JP2022158240A - 管理装置、管理方法、およびプログラム - Google Patents
管理装置、管理方法、およびプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022158240A JP2022158240A JP2021063002A JP2021063002A JP2022158240A JP 2022158240 A JP2022158240 A JP 2022158240A JP 2021063002 A JP2021063002 A JP 2021063002A JP 2021063002 A JP2021063002 A JP 2021063002A JP 2022158240 A JP2022158240 A JP 2022158240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- information
- user interface
- target production
- production apparatus
- management
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- General Factory Administration (AREA)
Abstract
Description
本発明は、複数の生産装置を管理する管理装置、管理方法、およびプログラムに関する。
特許文献1には、作業者が視覚的にスムースに次の作業位置および部品を特定でき、かつ作業者が機種の切り替わりに気づかないという状況を防止できるようにして作業効率の向上と作業者の作業ミスを抑制するようにした作業指示方法が開示されている。
生産装置の調整を行うための操作手順は、当該調整の種類だけでなく、生産装置の状態(構成および/または状況)によっても異なってくる。従来では、生産装置の調整を行う作業者(オペレータ、ユーザ)が、様々な種類の操作手順の中から、装置の構成および/または装置の状況に応じた操作手順を適切に取得し、当該操作手順に従って当該調整を正確に実施する必要があった。しかしながら、このような作業は、作業者にとって煩雑であるとともに、作業ミスや作業効率の低下を引き起こす可能性があり、利便性の点で不利であった。
そこで、本発明は、生産装置の調整を行う際の利便性の点で有利な技術を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての管理装置は、複数の生産装置を管理する管理装置であって、前記複数の生産装置のうち調整が必要な対象生産装置について、装置状態を示す状態情報を取得する工程と、前記調整の手順と操作要求とを含むガイドを前記対象生産装置の表示部に表示するためのユーザインタフェースを、前記状態情報に応じて選択して前記対象生産装置に提供する工程と、を実行し、前記ユーザインタフェースは、前記表示部に表示された前記操作要求に従ってユーザにより入力される情報を取り込み、前記情報に応じて前記手順の動作を前記対象生産装置に指令する、ことを特徴とする。
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
本発明によれば、例えば、生産装置の調整を行う際の利便性の点で有利な技術を提供することができる。
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
<第1実施形態>
本発明に係る第1実施形態の管理システム1について説明する。図1は、本実施形態の管理システム1を模式的に示すブロック図である。管理システム1は、製品の生産を行うための複数の生産装置10と、複数の生産装置10を管理する管理装置20(管理サーバ)とを含みうる。複数の生産装置10は、装置構成(ハードウェア構成および/またはソフトウェア構成)が互いに異なる2以上の生産装置を含みうる。「装置構成が互いに異なる2以上の生産装置」は、型式および/または型番が互いに異なるものと理解されてもよい。本実施形態では、複数の生産装置10は、装置構成が互いに異なる2以上の半導体製造装置を含むものとして説明する。半導体製造装置とは、例えば、半導体ウエハなどの基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置や、基板上にレジストを塗布するディベロッパ、基板にエッチング処理を行うエッチング装置などを含みうる。リソグラフィ装置は、基板を露光して当該基板上に原版(マスク)のパターンを転写する露光装置、原版(モールド)を用いて基板上にパターンを形成するインプリント装置、原版(部材)を用いて基板上の組成物を平坦化する平坦化装置などを含みうる。
本発明に係る第1実施形態の管理システム1について説明する。図1は、本実施形態の管理システム1を模式的に示すブロック図である。管理システム1は、製品の生産を行うための複数の生産装置10と、複数の生産装置10を管理する管理装置20(管理サーバ)とを含みうる。複数の生産装置10は、装置構成(ハードウェア構成および/またはソフトウェア構成)が互いに異なる2以上の生産装置を含みうる。「装置構成が互いに異なる2以上の生産装置」は、型式および/または型番が互いに異なるものと理解されてもよい。本実施形態では、複数の生産装置10は、装置構成が互いに異なる2以上の半導体製造装置を含むものとして説明する。半導体製造装置とは、例えば、半導体ウエハなどの基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置や、基板上にレジストを塗布するディベロッパ、基板にエッチング処理を行うエッチング装置などを含みうる。リソグラフィ装置は、基板を露光して当該基板上に原版(マスク)のパターンを転写する露光装置、原版(モールド)を用いて基板上にパターンを形成するインプリント装置、原版(部材)を用いて基板上の組成物を平坦化する平坦化装置などを含みうる。
