JPS62241555A - 触媒の乾式再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、乾式脱硝装置、その他ガス処理装置において
、使用中に機能が低下した触媒（以下、劣化触媒という
）を再生するにるたり、研磨材を用いて劣化触媒の表面
を研削することにより、融媒表面の付着物および触媒の
一部を研削除去して、劣化触媒を効率よく乾式再生する
方法に関するものである。

〔従来の技術〕

発ぼ所等の固定発生源を対象とする排煙脱硝方法として
、現在では、甑く一部の例外を除いて、融媒を用いたア
ンモニア接触選択還元方式（以下、乾式脱硝という）が
用いられている。乾式脱硝が朗用機に用いられ始めたの
は昭和４８年頃からで、ガス、■油等を燃料とするボイ
ラを主体に順次適応領域を拡げて行き、昭和５５年頃か
ら石炭焚ボイラの排ガス処理に用いられるようになった
。

乾式脱硝触媒は他の工業用触媒とは異なり、ばいじん等
を含み、性状の一定しない排ガスの処理に用いるので、
触媒の劣化を防止し耐久性を確保するために、触媒の使
用条件および操作条件を調整することが困難な場合が多
い。そこで、昭和４５年頃から、不特定ながら予想され
る使用条件の中での触媒の劣化原因の究明と耐久性向上
対策の研究が進められた。

当時、予想された触媒の劣化要因は、■Ａ１□０３また
はＦｅ２Ｏ３等の触媒成分が排ガス中のＳＯｘにより硫
酸塩となり触媒機能を失なうこと、■ぽいじん中のＫ　
、　Ｎａ　１．Ｌｉｐのアルカリ元素により、触媒機能
を失なうこと、のばいじん粒子やター／Ｌ／頚が触媒表
面を彼覆（マスキング、゛プラインディング）すること
によるもの、＠脱硝反応のために、注入するＮＥ（３と
排ガス中のＳＯｘにより触媒細孔内でＮＨ４Ｈ３○４等
のアンモニア化合物を生成し、触媒機能を損うこと、■
触媒の熱変性、等が主なものである。

ところでガス焚では、排ガス中にばいじんやＳＯｘが殆
ど存在しないため、触媒の熱的な変性を除いて劣化要素
はなく、油焚では、排ガス中にＳ０３を比較的多く含む
場合があることから、上記の＠や０が主な劣化要因であ
ると考えられていた。

また上記の劣化要因の内、■については昭相５０年頃、
従来のＡｌ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３等を主成分とする触媒に
代わシ、ＴＩＬＥ２を担体とする触媒が実用化されたこ
とで、触媒のＳＯｘに対する耐久性が７１１躍的に高ま
り、以後、ＳＯｘを含む排ガスへの乾式脱硝の適用が可
能となった。＠〜■の劣化要因については全く懸念がな
くなった訳ではないが、触媒の耐久性試験などから、ガ
ス焚や重油焚のボイラでは、少なくとも１年程度の耐久
性はあるものと判断されたところから実用化が進展した
。

ガス焚、油焚排ガス用乾式脱硝が進む中で、劣化した触
媒の再生方法についても研究が進められた。たとえば特
開昭５２−Ｊ５７８６号公報や特開昭５２−６８８９１
号公報に、劣化ｌｌ１ＩＩ媒をアルカリ性水溶液で洗浄
して再生する方法が見られ、特開昭５２−２６８９８号
公報や特開昭５２−２６８９４号公報には、劣化触媒を
加熱処理して再生する方法が開示されている。また特開
昭５４−６１０８７号公報に示されるように、水平軸を
中心として回転する反応器内に、多数の板状触媒体を固
定し、反応器内に砂、アルミナ等の粒状固体を収納する
とともに、反応器を回１云させることにより触媒表面に
付着したダストを除去して板状触媒体を伝磨する方法が
提案されている。

上記の洗浄による触媒再生方法は、触媒表面に付着した
ばいじん粒子等の除去効果も期待されるが、主として触
媒内に浸透したに１Ｎａ、　Ｎｕ４ＨＳＯ４等の被毒物
質を洗い流すことに効果の主眼があると判断される。ま
た７ＪＯ熱処理は、一定の温度を下回る運転で、触媒内
に蓄積するＮＨ４Ｈ８０４等アンモニア化合物を飛散さ
せることに効果がある。

