JPS62251181A - エンボス形成法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、スクリーン印刷によって被印刷物に高固形
分インキの凹凸状若しくは凸状皮膜を塗布し、これを硬
化させて、エンボス形成方法を著しく簡便にし、かつ、
均一した製品を得られるようにしたエンボス形成法に関
する。

従来の技術 従来のエンボス形成法は、液体状の熱硬化性樹脂あるい
は加熱溶解した熱可塑性樹脂を、エンボスの凸状となる
部分を凹型の鋳型の中へ加圧射出して硬化するか、ある
いは冷却同化後、型から取り出す方法と、雄型および雌
型の一対で構成する金型プレスにより、被加工物に凹凸
若しくは凸を設ける方法とが知られている。

発明が解決しようとする問題点 しかし、上記従来のエンボス形成法は何れも機械的加工
法であって、鋳型やプレス金型を必要とし、これらの製
造価格が極めて高く、しかも多種類のエンボスパターン
を要する業界にあっては。

製品単価に対する加工費が頗る高くつく。このため、価
格制約のある製品の業界にとっては大きな障害となって
おり、また、金型プレスの場合、一般的には単品加工で
あり、その生産性にも限界に達していた。

そこで、この発明においては、前記従来の欠点を是正す
るために、文字、図形、模様などを任意に写真製版が可
能なスクリーン刷版を用い、固形分の多いインキ、すな
わち不揮発分の高いインキをプラスチックシート、プラ
スチックフィルム、プラスチック成型物および平滑な金
属面等の被印刷面へ印刷し、これを硬化させることによ
り、エンボス、シボ、又はレリーフと認めるに充分な凹
凸若しくは凸が形成する文字、図形、模様等を形成する
ことを目的とする。

問題点を解決するための手段 上記の目的を達成するための本発明の構成を、図面に基
づいて説明する。すなわち、この発明はスクリーン１上
に高固形分インキ２を供給して、スクリーンパターンに
応じて押し出した前記高固形分インキ２の凹凸状若しく
は凸状インキ皮膜３を被印刷物４の表面５に塗布したの
ち、該凹凸状若しくは凸状インキ皮膜３を硬化させてな
るエンボス形成法である。なお、被印刷物４の表面５に
凹凸状若しくは凸状インキ皮膜３を塗布するには、スク
リーン１が織物状物で、その端部が織物状物の厚さとば
ぼ同厚のレジスト６で支えられているものや、スクリー
ン１が織物状物に付着した織物状物の厚さより厚いレジ
スト７であるものを用いると都合がよい。なお、前者に
あってはスクリーン１を構成する糸８の径が太い場合に
、また、後者にあっては糸９の径が細い場合に適用され
る。

そして、この発明においては、被印刷物４の表面５にエ
ンボス、シボ、レリーフと認めるに充分なインキ皮膜厚
を印刷するため、スクリーン刷版および高固形分インキ
は相応の内容を呈している。

すなわち、スクリーン刷版はスクリーンレジスト膜の厚
いものを使用するが、承にレジスト膜を厚くするだけで
は印刷パターンの全面に均一な高固形分インキ皮膜の厚
さを得ることはできない。つまりスクリーン１７印刷の
場合、通常はウレタン系のスキージ−１０と称する弾性
を有するヘラでインキ１８を押し出しして印刷を行う関
係上、第４図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）
、（Ｆ）および（Ｇ）にみられるように、レジスト１１
に近い部分のみにインキ皮膜１２が厚部１３となり、レ
ジストから遠い部分ではインキ皮膜１２が薄部１４とな
ってしまう。そのため、インキをレジストからの距離に
関係なく、均等な厚みで印刷できるようにしなければな
らない。すなわち、先に述べたようにスクリーンの織目
をそのまま文字、図形、模様などとして使用したい場合
には、第１図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ＞および（Ｄ）にみ
られるように、スクリ−ン１の厚さが５０μ〜５００μ
のものを用い、レジスト６の厚さをスクリーン１の厚さ
と同等か、プラス２０μ以内に押えた刷版を用いる。こ
れにより、エンボス頂部が均等な高さを有し、エンボス
底部が各々均等な深さを有する状態〔第１図（Ｅ）〕が
得られる。また、ストライプ、砂目、網点、象形線描、
象形点描等任意の文字、図形、模様等を得たい場合には
、第２図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）および（Ｅ）
にみられるようにスクリーンの織目の影響を受けること
なく、これらを正確に印刷再現するためには、糸９径の
細いもので織成したスクリーン１を用いる。そして、エ
ンボス、シボ、レリーフと認めるに充分なインキ皮膜３
を得られるように、レジスト７の膜厚も大きくし、レジ
スト７からの距離に関係なく均一なインキ皮膜３を得る
ために、スクリーン厚を２０μ〜２００μとし、レジス
ト膜厚をスクリーン厚よりも２０μ以上とし、スキージ
−１０の上下動を防止し、水平移動ができるようにし、
レジスト膜が形成する支持体のポイントが多数配置でき
る文字、図形、記号、模様等を選択する。

