JP3901762B2 - 移動層反応槽の上部構造 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、一般的な気体と固体の接触装置（例えば乾式の排煙脱硫脱硝装置等）に用いられる移動層反応槽の上部構造に関し、特に、気体（排ガス）と固体（炭素質系の触媒等）とを直交する方向で接触させて、気体（排ガス）中に含まれる混合物（ＳＯｘ（硫黄酸化物）、ＮＯｘ（窒素酸化物）等）を除去するようにした直交流式の移動層反応槽の上部構造に関するものである。
【０００２】
【従来技術およびその問題点】
一般的な気体と固体との接触装置、例えば、乾式の排煙脱硫脱硝装置等に用いられる直交流式の移動層反応槽にあっては、反応槽内に粒子状物からなる触媒を充填するとともに、その触媒を移動（下降）させて反応槽内に移動層を形成し、触媒の移動方向と直交する方向から反応槽内に排ガス（被処理ガス）を流入して、排ガスと触媒とを相互に接触させ、吸着、反応等を行わせることによって排ガス中に含まれるダスト類、ＳＯｘ（硫黄酸化物）、ＮＯｘ（窒素酸化物）等の混合物を除去し、それらが含まれていないクリーンな排ガスを大気中に放出するようになっている。
【０００３】
すなわち、移動層の触媒の移動方向と直交する方向から反応槽内に排ガスを流入すると、排ガスと触媒とは相互に接触して排ガス中に含まれるダスト類が触媒に付着し、排ガス中からダスト類が除去される。この作用によって触媒の本来の機能は低下する。
【０００４】
また、排ガス中に含まれるＳＯｘ（硫黄酸化物）は、触媒の働きによって酸素及び水と反応し、硫酸となって触媒に吸着される。化学反応式で示すと以下のようになる。
２ＳＯ₂ ＋Ｏ₂ ＋２Ｈ₂ Ｏ＝２Ｈ₂ ＳＯ₄
【０００５】
さらに、排ガス中のＮＯｘ（窒素酸化物）は、排ガス中にアンモニアを添加することにより、触媒の働きで窒素に還元される。化学反応式で示すと以下のようになる。
４ＮＯ＋Ｏ₂ ＋４ＮＨ₃ ＝４Ｎ₂ ＋６Ｈ₂ Ｏ
【０００６】
そして、上記のような処理を行った後に触媒は反応槽の下部から抜き出され、再生処理される。すなわち、触媒に吸着された硫酸は約４００℃の高温で還元され、高濃度の亜硫酸ガスとなる。化学反応式で示すと以下のようになる。
Ｈ₂ ＳＯ₄ ＝ＳＯ₃ ＋Ｈ₂ Ｏ
２ＳＯ₃ ＋Ｃ＝２ＳＯ₂ ＋ＣＯ₂
【０００７】
そして、このようにして得られた高濃度の亜硫酸ガスは硫酸又は単体硫黄として回収され、再生された触媒は冷却された後に篩に掛けられて付着したダストが除去され、ハンドリング等によって粉化した触媒が除去され、反応槽に戻される。
【０００８】
ここで、排ガスの脱硫、脱硝等の処理に用いられる触媒には、１４０℃程度の比較的低温で用いられる炭素質系の触媒と、３００〜４００℃の高温で用いられる金属系の触媒とがある。通常のボイラー排ガスでは温度を操作する必要がないため、炭素質系の触媒が多く用いられる。
【０００９】
しかしながら、炭素質系の触媒は、石炭等の主原料にバインダーを加えて１０ｍｍ程度に成型し、乾溜、賦活したものであって、比較的強度が低く、主反応と再生を繰返すうちに粉砕されて大小様々な粒子となり、かつ微細な粉を含むようになる。このため、再生処理して繰返し用いると、反応槽内に大小様々な粒子が投入され、反応槽内において分級作用が発生し、小さな粒径の触媒ほど槽の中央部分（反応槽の中心線付近）に偏って集まることになる。すなわち、反応槽内に投入された粒子は、投入口から槽全体に広がるように槽内に充填されるが、小さな粒子ほど大きな粒子間の隙間を通って下へ下へと速く下降し、分級作用が発生し、反応槽の中央部分に微細な粉を含む非常に緻密な充填層が形成される。この結果、反応槽内には緻密な充填層の部分と粗い充填層の部分が形成され、排ガスは処理効率の高い緻密な充填層の部分を避けて処理効率の低い粗い充填層の部分を多量に流れることになり、反応槽全体としてのＳＯｘ等の処理効率が著しく低下する。