また特開昭５４−６１０８７号公報記載の方法は、触媒
ベレットを平行な金網間に充填した形状の板状触媒体に
おいて、板状触媒体の表面表層部のベレット粒子間の隙
間に付着堆積したダストを剥離することを目的としてお
シ、この意味において、触媒体を構成する１′！ｌ！ｌ
ｌ謀ベレツトへのガスの接触と同時に触媒残骸を再生賦
活するという効果がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ガス焚や、一部の劣質油を除く油焚での乾式脱硝装置の
運転年数が経つにつれて、夾缶での触媒劣化は当初懸念
されたより少ないことが明らかとなり、現在では６年以
上触媒の取換や増量を要しないことが通例となっている
。石炭焚排ガスは、ばいじんを多量に含むことから、触
媒の磨耗対策や閉塞対策の確立を要することなど技術的
課題が多かったこと等で、実用化時期は油焚に比べて遅
く、昭和５５年頃であった。

本発明者らの試験によれば、石炭排ガスを処理する脱硝
触媒の経年劣化は油焚のそれに比べはるかに大きいこと
が判明している。劣化原因究明のため、使用のｎＩＩ後
で触媒を分析した結果によれば、殆どの場合に、　Ｎａ
等劣化を生ずる可能性の高い元素の含有量に大きな変化
はなく、Ｎｕ４ＨＳ０４等の則孔内生成の指標となる硫
黄の含有量にも劣化を説明するに足る変化はない。

石炭排ガスばいじん（フライアッシュ）に含まれるに、
　Ｎａ等アルカリ元素は、量的には油焚のそれに比べ多
いものの、ばいじん量に比べ相対的にＳＯ３が少ないこ
とや、ＫＳＮａ等の元素がシリカ、アルミナ等の酸化物
と共に溶融して、ガラス状の不溶な状態の中に封入され
ているため反応性が乏しく融謀毒として機能することが
少ないものと推定出来る。本発明者らの実施したフライ
アッシュの溶出試験においても、Ｋ、　Ｎａ等の水溶液
への溶解は少なく、このことが裏付けられている。

第１Ｏ図は石炭排ガスや油排ガスの脱硝処理に用いる触
媒の形状の一例を示すものである。１は触媒、２は触媒
孔である。石炭排ガスでの使用の前後で、触媒体（石炭
焚の場合、厚みは０．８〜１．８ＮＩＲを多用する）の
断面をＸ線マイクロアナライザーを用いて分析すると、
Ｓｉについて第１２図および第１３図に示すような断面
分布が得られた。なおこの実験で用いた触媒は、第１１
図に示すように、触媒１の厚みが１４００μ７７Ｚ　（
１，４Ｍ　’）、触媒孔２が６０００μｍ（６Ｉ謂）Ｘ
６０００μｍ＜６朋）のものを用いた。

第１２図に示すように、未使用の触媒では、触媒体の強
度保持のために用いる無機、俄維等に含まれるＳｌを検
出するため、内部の不規則な位置でＸ線マイクロアナラ
イザーのカウント数のピークが現われるが、その他の部
分は平坦である。一方、石炭排ガス処理に用いて劣化し
た触媒では、第１３図に示すように、排ガスに接する触
媒表層でのＳｉの含有量の増加が見られる（両端の装状
部分）。

同じＸ線マイクロアナライザーを用いて、使用の前後の
Ｎａ、　Ｋ、　Ｃａ等他の元素の分布を調査した結果、
ＣａについてＳｌと同様、劣化触媒において表層付近で
の含有量増加が認められた。出所が異なる数種の触媒サ
ンプルについて、同様に８１、ａ、ｈの分布を調査した
結果、劣化した触媒では多かれ少なかれ表層付近での８
１、Ｃａの含有量増加が認められていた。

触媒の劣化程度と触媒表層での８１またはＣａの含有量
増加程度との間の厳密な量的相関は未確立ではあるが、
Ｓｉ、Ｃａ等の含有量の指標となるＸ線マイクロアナラ
イザーのカウント数の大小と触媒劣化程度には相関が認
められ、劣化のはなはだしい触媒では、概ね、Ｓｌ、Ｃ
ａの断面分布図において表層付近での山が大きくなって
いる。劣化触媒でのＳｉ、Ｃａ、含有量の増加は、現在
まで調査した触媒では殆どの場合、表面からの深さ１０
０μｍ以内の領域で認められている。増加したＳｉ、Ｃ
ａが触媒成分と結合することによって触媒が劣化してい
るのか、或はＳｌ、Ｃａを含む粒子が触媒細孔を閉塞す
ることで劣化が生じているのか現時点では明確ではない
。

