JP2003059812A - 露光装置及び露光装置管理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 サーバのパラメータ管理システムの再構成の
最中でも、サーバによるパラメータの一元管理を中断す
ることなく、ステッパ側でのパラメータの変更や新規ジ
ョブファイルの作成を可能にする。 【解決手段】 ＬＡＮインターフェースを具備したネッ
トワーク対応ステッパ（露光装置）１０１，１０２が接
続されたサーバ１０４を有し、露光に必要なパラメータ
セットをサーバ１０４で一元管理するシステムを運用す
る際、パラメータセットの更新を行っている最中にネッ
トワーク上のステッパ１０１，１０２からパラメータ値
の変更要求をサーバ１０４上で保存する保存手段を有
し、パラメータセットの更新が終了した際、前記保存手
段で保存された命令を自動的にサーバ１０４に反映させ
る手段を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ネットワーク対応
露光装置及び露光装置管理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１は半導体露光装置の概略図である。
図中、１は半導体素子を形成するために露光転写される
回路パターンを有するレチクル、２はレチクル１の回路
パターンが露光転写されるウエハ、３はレチクル１のパ
ターンを所定の縮小倍率でウエハ２に投影する投影レン
ズ、４は光源であるレーザ、５はレーザからのレーザ光
を照度が均一で所定の大きさの光束に変換する照明光学
系、６はウエハ２を高精度で位置決めするウエハステー
ジ、７は数種類のレチクル１を保管するレチクルライブ
ラリ、８はレチクル１のパターンをウエハ２に露光転写
するときにレチクル１を保持して位置決めするレチクル
ステージ、９は所望のレチクルライブラリ７より取り出
してレチクルステージ８上に供給し、また、レチクルス
テージ８上の不要となったレチクルライブラリ７に収納
するレチクル搬送系、１０は複数のウエハ２を保管する
ウエハカセット、１１は未露光のウエハ２をウエハカセ
ット１０より取り出してウエハステージ６上に供給し、
また逆に露光済みのウエハ２をウエハステージ６より回
収してウエハカセット１０に収納するウエハ搬送系、１
２はレチクル１とウエハ２との位置ずれを計測するアラ
イメントスコープ、１３は防振装置、１４は地震検知用
の加速度計、１５は露光装置を操作コントロールする制
御操作部、１６は制御操作部１５の一部を構成している
表示用ディスプレイである。

【０００３】現在の半導体製造工場はネットワーク化が
進み、上述のような半導体露光装置（以下、ステッパ）
はイーサネット（登録商標）等の標準ネットワークプロ
トコルにより、各種のＬＡＮ（ローカル・エリア・ネッ
トワーク）接続機器や専用／公衆回線網を用いて接続さ
れる事が多くなっている。

【０００４】こういった標準的なネットワーク技術の発
展と普及により、ネットワークに接続した半導体露光装
置管理装置より、ネットワークを介してステッパを制御
する事が出来るようになってきている。

【０００５】図２は上記半導体露光装置の管理システム
を含めた露光装置システムの構成を示す図である。半導
体露光装置（ステッパ）１０１，１０２，１０３は、イ
ーサネット通信網１０５を介してサーバ１０４に接続さ
れる。サーバ１０４は、ネットワーク上に接続された各
ステッパに対して各種リモート指示や報告データ収集、
データファイルの分類保持管理、データファイルの新規
作成・編集等を行う管理装置である。ステッパ及びサー
バは、イーサネット通信網を介してジョブ・パラメータ
をお互いに転送する手段を有する。転送手段としては標
準的なＬＡＮの機能を用いる。ＬＡＮによるデータ伝送
方式としてはＴＣＰ／ＩＰのソケットインターフェース
を用いたり、ＦＴＰ（ファイル転送プロトコル）を用い
ることが簡単であり一般的に利用されているが、どの様
な独自のプロトコルや方式を採用しても構わない。

【０００６】また、ステッパが露光を行う時に必要とな
る情報（マシン・オフセットやショットのレイアウトな
ど）を一つにまとめたファイル（以下、ジョブファイ
ル）にユニークな名前をつけ、露光を行う際にジョブフ
ァイルをプログラムにロードする方式が一般的になって
いる。上記のようなネットワーク対応ステッパシステム
の場合、サーバや各ステッパなどに記憶装置が複数存在
し、サーバの記憶装置や各ステッパ内の記憶装置からジ
ョブファイルをロードすることになる。