【００１０】
この発明は前記のような従来のもののもつ問題点を解決したものであって、触媒を再生処理して繰返し用い、触媒の粒子に大小様々なものが含まれるようになっても、それらの粒子を反応槽全体に均一に分布させることができ、反応槽全体としてのＳＯｘ等の混合物の処理効率が低下することなく、長期的に高い処理効率が得られる移動層反応槽の上部構造を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【問題点を解決するための手段】
上記の問題点を解決するため、
請求項１にかかる発明は、反応槽内およびその上部の投入部内に、その投入部の上部から粒子状物からなる触媒を投入して充填するとともに、この触媒を移動させて反応槽内に移動層を形成し、反応槽内に外部から被処理ガスを流入して前記触媒と接触させ、吸着、反応等を行わせることによって被処理ガス中に含まれる混合物を除去し、クリーンなガスを大気中に放出するようになっている移動層反応槽の上部構造であって、
前記投入部は、壁面によって囲まれて形成され、この投入部の内部空間に、触媒の投入方向に向かって所定の間隔ごとに複数の平板状の整流板が設けられ、
前記投入部の内部空間のうち、投入部の中心線を通る被処理ガスの流れの方向を向く仮想面の左側の空間および右側の空間に、それぞれ仮想面に沿って上下方向に所定の間隔ごとに、かつ、各々がそれらの上部に位置する上記壁面と略平行となるように前記複数の整流板が設けられ、かつ、両空間の複数の整流板の上端は、前記仮想面上又はその近傍に上下方向に交互に位置していることを特徴とする移動層反応槽の上部構造である。
請求項２にかかる発明は、前記各空間の複数の整流板の一部の上端を、前記仮想面を超えて反対側の空間内に位置させたことを特徴とする請求項１記載の移動層反応槽の上部構造である。
【００１２】
【作用】
この発明は前記の手段を採用したことにより、投入部内に触媒を投入すると、その触媒は投入部内の複数の整流板を、上側に位置するものから下側に向かって順次通過し、その際に左右に振り分けられるとともに、投入部の下端開口部の全体を使って反応槽内に投入されることになる。したがって、触媒中に大小様々な粒子が含まれていても、分級作用が生じることなく、反応槽内に均一な粒度分布で触媒を充填することができることとなる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
前述したように、炭素質系の触媒は、比較的強度が低く、主反応と再生を繰返すうちに破砕され、大小様々な形状の粒子となり、かつ、微細な粉を含むようになる。このような状態の触媒を反応槽内に投入すると、分級作用が発生して、小さな粒径のものほど槽の中央部分に偏って集まる。したがって、槽内には緻密な充填層の部分と粗い充填層の部分とが形成され、排ガスは、緻密な充填層の部分を避けて粗い充填層の部分を多量に流れ、反応槽の効率が低下することになる。
【００１４】
本願発明者らは、上記の問題を解決するために以下のような方法を考えた。
すなわち、図８に示すように、反応槽７の頂部に、４つの壁面２、２、３、３からなる角錐状の投入部１を形成し、この投入部１の内部に、断面が山型状をなす複数の整流板２０、２０……を排ガスの流入方向を向くように、かつ、各々の頂点が上方を向くように規則的に並べた。
【００１５】
そして、投入部１内にその頂部の投入口１ａから粒子状物からなる適宜の触媒を投入すると、触媒は複数の整流板２０、２０……を上方から順次通過するとともに、各整流板２０を通過する度に粒子径に関係なく左右に二等分され、反応槽７内に全体に渡って均一に振り分けられる。すなわち、反応槽７内に、その投入箇所の全体を使って大小様々な粒子径のものを均一に投入した場合と同じ結果が得られる。したがって、粒子径の大小に関わらず反応槽７全体を均一な粒度分布とすることができる。
