JP2000306815A - 露光装置および露光装置システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 サーバ内で全ジョブファイルを一元管理する
ことで、データ量を最小限に抑え、また、管理対象を指
定することが出来る柔軟性を持たせることで、特定のス
テッパ内で行われた任意のパラメータ変更を他のステッ
パにも反映させる。 【解決手段】 露光装置管理装置（サーバ）と露光装置
をネットワーク接続してなる露光装置システムにおい
て、前記露光装置は、パラメータに変更が行なわれた
際、前記サーバに変更パラメータを通知し、前記サーバ
は、前記露光装置から送られた変更パラメータを保存お
よび差分管理する。前記差分管理は、例えばオペレータ
が指定するパラメータのみについて行なう。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ネットワーク対応
露光装置およびこの露光装置を用いた露光装置システム
に関する。このような露光装置および露光装置システム
は、ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣ
Ｄ、薄膜磁気ヘッド、およびマイクロマシン等の微小デ
バイスの製造に用いられる。

【０００２】

【従来の技術】現在の半導体製造工場はネットワーク化
が進み、半導体露光装置（以下、ステッパという）はイ
ーサネット等の標準ネットワークプロトコルにより、各
種のＬＡＮ（ローカル・エリア・ネットワーク）接続機
器や専用／公衆回線網を用いて接続されることが多くな
っている。

【０００３】こういった標準的なネットワーク技術の発
展と普及により、ネットワークに接続した半導体露光装
置管理装置（以下、サーバという）より、ネットワーク
を介してステッパを制御することが出来るようになって
きている。

【０００４】また、ステッパが露光を行なう時に必要と
なる情報（マシン・オフセットやショットのレイアウト
など）を１つにまとめたファイル（以下、ジョブファイ
ルという）にユニークな名前をつけ、露光を行なう際に
ジョブファイルをプログラムにロードする方式が一般的
になっている。上記のようなネットワーク対応ステッパ
システムの場合、サーバや各ステッパなどに記憶装置が
複数存在し、サーバの記憶装置や各ステッパ内の記憶装
置からジョブファイルをロードすることになる。

【０００５】こういったシステムではネットワーク上に
存在するデータの同期をとったり、データ量の削減を行
なうための手段の１つとして、本出願人による特開平１
０−２０７０８９に記載されているような装置固有パラ
メータを分離して管理する方法がとられている。しか
し、この管理方法の場合、管理対象である装置固有部分
の情報を前もって登録する必要がある。また、すべての
装置固有パラメータの管理を行なうために、管理対象の
データ内にも冗長な部分が存在し、データ量を最小限に
抑えているとは言い難い。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、サーバ内で
全ジョブファイルを一元管理することで、データ量を最
小限に抑え、また、管理対象を指定することが出来る柔
軟性を持たせることで、特定のステッパ内で行われた任
意のパラメータ変更を他のステッパにも反映させること
を可能にすることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決する為の手段】上記目的を達成するため、
本発明では、ＬＡＮインタフェースを具備したネットワ
ーク対応露光装置において、パラメータに変更が行なわ
れた際、ネットワーク上の露光装置管理装置（サーバ）
に変更パラメータを通知する手段を有することを特徴と
する。また、このようなネットワーク対応露光装置とと
もに露光装置システムを構成する前記露光装置管理装置
（サーバ）は、前記ネットワーク上の半導体露光装置か
ら送られた変更パラメータを保存および差分管理する手
段を有することを特徴とする。本発明の好ましい実施の
形態において、前記半導体露光装置管理装置（サーバ）
は、オペレータが指定するパラメータのみ前記差分管理
を行なう手段を有することを特徴とする。

【０００８】

【実施例】［実施例１］以下、本発明の実施例１を図面
に基づいて詳細に説明する。図１０は本発明の一実施例
に係る露光装置システムの構成を示す図である。半導体
露光装置（ステッパ）１０１、１０２、１０３は、イー
サネット通信網１０５を介してサーバ１０４に接続され
る。サーバ１０４は、ネットワーク上に接続された各ス
テッパに対して各種リモート指示や報告データ収集、デ
ータファイルの分類保持管理、ならびにデータファイル
の新規作成および編集等を行なう管理装置である。ステ
ッパおよびサーバは、それぞれイーサネット通信網を介
してジョブ・パラメータをお互いに転送する手段を有す
る。転送手段としては標準的なＬＡＮの機能を用いる。
ＬＡＮによるデータ伝送方式としてはＴＣＰ／ＩＰのソ
ケットインターフェースを用いたり、ＦＴＰ（ファイル
転送プロトコル）を用いることが簡単であり一般的に利
用されているが、それ以外のどのような独自のプロトコ
ルや方式を採用しても構わない。

【０００９】図１は、本実施例の動作を示すフローチャ
ートである。このシステムはネットワーク上の半導体露
光装置にオペレータ画面から露光に必要なパラメータ値
の変更作業を行なったとき、変更終了後、サーバに変更
パラメータが通知され、ステッパ毎のパラメータ値の違
いをサーバで管理するシステムである。

