JP2001267218A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

Info

Publication number
JP2001267218A
JP2001267218A JP2000075375A JP2000075375A JP2001267218A JP 2001267218 A JP2001267218 A JP 2001267218A JP 2000075375 A JP2000075375 A JP 2000075375A JP 2000075375 A JP2000075375 A JP 2000075375A JP 2001267218 A JP2001267218 A JP 2001267218A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure apparatus
original
exposure
reticle
information
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000075375A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiaki Sugimura
義昭 杉村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2000075375A priority Critical patent/JP2001267218A/ja
Publication of JP2001267218A publication Critical patent/JP2001267218A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オペレータが露光装置間を移動する時間、レ
チクル検索の手間を省き、該当のレチクルを搬出口まで
搬出する時間を短縮する露光装置を提供する。 【解決手段】 露光装置201が立ち上がった時、露光
装置201のレチクル格納庫203の状態が変化した
時、又は露光装置201にネットワークで相互に接続さ
れた他の露光装置201が接続した時のいずれかに基づ
いて、レチクル格納庫203の情報を送信させる原版情
報送信手段と、原版情報送信手段にて送信された原版ラ
イブラリの情報を保存させる原版情報保存手段と、原版
情報送信手段にて送信された情報に基づいて、レチクル
格納庫203の情報を表示させる原版情報表示手段と、
レチクル204の搬出命令を送信させる原版搬出命令送
信手段と、前記搬出命令を受信させる搬出命令受信手段
と、前記搬出命令を受信した時にレチクル204を露光
装置201の搬出口まで搬出させる原版搬出手段とを有
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ホストやM/C等
の制御コンピュータを用いることなしに、ネットワーク
に相互接続された半導体等を製造するための複数の露光
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の露光装置は、自装置内にある原版
ライブラリであるレチクルライブラリの状態のみを表示
する機能を有していた。したがって、複数の露光装置で
構成された工場において、あるレチクル(原版)をある
露光装置から別の露光装置に移動する場合、それぞれの
露光装置までオペレータが移動し、それぞれの露光装置
に載置されているレチクルライブラリを探すことによっ
て該当するレチクルを見つけ出していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】工場内に存在する複数
の露光装置のいずれかに載置された原版であるレチクル
を見つけ出すには、該当するレチクルが見つかるまで各
露光装置の間をオペレータが移動する必要があり、か
つ、それぞれの露光装置の端末でレチクルライブラリの
状態を表示させる必要がある。このため、レチクルを見
つけるまでに時間がかかっていた。
【0004】また、レチクルが見つかった露光装置のオ
ペレーションパネル(端末)より、レチクル取り出し命
令を出してから、レチクルを搬出口まで搬出する時間、
オペレータは待っている必要があった。
【0005】本発明は、上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、制御コンピュータを用意することなしに一
個所(1台の露光装置)で集中管理することができ、オ
ペレータが複数の露光装置間を移動する時間及びレチク
ル検索の手間を省き、かつ該当のレチクルを搬出口まで
搬出する時間も短縮できる露光装置を提供することを課
題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段及び作用】上記課題を解決
するために、本発明の露光装置は、原版に形成されたパ
ターンを基板に転写露光する露光装置において、該露光
装置が複数台配置され、該各露光装置がネットワークで
相互に接続された場合であって、前記露光装置が立ち上
がった時、若しくは前記露光装置の原版ライブラリの状
態が変化した時、若しくは前記露光装置が他の前記各露
光装置からの接続メッセージを受信した時のいずれかに
基づいて、複数の前記露光装置に対して原版ライブラリ
の情報を送信させる原版情報送信手段を有することを特
徴とする。
【0007】本発明においては、前記露光装置は、ネッ
トワークで相互に接続された他の前記各露光装置から前
記原版情報送信手段により送信された原版ライブラリの
情報の一部又は全部を保存させる原版情報保存手段を有
することが好ましい。
【0008】また、前記露光装置は、前記原版情報保存
手段により保存された情報に基づいて、ネットワークで
相互に接続された複数の前記露光装置の原版ライブラリ