【００１６】
そして、この方法を更に詳しく検討した結果、次の二つのケースが考えられることが判明した。
＜ケース１＞
「充填レベルが低く、触媒が投入部１内に充満していない場合」
＜ケース２＞
「充填レベルが高く、触媒が投入部１内に充満している場合」
【００１７】
ケース１の場合には、触媒は投入部１内を落下する際に各整流板２０に衝突する。移動層（図示せず）における触媒の移動速度に比べれば前記落下速度は非常に速いので、分級作用が発生する時間的な余裕はなく、触媒を構成する粒子径の大小に関係なく、投入部１内で効果的に整流される。
【００１８】
ケース２の場合には、触媒は投入部１内を緩やかに下降し、同時に緩やかに投入部１内を中央部から外側に向かって移動し、この途中で各整流板２０に遭遇する。すなわち、触媒は、各整流板２０に対して垂直に下降するのではなく、斜め向きに下降することになるので、各整流板２０に到達する前に分級作用が発生することになる。したがって、各整流板２０で２分される触媒は、進行方向の後方側に小さな粒子が、先方側に大きな粒子が偏って流れることになり、整流板２０の有無に関わらず分級作用が発生することになる。
【００１９】
反応槽７の機能から考えると、ケース１よりもケース２の方が好ましい。触媒は、反応槽７の頂部から反応槽７内に連続的に投入されるが、このとき反応槽７内の排ガスが大気中に流出したりすることがないように、投入部１内の気密性を保持する必要がある。気密性の保持を容易にするためには、反応槽７の上部の投入部１内にも触媒が充満しているケース２が好ましい。また、反応槽７の上部の投入部１内に触媒が充満していない場合には、排ガスの一部がこの部分を短絡して流れることになり、反応槽７の処理効率を低下させることになるが、触媒が充満している場合には、この部分の触媒も吸着や反応に有効に働くので、処理効率を高めることができ、非常に好ましい結果が得られる。
【００２０】
以上のことから、本願発明者らは、反応槽７の上部の投入部１内にも触媒を充満させ、この状態で触媒の分級作用を防止できる移動層反応槽の上部構造を研究し、この結果、本願発明に到達することができた。
【００２１】
以下、図面に示す本願発明の実施の形態について説明する。
図１には、この発明による移動層反応槽の上部構造の第１の実施の形態が示されている。この実施の形態による移動層反応槽の上部構造は、反応槽の上部に４つの壁面２、２、３、３からなる投入部１を形成するとともに、この投入部１内に触媒の流れを整流する複数の整流板６、６……を設けたものである。
【００２２】
投入部１は、反応槽内に流入する被処理ガスである排ガスの流れ方向を向く２つの壁面２、２と、排ガスの流れ方向と直交する方向を向く２つの壁面３、３の４つの壁面からなる下方が広がる角錐状をなすものであって、これら４つの壁面２、２、３、３によって囲まれる投入部１の内部空間４、５に複数の整流板６、６……が設けられるようになっている。
【００２３】
投入部１の頂部には、投入部１内外を上下方向に貫通する投入口１ａが設けられ、この投入口１ａを介して投入部１の内部に粒子状物からなる適宜の触媒が連続的に投入されるようになっている。
【００２４】
投入部１の内部空間のうち、投入部１の中心線を通る排ガスの流れ方向を向く仮想垂直面ａの左側の空間４および右側の空間５には、それぞれ仮想垂直面ａに沿って上下方向に所定の間隔ごとに複数の整流板６、６……が設けられている。
【００２５】
左側の空間４の各整流板６は、それぞれそれらの上部に位置する壁面２と略平行をなしている。右側の空間５の各整流板６も、それぞれそれらの上部に位置する壁面２と略平行をなしている。
【００２６】
