を繰り返せばよい。また、パラメータの変更操作を終
了する場合は画面Ｄ３のように終了コードとしてｒＥＪ
を入力ずれば、パラメータの表示モードは終了し開始指
令が入力された時点の状況に戻る。

ステップＳ１において、エンジニアセードと判別した場
合には、ステップ８５〜Ｓ７においてオペレータモード
のステップ８２〜Ｓ４と同様な処理を行なう。オペレー
タモードとの相違点は、エンジニアモードにｊ′３いて
は、すべての動作パラメータが表示され、その変更が可
能であるということである。

前述したように、本実施例の投影露光装置においてオペ
レータモード時に表示される動作パラメ−夕は、オペレ
ータが装置を操作する際に変更する可能性の多いもので
ある。従って、オペレータはこれらのパラメータを表示
画面により簡単に確認することができるが、さらに、こ
れらのパラメータを変更する場合にも、従来のように全
パラメータの中から検索する必要はなく、簡便にかつ迅
速に動作パラメータの変更が行なえる。また、表示され
るパラメータの個数はそれ程多くないので、誤操作も低
減し変更操作が確実となる。

なお、上記実施例では、表示モードを２つに分けている
が、分は方としてはこれに限ることなく装置を使用する
者が何名いるか、おにびその知識または技術レベル等の
条件により適宜変更することができる。

また、表示および変更可能なパラメータも主動作の種類
（ＪＯＢ　　ＮＡＭＥ）、焦点位置（ＦＯＣＵＳ）およ
び露光時間（ＥＸＰＯ８ＵＲＥ　　ＴＩＭＥ）としてい
る。これは、投影露光装置において、日常、オペレータ
が確認し変更するパラメータが上記の３つであるという
ことに基づくものである。現在、投影露光装置において
、オペレータはこれら以外のパラメータについてはほと
んど確認も変更もする必要がない。しかし、表示Ｊ３よ
び変更が可能なパラメータは装置の種類等の各種の条件
により、適宜変更することができる。例えば、上記実施
例においてはコンソールＣＰｕで実行するプログラムの
変更等により容易に変更可能である。

さらに、上記実施例では、表示指令をオペレータ等が入
力することとしているが、自動的に開始することも可能
である。例えば、あるコマンドを入力したとき、本実施
例に示したような機能を自動的に行なうことは、プログ
ラムの変更等により容易に実行可能である。例えば、主
動作開始指令により、装置の動作を直りに立ち上げずに
一旦上記パラメータ表示を行ない、ここでパラメータ確
認信号の入力を待った後、実動作に入るようにすれば、
工程等が変更されたにもかかわらずもとのパラメータの
まま装置を動作させて不良品の山を築くというような失
敗を防止することができる。

［発辺の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、半導体製造装置
において、主要な動作パラメータは、池の動作パラメー
タとは分離して表示でさるようにしているので、オペレ
ータ等は、装置を操作する際に使用する頻度の高い主要
なパラメータを簡便、迅速かつ確実に確認し、かつ必要
があれば変更することができる。特に、動作パラメータ
の変更においては多数の動作パラメータの中から検索す
る際のような誤認等の問題も防止することが可能である
。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
図、 第２図は、上記実施例の投影露光装置の制御回路を示す
ブロック図、 第３図は、上記実施例・の動作および作用を説明するた
めのフローチャート、 第４図は、表示画面例である。 １１・・・モニタ用ＣＲＴ、１２・・・キーボード、２
１・・・本体ＣＰＵ、３０・・・コンソール、３１・・
・コンソールＣＰＵ、３２・・・外部メモリ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、多数の動作パラメータに従って動作する半導体製造
   装置であつて、上記動作パラメータの表示モードとして
   、予め選定された特定の動作パラメータのみを表示する
   モードと全部の動作パラメータを表示するモードとの少
   なくとも２種類の表示モードが設定されており、かつこ
   れらの表示モードのいずれかを選択する手段が設けられ
   ていることを特徴とする半導体製造装置。 ２、前記動作が露光動作であり、前記特定の動作パラメ
   ータが露光時間および焦点位置である。 特許請求の範囲第１項記載の半導体製造装置。 ３、キーボードと、該キーボードからの入力データに基
   づいて前記表示された動作パラメータを書換る手段とを
   備えている特許請求の範囲第１または２項記載の半導体
   製造装置。 ４、前記特定の動作パラメータ表示が、装置の主動作開
   始指令入力時に自動的に選択される特許請求の範囲第１
   項記載の半導体製造装置。