さらに第３図にみられるように、テーブル状の頂部に平
滑なエンボス、レリーフを得たい場合には、スクリーン
目を文字、図形、記号、模様等として再現する場合に用
いたのと同様の刷版を用い、少しく流動性を付与した高
固形分インキ１５を適用して印刷し、これを乾燥硬化後
、頂部に残存したスクリーン目を埋めるため、同寸法の
スクリーン目の目立たない、かつ、細かいスクリーンを
用いた通常のレジスト模様をもったスクリーン刷版で、
流動性の高い高固形分インキ１６を重ね印刷すればよい
。

そして、この発明に適用されるインキは、エンボス、シ
ボ、レリーフと認めるに充分な凹凸を形成しなければな
らないので、不揮発分（揮発成分以外の皮膜として残存
する成分量）が６０％〜１００％の高固形分のものであ
り、かつ、印刷から乾燥硬化までの間にその凹凸若しく
は凸を維持するために適度な範囲でチクソトロビック性
（揺変性）を付与して流れに＜＜シてあり、さらにスク
リーン印刷方式に適応するように調整されたものである
。

このインキの組成としては、熱可塑性樹脂および熱硬化
性樹脂を単独あるいはその混合物として有機溶剤や反応
性稀釈剤等の溶媒に、高固形分に溶解若しくは分散した
インキの基本溶液であるベヒクルあるいは一般に光重合
型樹脂と知られる様々な反応性オリゴマー、プレポリマ
ー、反応性上ツマ−および各種の光重合開始剤を成分と
するほぼ１００％不揮発分の紫外線硬化型樹脂をベヒク
ルにスクリーン印刷適性、適度なチクソトロピック性を
目的として市販の各種添加剤、フィラーを適量混入した
インキ組成物になる。これらのインキの乾燥には、それ
ぞれの特性に応じた加熱乾燥、遠赤外線乾燥および紫外
線照射などの方式が選定される。また、インキ組成物に
は、顔料や染料を混入すれば所望する着色が得られ、さ
らにインキが被印刷物に直接密着し難い場合には、アン
カーコート（プライマー、すなわち接着剤の下塗）処理
を行ったのち、所定のインキによる印刷を行うことがで
きる。

作用 この発明は、前記の手段によりスクリーン上に供給した
高固形分インキをスキージ−でこすると、該高固形分イ
ンキはスクリーン目から押し出されて、被印刷物の表面
に刷版のパターンに従い、そのままの凹凸状若しくは凸
状インキ皮膜を形成する。このとき、高固形分インキは
、スクリーンの糸又はレジスト部によって押し出される
のを拘束され、これら以外の糸間で形成する穴から押し
出される。したがって、織目又はレジストの配置によっ
て所望する文字、図形、記号、模様等の凹凸状若しくは
凸状インキ皮膜を適宜に被印刷物の表面に形成できる。

そして、このインキ皮膜に紫外線を照射すると、これが
反応し硬化してエンボスを得ることができる。また、頂
部平滑なインキ皮膜形成が必要な場合には、流動性の高
い高固形分インキで表面補整を行えばよい。