【０００７】ジョブファイルは、ステッパの機種によっ
て異なる。また、ステッパに機能追加された場合、新た
なパラメータがジョブファイルに追加される場合もあ
る。したがって、プログラムのバージョンアップを行う
際、ジョブファイルのパラメータセットも更新する必要
がある。特にデータベースシステムをジョブファイルの
管理に使用しているようなシステムの場合、装置内のデ
ータベースシステムのテーブル構成を再構成する必要が
ある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体露光装置
管理装置では、上記のようなジョブファイルパラメータ
の再構成を行う場合、再構成を行っている最中はサーバ
のデータベースシステムが使用不可能な状態になるた
め、ステッパ側で行われたパラメータの変更やジョブフ
ァイルの新規作成などの要求をサーバ側のデータベース
システムに反映することが出来ず、パラメータのバージ
ョンアップ中はサーバによるジョブファイルの一元管理
が出来ない状態であった。

【０００９】本発明は、上記問題を解決し、サーバのパ
ラメータ管理システムの再構成を行っている最中でも、
サーバによるパラメータの一元管理を中断することな
く、ステッパ側でのパラメータの変更や新規ジョブファ
イルの作成を行うことが出来るようにすることを目的と
する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る露光装置管理装置は、ＬＡＮインター
フェースを具備したネットワーク対応露光装置が係合す
るサーバを有し、露光に必要なパラメータセットを前記
サーバで一元管理するシステムを運用する際、パラメー
タセットの更新を行っている最中にネットワーク上の露
光装置からパラメータ値の変更要求を前記サーバ上で保
存する保存手段を有することを特徴とする。パラメータ
セットの更新が終了した際、前記保存手段で保存された
命令を自動的にサーバに反映させる手段を有することが
好ましい。

【００１１】また、本発明は、上記いずれかの露光装置
管理装置によって管理される露光装置にも適用される。

【００１２】また、本発明は、前記露光装置を含む各種
プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工
程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半
導体デバイスを製造する工程とを有する半導体デバイス
製造方法にも適用可能である。前記製造装置群をローカ
ルエリアネットワークで接続する工程と、前記ローカル
エリアネットワークと前記半導体製造工場外の外部ネッ
トワークとの間で、前記製造装置群の少なくとも１台に
関する情報をデータ通信する工程とをさらに有すること
が望ましい。前記露光装置のベンダもしくはユーザが提
供するデータベースに前記外部ネットワークを介してア
クセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情報
を得る、もしくは前記半導体製造工場とは別の半導体製
造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ通
信して生産管理を行うことが好ましい。

【００１３】また、本発明は、前記露光装置を含む各種
プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するロ
ーカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネット
ワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能に
するゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも
１台に関する情報をデータ通信することを可能にした半
導体製造工場にも適用される。

【００１４】また、本発明は、半導体製造工場に設置さ
れた前記露光装置の保守方法であって、前記露光装置の
ベンダもしくはユーザが、半導体製造工場の外部ネット
ワークに接続された保守データベースを提供する工程
と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを
介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工
程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前
記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信す
る工程とを有することを特徴としてもよい。

【００１５】また、本発明は、前記露光装置において、
ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネッ
トワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさ
らに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワ
ークを介してデータ通信することを可能にしたことを特
徴としてもよい。前記ネットワーク用ソフトウェアは、
前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接
続され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する
保守データベースにアクセスするためのユーザインタフ
ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
能にすることが好ましい。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態の一例を
図面に基づいて詳細に説明する。 （露光装置管理装置の実施形態）図２は本発明の実施形
態に係る露光装置管理装置のシステム構成を示す図であ
る。半導体露光装置（ステッパ）１０１，１０２，１０
３は、イーサネット通信網１０５を介してサーバ１０４
に接続されており、クリーンルーム１０６内に配置され
ている。サーバ１０４は、ネットワーク上に接続された
各ステッパ１０１〜１０３に対して各種リモート指示や
報告データ収集、データファイルの分類保持管理、デー
タファイルの新規作成・編集等を行う装置である。ステ
ッパ１０１〜１０３及びサーバ１０４は、イーサネット
通信網１０５を介してジョブ・パラメータをお互いに転
送する手段を有する。転送手段としては標準的なＬＡＮ
の機能を用いる。ＬＡＮによるデータ伝送方式としては
ＴＣＰ／ＩＰのソケットインターフェースを用いたり、
ＦＴＰ（ファイル転送プロトコル）を用いることが簡単
であり一般的に利用されているが、どの様な独自のプロ
トコルや方式を採用しても構わない。