左側の空間４の複数の整流板６、６……の各々の上端と、右側の空間５の複数の整流板６、６……の各々の上端とは、仮想垂直面ａの近傍に上下方向に交互に位置するとともに、各整流板６の下端は投入部１と反応槽７との境界線上、すなわち投入部１の下端開口部に位置するようになっている。
【００２７】
投入部１は、移動層反応槽であれば何れのタイプのものでも用いることができる。例えば、図３に示すような直交流式の移動層反応槽に用いた場合には、反応槽７内において分級作用が発生することなく、反応槽７内に全体に渡って均一の粒度分布で大小様々な粒子からなる触媒を充填することができるものである。
【００２８】
すなわち、図３に示す直交流式の移動層反応槽は、反応槽７の頂部に設けた前記投入部１から反応槽７内に粒子状物からなる適宜の触媒を投入し、反応槽７内に触媒を充填するとともに、充填した触媒を反応槽７内で下降させて反応槽７内に移動層８を形成し、この移動層８の触媒と水平方向から反応槽７内に流入する排ガスとを相互に接触させ、排ガス中に含まれるダスト類、ＳＯｘ（硫黄酸化物）、ＮＯｘ（窒素酸化物）等を除去し、それらが含まれていないクリーンな排ガスを大気中に放出するようにしたものである。
【００２９】
反応槽７の内部には、ガス入口９側にメインルーバー１１、その内側にサブルーバー１２、さらにその内側に区画板１３、ガス出口１０側に出口側ルーバー１４がそれぞれ設けられ、メインルーバー１１と出口側ルーバー１４との間で前記移動層８が形成され、メインルーバー１１とサブルーバー１２との間で第１層１５が、サブルーバー１２と区画板１３との間で第２層１６が、区画板１３と出口側ルーバー１４との間で第３層１７がそれぞれ形成され、これら３つの層の流れは別々に制御することができるようになっている。したがって、反応槽７のガス入口９部分における触媒の移動速度を速くし、ダストが付着した触媒を選択的に速く反応槽７外に排出することによって、反応槽７内の触媒がダストによって活性が低下したり、圧力損失が増大したりするのを防止できるものである。
【００３０】
そして、上記のように構成した反応槽７内に、その頂部に取り付けたホッパー１８から適宜の触媒を連続的に投入すると、反応槽７内部のメインルーバー１１と出口側ルーバー１４との間に触媒が充填されてその部分に移動層８が形成されるとともに、反応槽７内に充填された触媒は緩やかに下方に移動しつつ、反応槽７の下端部に取り付けられた排出ノズル１９から反応槽７外に抜き出される。
【００３１】
そして、水平方向からガス入口９を介して反応槽７内に排ガスが流入すると、その排ガスは移動層８に充填されている触媒の粒子間を通過し、その間にダスト類、ＳＯｘ（硫黄酸化物）、ＮＯｘ（窒素酸化物）等が除去され、それらが含まれていないクリーンな排ガスとなってガス出口１０から大気中に放出される。
【００３２】
すなわち、移動層８を通過する際に排ガスは触媒の粒子と接触し、排ガス中に含まれるダスト類が粒子の表面に付着し、排ガス中に含まれるダスト類が除去される。排ガス中に含まれるＳＯｘ（硫黄酸化物）は、触媒の働きによって酸素及び水と反応し、硫酸となって触媒に吸着される。排ガス中のＮＯｘ（窒素酸化物）は、排ガス中にアンモニアを添加することにより、触媒の働きによって窒素に還元されることになる。
【００３３】
そして、上記のような処理を行った後、触媒は反応槽７の排出ノズル１９から外部に抜き出され、再生処理される。すなわち、触媒に吸着された硫酸は約４００℃の高温で還元され、高濃度の亜硫酸ガスになる。ここで得られた高濃度の亜硫酸ガスは、硫酸又は単体硫黄として回収され、再生された触媒は冷却された後に篩に掛けられて付着したダスト類が除去され、ハンドリング等によって粉化した触媒が除去され、ホッパー１８を介して再び反応槽７に戻される。
【００３４】