因みに、高温下で分解し触媒体成分と結合する可能性の
高いジメチルシロキサンを主成分とするシリコン樹脂を
、触媒と共に容器に入れて４００’Ｃ程度の温度に曝す
処理をした触媒では、表層のみならず触媒体全域にわた
り、Ｓｉの増加が観測されており、石炭排ガスによるＳ
ｌの増加態様と著しい違いが見られる。この場合、触媒
での副反応の性質にも石炭排ガスで劣化した触媒とは異
なった結果が得られている。このようなことから、石炭
排ガスでのＳｌ、Ｃａ増加は細孔閉塞を生じさせるもの
であるとの仮説が得られる。

しかし化学的被毒であるにせよ、閉塞であるにせよ、実
用されている触媒の反応速度と触媒細孔の大きさから評
価した触媒の有効深さく触媒体が脱硝反応に寄与する深
さ）は１００μｍ程度と推定されることから、５ｊ−１
Ｃａの増加が深さ１００μＩｎ以内の限定された浅い領
域で生ずるとしても、触媒劣化を説明するに足るものと
判断し得る。また前述のように、その他の劣化要因につ
いては劣化分説明するに足る変化が見られないことから
、石炭排ガス処理用脱硝触媒の劣化は、表層での８１、
Ｃａ増加によるものが最も太きいと判断される。劣化し
た触媒を再生するとのでｒＭ点から見た場合、少なくと
も結果的には、触媒の劣化は表層から一定の深さの領域
で生じている変化によるものであるとの事実は極めて意
義の大きいものである。

本発明者らは、石炭排ガス処理に用いて劣化した触媒を
用いて、前記従来技術の加熱方法および洗浄方法によυ
再生を試みたが、いずれも十分な成果は得られなかった
。特にｍｓ方法では全く効果がなく、加熱処理（４３０
°Ｃ気流中３時間放置）後もＳｌ、Ｃａの断面分布に変
化はなかった。また洗浄法を用いた場合は、Ｓｌ、Ｃａ
の除去効果はある程度認められるが、触媒体中の有効成
分の流出や洗浄後の触媒体の強度に問題を生ずる。触媒
の有効成分流出防止のためにはアルカリ性溶液を用いる
ことや、或は洗浄後有効成分を再担持する方法もあるが
、いずれも処理が複雑になること、およびＳｌ、Ｃａを
有意な、程度に除去するためには、仮に超音波等の補助
手段を用いるとしても長時間の洗浄を要し、洗浄による
触媒強度への影響が大きく実用困難と判断される。

また特開昭５４−６１０８７号公報に示される方法は、
回転する反応器内で、板状触媒体に粒状固体を衝突させ
、磨擦により板状触媒体の表面に付着蓄積したダストを
剥離させるもので、触媒体表面を研削するという技術的
思想は何ら示唆されていない。さらに反応器を回転させ
るとの構造は実用がきわめて困難で、とくに石炭の如き
ばいじんの・匝注力の大きいガヌに用いた場合、反応器
の閉基の可能性が太きいと判断される。

本発明者らは、石炭排ガス処理での触媒劣化が、概ね、
Ｓｌ、Ｃａ等の粒子の触媒表層寸近への沈着によるもの
で、これらの粒子洗清は融１４ＬＪ面から１００μｍ程
度、高々２００μｍ以内の領域に限られることに看目し
、かつ上記の諸点に鑑み本発明を推考するに至ったもの
で、触媒体表層をイ叶削除去することにより、触媒強度
に実用上の支！章なく、効率よく触媒再生を行うことが
できる方法の堤供を目的とするものである。

〔問題点を解決するだめの手段および作用〕本願の第１
の発明の触媒の乾式再生方法は、多数の筒状、ハニカム
状または多数の板状に形成された劣化触媒を再生するに
るたり、研磨材を用いて劣化触媒の多数の孔内の表面を
研削することを特徴としている。

また本願の第２の発明の触媒の乾式再生方法は、多数の
筒状、ハニカム状または多数の板状に形成された劣化触
媒を再生するにるたり、劣化触媒の上面に触媒端面保護
多孔体を収シ付けた後、研磨材を触媒孔内に流通させて
、触媒孔内表面を研削することを特徴としている。