図2は、生産装置10の一例として露光装置100の構成例を示している。図2に示す露光装置100は、基板を露光する露光処理を行う処理ユニット110と、処理ユニット110を統括的に制御するホストコンピュータ120とを含みうる。
処理ユニット110は、例えば、光源111と、照明光学系112と、マスクステージ113と、投影光学系114と、ウエハチャック115と、ウエハステージ116と、プリアライメント部117と、制御部118とを備えうる。光源111としては、例えば高圧水銀ランプやエキシマレーザなどが用いられうる。本実施形態において、光源111は、処理ユニット110のチャンバ内部に設けられているが、それに限られず、当該チャンバの外部に外付けになっている構成もありうる。また、制御部118は、CPUおよびメモリを有するコンピュータなどの情報処理装置であり、処理ユニット110の各部、機器等の制御や、各種の演算を行う。また、図2の例では、1つの制御部118で処理ユニット110の各部を制御する構成であるが、複数の制御部118で処理ユニット110の各部を制御する構成であってもよい。
照明光学系112は、光源111から射出された光を整形し、マスクステージ113に保持されたマスクM(原版)を照明する。マスクMは、レチクルとも呼ばれ、ウエハW(基板)上に転写すべきパターン(回路パターン)を有する。投影光学系114は、マスクMを透過した光(パターン光)をウエハW上に投影する。これにより、マスクMのパターンを、ウエハW上に塗布された感光媒体(例えばレジスト)に潜在パターンをして転写することができる。なお、ウエハWは、例えばシリコンウエハであり、真空吸着などの手段を用いてウエハチャック115によって保持される。また、ウエハチャック115は、移動可能に構成されたウエハステージ116によって保持されている。
このように構成された処理ユニット110は、投影光学系114の光軸に対して垂直な面に沿ってウエハステージ116を2次元的にステップ移動しながら、ウエハWにおける複数のショット領域の各々に対して露光処理を繰り返し実行する。これはステップアンドリピート方式と呼ばれる露光方式である。また、処理ユニット110は、各ショット領域の露光処理において、マスクステージ113とウエハステージ116とを同期走査しながら露光処理を行ってもよい。これはステップアンドスキャン方式と呼ばれる露光方式である。
図2に示される露光装置100では、露光処理前のウエハWはウエハカセット130に入れられた状態で露光装置100(処理ユニット110)にセットされる。ウエハカセット130内には少なくとも1枚、通常は複数枚のウエハWが格納されている。そして、不図示のロボットハンドなどにより、1枚のウエハWがウエハカセット130から取り出され、プリアライメント部117上に供給される。プリアライメント部117でウエハWの方位合せや位置合せなどが行われた後、ロボットハンドによりウエハWがウエハチャック115上に供給されて露光処理が実行される。露光処理を終えたウエハWは、ロボットハンドによりウエハチャック115上から取り除かれてウエハカセット130に回収されるとともに、プリアライメント部117上で待機していた次のウエハWがウエハチャック115上に供給される。このようにして次々とウエハWの露光処理が行われる。なお、露光装置100は、塗布現像装置(ディベロッパーとも呼ばれる)等の他の装置とインラインで接続し、露光処理前のウエハWが他の装置から搬入されたり、露光処理後のウエハWが他の装置へ搬出されたりする構成であってもよい。
ホストコンピュータ120(主制御部)は、例えばCPUおよびメモリを含む情報処理装置であり、露光装置100の処理ユニット110を統括的に制御する。図1に示す露光装置100には、1つの処理ユニット110しか含まれていないが、複数の処理ユニット110が露光装置100に含まれる場合、ホストコンピュータ120は、当該複数の処理ユニット110を統括的に制御する。
図3は、ホストコンピュータ120の構成例を示している。図3は、管理装置20に対する情報やデータの送受信や、各処理ユニット110(制御部118)対する動作命令や計測コマンドの送信、補正値の入力などの装置操作を行うためのホストコンピュータ120のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。ホストコンピュータ120は、プロセッサ(CPUやMPU等)がプログラムを読み出して実行する。本発明に係る機能を実現するソフトウェアやプログラムは、ネットワーク又は各種記憶媒体を介して1つ又は複数のプロセッサからなるホストコンピュータ120に供給される。そのホストコンピュータ120のプロセッサが、ネットワークを介して供給されたプログラム、および/または記憶媒体に記憶されたプログラムをメモリに読み出すことにより、当該プログラムが実行される。離れた位置にある複数のコンピュータが有線又は無線通信で互いにデータを送受信することにより、プログラムの各種処理を行ってもよい。なお、ホストコンピュータ120は、半導体製造装置に接続されたサーバーであってもよく、半導体製造装置内にあっても良い。また、制御部118と同じ情報処理装置としてもよい。