そして、触媒として炭素質系のものを用いた場合には、前述したように、炭素質系の触媒は強度が低く、主反応と再生を繰返すうちに粉砕され、大小様々な粒子となり、微細な粉を含むようになるため、このような状態の触媒をホッパー１８から反応槽７内に投入すると、従来の形式のものでは分級作用が生じ、反応槽７内の触媒の粒度分布を均一にすることができなかった。
【００３５】
この実施の形態によるものは、反応槽７の上部に角錐状の投入部１を形成するとともに、その内部空間のうち、投入部１の中心線を通る排ガスの流れ方向を向く仮想垂直面ａの左側の空間４および右側の空間５内に、それぞれ上下方向に所定の間隔ごとに複数の整流板６、６……を設けて、両空間４、５の複数の整流板６、６……の上端が前記仮想垂直面ａの近傍に上下方向に交互に位置するようにし、下端が投入部１と移動層８との境界線上、すなわち投入部１の下端開口部に位置するようにしたので、ホッパー１８から投入口１ａを介して投入部１内に投入された触媒は、両空間４、５の複数の整流板６、６……を上側に位置するものから下側に向かって順次通過し、その際に左右に振り分けられるとともに、投入部１の下端開口部の全体を使って反応槽７内に投入されることになる。
【００３６】
したがって、触媒中に大小様々な粒子が含まれていても、分級作用が生じるようなことはなく、移動層８内に細かい粒子の緻密な充填層と大きな粒子の粗い充填層が形成されるのを阻止でき、移動層８内に大小様々な粒子を全体に渡って均一に分散させることができ、反応槽７内に流入する排ガスが偏って流れるようなことがなくなり、排ガスは移動層８全体に均一に作用することになるので、ＳＯｘ等の処理効率が高まることになる。
【００３７】
図２には、前記実施の形態による移動層反応槽の上部構造による粒度分布が示してある。図中Ａ₁ は５．６６ｍｍ以上の粒径のもの、Ｂ₁ は４．０〜５．６６ｍｍの粒径のもの、Ｃ₁ は３．０〜４．０ｍｍの粒径のもの、Ｄ₁ は３．０ｍｍ以下の粒径のものを示し、排ガスの流れに対して直角な４つの断面について粒度分布を測定したものである。この結果から、反応槽７内において分級作用がほとんど発生していないことは明確であり、大小様々な粒子径の触媒が反応槽７の全体に均一に分散されて充填されていることが分かる。
【００３８】
図９〜図１２には、前記した実施の形態によるものの比較例が示されている。図９に示す移動層反応槽の上部構造は、投入部１の内部に整流板を全く設けていないもの、図１１に示す移動層反応槽の上部構造は、投入部１の内部に、仮想垂直面ａを中心として左右対象となるように、仮想垂直面ａの左側の空間４および右側の空間５に、それぞれ複数の整流板６、６……を設けたものである。
【００３９】
そして、図９に示すものの粒度分布が図１０に示してあり、図１１に示すものの粒度分布が図１２に示してある。図１０において、Ａ₄ は５．６６ｍｍ以上の粒径のもの、Ｂ₄ は４．０〜５．６６ｍｍの粒径のもの、Ｃ₄ は３．０〜４．０ｍｍの粒径のもの、Ｄ₄ は３．０ｍｍ以下の粒径のものを示し、排ガスの流れに対して直角な４つの断面について粒度分布を測定した。また、図１２において、Ａ₅ は５．６６ｍｍ以上の粒径のもの、Ｂ₅ は４．０〜５．６６ｍｍの粒径のもの、Ｃ₅ は３．０〜４．０ｍｍの粒径のもの、Ｄ₅ は３．０ｍｍ以下の粒径のものを示し、排ガスの流れに対して直角な４つの断面について粒度分布を測定した。これらの結果から、これら比較例の反応槽７内においては分級作用が発生していることが明確であり、大小様々な粒子のものが偏って充填されていることが分かる。
【００４０】
図４および図５には、この発明による移動層反応槽の上部構造の第２の実施の形態が示されている。この実施の形態による移動層反応槽の上部構造は、投入部１の内部空間うち、仮想垂直面ａの左側の空間４および右側の空間５に設ける複数の整流板６、６……の各々の上端が仮想垂直面ａ上に上下方向に交互に位置するように構成したものであって、その他の構成は前記第１の実施の形態に示すものと同様の構成を有している。