本発明において用いる研磨材としては、とくに制限はな
く、珪砂、鋼球、セラミック粒子、ブラシ、サンドペー
パー、やすり等を挙げることができる。触媒物質より硬
度の大きい物質であれば何を使っても差し支えない。ま
た研磨材の形状についてもとくに限定されない。

研磨材が粒状の場合は、第１図および第２図に示すよう
に、研磨材３を気流に乗せて触媒孔２内を流通せしめた
９、研磨材３を自重により触媒孔２内を流通せしめる。

また研磨材を自重により流通せしめる場合は、さらに振
動を加えて閉塞等を防止するように構成するのが好まし
い。

また触媒ｌの上面を保護するために、触媒ｌの上面に触
媒端面保護多孔体（格子）を設ける。第１図に示す触媒
端面保護多孔体４ａは、第３図に示すものを載置したも
のである。第２図に示す触媒端面保護多孔体４ｂまたは
４Ｃは、第４図または第５図に示すものを装着したもの
である。

＋１１！ＩＩ謀の形状としては、４１０図に示す格子状
のほかに、多数の小円筒状、ハニカム犬、多数の板状体
を平行に配列したものなどを用いることができる。この
場合、触媒の形状に合わせて、触媒端面保護多孔体を作
製し装着する。

〔実施例〕 以下、試験例および実施例について説明する。

試験例 第１４図は本発明者らが行った試験の結果の一例を示す
ものである。供試触媒は石炭排ガス処理に用いて劣化し
たもので、目開き寸法６朋、触媒体厚みｌ、　４　ｒ７
Ｌ’ｌＲ、触媒体の断面寸法１５０緒角、長さ５ｏｏｍ
ｍの格子状のものから、試１倹に都合のよい断面寸法１
５ｊ麗角に切シ出して使用した。研磨材は市販のサンド
ペーパーを４．ｎ角、９００　＃ｆｆ長さの真ちゅう角
棒に貼付したものを用いた。第１４図に示すように、ａ
ｔ削した触媒の脱硝率は未使用品のそれに近い程度にま
で回復しており、研削による触媒再生効果が大きいこと
を示している。な訃このとき、研削０■後の重量変化か
ら推定した、研磨による平均除去厚さは７０μｍであっ
た。また脱硝率測定は、ＡＶ（面積速度）２５Ｎｍン′
Ｈ−扉、モル比１．０の条件で行った。

なお脱硝率の測定を実施した後、研削により再生した触
媒の断面をＸ＃ｉマイクロアナライザーを用いて分析し
た結果、第１５図に示す如きＳｉ分布が得られた。

研磨によるｌｌｌ！ｌＩ媒再生は研磨の方法を限定する
ものではないが、前記の金属角棒に貼付したサンドペー
パーによる研磨法は処理能率が低く、必ずしも実用に適
しているとは云えない。研削法触媒再生の実用化には、
処理能率の向上を図れる方法の採用が望ましい。

鋼材等物体の表面をωｆ削する手段として、上記のサン
ドペーパーややすりの他、砂、鋼球等を用いたプラスト
処理はよく知られた方法でるる。また軽度の研磨や表面
異物の除去にはワイヤブラシなども用いられる。プラス
ト処理は粉粒体や気体などの流体を用いるので大量処理
、処理能率の向上には都合の良い方法である。またワイ
ヤブラシなどブラシによる方法も、サンドペーパーに比
べると処理能率向上の可能性は大きい。ところで、触媒
の再生効果の観点からみると、排ガスに接する触媒の全
表面を一様に研磨除去することが望ましく、局部的な研
磨ｌＩ′１ｊｌｌ！ｌｌ媒再生効果が少なくかつ触媒強
度面で好ましくない。

以下に説明する実施例１〜３に、−醸な研削による再生
効果の確保と処理能率の向上を念頭において、本発明者
らが試みた方法の中から例を示すものである。

実施例１ 石炭焚ボイラの脱硝装置にて使用した、約５００庸長さ
、断面１５０？頂角のＶ２Ｏ５０，７ｗｔ％、ＷＯ３ｇ
ｗｔ％を含むチタン系の格子状触媒（目開寸法約６朋、
内壁厚約１．４　ＨＩＭ　）を供試体として用い、平均
粒径１２５μｍの破砕珪砂を研磨材として、触ＩＪＸ断
面槓に対する流速３Ｑ７７Ｊ／ＳｅＱの空気流に乗せて
、触媒内を流通させることで触媒表面研削による触媒再
生を実施した。このとき触媒端面の磨滅防止のため第３
図に示す触媒端面保護多孔体４ａを用いた。