図3の例では、CPU121(プロセッサ)は、管理装置20や処理ユニット110の制御部118に対して情報やデータを送信するための演算を行い、バス128に接続された各構成要素を制御する処理装置である。ROM122は、データ読出し専用のメモリであり、基本制御プログラムが格納されている。RAM123は、データ読み書き用のメモリであり、CPU121の各種演算処理やデータの一時記憶用に用いられる。記憶部124は、ログ情報の記憶用に用いられる。また、記憶部124は、情報処理装置のオペレーティングシステム(OS)のシステムプログラム、及びプログラムやデータ処理中の一時記憶領域としても用いられる。記憶部124は、RAM123に比べてデータの入出力は遅いが、大容量のデータを保存することが可能である。記憶部124は、記憶するデータを長期間にわたり参照できるように、永続的なデータとして保存できる不揮発性記憶部であってもよい。記憶部124は、主に磁気記憶部(HDD)で構成されるが、CD、DVD、メモリカードといった外部メディア(記憶媒体)を装填してデータの読み込みや書き込みを行う装置であってもよい。
入力部125は、情報やデータ(文字等)を入力するための装置であり、各種のキーボードやマウスなどが該当する。表示部126は、情報やデータを表示するための装置(ディスプレイ)であり、CRT(Cathode Ray Tube)または液晶ディスプレイなどが該当する。通信部127は、LANに接続してTCP/IP等の通信プロトコルによるデータ通信を行い、他の装置(他のホストコンピュータ120、管理装置20)と相互に通信を行う場合に使用される。通信部127は、他の制御ユニットあるいは他の制御プロセスから動作情報を受信して、ログ情報として記録してもよい。また、通信部127は受信した動作情報を管理装置20に送信してもよいし、管理装置20からの要求に基づき記録されたログ情報を送信してもよい。
ここで、露光装置100などの生産装置10の調整(校正および/または検査を含む)を行うための操作手順は、当該調整の種類だけでなく、生産装置10の状態(構成および/または状況)によっても異なってくる。従来では、生産装置10の調整を行う場合、作業者(オペレータ、ユーザ)が、生産装置10の構成情報と状況情報とに基づいて、ホストコンピュータ120(ROM122、RAM123)に記憶されている操作手順を自ら取得して当該調整を行う必要があった。つまり、従来では、作業者が、様々な種類の操作手順の中から、生産装置10の構成および/または装置の状況に応じた操作手順を適切に取得し、当該操作手順に従って当該調整を正確に実施する必要があった。しかしながら、このような作業は、作業者にとって煩雑であるとともに、作業ミスや作業効率の低下を引き起こす可能性があり、利便性の点で不利である。
そこで、本実施形態では、複数の生産装置10を管理する管理装置20が、複数の生産装置10のうち調整が必要な生産装置10(以下、対象生産装置10と表記することがある)について、装置状態を示す状態情報を取得する。そして、当該調整の手順と操作要求とを含むガイド(操作ガイド)を対象生産装置10の表示部126に表示するためのユーザインタフェースを、当該状態情報に応じて選択して対象生産装置10に提供する。装置状態とは、装置構成(装置のハードウェア構成および/またはソフトウェア構成)、および/または、装置状況(例えば、どのような調整が必要な状況かなど、現在の装置の状況)を含みうる。つまり、状態情報は、装置構成を示す構成情報、および/または、装置状況を示す状況情報を含みうる。
また、本実施形態のユーザインタフェースは、通信部127を介してホストコンピュータ120に提供され、ROM122またはRAM123に記憶されるとともに、調整の手順と操作要求とを含むガイドを表示部126に表示する。そして、表示部126に表示された操作要求に従って作業者により入力される情報(入力情報)を取り込み、当該入力情報に応じて、調整の手順の動作を対象生産装置10(処理ユニット110)に指令する。つまり、本実施形態のユーザインタフェース30は、表示部126に表示されるガイド(調整の手順、操作要求)に加えて、入力情報に応じて対象生産装置10に指令するための指令コマンドを含むプログラムとして機能しうる。このように構成されたユーザインタフェースにより、対象生産装置10の調整において、作業者は、表示部126に表示された操作要求に従って、入力部125を介して情報を入力するだけでよい。そのため、作業者の利便性を向上させることができるとともに、作業ミスを低減するとともに、作業効率を向上させることができる。なお、操作要求は、作業者(ユーザ)に対する操作の要求であり、入力部125を介しての作業者の入力の要求を含みうる。
図4は、管理装置20(管理サーバ)の構成例を示すブロック図である。管理装置20は、記憶部21と、処理部22と、通信部23とを備えうる。
記憶部21は、生産装置10の構成の種類および/または調整の種類に対応する複数種類のユーザインタフェース(UI)30を記憶する。複数種類のユーザインタフェース30は、生産装置10についての複数種類の状態情報にそれぞれ関連付けられていると理解されてもよい。状態情報は、前述したように、生産装置10の装置状態を示す情報であり、構成情報および/または状況情報を含みうる。構成情報は、生産装置10の構成を示す情報であり、生産装置10の機種情報、ハードウェア情報、およびソフトウェア情報(バージョン情報)の少なくとも1つを含み、それらのうち2以上の組み合わせであってもよい。例えば、同じ機種であっても、ユーザからの要望によりハードウェアの構成が異なることがある。この場合、機種情報とハードウェア情報とを組み合わせた情報が構成情報となりうる。また、状況情報は、生産装置10の現在の状況を示す情報であり、生産装置10においてどのような調整が必要かを示す情報と理解されてもよい。状況情報は、生産装置10の動作情報、異常内容を示す情報、および生産装置10の調整や検査の進捗情報の少なくとも1つを含み、それらのうち2以上の組み合わせであってもよい。動作情報は、例えば、生産装置10における処理ユニット110の動作状態を示す情報、および/または、制御部118による処理ユニット110の制御内容を示す情報であってもよい。