の情報を該露光装置の端末に表示させる原版情報表示手
段を有することが好ましい。
【0009】また、前記露光装置は、ネットワークで相
互に接続された他の前記各露光装置に対して原版の搬出
命令を送信させる原版搬出命令送信手段を有し、ネット
ワークで相互に接続された複数の前記露光装置は、前記
搬出命令を受信させる搬出命令受信手段と、前記搬出命
令を受信した時に原版を前記露光装置の搬出口まで搬出
させる原版搬出手段とを有することが好ましい。
【0010】そして、ネットワーク内に管理用コンピュ
ータを用意することなしに、ネットワークで相互に接続
された複数の前記露光装置は、ネットワーク内の1台の
前記露光装置により集中管理されることが好ましい。さ
らに、前記露光装置を用いてデバイスを製造することが
できる。
【0011】上記構成等により、オペレータが各露光装
置間を移動する時間が省くことができ、かつレチクルを
探す手間が省ける。また、レチクルがある露光装置まで
移動する間にレチクルが搬出口から搬出されているの
で、その間の時間も短縮することができる。
【0012】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。 [露光装置の実施例]図1は本発明の一実施例に係るネ
ットワークに相互接続された複数の露光装置を表わす図
である。同図に示すように、露光装置101、露光装置
102、露光装置103は回線104によって接続され
相互に通信が行われる。それぞれの露光装置101,1
02,103は、互いにメッセージという単位で情報を
送受信する。
【0013】図2は、図1の露光装置101,102,
103の概要を示す要部概要図である。同図に示すよう
に、露光装置201は端末202を有し、様々な露光装
置状態を表示したり、露光装置に対して指示を行えるよ
うになっている。原版であるレチクルの格納庫(原版ラ
イブラリ)203は各露光装置内に存在し、複数のレチ
クル204を格納することが可能である。
【0014】それぞれの露光装置は起動時、登録されて
いる各露光装置に対して接続メッセージを送信し、各露
光装置はある露光装置から接続メッセージを受信すると
接続が確立する。
【0015】図2において、上記した原版情報送信手
段、原版情報保存手段、原版情報表示手段、原版搬出命
令送信手段、原版搬出命令受信手段、及び原版搬出手段
はいずれも不図示である。
【0016】図1の構成において、露光装置101とそ
の露光装置101に接続されている露光装置102,1
03との間でやり取りされるメッセージのシーケンスの
一例を図3に示す。図中の矢印は各露光装置101,1
02,103の間でやり取りされるメッセージとその方
向を示す。また、図中において図1と同一の符号は、図
1と同様の構成要素を示す。
【0017】また、図4及び図5は、本実施例に係る露
光装置内での処理フローの詳細を示す図である。上記し
た図1〜5を参照して本実施例に係わる半導体露光装置
の動作を説明する。図4(a)は、図3における露光装
置101の処理フローを示す図である。露光装置101
を起動した際、まず露光装置101は起動(立ち上げ)
処理を行なう(ステップ401)。起動処理が終わった
ら、露光装置101に登録されている各露光装置10
2,103のうち、最初に登録されている露光装置10
2に対して接続メッセージ301を送信する(ステップ
402)。
【0018】図4(b)は、図4(a)におけるステッ
プ402とステップ403の間の露光装置102の処理
フローを示す図である。接続メッセージ301を受信し
た露光装置102は、接続メッセージ301を送信した
露光装置を判断し(ステップ408)、その露光装置
(露光装置101)に対して自装置102の原版ライブ
ラリ情報であるレチクル情報302を原版情報送信手段
にて送信する(ステップ409)。
【0019】図4(a)において、露光装置101は、
露光装置102からのレチクル情報302を受信し(ス
テップ403)、原版情報保存手段にてレチクル情報の
一部又は全部を保存する(ステップ404) 。その後、
露光装置101は、自装置101のレチクル情報303
を露光装置102に対して原版情報送信手段にて送信す
る(ステップ405) 。
【0020】図4(c)は、図4(a)におけるステッ
プ405の処理の後、露光装置102の処理フローを示
す図である。露光装置102では、露光装置101から
送信されたレチクル情報303を受信し(ステップ41
0) 、原版情報保存手段にてレチクル情報303の一部
又は全部を保存する(ステップ411)。また、保存し
たレチクル情報303は端末202に原版情報表示手段
にて表示される(ステップ412)。
【0021】また、図4(a)において、露光装置10
1は、自装置101のレチクル情報303を原版情報送
信手段にて送信した後、登録されている複数の露光装置
の全てに接続したかどうかを判断する(ステップ40
6) 。仮に、接続していない露光装置が存在した場合
は、ステップ402〜405の処理をそれぞれの露光装
置102,103に対して行う。全ての露光装置10
2,103に対して接続したら、原版情報保存手段にて
保存したレチクル情報を原版情報表示手段にて端末20
2に表示する。つまり、露光装置101にてネットワー
ク内の各露光装置102,103について集中管理する
ことができる。
【0022】図5(a)は、露光装置102の端末から
露光装置101に存在するレチクルを操作する処理フロ
ーを示す図である。露光装置102の端末から、露光装
置101に存在するレチクルを操作する場合、まず端末
202上に露光装置のリストである装置リストを表示す
る(ステップ501)。装置リスト上から露光装置10
1を選択することにより(ステップ502)、端末20
2上には選択した露光装置のレチクルリストを表示する