第６図は処理フロー全体を示すものである。

研磨材は定量供給機５より毎分４・ｋｇの割合で供給し
、プロア６の風量は毎分４０扉、所要処理時間は３０分
であった。

触媒１および融媒端面保護多孔体４ａを密閉容器７内に
収納し、この密閉容器７の下部にサイクロン８、フィル
り１０を介してプロア６を接続し、品閉容器７の上部か
ら珪砂を空気流に乗せて導入した。触媒表面を研削した
珪砂は、研削粉および空気とともにサイクロン８に流入
し、ここで研削粉とともに分離されて研磨材ホッパ１１
に一旦貯溜された後、ダストセパレータ１２で珪砂と研
４１Ｊ扮とが分離され、珪砂はコンベア１３により前記
定量供給機５へ循環され、再使用に供された。一方、サ
イクロン８からの倣細な研削粉を含む空気はフィルタ１
０へ導入され、ここで微細な研削粉が分離された。１４
は流量計である。

再生処理の結果、次表に示すように脱硝率の回復は大き
く、研削の結果、圧縮強度は若干小さくなるが、実用に
は差し支えないことが判明した。

実施例２ 実施例１に用いたものと同等の融媒を供試体として、研
磨材自重流通方式による１１！ｌＩ煤再生を実施した。

処理フローは第７図に示す辿りである。研磨材には平均
粒径８４０μｍの破砕珪砂を用い、定量供給機５よシ毎
分６ｋｑの割合で供給した。

珪砂は自重で触媒孔内を超過しだ。珪砂の均等分散のた
めＰｌ！１１ｖ＃、上方に多数の棒からなる分散器１５
を設け、触媒１を格納する容′ａ１６にはバイブレータ
１７を収り付けて、触媒孔内での研磨材閉塞を防止した
。実施例１と同様にｌ！ｌ！ｌｔ謀端面磨滅防止のため
、第３図に示す触媒端面床護多孔体４ａを用いた。

触媒表面を研削した珪砂は、研削粉とともにホッパ１８
に落下し、ついでダストセパレータ１２で珪砂と研削粉
とが分離され、珪砂はコンベア１３により前記定ｍ共給
機５へ循環され、再使用に供された。４時間の珪砂流通
処理の後、触媒の脱硝率および圧縮強度を測定した。結
果を次表に示す。

実施例３ 実施例１に用いたものと同等の触媒を供試体として、ブ
ラシ研磨方式によるＩ！ｌＩ謀再生全再生した。

処理の要頒を第８図２よび第９図に示す。

イυＦ削プラン２０は市販の１０ａ−１長さ４　Ｑ　Ｑ
　１７／肩のステンレス製ワイヤブラシを断面７１屑角
にす上げて用いた。ブラシ線径は０．０８Ｎｍであった
。仕上げ文ブランは、供試融媒の１辺の孔故に相当する
２０本を一列に並べてブラシ台２１に収り付けて用いた
。

ブラシ台２１は、カム２２により一定のストロークで上
下動するようにした。２３はバネで、このバネ２３とカ
ム２２とにより往復動装置２４を構成した。固定した触
媒ｌに対し、ストローク１４０緒でプラン台２１を上下
動せしめ触媒孔２内面を研削した。

触媒孔２の一列毎、順次処理し、各列毎処理時間１分、
触媒１本の処理に要した時間は正味２０分であった。再
生処理した触媒の脱硝率および圧縮強度測定結果を次表
に示す。

上記のように、実施例１．２はプラスト処理法の触媒再
生への適用方法を例示するものである。

本発明は触媒表面を研削除去することで、触媒再生を行
うことに関するものであるが、石炭排ガヌ処理（高ダス
ト方式）脱硝装置では、使用中、常に触媒はフライアッ
シュにより僅かすってはあるが研磨作用を受けている。