【００４１】
そして、上記のような構成のこの実施の形態による移動層反応槽の上部構造にあっても、前記第１の実施の形態に示すものと同様の作用効果を示し、ホッパー１８から投入口１ａを介して投入部１内に投入された触媒は、両空間４、５の複数の整流板６、６……を上側に位置するものから下側に向かって順次通過し、その際に左右に振り分けられるとともに、投入部１の下端開口部の全体を使って反応槽７内に投入されることになる。
【００４２】
したがって、触媒中に大小様々な粒子が含まれていても、分級作用が生じるようなことはなく、移動層８内に細かい粒子の緻密な充填層と大きな粒子の粗い充填層が形成されるのを阻止でき、移動槽８内に大小様々な粒子を全体に渡って均一に分散させることができ、反応槽７内に流入する排ガスが偏って流れるようなことがなくなり、排ガスは移動層８全体に均一に作用することになり、ＳＯｘ等の処理効率が大幅に高まることになる。
【００４３】
図５には、前記実施の形態による移動層反応槽の上部構造による粒度分布が示してある。図中Ａ₂ は５．６６ｍｍ以上の粒径のもの、Ｂ₂ は４．０〜５．６６ｍｍの粒径のもの、Ｃ₂ は３．０〜４．０ｍｍの粒径のもの、Ｄ₂ は３．０ｍｍ以下の粒径のものを示し、排ガスの流れに対して直角な４つの断面について粒度分布を測定したものである。この結果から、反応槽７内において分級作用がほとんど発生していないことは明確であり、大小様々な粒子径の触媒が反応槽７の全体に均一に分散されて充填されていることが分かる。
【００４４】
図６および図７には、この発明による移動層反応槽の上部構造の第３の実施の形態が示されている。この実施の形態による移動層反応槽の上部構造は、投入部１の内部空間のうち、仮想垂直面ａの左側の空間４および右側の空間５に設ける複数の整流板６、６……の一部の整流板６、６……の上端が仮想垂直面ａを超えて反対側の空間４又は５内に位置するように構成したものであって、その他の構成は前記第１の実施の形態に示すものと同様の構成を有している。
【００４５】
そして、上記のような構成のこの実施の形態による移動層反応槽の上部構造にあっても、前記第１の実施の形態に示すものと同様の作用効果を示し、ホッパー１８から投入口１ａを介して投入部１内に投入された触媒は、両空間４、５の複数の整流板６、６……を上側に位置するものから下側に向かって順次通過し、その際に左右に振り分けられるとともに、投入部１の下端開口部の全体を使って反応槽７内に投入されることになる。
【００４６】
したがって、触媒中に大小様々な粒子が含まれていても、分級作用が生じるようなことはなく、移動層８内に細かい粒子の緻密な充填槽と大きな粒子の粗い充填層が形成されるのを阻止でき、移動槽７内に大小様々な粒子を全体に渡って均一に分散させることができ、反応槽７内に流入する排ガスが偏って流れるようなことがなくなり、排ガスは移動層８全体に均一に作用することになり、ＳＯｘ等の処理機能が大幅に高まることになる。
【００４７】
図７には、前記実施の形態による移動層反応槽の上部構造による粒度分布が示してある。図中Ａ₃ は５．６６ｍｍ以上の粒径のもの、Ｂ₃ は４．０〜５．６６ｍｍの粒径のもの、Ｃ₃ は３．０〜４．０ｍｍの粒径のもの、Ｄ₃ は３．０ｍｍ以下の粒径のものを示し、排ガスの流れに対して直角な４つの断面について粒度分布を測定したものである。この結果から、反応槽７内において分級作用がほとんど発生していないことは明確であり、大小様々な粒子径の触媒が反応槽７の全体に均一に分散されて充填されていることが分かる。
【００４８】