(ステップ503)。レチクルリスト上から操作したい
レチクルを選択し、行き先を指示する(ステップ50
4)。ステップ504の後、露光装置102から露光装
置101に対してレチクル移動指示307が原版搬出命
令送信手段にて送信される(ステップ505)。
【0023】図5(b)は、図3においてレチクル移動
を受信した露光装置101が各露光装置102,103
へレチクル情報を送信する処理フローを示す図である。
レチクル移動指示307を原版搬出命令受信手段にて受
信した露光装置101は、指示通りレチクルを原版搬出
手段にて移動する(ステップ506)。そして、移動後
のレチクル情報308を露光装置102,103へ原版
情報送信手段にて送信する(ステップ507〜50
8)。
【0024】[デバイス製造方法の実施例]次に、上記
説明した露光装置を利用したデバイスの製造方法の実施
例を説明する。図6は、微小デバイス(ICやLSI等
の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等)の製造の流れを示す。ステップ
1(回路設計)ではデバイスのパターン設計を行う。ス
テップ2(マスク製作)では設計したパターンを形成し
たマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ製造)
ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディン
グ)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含
む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、
これが出荷(ステップ7)される。
【0025】図7は、上記ウエハプロセスの詳細な流れ
を示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
17(現像)では露光したウエハを現像する。ステップ
18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多
重に回路パターンが形成される。
【0026】本実施例の製造方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
【0027】
【発明の効果】上記説明したように、本発明による露光
装置は、複数の露光装置間に点在しているレチクルを、
オペレータが探し回る時間、及びオペレータが探す手間
を省くことができる。また、レチクルが搬出口まで搬出
される間にオペレータが移動できるので、レチクルを探
し始めてからオペレータが実際に手にするまでの時間を
短縮することもできる。さらに、ホストやM/C等の複
数の露光装置に対する制御コンピュータを用意すること
なしに一個所(1台の露光装置)で集中管理することも
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例に係るネットワークに相互
接続された複数の露光装置を表わす図である。
【図2】 図1の露光装置101,102,103の概
要を示す要部概要図である。
【図3】 図1の構成において、露光装置101とその
露光装置101に接続されている露光装置102,10
3との間でやり取りされるメッセージのシーケンスの一
例を示す図である。
【図4】 本実施例に係る露光装置内での処理フローの
詳細を示す図である。 (a)図3における露光装置101の処理フローを示す
図である。 (b)図4(a)におけるステップ402とステップ4
03の間の露光装置102の処理フローを示す図であ
る。 (c)図4(a)におけるステップ405の処理の後、
露光装置102の処理フローを示す図である。
【図5】 本実施例に係る露光装置内での処理フローの
詳細を示す図である。 (a)露光装置102の端末から露光装置101に存在
するレチクルを操作する処理フローを示す図である。 (b)図3においてレチクル移動を受信した露光装置1
01が各露光装置102,103へレチクル情報を送信
する処理フローを示す図である。
【図6】 微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図7】 図6におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示す図である。
【符号の説明】
101,102,103:露光装置、104:回線、2
01:露光装置、202:レチクル格納庫、203:端
末、204:レチクル、301,304:接続メッセー
ジ、302,303,305,306,308,30
9:レチクル情報、307:レチクル移動指示。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原版に形成されたパターンを基板に転写
    露光する露光装置において、該露光装置が複数台配置さ
    れ、該各露光装置がネットワークで相互に接続された場
    合であって、 前記露光装置が立ち上がった時、若しくは前記露光装置
    の原版ライブラリの状態が変化した時、若しくは前記露
    光装置が他の前記各露光装置からの接続メッセージを受
    信した時のいずれかに基づいて、複数の前記露光装置に
    対して原版ライブラリの情報を送信させる原版情報送信
    手段を有することを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 前記露光装置は、ネットワークで相互に
    接続された他の前記各露光装置から前記原版情報送信手
    段により送信された原版ライブラリの情報の一部又は全
    部を保存させる原版情報保存手段を有することを特徴と
    する請求項1に記載の露光装置。
  3. 【請求項3】 前記露光装置は、前記原版情報保存手段