【００１０】ステップＦ１−Ｓ１では各ステッパからエ
ディタ画面を通して、ジョブファイルのパラメータ値を
変更する。例として、オペレータ画面からジョブファイ
ル名ＡＢＣ．ｊｏｂの露光量設定のパラメータ“Ｅｘｐ
ｏｓｕｒｅ Ｄｏｓｅ”を１０００Ｊ／（ｍ×ｍ）から
２０００Ｊ／（ｍ×ｍ）に変更したとする。ステップＦ
１−Ｓ２ではステップＦ１−Ｓ１で変更されたパラメー
タを同一ネットワークに接続されたサーバに通知する。
このときサーバに送信される情報は、 ・パラメータ変更が行なわれたジョブファイルのジョブ
ファイルＩＤ ・変更が行なわれたステッパのステッパＩＤ ・パラメータ毎にユニークに割り振られたパラメータＩ
Ｄ、および ・変更後のパラメータ値 である。

【００１１】本実施例の場合、 ジョブファイルＩＤ ：１０００ ステッパＩＤ ：１０３ パラメータＩＤ ：１００５ 変更後の値 ：２０００ が、サーバに送信されるとする。

【００１２】ステップＦ１−Ｓ３では、ステッパから送
られた情報をジョブファイルのデータベースの適切な位
置に登録する処理を行なう。この処理は後で詳細を述ベ
る。

【００１３】（パラメータ追加処理）図２はステップＦ
１−Ｓ３で示されているパラメータ追加処理の詳細をフ
ローチャートで示したものである。ステップＦ２−Ｓ１
では、サーバは送信されてきたパラメータが、どのジョ
ブファイルのどのパラメータであるかをジョブファイル
のデータベースから検索する。ジョブファイルの検索は
ジョブファイルＩＤで、パラメータの検索はパラメータ
ＩＤで行なう。

【００１４】図４および図５はジョブファイルのデータ
ベースの構造を示している。このデータベースは一般に
リレーショナルデータベースと呼ばれるもので、レコー
ド間の構造を２次元の表で表現したものである。図４で
は１つのジョブファイルに属するパラメータ群とそのパ
ラメータの値を知ることが出来る。図５では各パラメー
タのパラメータ名と上限値、下限値を知ることが出来
る。ステッパＩＤ：１０３、ジョブファイルＩＤ：１０
００、パラメータＩＤ：１００５のパラメータを図４の
テーブルから検索した場合、★印の位置に存在すること
がわかる。

【００１５】ステップＦ２−Ｓ２では、ステップＦ２−
Ｓ１で検索したパラメータに新たなステッパ毎に異なる
パラメータ値を書き込むための領域を確保する。本実施
例では、新たに図６のようなテーブルを作成し、ステッ
パ毎のパラメータ値の違いを保持（差分管理）する。

【００１６】ステップＦ２−Ｓ３ではステップＦ２−Ｓ
２で作成されたテーブル（図６）に変更されたパラメー
タ値に対応するパラメータＩＤ、マシンＩＤ、および変
更後のパラメータ値と変更前のパラメータ値を書き込
む。図６のテーブルでは変更が行われたステッパ以外の
ステッパＩＤを−１とし、変更前のパラメータ値をステ
ッパＩＤ：−１のパラメータ値格納領域に書き込む。す
なわち変更が通知されたステッパ以外のステッパがこの
パラメータ値を参照する場合はステッパＩＤ：−１のパ
ラメータ値を参照することになる。ステッパ毎の値が存
在するかどうかを判別するため、図４の★印のパラメー
タ値を、図７に★★印で示すように、“ＦＬＡＧＯＮ”
とする。

【００１７】以上の処理を経てパラメータの登録を行な
った結果、ステッパＩＤ：１０３のステッパが後日ＡＢ
Ｃ．ｊｏｂをロードする場合、次の順に処理が行なわれ
る。 １．ステッパＩＤ：１０３のステッパからＡＢＣ．ｊｏ
ｂのロード要求が来る。 ２．サーバは、送られて来た情報からＡＢＣ．ｊｏｂの
パラメータ情報を検索する。 各パラメータの値を取得する際、パラメータの値が“Ｆ
ＬＡＧＯＮ”かどうかチェックし、“ＦＬＡＧＯＮ”で
あった場合は、図６のテーブルを参照し、ロード要求の
あったステッパＩＤのパラメータ値格納領域からパラメ
ータ値を取得する。

【００１８】［実施例２］以下、本発明の実施例２を図
面に基づいて詳細に説明する。本実施例は、実施例１で
の半導体露光装置管理装置（サーバ）において差分管理
を行なう際、オペレータが差分管理を行なうパラメータ
を指定する手段を有することを特徴とする。