本実施形態の場合、記憶部21には、複数種類のユーザインタフェース30a,30b,30c・・・が記憶されており、各ユーザインタフェース30には、調整の手順に含まれる複数の項目(工程)の各々についての操作画面が含まれる。各操作画面は、生産装置10の表示部126に表示される画面であり、対象の項目(工程)についての調整内容(操作内容)と、当該項目(工程)についての操作要求とを含みうる。一例として、ユーザインタフェース30aには、操作画面A-1(31)、操作画面A-2(32)、操作画面B-1(33)、操作画面B-2(34)が含まれている。
処理部22は、CPUおよびメモリを有するコンピュータなどの情報処理装置である。処理部22は、各生産装置10から状態情報を取得する取得部、複数の生産装置10の中から対象生産装置10を特定する特定部、対象生産装置10の状態情報に応じてユーザインタフェースを選択して対象生産装置10に提供する提供部として機能しうる。本実施形態の場合、処理部22は、生産装置10の状態情報とユーザインタフェース(操作画面)とを関連付けるテーブル40を有しており、当該テーブル40に基づいて、対象生産装置10の状態情報に応じたユーザインタフェース30を選択(決定)しうる。図5は、テーブル40の一例を示している。図5に示されるテーブル40は、生産装置10の構成の種類、および、調整の種類(生産装置10の状況)に応じて提供すべきユーザインタフェース(操作画面)を示している。ここで、処理部22は、各生産装置10の状態情報(構成情報、状況情報)を記憶部21に記憶させて管理してもよい。この場合、処理部22は、各生産装置10(ホストコンピュータ120)に対してログ情報の要求を行い、受信したログ情報に基づいて、記憶部21に記憶されている状態情報を更新してもよい。
通信部23は、複数の生産装置10の各々と通信して情報やデータの送受信を行う。本実施形態の場合、通信部23は、各生産装置10から状態情報を受信したり、各生産装置10にユーザインタフェースを提供(送信)したりするために使用されうる。
図6は、管理装置20で行われる管理処理(管理方法)を示すフローチャートである。図6に示されるフローチャートは、管理装置20の処理部22で実行され、複数の生産装置10を管理するための管理プログラムをメモリに読み出して起動することにより開始されうる。
ステップS11では、管理装置20は、複数の生産装置10の各々から状況情報を取得する。管理装置20は、複数の生産装置10の各々から所定のタイミングで(例えば、定期的に、あるいは周期的に)状況情報を取得してもよい。次いで、ステップS12では、管理装置20は、ステップS11で取得した各生産装置10の状況情報に基づいて、複数の生産装置10の中に、調整が必要な対象生産装置10を特定したか否かを判断する。例えば、管理装置20は、各生産装置10の状況情報に基づいて、異常が生じている生産装置10を検出した場合、その生産装置10を対象生産装置10として特定することができる。対象生産装置10を特定していない場合にはステップS11に戻り、対象生産装置10を特定した場合にはステップS13に進む。
ステップS13では、管理装置20は、対象生産装置10から構成情報を取得する。次いで、ステップS14では、管理装置20は、ステップS11で取得した対象生産装置10の状況情報と、ステップS13で取得した対象生産装置10の構成情報とに基づいて、対象生産装置10に提供すべきユーザインタフェース30を決定(選択)する。前述したように、管理装置20は、図5に示されるテーブル40を用いて、記憶部21に記憶された複数種類のユーザインタフェース30の中から、対象生産装置10に提供すべきユーザインタフェース30を選択(決定)することができる。
ステップS15では、管理装置20は、ステップS14で決定したユーザインタフェース30を、通信部23を介して対象生産装置10に提供(供給、送信)する。ユーザインタフェース30が提供された対象生産装置10(ホストコンピュータ120)では、当該ユーザインタフェース30に含まれる操作ガイドが表示部126に表示される。これにより、作業者は、当該操作ガイドに従って調整(作業)を行うことができる。当該調整が終了したら、作業者は、当該ユーザインタフェース30を介して調整結果(作業結果、ログ情報)を管理装置20に送信(供給)する。
ステップS16では、管理装置20は、対象生産装置10から調整結果を取得する。次いで、ステップS17では、管理装置20は、対象生産装置10から受信した調整結果に基づいて、対象生産装置10の調整が正常(予定通り)に完了したか否かを判断する。調整が正常に完了した場合には終了する。一方、調整が正常に完了しなかった場合には、対象生産装置10の状況情報および構成情報を再度取得するとともに、ステップS14に戻り、対象生産装置10に提供すべきユーザインタフェース30を再度決定する。なお、作業結果を受信した管理装置20は、当該作業結果に基づいて、記憶部21に記憶されている状態情報を更新(反映)してもよい。
次に、図6のステップS14において、対象生産装置10に提供すべきユーザインタフェース30(操作画面)を決定する詳細な方法について説明する。対象生産装置10から状況情報および構成情報を取得した管理装置20は、対象生産装置10で必要な調整の種類を状況情報に基づいて決定するとともに、対象生産装置10の構成の種類(機種やバージョンなど)を構成情報に基づいて決定する。そして、管理装置20は、決定した対象生産装置10の調整の種類および構成の種類に応じたユーザインタフェース30を、図5に示されるテーブル40に基づいて決定(選択)する。一例として、対象生産装置10の装置構成の種類が「機種A、バージョン100」であり、調整の種類が「ロボットハンド調整」である場合、管理装置20は、テーブル40に基づいて、操作画面A-1をユーザインタフェース30として決定することができる。