使用中のフライアッシュによる。１Ｘｌｆ磨は、第１０
図に示す＋ｍ媒の端面で生じ、触媒の側面では、一部を
除き観測されない。

これは閲々のフライアッシュ粒子がｌ！ｌ！ＩＩ煤に衝
突することにより生じる運動量変化が端面で大きく、側
面では小さいことによるものである。触媒の再生をプラ
スト処理法で夾現するためには、側面を研削するため、
砂、鋼球、セラミック粒子等の研磨材の運動量をフライ
アッシュに比べ大きくスルことが必要である。この手段
には、研磨材の粒度を粗くする、密度を大きくする、或
は触媒孔内のｄ過速度を大きくする等の方法かめるが、
いずれの場合も触媒端ＩＩ］］での研磨材運動着変化は
ｌ１面に比べ大きいので触媒端面の磨滅防止のための保
護槽ｄが必要となる。実施例１．２では研磨材と衝矢す
る触媒端面に保護格子を装着することで対応した。

実施例１に示す如き、ｄｆ泗材を気流に分散して触媒孔
内を通過させる方法では、研磨材の粒度が細かいほど、
均等な研削効果が得られるが、小径研磨材では通過流速
を大きくする必要がらり、ブロアの所要動力が増加する
ので適切な選定が必要である。研磨材粒径および通過流
速は、対象とする触媒の表面磨耗強度によって異なるが
、破砕珪砂を用いる場合、概ね、平均粒径２０〜１００
０μｍ。

超過気流速度１５〜６０／ｎ／ｓｅｃの範囲から選ぶこ
とが出来る。

実施例２に示す如き、研磨材の自重流通による方法は、
再生処理のための設備が簡素であることと、ブロア動力
が不要である利点はあるが、研磨材粒径を大きくするに
せよ、所要処理時間が長くなる欠点がある。また自重流
通方法では均等に研磨材を分散させるだめの手段および
ｊ咄媒内での研磨材閉塞を防止するための手段を併用す
ることが望ましい。自重流通方法による場合、イｒｆ磨
材の粒径は気流耐層によると同様、触媒の性質にもよる
が、概ね、破砕珪砂の場合平均粒伜は１００〜１５００
μｍ１７）範囲から礪ぶことか出来る。

実施例３に示す如き、ブラシによる研磨方法の場合、市
販のものはそのまま使用出来ないことが多いので、必要
な寸法に切断して使用する。この場会ブラシ各４線の摩
擦強さを揃えるためブラシ芯材は細いものが望ましい。

またブラシ芯材が則く、触媒ぼ通常４　Ｑ　Ｑ　ｎ１ｐ
ｔ〜１０００Ｍの長さでφるので、ブラシ芯材の剛性を
利用してブラシを触媒壁面に押し付ける方法は実施が困
難である。ブラシを壁面に押し付ける方法には、■ブラ
シ芯材全引っ張り、芯材を緊張せしめて、一方向に押し
付ける方法および＠ブラシの断面寸法を触媒孔径よυも
大きいものとして、ブラシ各車′線のたわみを利用して
、２面ないしは４Ｕｋｉ均等な摩擦力を与える方法があ
る。

本発明者らの試、１険では■が良い、結果を与えた。

実施例３はこの方法によるものである。用いるプランの
ｌｆｉ′−寸法は、触媒の形状やプランの線径、材質に
より異なるが、実施例３にも示すように、触媒孔径６Ｍ
Ｎ１角の触媒の場合、ＳＵＳ　８０４線径０．０８趨の
ものでは、ブラシ仕上り外ｄ　７　ＭＮ角のものが好債
采を与えた。また実力億個では用いていないが、ブラシ
の特注や任復勤め与え方によっては、プラスト処理方法
と同様の端面保護格子をＭｉＴ後に装着した方が良いこ
とがめる。実施例３では、ブラシをｌＩｌ！ｌＩ媒孔内
の全長または全長近くまで挿入する場合について説明し
たが、ブラシを触媒孔内の一部に挿入し、ストロークを
大きくして触媒表面を研削するように構成することも可
Ｆ１目である。