【００１９】図３は本実施例の処理の流れを示したもの
である。差分管理を行なうパラメータの指定方法はさま
ざまな方法があるが、本実施例の場合、あらかじめオペ
レータ画面から登録する方法をとる。

【００２０】登録すると図４（すなわち図７）のすべて
のジョブファイルＩＤに対する指定パラメータのパラメ
ータ値に“ＦＬＡＧＯＮ”文字列が書き込まれ（図
８）、新たに作成された図９−１のテーブルにＦＬＡＧ
ＯＮを書き込む前の値がステッパＩＤ：−１のパラメー
タ値として反映される。

【００２１】本実施例において、ステッパＩＤ：１０３
のステッパでパラメータＩＤ：１０００５のパラメータ
が１５００に変更されたとする。この変更がサーバに送
信されると、ステップＦ３−Ｓ１では、図８のテーブル
内から指定のパラメータ位置を検索し、ステップＦ３−
Ｓ２において、指定パラメータの取得パラメータ値が
“ＦＬＡＧＯＮ”かどうかを判断する。“ＦＬＡＧＯ
Ｎ”であった場合、ステップＦ３−Ｓ３より、図９−１
のテーブルに送信されたパラメータの情報を書き込む
（図９−２）。

【００２２】ステッパＩＤ：１０３のステッパからサー
バにジョブファイルのパラメータ情報取得要求がきた時
の処理の流れは、実施例１と同じである。

【００２３】［デバイス生産方法の実施例］次に上記説
明した露光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例
を説明する。図１１は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の
半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、
マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１
（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ス
テップ２（マスク製作）では設計したパターンを形成し
たマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）
ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディン
グ）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含
む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これが出荷（ステップ７）される。

【００２４】図１２は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上
に多重に回路パターンが形成される。本実施例の生産方
法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度のデバ
イスを低コストに製造することができる。

【００２５】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、ネット
ワーク上の半導体露光装置システムにおいて、ステッパ
毎に行われるジョブファイルのパラメータ変更をすべて
サーバに反映させ、ステッパ毎のパラメータ値の相違を
差分管理することで、サーバが管理するジョブファイル
のデータ量を最小限に抑えることが出来る。

【００２６】また、差分管理を行なうパラメータをオペ
レータが自由に指定することが出来ることを可能にした
ことで、特定のステッパ上で変更が行なわれたパラメー
タ値をネットワーク上の他のすべてのステッパに即座に
反映させることが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施例１の処理全体の流れを示すフローチャ
ートである。

【図２】 実施例１および２のパラメータ追加処理の流
れを示すフローチャートである。

【図３】 実施例２の処理全体の流れを示すフローチャ
ートである。

【図４】 実施例１のジョブファイル・データベースを
示す図である。

【図５】 実施例１のジョブファイル・データベースを
示す図である。

【図６】 実施例１のジョブファイル・データベースを
示す図である。

【図７】 実施例１のジョブファイル・データベースを
示す図である。

【図８】 実施例２のジョブファイル・データベースを
示す図である。

【図９】 実施例２のジョブファイル・データベースを
示す図である。

【図１０】 本発明の一実施例に係る装置システム全体
を示す図である。

【図１１】 微小デバイスの製造の流れを示す図であ
る。

【図１２】 図１１におけるウエハプロセスの詳細な流
れを示す図である。

【符号の説明】

１０１，１０２，１０３：半導体露光装置（ステッ
パ）、１０４：半導体露光装置管理装置（サーバ）、１
０５：イーサネット通信網。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ＬＡＮインターフェースを具備したネッ
   トワーク対応露光装置であって、 パラメータに変更が行なわれた際、ネットワーク上の露
   光装置管理装置に変更パラメータを通知する手段を有す
   ることを特徴とする露光装置。
2. 【請求項２】 前記露光装置管理装置は、前記ネットワ
   ークに接続された前記露光装置から送られた変更パラメ
   ータを保存および差分管理するものであることを特徴と
   する露光装置。
3. 【請求項３】 前記露光装置管理装置は、オペレータが
   指定するパラメータのみ前記差分管理するものであるこ
   とを特徴とする請求項２記載の露光装置。
4. 【請求項４】 ネットワークを介して接続された露光装
   置管理装置および露光装置を備えた露光装置システムに
   おいて、 前記露光装置は、パラメータに変更が行なわれた際、前
   記露光装置管理装置に変更パラメータを通知する手段を
   有し、前記露光装置管理装置は、前記露光装置から送ら
   れた変更パラメータを保存および差分管理する手段を有
   することを特徴とする露光装置システム。
5. 【請求項５】 前記露光装置管理装置は、オペレータが
   指定するパラメータのみ前記差分管理を行なう手段をさ
   らに有することを特徴とする請求項４記載の露光装置シ
   ステム。
6. 【請求項６】 請求項１〜３のいずれかに記載の露光装
   置または請求項４または５に記載の露光装置システムを
   用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製
   造方法。