【００１７】サーバ１０４上でジョブファイルを管理す
る場合、サーバ１０４で各ステッパ１０１〜１０３での
パラメータ情報は正確に管理する必要がある。そのため
には各ステッパ１０１〜１０３で行われたパラメータ変
更や新規作成ジョブファイルといった情報は逐次サーバ
１０４に送信される必要がある。本実施形態では、ステ
ッパ１０１〜１０３上のパラメータ編集装置でパラメー
タ値の変更が行われた場合や、新規にジョブファイルが
作成された場合は、自動でその情報をサーバ１０４に送
信する装置を有する。

【００１８】図３は、本実施形態に係る露光装置管理装
置のシステム構成図である。本実施形態では、サーバ１
０４や各ステッパ１０１，１０２でパラメータを記憶装
置に保存する際、データベースシステムを使用している
とする。

【００１９】この露光装置管理装置は、サーバ１０４内
データベースシステムのジョブ・レチクルファイルのパ
ラメータ情報を、外部記憶装置１０８に保存されている
新しいバージョンのジョブ・レチクルファイルのパラメ
ータ情報に更新する。前記バージョンアップ作業中、ス
テッパ１０１，１０２からのジョブ・レチクルファイル
のパラメータ更新や新たに作成されたジョブ・レチクル
ファイルをサーバ１０４で一元管理するシステムの場
合、ステッパ１０１，１０２での変更情報が、直ちにサ
ーバ１０４側に送信される。ステッパ１０１，１０２か
ら送信された命令は、図４に示すような内容である。ス
テッパ１０１，１０２から送信される命令は、図４のよ
うな形で時系列的にキューイング処理部１１０で保持さ
れる。保存形態はどのような形でも構わないが、本実施
形態ではテキスト形式のファイルに保存する。

【００２０】図４は、ステッパから送信される要求内容
の保存例を示す図である。ステッパ１０１，１０２から
の命令は、サーバ１０４上の記憶装置１０９に時系列的
に保存される。一行が一命令となっており、各命令の内
容は下記の意味をもつ。 ＜ステッパ名＞：＜変更（または新規作成）ジョブ名＞ ＜ステッパ名＞は命令を送信したステッパのステッパ名
称である。＜変更（または新規作成された）ジョブ名＞
は、＜ステッパ名＞のステッパでパラメータの変更もし
くはジョブファイルの新規作成が行われた際のジョブフ
ァイル名称である。サーバ上に＜ステッパ名＞で示され
たジョブファイルが存在する場合は、パラメータ値変更
であり、＜ステッパ名＞で示されたジョブファイルが存
在しない場合、新規に作成されたジョブファイルであ
る。

【００２１】キューイング処理部１１０では、上記命令
を解釈し、パラメータ変更もしくは新規作成されたジョ
ブファイルのパラメータ情報を装置（ステッパ）上から
取得し、サーバ１０４側のデータベースに保存する。

【００２２】図５は、サーバ側データベースのバージョ
ンアップが終了後の処理の流れを示している。

【００２３】本実施形態では、サーバ側データベースの
パラメータセット・バージョンアップを行っている最中
に、ステッパ側で以下の操作を行ったとする。 （１）ステッパ１（ＳＴＥＰＰＥＲ１）で（テスト１．
ジョブ）ｔｅｓｔ１．ｊｏｂのパラメータを変更 （２）ステッパ１（ＳＴＥＰＰＥＲ１）で（テスト２．
ジョブ）ｔｅｓｔ２．ｊｏｂを新規作成 （３）ステッパ３（ＳＴＥＰＰＥＲ３）で（テスト３．
ジョブ）ｔｅｓｔ３．ｊｏｂのパラメータを変更 （４）ステッパ２（ＳＴＥＰＰＥＲ２）で（テスト１．
ジョブ）ｔｅｓｔ１．ｊｏｂのパラメータを変更