実施例は格子状触媒を例にとって、その一本毎に処理す
る方法を例示したものであるが、本発明の主旨は限ずし
もこれに限定されるものではない。

格子状のほか、板状の触媒の処理も本発明の主旨に添っ
て再生実施が可能でめるし、また触媒は複数個を−まと
めにして鋼製容器に格納して用いられる場合が多いので
、この容器に納めたまま処理することや、更に反応器内
に納めた状態で処理する方法を採用しても差し支えない
。また実施例１．２に例示するゲラスト処理方法では、
単品毎や、或は容器に納めた複数の触媒を直列多層に配
置して、同時に処理することも実施可能であって、処理
時間の短縮や処理費用の低減に有効である。更に本発明
は石炭排ガスの処理に用いられて劣化したＩ！ＩＩＩ媒
につき格別の有効性をもつが、その他のガス処理に用い
た触媒での効果を否定するものではなく、本発明の主旨
は乾式研削処理にて触媒を再生することにおり、触媒の
履歴を問うものではない。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の方法によれば、格子状、
多数の小筒状、ハニカム状、多数の板状に予め成型して
形成された触媒が劣化したときに、劣化触媒の表面を研
磨材により研削することにより、優れた再生効果を発揮
させることができ、また触媒を固定した状態で研削操作
が行われるので、所要動力が少なく、かつ装置も簡便に
なるなどの優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の触媒の乾式再生方法の一例を示す説明
図、第２図は本発明の方法の他の例を示す説明図、第３
図〜第５図は本発明の方法において用いる触媒端面保護
多孔体の一例を示す斜視図、第６図は本発明の実施例１
の気流研磨方法による触媒再生処理を示すフローシート
、第７図は本発明の実施例２の研磨材自重流通方法によ
る触媒再生処理を示すフローシート、第８図は本発明の
実施例３のブラシ研磨方法による触媒再生処理を示す説
明図、第９図は第８図の要部の拡大斜視図、第１０図は
本発明の方法において用いるＩｇ！ｌｌ煤の形状の一例
を示す斜視図、第１１図は同部分拡大図、第１２図は未
使用触媒中のＳｉ−の含有量を示す線図、第１３図は劣
化触媒中の８１の含有量を示す線図、第１４図は研磨に
よる触媒再生試験結果の一部１］を示す線図、第１５図
は研削により再生したｌＩｌ！ｌＩ媒の断面をＸ線マイ
クロアナライザーを用いて分析した結果の８１分布線図
である。 １・・・触媒、２・・・触媒孔、３・・・研磨材、４ａ
、４ｂ、４Ｃ・・・触媒端面保護多孔体、５・・・定量
供給機、６・・・プロア、７・・・密閉容器、８・・・
サイクロン、１０・・・フィルタ、１１・・・研磨材ホ
ッパ、１２・・・ダストセパレータ、１３・・・コンベ
ア、１４・・・流ｊｌｔｆ、１５・・・分散器、１６・
・・容器、１７・・・バイブレータ、１８・・ホッパ、
２０・・・イυｆ削ブラシ、２１・・・プラン台、２２
・・・カム、２３・・・バネ、２４・・・任復動装置出
　劇　人　　川崎厘工業株式会社 第６図 第ｑ図 第１１図　　　　　触媒 第１Ｚ図 第１δ図 疋１ｉＬｌ 第１４図 逼　度（・υ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　多数の筒状、ハニカム状または多数の板状に形成さ
   れた劣化触媒を再生するにあたり、研磨材を用いて劣化
   触媒の多数の孔内の表面を研削することを特徴とする触
   媒の乾式再生方法。 ２　研磨材が珪砂である特許請求の範囲第１項記載の触
   媒の乾式再生方法。 ３　研磨材を気流に乗せて触媒孔内を流通せしめる特許
   請求の範囲第１項記載の触媒の乾式再生方法。 ４　研磨材を自重により触媒孔内を流通せしめる特許請
   求の範囲第１項記載の触媒の乾式再生方法。 ５　研磨材を自重および振動により触媒孔内を流通せし
   める特許請求の範囲第１項記載の触媒の乾式再生方法。 ６　研磨材がブラシである特許請求の範囲第１項記載の
   触媒の乾式再生方法。 ７　研磨材がサンドペーパーである特許請求の範囲第１
   項記載の触媒の乾式再生方法。 ８　研磨材がやすりである特許請求の範囲第１項記載の
   触媒の乾式再生方法。 ９　多数の筒状、ハニカム状または多数の板状に形成さ
   れた劣化触媒を再生するにるたり、劣化触媒の上面に触
   媒端面保護多孔体を取り付けた後、研磨材を触媒孔内に
   流通させて、触媒孔内表面を研削することを特徴とする
   触媒の乾式再生方法。