実施例Ｉ ＡＨＣマットクリア（ＵＶインキ）又は４１００レイキ
ユアマツトクリア（ＵＶインキ）を用いて、０．５■厚
のポリカーボネートシート上に、ナイロンスクリーン６
０メツシユ、スクリーン厚２８０μ、レジスト（スクリ
ーン厚を含む。）厚３００μにて製版した刷版を用いて
印刷し、これを紫外線硬化を行った結果、インキ皮膜厚
（パターン頂部）１２０μの射出成型あるいはプレス加
工で得られるものと同様のスクリーン目状のエンボスを
得た［第１図（Ｅ）　］。

実施例２ ＡＢＣマットクリア又は４１００レイキユアマツトクリ
アを用いて、０．５■厚のポリカーボネートシ一ト上に
、１インチ当り縦糸８５本、横糸９１本のスクリーンお
よびスクリーン厚１７３μにレジスト総厚（スクリーン
厚を含む。）　３００μにてストライプ。

砂目、網点、方形ドツト、ブリック状ドツトを写真製版
した刷版を用いて印刷し、紫外線照射した結果、インキ
皮膜厚１５０μ〜１２０μ（パターンによる。）の写真
原版と同じ平面形状を有する射出成型あるいは金型プレ
ス加工で得られるものと同様のエンボスを得た［第２図
（Ｅ）］。

実施例３ １８８μ厚のポリエステルフィルムに、ハイペットＨＶ
メジウム（二液反応型高固形分インキ）をナイロンスク
リーン６０メツシユ、スクリーン厚２８０μ、レジスト
（スクリーン厚を含む）厚３００μにて製版した刷版を
用いて印刷し、加熱乾燥後、その＝１２− インキ皮膜上にレイキュアＲＬＬメジウム（低粘度で高
固形分のＵＶインキ）を印刷し、これを紫外線照射硬化
を行った結果、頂部が平滑で、かつ、均一な皮膜厚８５
μを有するテーブル状エンボス、シボ、レリーフを得た
（第３図）。

発明の効果 この発明は、上記の構造であるから、従来のようにパタ
ーンの異なるたびごとに準備せざるを得なかった射出成
型用鋳型、熱プレス用金型、常温プレス用金型を必要と
せず、簡易に多種類のパターンにより同時に量産、かつ
、均一した一定のエンボスを加工形成できるから、頗る
低価格にて提供できる。また、従来の射出成型法では困
難な薄膜支持体におけるエンボス、金型プレスでは側底
表現できなかった微細な凹凸を明確に再現できる。

そして、平面で表現する印刷において、エンボスの如く
立体表現を可能にしたことと、特に少量多品種化の傾向
の強い昨今、そのニーズに応じて製品製造上の多様化へ
の対応を極めて容易にしたことは頗る有意義である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に関連する説明図で、（Ａ）はスクリー
ンの断面図、（Ｂ）、（Ｃ）、および（Ｄ）は同じくス
キージ−との動きを示し、（Ｅ）は印刷された態様の断
面図、第２図は本発明に関連する説明図で、（Ａ）はス
クリーンの断面図、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）は同じ
くスキージ−との動きを示し。 （Ｅ）は印刷された態様の断面図、第３図は同じく印刷
された態様の断面図、第４図は不都合な場合の説明図で
、（Ａ）はスクリーンの断面図、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ
）、（Ｅ）、および（Ｆ）は同じくスキージ−との動き
を示し、（Ｇ）は印刷された態様の断面図を示す。 なお図中１はスクリーン、２は高固形分インキ、３は凹
凸状若しくは凸状インキ皮膜、４は被印刷物、５は表面
、６および７はレジスト。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　スクリーン刷版上に高固形分インキを供給して、ス
   クリーンパターンに応じて押し出した前記高固形分イン
   キの凹凸状若しくは凸状インキ皮膜を被印刷物の表面に
   塗布したのち、該凹凸状若しくは凸状インキ皮膜を硬化
   させてなることを特徴とするエンボス形成法。 ２　スクリーン刷版の開孔部の端部が、刷版支持体であ
   る織物状物の厚さとほぼ同厚のレジストによって得られ
   る特許請求の範囲第１項記載のエンボス形成法。 ３　スクリーン刷版の開孔部の端部が、刷版支持体であ
   る織物状物に付着した織物状物の厚さより厚いレジスト
   によって得られる特許請求の範囲第１項記載のエンボス
   形成法。