【００２４】本実施形態では各ステッパで共通のジョブ
ファイルを使用している。したがってステッパ毎に異な
るような装置固有のパラメータは、ジョブファイルのパ
ラメータセットには含まれない。レイアウト情報といっ
た各装置共通で使用が可能なパラメータのみがジョブフ
ァイルのパラメータセットに含まれているとする。

【００２５】この露光装置管理装置は、サーバ１０４側
データベースのバージョンアップ終了後（ステップ２０
１）、キューイングされたデータ（図４）をサーバ１０
４側データベースに復帰させるために、その間、装置
（ステッパ）からの要求を受け付けないことを各ステッ
パに通知する（ステップ２０２）。

【００２６】露光装置管理装置は、図４に示すキューイ
ングデータから、サーバ１０４に対する命令をキューイ
ング処理部１１０に保存された順番に取得する（ステッ
プ２０３）。本実施形態では、図４より最初に ステッパ名：ＳＴＥＰＰＥＲ１ ジョブファイル名：ｔｅｓｔ１．ｊｏｂ を取得する。

【００２７】キューイング処理部１１０は、取得した命
令から、サーバ１０４に保存するジョブファイルの情報
（装置名、ジョブファイル名）を取得する（ステップ２
０４）。

【００２８】ステップ２０４で取得したジョブファイル
のパラメータ情報をサーバ１０４側のデータベースに保
存する。サーバ１０４側のデータベースを検索するとｔ
ｅｓｔ１．ｊｏｂが存在する。

【００２９】したがってＳＴＥＰＰＥＲ１でｔｅｓｔ
１．ｊｏｂに対して行われた作業はパラメータの変更だ
と判断できる。パラメータ変更の場合は、サーバ１０４
側の同名ジョブファイルとパラメータ情報を比較し、変
更のあったパラメータのパラメータ値を保存する。

【００３０】新規作成のジョブファイルの場合は、サー
バ１０４側のデータベースに新規ファイルとして保存す
る。本実施形態の場合、２回目の操作がジョブファイル
の新規作成である。ＳＴＥＰＰＥＲ１からｔｅｓｔ２．
ｊｏｂを取得し、サーバ１０４側データベースの格納先
をファイル名から検索すると、ｔｅｓｔ２．ｊｏｂはサ
ーバ１０４側のデータベースには存在しないことがわか
る。その場合、ステッパから取得したｔｅｓｔ２．ｊｏ
ｂのパラメータセットをサーバ１０４側データベースの
新規格納場所に保存する（ステップ２０５）。

【００３１】ステップ２０３からステップ２０５を繰り
返して、一命令ずつ処理し、すべてのキューイングデー
タの実行が終了した後、各ステッパにキューイングデー
タ復帰処理の終了を通知し、以後、各装置（ステッパ）
からのサーバデータベースヘの書き込み要求を受け付け
る（ステップ２０６）。

【００３２】上記処理手順によりステッパからのキュー
イングデータはサーバ側のデータベースに復帰する。

【００３３】（半導体生産システムの実施形態）次に、
本発明に係る装置を用いた半導体デバイス（ＩＣやＬＳ
Ｉ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘ
ッド、マイクロマシン等）の生産システムの例を説明す
る。これは半導体製造工場に設置された製造装置のトラ
ブル対応や定期メンテナンス、あるいはソフトウェア提
供などの保守サービスを、製造工場外のコンピュータネ
ットワークを利用して行うものである。

【００３４】図６は全体システムをある角度から切り出
して表現したものである。図中、１１０１は半導体デバ
イスの製造装置を提供するベンダ（装置供給メーカ）の
事業所である。製造装置の実例としては、半導体製造工
場で使用する各種プロセス用の半導体製造装置、例え
ば、前工程用機器（露光装置、レジスト処理装置、エッ
チング装置等のリソグラフィ装置、熱処理装置、成膜装
置、平坦化装置等）や後工程用機器（組立て装置、検査
装置等）を想定している。事業所１１０１内には、製造
装置の保守データベースを提供するホスト管理システム
１１０８、複数の操作端末コンピュータ１１１０、これ
らを結んでイントラネット等を構築するローカルエリア
ネットワーク（ＬＡＮ）１１０９を備える。ホスト管理
システム１１０８は、ＬＡＮ１１０９を事業所の外部ネ
ットワークであるインターネット１１０５に接続するた
めのゲートウェイと、外部からのアクセスを制限するセ
キュリティ機能を備える。