本実施形態の場合、図5のテーブル40に示されるように、装置構成の種類が同じであっても、装置状況の種類(調整の種類)が異なっている場合には、ユーザインタフェース30として対象生産装置10に提供される操作画面が変更される。例えば、機種Aのバージョン100という装置構成の生産装置10であっても、ロボットハンド調整が必要な装置状況である場合には操作画面A-1が選択され、ウエハステージ調整が必要な装置状況である場合には操作画面B-1が選択される。また、装置状況の種類(調整の種類)が同じであっても、装置構成の種類が異なっている場合には、ユーザインタフェース30として対象生産装置10に提供される操作画面が変更される。例えば、ロボットハンド調整が必要な装置状況であっても、装置構成が機種Aのバージョン100である場合には操作画面A-1が選択され、装置構成が機種Bのバージョン300である場合には操作画面A-2が選択される。
次に、ユーザインタフェース30として対象生産装置10に提供されて表示部126に表示される操作画面の構成について説明する。操作画面は、生産装置10の調整の操作手順を示す操作ガイドを含み、当該操作ガイドには、操作手順の項目(工程)ごとに操作要求が含まれうる。また、操作画面には、操作手順と操作要求とを含む操作ガイドを表示する表示領域と、操作要求に従って作業者(ユーザ)が情報を入力する入力領域とが含まれる。
図7は、装置構成が機種Aのバージョン100であり、ロボットハンド調整が必要な装置状況である場合に選択される操作画面A-1(31)の表示例を示している。図7に示される操作画面A-1(31)には、画面の名称311と、調整の種類の名称312と、操作ガイドを表示する表示領域313,315と、作業者が情報を入力する入力領域314,316とが含まれる。表示領域313,315は、操作ガイドにおける手順の項目(工程)ごとに設けられており、当該手順に沿って配置される。
図7に示される例では、操作項目を表示する表示領域313,315の各々に、操作手順および操作要求がテキスト形式313a,315aで表示されている。表示領域313には、JPG形式やPNG形式などの画像313bが更に表示されているが、画像313bの代わりに又は画像313bに追加して、MP4形式やAVI形式の動画が表示されてもよい。また、入力領域314は、表示領域313に示される操作要求に対して設けられ、入力領域316は、表示領域315に操作要求に対して設けられている。
入力領域314には、確認対象としての操作コマンドの名称314a(図中では「計測コマンドA」)と、表示領域313の表示に応じて作業者が情報(応答)を入力するボタン314bとが設けられている。当該ボタン314bは、操作コマンドとして「計測コマンドA」を実行可能かを作業者に確認するために設けられている。入力部125を介して作業者により当該ボタン314bが選択(タッチ、押下)されると、ユーザインタフェース30は、作業者により入力された情報(ボタン314bの選択)を取り込む。そして、当該情報に応じて、表示領域313に表示された手順(項目)の動作(計測コマンドA)を対象生産装置10に指令し、当該動作(計測コマンドA)を対象生産装置10(処理ユニット110)に自動で実行させる。
入力領域316には、確認対象として、計測コマンドAの実行後に得られるパラメータの名称316a(図中では「パラメータA」)と、表示欄316b,316cと、ボタン316dとが設けられている。表示欄316bは、計測コマンドAの実行により計測されたパラメータAの値(計測値)を表示する領域である。表示欄316bは、パラメータAの規格値を表示する領域である。ボタン316dは、表示領域313の表示に応じて作業者が情報(応答)を入力するための領域である。当該ボタン316dが入力部125を介して作業者により当該ボタン314bが選択(タッチ、押下)されると、ユーザインタフェース30は、表示領域315に表示された手順(項目)の動作(次の調整)を対象生産装置10に指令する。
管理装置20は、パラメータAの計測値が規格値を満たさない旨の情報を対象生産装置10から取得した場合、計測コマンドAの前にコマンドCを実行するための操作画面a-1をユーザインタフェース30として対象生産装置10に提供する。図8は、パラメータAの計測値が規定値を満たさない場合の操作画面a-1(35)の一例を示している。
操作項目および/または確認対象は、対象生産装置10への動作命令、例えばウエハやレチクルの移動やウエハ露光実行などであってもよいし、計測コマンドの実行や、補正値の入力であってもよい。入力欄(入力領域)および/または表示欄(表示領域)はテキストフィールド型であってもよいし、チェックボックス型やプルダウンリストから値を選択する選択型であってもよい。ボタンの押下時の実行範囲は、ボタン1つにつき1つの操作項目(確認対象)のみを実行するものであってもよいし、複数の操作項目(確認対象)を実行するものであってもよい。例えば、複数の操作項目を実行する場合、後述の操作項目(確認対象)をグループ化してもよい。また、ボタンによる処理が終了すると、対象生産装置10に対して、ログ情報の要求を行い、ユーザインタフェース(操作画面)の値を更新してもよい。
生産装置10への動作命令や計測コマンドの実行、補正値の入力は、操作画面を操作しているホストコンピュータ120から対象生産装置10の制御部118へ送信されうる。対象生産装置10の制御部118は、受信した装置操作を行い、その動作結果をホストコンピュータ120へ送信する。動作結果を受信したホストコンピュータ120は、受信した動作結果およびそれに付随する情報、例えば動作命令や計測コマンドの実行、補正値の入力を行った時間を含めて管理装置20(処理部22)へ送信する。管理装置20は、受信した結果に基づいて、記憶部21に記憶されている対象生産装置10の構成情報および/または状況情報を更新してもよい。