    により保存された情報に基づいて、ネットワークで相互
    に接続された複数の前記露光装置の原版ライブラリの情
    報を該露光装置の端末に表示させる原版情報表示手段を
    有することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装
    置。
  4. 【請求項4】 前記露光装置は、ネットワークで相互に
    接続された他の前記各露光装置に対して原版の搬出命令
    を送信させる原版搬出命令送信手段を有し、ネットワー
    クで相互に接続された複数の前記露光装置は、前記搬出
    命令を受信させる搬出命令受信手段と、前記搬出命令を
    受信した時に原版を前記露光装置の搬出口まで搬出させ
    る原版搬出手段とを有することを特徴とする請求項1〜
    3のいずれかに記載の露光装置。
  5. 【請求項5】 ネットワーク内に管理用コンピュータを
    用意することなしに、ネットワークで相互に接続された
    複数の前記露光装置は、ネットワーク内の1台の前記露
    光装置により集中管理されることを特徴とする請求項1
    〜4のいずれかに記載の露光装置。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載の露光装
    置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイ
    ス製造方法。
JP2000075375A 2000-03-17 2000-03-17 露光装置 Pending JP2001267218A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000075375A JP2001267218A (ja) 2000-03-17 2000-03-17 露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000075375A JP2001267218A (ja) 2000-03-17 2000-03-17 露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001267218A true JP2001267218A (ja) 2001-09-28

Family

ID=18593284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000075375A Pending JP2001267218A (ja) 2000-03-17 2000-03-17 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001267218A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6148246A (en) Semiconductor process system, its control method, computer readable memory, and device manufacturing method
US6473664B1 (en) Manufacturing process automation system using a file server and its control method
JP5065167B2 (ja) 基板の処理方法及び基板の処理システム
US6496747B1 (en) Semiconductor device manufacturing apparatus and information processing system therefor
JP2001267218A (ja) 露光装置
JP2002025886A (ja) ステップ&スキャン式投影露光装置、その保守方法並びに同装置を用いた半導体デバイス製造方法および半導体製造工場
JP2004228474A (ja) 原版搬送装置
JP2003115438A (ja) 半導体露光装置
JP2000306815A (ja) 露光装置および露光装置システム
JP2001297966A (ja) 露光方法、露光システム、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場、および露光装置の保守方法
JP4738563B2 (ja) 半導体製造装置およびデバイス製造方法
JP2001284231A (ja) 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法
JP2000133577A (ja) 露光システム
JP2000306823A (ja) 露光装置システム、露光装置、半導体製造装置および半導体製造方法
JPH11297609A (ja) 複数ユニットを有する装置、露光装置、半導体製造装置およびデバイス製造方法
JP3818620B2 (ja) 露光装置
JPH1116829A (ja) 半導体露光装置およびデバイス製造方法
JP2009076581A (ja) 物体処理システム、物体処理方法、処理装置、基板処理方法及びデバイス製造方法
JP2002246291A (ja) 露光方法及び露光装置
JP2000138161A (ja) 露光装置
JPH11145050A (ja) 半導体露光装置システム、半導体露光装置およびデバイス製造方法
JP2001291756A (ja) 露光装置および露光方法
JP2002373848A (ja) 基板ホルダの表面状態測定方法及び測定装置
JP2000031030A (ja) 露光装置、データ管理方法およびデバイス製造方法
JP2002064051A (ja) 基板温度変化による基板倍率変動を監視する露光装置および露光方法