【００３５】一方、１１０２〜１１０４は、製造装置の
ユーザとしての半導体製造メーカの製造工場である。製
造工場１１０２〜１１０４は、互いに異なるメーカに属
する工場であっても良いし、同一のメーカに属する工場
（例えば、前工程用の工場、後工程用の工場等）であっ
ても良い。各工場１１０２〜１１０４内には、夫々、複
数の製造装置１１０６と、それらを結んでイントラネッ
ト等を構築するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）
１１１１と、各製造装置１１０６の稼動状況を監視する
監視装置としてホスト管理システム１１０７とが設けら
れている。各工場１１０２〜１１０４に設けられたホス
ト管理システム１１０７は、各工場内のＬＡＮ１１１１
を工場の外部ネットワークであるインターネット１１０
５に接続するためのゲートウェイを備える。これにより
各工場のＬＡＮ１１１１からインターネット１１０５を
介してベンダの事業所１１０１側のホスト管理システム
１１０８にアクセスが可能となり、ホスト管理システム
１１０８のセキュリティ機能によって限られたユーザだ
けにアクセスが許可となっている。具体的には、インタ
ーネット１１０５を介して、各製造装置１１０６の稼動
状況を示すステータス情報（例えば、トラブルが発生し
た製造装置の症状）を工場側からベンダ側に通知する
他、その通知に対応する応答情報（例えば、トラブルに
対する対処方法を指示する情報、対処用のソフトウェア
やデータ）や、最新のソフトウェア、ヘルプ情報などの
保守情報をベンダ側から受け取ることができる。各工場
１１０２〜１１０４とベンダの事業所１１０１との間の
データ通信および各工場内のＬＡＮ１１１１でのデータ
通信には、インターネットで一般的に使用されている通
信プロトコル（ＴＣＰ／ＩＰ）が使用される。なお、工
場外の外部ネットワークとしてインターネットを利用す
る代わりに、第三者からのアクセスができずにセキュリ
ティの高い専用線ネットワーク（ＩＳＤＮなど）を利用
することもできる。また、ホスト管理システムはベンダ
が提供するものに限らずユーザがデータベースを構築し
て外部ネットワーク上に置き、ユーザの複数の工場から
該データベースへのアクセスを許可するようにしてもよ
い。

【００３６】さて、図７は本実施形態の全体システムを
図６とは別の角度から切り出して表現した概念図であ
る。先の例ではそれぞれが製造装置を備えた複数のユー
ザ工場と、該製造装置のベンダの管理システムとを外部
ネットワークで接続して、該外部ネットワークを介して
各工場の生産管理や少なくとも１台の製造装置の情報を
データ通信するものであった。これに対し本例は、複数
のベンダの製造装置を備えた工場と、該複数の製造装置
のそれぞれのベンダの管理システムとを工場外の外部ネ
ットワークで接続して、各製造装置の保守情報をデータ
通信するものである。図中、１２０１は製造装置ユーザ
（半導体デバイス製造メーカ）の製造工場であり、工場
の製造ラインには各種プロセスを行う製造装置、ここで
は例として露光装置１２０２、レジスト処理装置１２０
３、成膜処理装置１２０４が導入されている。なお図７
では製造工場１２０１は１つだけ描いているが、実際は
複数の工場が同様にネットワーク化されている。工場内
の各装置はＬＡＮ１２０６で接続されてイントラネット
を構成し、ホスト管理システム１２０５で製造ラインの
稼動管理がされている。