操作画面でのボタンの押下、例えば動作命令や補正値の入力が正常に動作した場合や、計測コマンドを実行して規格値内の値が得られた場合には、調整の種類の名称312および/または表示領域313,315の表示態様(色または模様)を変更してもよい。これにより、作業者は、調整の進捗具合を視覚的に容易に判断することが可能となる。
操作画面におけるボタンによる処理の結果によって配信する操作画面を変更してもよい。例えば、前述したように、機種Aのバージョン100という装置構成の生産装置10において、ロボットハンド調整が必要な装置状況である場合に提供される操作画面A-1(31)の入力領域314のボタン314bが選択され、計測コマンドAを実行する。その計測結果が予定の結果ではなかった場合には、テーブル40に従い、ユーザインタフェース30として、図8に示される操作画面a-1(35)を対象生産装置10に提供する。
図5に示されるテーブル40によれば、構成情報または状況情報もしくはその両方が変わる場合、管理装置20から提供されるユーザインタフェース30操作画面が変わることがある。例えば、図7に示される操作画面A-1(31)は、対象生産装置10が機種Aのバージョン100という装置構成であり、ロボットハンド調整が必要な装置状況である場合に、ユーザインタフェース30として対象生産装置10に提供される操作画面である。これに対し、装置構成が同じ機種Aのバージョン100という装置構成であっても、ウエハステージ調整が必要な装置状況である対象生産装置10には、図9に示される操作画面B-1(33)が提供される。操作画面B-1(33)は、操作画面A-1(31)と比較して、操作画面を構成する要素は同じだが、その内容や順序は異なっている。一方、ロボットハンド調整が必要な装置状況の場合であっても、機種Bのバージョン300という装置構成の生産装置10には、図10に示される操作画面A-2(32)が配信される。操作画面A-2(32)は、操作画面A-1(31)と比較して、操作画面を構成する要素は同じだが、その内容や順序は異なっている。
上述したように、本実施形態の管理装置20は、調整が必要な対象生産装置10から取得した状態情報(構成情報および/または状況情報)に応じて、ユーザインタフェースを選択して対象生産装置10に提供する。当該ユーザインタフェースは、当該調整の手順と操作要求とを含む操作ガイドを対象生産装置10の表示部126に表示するとともに、操作要求に従って作業者により入力される情報に応じて、調整の手順の動作を対象生産装置10に指令する。このように構成されたユーザインタフェースにより、対象生産装置10の調整において、作業者は、表示部126に表示された操作要求に従って、入力部125を介して情報を入力するだけでよい。そのため、作業者の利便性を向上させることができるとともに、作業ミスを低減し、作業効率を向上させることができる。
<第2実施形態>
本発明に係る第2実施形態について説明する。本実施形態の管理装置20は、対象生産装置10の調整についての操作ガイドの要求を作業者(対象生産装置10)から受信した場合に、対象生産装置10の装置構成に応じたユーザインタフェース30を対象生産装置10に提供する例を説明する。なお、本実施形態は、以下で説明する事項以外は、第1実施形態を基本的に引き継ぐものである。
本発明に係る第2実施形態について説明する。本実施形態の管理装置20は、対象生産装置10の調整についての操作ガイドの要求を作業者(対象生産装置10)から受信した場合に、対象生産装置10の装置構成に応じたユーザインタフェース30を対象生産装置10に提供する例を説明する。なお、本実施形態は、以下で説明する事項以外は、第1実施形態を基本的に引き継ぐものである。
図11は、本実施形態の管理装置20で行われる管理処理(管理方法)を示すフローチャートである。図11に示されるフローチャートは、管理装置20の処理部22で実行され、複数の生産装置10を管理するための管理プログラムをメモリに読み出して起動することにより開始されうる。
ステップS21では、管理装置20は、複数の生産装置10の少なくとも1つから操作ガイドの要求を受信したか否かを判断する。操作ガイドの要求を受信していない場合にはステップS21を繰り返し、操作ガイドの要求を受信した場合にはステップS22に進む。操作ガイドの要求を行った生産装置10は、調整が必要な生産装置10であり、以下では対象生産装置10と表記することがある。
ステップS22では、管理装置は、対象生産装置10から構成情報および状況情報を取得する。次いで、ステップS23では、管理装置20は、ステップS22で取得した構成情報と状況情報とに基づいて、対象生産装置10に提供すべきユーザインタフェース30を決定(選択)する。ステップS23におけるユーザインタフェース30の決定方法は、第1実施形態のステップ14で説明したとおりである。また、ステップS24~26は、第1実施形態で説明したステップS15~17で説明したとおりであるため、ここでの説明を省略する。
本実施形態によっても、対象生産装置10の調整において、作業者は、表示部126に表示された操作要求に従って、入力部125を介して情報を入力するだけでよい。そのため、作業者の利便性を向上させることができるとともに、作業ミスを低減するとともに、作業効率を向上させることができる。
ここで、本実施形態において、管理装置20は、図12に示すように、対象生産装置10の構成情報に基づいて、操作画面に関する複数の候補を選択するための画面36をユーザインタフェース30として対象生産装置10に提供してもよい。図12は、作業者に操作画面を選択させるための画面36の表示例を示している。図12に示す例では、作業者は、プルダウン方式により、操作画面に関する複数の候補51から1つの操作画面を選択し、Runボタン52を押下する。これにより、作業者による操作画面の選択情報が、対象生産装置10から管理装置20に送信される。管理装置20は、対象生産装置10から受信した選択情報に基づいて、作業者により選択された操作画面をユーザインタフェース30として対象生産装置10に提供する。