なお、前述した各実施の形態による移動層反応槽の上部構造は、乾式の排煙脱硫脱硝装置、単なる脱塵装置等の一般的な気体と固体の接触反応装置に用いることができ、特に、用途が限定されるものではない。
【００４９】
【発明の効果】
この発明は前記のように構成したことにより、投入部に投入される触媒は、投入部の内部に設けられている複数の整流板を上側に位置するものから下側に向かって順次通過し、その際に左右に振り分けられるとともに、投入部の下端開口部の全体を使って反応槽内に投入されることになる。したがって、触媒中に大小様々な粒子が含まれていても、分級作用が生じるようなことはなく、反応槽内に大小様々な粒子を均一な粒度分布で充填することができることになる。この結果、反応槽内に形成される移動層内に、細かい粒子の緻密な充填層と大きな粒子の粗い充填層が形成されることがなくなるので、反応槽内に流入する排ガスが偏って流れるようなことがなくなり、排ガスは移動層全体に均一に作用することになり、ＳＯｘ等の処理効率を大幅に高めることができるとともに、そのような高い処理効率を長期的に維持することができることになる等の優れた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による移動層反応槽の上部構造の第１の実施の形態を示した断面図である。
【図２】図１に示すものの粒度分布である。
【図３】図１に示すものを用いた直交流式の移動層反応槽を示した断面図である。
【図４】この発明による移動層反応槽の上部構造の第２の実施の形態を示した断面図である。
【図５】図４に示すものの粒度分布である。
【図６】この発明による移動層反応槽の上部構造の第３の実施の形態を示した断面図である。
【図７】図６に示すものの粒度分布である。
【図８】この発明による移動層反応槽の上部構造の比較例を示した断面図である。
【図９】他の比較例を示した断面図である。
【図１０】図９に示すものの粒度分布である。
【図１１】他の比較例を示した断面図である。
【図１２】図１１に示すものの粒度分布である。
【符号の説明】
１……投入部
１ａ……投入口
２、３……壁面
４……左側の空間
５……右側の空間
６、２０……整流板
７……反応槽
８……移動層
９……ガス入口
１０……ガス出口
１１……メインルーバー
１２……サブルーバー
１３……区画板
１４……出口側ルーバー
１５……第１層
１６……第２層
１７……第３層
１８……ホッパー
１９……排出ノズル
２１……触媒
２２……排ガス

Claims (2)

1. 反応槽内およびその上部の投入部内に、その投入部の上部から粒子状物からなる触媒を投入して充填するとともに、この触媒を移動させて反応槽内に移動層を形成し、反応槽内に外部から被処理ガスを流入して前記触媒と接触させ、吸着、反応等を行わせることによって被処理ガス中に含まれる混合物を除去し、クリーンなガスを大気中に放出するようになっている移動層反応槽の上部構造であって、
   前記投入部は、壁面によって囲まれて形成され、この投入部の内部空間に、触媒の投入方向に向かって所定の間隔ごとに複数の平板状の整流板が設けられ、
   前記投入部の内部空間のうち、投入部の中心線を通る被処理ガスの流れの方向を向く仮想面の左側の空間および右側の空間に、それぞれ仮想面に沿って上下方向に所定の間隔ごとに、かつ、各々がそれらの上部に位置する上記壁面と略平行となるように前記複数の整流板が設けられ、かつ、両空間の複数の整流板の上端は、前記仮想面上又はその近傍に上下方向に交互に位置していることを特徴とする移動層反応槽の上部構造。
2. 前記各空間の複数の整流板の一部の上端を、前記仮想面を超えて反対側の空間内に位置させたことを特徴とする請求項１記載の移動層反応槽の上部構造。

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