【００３７】一方、露光装置メーカ１２１０、レジスト
処理装置メーカ１２２０、成膜装置メーカ１２３０など
ベンダ（装置供給メーカ）の各事業所には、それぞれ供
給した機器の遠隔保守を行うためのホスト管理システム
１２１１，１２２１，１２３１を備え、これらは上述し
たように保守データベースと外部ネットワークのゲート
ウェイを備える。ユーザの製造工場内の各装置を管理す
るホスト管理システム１２０５と、各装置のベンダの管
理システム１２１１，１２２１，１２３１とは、外部ネ
ットワーク１２００であるインターネットもしくは専用
線ネットワークによって接続されている。このシステム
において、製造ラインの一連の製造機器の中のどれかに
トラブルが起きると、製造ラインの稼動が休止してしま
うが、トラブルが起きた機器のベンダからインターネッ
ト１２００を介した遠隔保守を受けることで迅速な対応
が可能であり、製造ラインの休止を最小限に抑えること
ができる。

【００３８】半導体製造工場に設置された各製造装置は
それぞれ、ディスプレイと、ネットワークインタフェー
スと、記憶装置にストアされたネットワークアクセス用
ソフトウェアならびに装置動作用のソフトウェアを実行
するコンピュータを備える。記憶装置としては内蔵メモ
リやハードディスク、あるいはネットワークファイルサ
ーバーなどである。上記ネットワークアクセス用ソフト
ウェアは、専用又は汎用のウェブブラウザを含み、例え
ば図８に一例を示す様な画面のユーザインタフェースを
ディスプレイ上に提供する。各工場で製造装置を管理す
るオペレータは、画面を参照しながら、製造装置の機種
１４０１、シリアルナンバー１４０２、トラブルの件名
１４０３、発生日１４０４、緊急度１４０５、症状１４
０６、対処法１４０７、経過１４０８等の情報を画面上
の入力項目に入力する。入力された情報はインターネッ
トを介して保守データベースに送信され、その結果の適
切な保守情報が保守データベースから返信されディスプ
レイ上に提示される。またウェブブラウザが提供するユ
ーザインタフェースはさらに図示のごとくハイパーリン
ク機能１４１０〜１４１２を実現し、オペレータは各項
目の更に詳細な情報にアクセスしたり、ベンダが提供す
るソフトウェアライブラリから製造装置に使用する最新
バージョンのソフトウェアを引出したり、工場のオペレ
ータの参考に供する操作ガイド（ヘルプ情報）を引出し
たりすることができる。ここで、保守データベースが提
供する保守情報には、上記説明した本発明に関する情報
も含まれ、また前記ソフトウェアライブラリは本発明を
実現するための最新のソフトウェアも提供する。

【００３９】次に上記説明した生産システムを利用した
半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図９は半導
体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。ス
テップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を
行う。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パタ
ーンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３
（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ
４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンデ
ィング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立
て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作
製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テス
ト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これを出荷（ステップ７）する。前工程と後
工程はそれぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎
に上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされ
る。また前工程工場と後工程工場との間でも、インター
ネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や装
置保守のための情報がデータ通信される。

【００４０】図１０は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造
機器は上記説明した遠隔保守システムによって保守がな
されているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もしト
ラブルが発生しても迅速な復旧が可能であり、従来に比
べて半導体デバイスの生産性を向上させることができ
る。

【００４１】

【発明の効果】以上のことから、本発明は、ネットワー
ク上でジョブファイルをサーバで一元管理している半導
体露光装置システムにおいて、ジョブファイルのパラメ
ータセットの更新を行っている最中でも、ファイルの一
元管理を中断することなく、通常の運用を可能にし、各
ステッパ上での変更が自動でサーバのデータベースに反
映される場合でも、ステッパの操作を通常通りに行うこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 半導体露光装置の構成図である。