<物品の製造方法の実施形態>
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上記の管理装置(管理システム)で管理される生産装置(露光装置などの半導体製造装置)を用いて基板上にパターンを形成する工程と、かかる工程でパターンが形成された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上記の管理装置(管理システム)で管理される生産装置(露光装置などの半導体製造装置)を用いて基板上にパターンを形成する工程と、かかる工程でパターンが形成された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
<その他の実施例>
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。
10:生産装置、110:処理ユニット、120:ホストコンピュータ、20:管理装置、22:記憶部、22:処理部、30:ユーザインタフェース
Claims (12)
- 複数の生産装置を管理する管理装置であって、
前記複数の生産装置のうち調整が必要な対象生産装置について、装置状態を示す状態情報を取得する工程と、
前記調整の手順と操作要求とを含むガイドを前記対象生産装置の表示部に表示するためのユーザインタフェースを、前記状態情報に応じて選択して前記対象生産装置に提供する工程と、
を実行し、
前記ユーザインタフェースは、前記表示部に表示された前記操作要求に従ってユーザにより入力される情報を取り込み、前記情報に応じて前記手順の動作を前記対象生産装置に指令する、ことを特徴とする管理装置。 - 前記ユーザインタフェースは、前記ガイドを表示する表示領域と、前記操作要求に従って前記ユーザが前記情報を入力する入力領域とを含む画面を前記表示部に表示させる、ことを特徴とする請求項1に記載の管理装置。
- 前記ガイドは、前記手順に含まれる複数の項目の各々について前記操作要求を含み、
前記ユーザインタフェースは、前記複数の項目の各々を前記表示部に表示し、前記複数の項目の各々についての前記操作要求に従って前記ユーザにより入力される前記情報を取り込み、前記情報に応じて各項目の動作を前記対象生産装置に指令する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の管理装置。 - 前記管理装置は、
生産装置の構成の種類および/または調整の種類に対応する複数種類のユーザインタフェースを記憶する記憶部を備え、
前記記憶部に記憶された前記複数種類のユーザインタフェースの中から、前記状態情報に応じた前記ユーザインタフェースを選択して前記対象生産装置に提供する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の管理装置。 - 前記状態情報は、装置構成に関する構成情報を含み、
前記管理装置は、前記対象生産装置から取得された前記構成情報に基づいて、前記対象生産装置の構成に応じた前記ユーザインタフェースを選択して前記対象生産装置に提供する、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の管理装置。 - 前記状態情報は、装置状況に関する状況情報を含み、
前記管理装置は、前記対象生産装置から取得された前記状況情報に基づいて、前記対象生産装置の状況に応じた前記ユーザインタフェースを選択して前記対象生産装置に提供する、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の管理装置。 - 前記状態情報は、装置状況に関する状況情報と、装置構成に関する構成情報とを含み、
前記管理装置は、前記複数の生産装置の各々から取得された前記状況情報に基づいて前記対象生産装置を特定した場合に、前記対象生産装置から前記構成情報を取得し、取得した前記構成情報に基づいて、前記対象生産装置の装置構成に応じた前記ユーザインタフェースを選択して前記対象生産装置に提供する、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の管理装置。 - 前記状態情報は、装置構成に関する構成情報を含み、
前記管理装置は、前記対象生産装置の前記調整について前記ガイドの要求を受信した場合に、前記対象生産装置から前記構成情報を取得し、取得した前記構成情報に基づいて、前記対象生産装置の装置構成に応じた前記ユーザインタフェースを選択して前記対象生産装置に提供する、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の管理装置。 - 前記複数の生産装置は、装置構成が互いに異なる2以上の生産装置を含む、ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の管理装置。
- 前記複数の生産装置は、基板上にパターンを形成する2以上のリソグラフィ装置を含む、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の管理装置。
- 複数の生産装置を管理する管理方法であって、
前記複数の生産装置のうち調整が必要な対象生産装置について、装置状態を示す状態情報を取得する工程と、
前記調整の手順と操作要求とを含むガイドを前記対象生産装置の表示部に表示するためのユーザインタフェースを、前記状態情報に応じて選択して前記対象生産装置に提供する工程と、