【図２】 ネットワーク対応の半導体露光装置管理装置
のシステム構成図である。

【図３】 本発明の実施形態に係る露光装置管理装置の
システム構成図である。

【図４】 本発明の実施形態におけるサーバでのキュー
イングデータ例を示す図である。

【図５】 本発明の実施形態におけるキューイングデー
タ復帰処理のフロー図である。

【図６】 本発明に係る装置を用いた半導体デバイスの
生産システムをある角度から見た概念図である。

【図７】 本発明に係る装置を用いた半導体デバイスの
生産システムを別の角度から見た概念図である。

【図８】 ユーザインタフェースの具体例である。

【図９】 デバイスの製造プロセスのフローを説明する
図である。

【図１０】 ウエハプロセスを説明する図である。

【符号の説明】

１０１〜１０３：半導体露光装置（ステッパ）、１０
４：サーバ、１０５：イーサネット通信網、１０６：ク
リーンルーム、１０８：外部記憶装置、１０９：サーバ
上の記憶装置、１１０：キューイング処理部、１１０
１：ベンダの事業所、１１０２，１１０３，１１０４：
製造工場、１１０５：インターネット、１１０６：製造
装置、１１０７：工場のホスト管理システム、１１０
８：ベンダ側のホスト管理システム、１１０９：ベンダ
側のローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、１１１
０：操作端末コンピュータ、１１１１：工場のローカル
エリアネットワーク（ＬＡＮ）、１２００：外部ネット
ワーク、１２０１：製造装置ユーザの製造工場、１２０
２：露光装置、１２０３：レジスト処理装置、１２０
４：成膜処理装置、１２０５：工場のホスト管理システ
ム、１２０６：工場のローカルエリアネットワーク（Ｌ
ＡＮ）、１２１０：露光装置メーカ、１２１１：露光装
置メーカの事業所のホスト管理システム、１２２０：レ
ジスト処理装置メーカ、１２２１：レジスト処理装置メ
ーカの事業所のホスト管理システム、１２３０：成膜装
置メーカ、１２３１：成膜装置メーカの事業所のホスト
管理システム、１４０１：製造装置の機種、１４０２：
シリアルナンバー、１４０３：トラブルの件名、１４０
４：発生日、１４０５：緊急度、１４０６：症状、１４
０７：対処法、１４０８：経過、１４１０，１４１１，
１４１２：ハイパーリンク機能。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ＬＡＮインターフェースを具備したネッ
   トワーク対応露光装置が係合するサーバを有し、露光に
   必要なパラメータセットを前記サーバで一元管理するシ
   ステムを運用する際、パラメータセットの更新を行って
   いる最中にネットワーク上の露光装置からパラメータ値
   の変更要求を前記サーバ上で保存する保存手段を有する
   ことを特徴とする露光装置管理装置。
2. 【請求項２】 パラメータセットの更新が終了した際、
   前記保存手段で保存された命令を自動的に前記サーバに
   反映させる手段を有することを特徴とする請求項１に記
   載の露光装置管理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の露光装置管理
   装置によって管理されることを特徴とする露光装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の露光装置を含む各種プ
   ロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程
   と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導
   体デバイスを製造する工程とを有することを特徴とする
   半導体デバイス製造方法。
5. 【請求項５】 前記製造装置群をローカルエリアネット
   ワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネットワ
   ークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの間
   で、前記製造装置群の少なくとも１台に関する情報をデ
   ータ通信する工程とをさらに有することを特徴とする請
   求項４に記載の半導体デバイス製造方法。
6. 【請求項６】 前記露光装置のベンダもしくはユーザが
   提供するデータベースに前記外部ネットワークを介して
   アクセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情
   報を得る、もしくは前記半導体製造工場とは別の半導体
   製造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ
   通信して生産管理を行うことを特徴とする請求項５に記
   載の半導体デバイス製造方法。
7. 【請求項７】 請求項４に記載の露光装置を含む各種プ
   ロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するロー
   カルエリアネットワークと、該ローカルエリアネットワ
   ークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能にす
   るゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも１
   台に関する情報をデータ通信することを可能にしたこと
   を特徴とする半導体製造工場。
8. 【請求項８】 半導体製造工場に設置された請求項３に
   記載の露光装置の保守方法であって、前記露光装置のベ
   ンダもしくはユーザが、半導体製造工場の外部ネットワ
   ークに接続された保守データベースを提供する工程と、
   前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを介し
   て前記保守データベースへのアクセスを許可する工程
   と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前記
   外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信する
   工程とを有することを特徴とする露光装置の保守方法。
9. 【請求項９】 請求項３に記載の露光装置において、デ
   ィスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネット
   ワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさら
   に有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワー
   クを介してデータ通信することを可能にしたことを特徴
   とする露光装置。
10. 【請求項１０】 前記ネットワーク用ソフトウェアは、
    前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接
    続され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する
    保守データベースにアクセスするためのユーザインタフ
    ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
    ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
    能にすることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。