を含み、
前記ユーザインタフェースは、前記表示部に表示された前記操作要求に従ってユーザにより入力される情報を取り込み、前記情報に応じて前記手順の動作を前記対象生産装置に指令する、ことを特徴とする管理方法。 - 生産装置の調整の手順と操作要求とを含むガイドを表示部に表示する表示工程と、
前記表示部に表示された前記操作要求に従ってユーザにより入力される情報を取り込み、前記情報に応じて前記手順の動作を前記生産装置に指令する工程と、
をコンピュータに実行させるためのプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021063002A JP2022158240A (ja) | 2021-04-01 | 2021-04-01 | 管理装置、管理方法、およびプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021063002A JP2022158240A (ja) | 2021-04-01 | 2021-04-01 | 管理装置、管理方法、およびプログラム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022158240A true JP2022158240A (ja) | 2022-10-17 |
Family
ID=83638932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021063002A Pending JP2022158240A (ja) | 2021-04-01 | 2021-04-01 | 管理装置、管理方法、およびプログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2022158240A (ja) |
-
2021
- 2021-04-01 JP JP2021063002A patent/JP2022158240A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8060472B2 (en) | Information processing system, information processing method, and computer-readable storage medium | |
JP2010232217A (ja) | 露光システム、露光装置のテスト方法及びデバイス製造方法 | |
US6499007B1 (en) | Parameter editing method and semiconductor exposure system | |
KR20220138019A (ko) | 제품 유닛들의 제조를 위한 공정들의 시퀀스의 최적화 | |
US20150074621A1 (en) | Method of obtaining position, exposure method, and method of manufacturing article | |
JP4154144B2 (ja) | 露光装置、発光制御方法、およびデバイス製造方法 | |
JP2017037194A (ja) | 露光装置の制御方法、露光装置、プログラム、および物品の製造方法 | |
JP2022158240A (ja) | 管理装置、管理方法、およびプログラム | |
JP2869826B2 (ja) | 半導体製造方法 | |
JP2002050562A (ja) | 半導体製造装置、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 | |
JP4137521B2 (ja) | 装置管理方法及び露光方法、リソグラフィシステム及びプログラム | |
JP2019066692A (ja) | リソグラフィシステム、制御プログラムを更新する方法、プログラム、および物品製造方法 | |
JPH1140469A (ja) | リソグラフィシステム及びその作業管理方法 | |
US20060172207A1 (en) | Exposure analyzing system, method for analyzing exposure condition, and method for manufacturing semiconductor device | |
JPH104047A (ja) | 半導体製造装置及びコマンド設定方法 | |
JP2021173915A (ja) | 情報処理装置、及び情報処理方法 | |
JP2021174349A (ja) | 情報処理装置、表示制御方法、プログラム、基板処理システム、及び物品の製造方法 | |
JP2010258044A (ja) | 露光装置、半導体製造システム及びデバイス製造方法 | |
JP2006128447A (ja) | 基板処理装置及び方法並びに情報管理方法 | |
JPH11214296A (ja) | 回路パターン製造方法および装置 | |
JP2010153601A (ja) | 情報処理装置、露光装置、デバイス製造方法、情報処理方法およびプログラム | |
US20240055283A1 (en) | Substrate processing system and its control method | |
JP2010199333A (ja) | レシピ生成方法、露光装置、デバイス製造方法及びプログラム | |
JP2006269622A (ja) | メンテナンス方法及びそのプログラム並びに露光システム | |
JP6719950B2 (ja) | データ送信方法、プログラム、データ送信装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 |