JPS62238240A - テトラヒドロナフタレン誘導体の製造法 - Google Patents

テトラヒドロナフタレン誘導体の製造法

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JPS62238240A
JPS62238240A JP7953586A JP7953586A JPS62238240A JP S62238240 A JPS62238240 A JP S62238240A JP 7953586 A JP7953586 A JP 7953586A JP 7953586 A JP7953586 A JP 7953586A JP S62238240 A JPS62238240 A JP S62238240A
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compound
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sodium borohydride
borohydride
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Toshihiro Fujiwara
藤原 敏洋
Moriaki Iwase
岩瀬 守明
Yukio Yokoyama
幸夫 横山
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は式(I) (式中、Rは低級アルキル基を、口は1−5の整数を意
味する。)で表わされる化合物の製造法に関する。更に
詳しくは、本発明は式(II)(式中、R,及びR2は
同じ又は異って低級アルキル基を意味し、口は前記に同
じである。)で表わされる化合物を低級アルコールの存
在化水素化ホウ素ナトリウムと反応させるか、又はナト
リウム以外の水素化ホウ素金属塩と反応させることから
なる式(I)の化合物の製造法に関する。
〈産業上の利用分計〉 式(I)の化合物は、特開昭60−48972号及び6
1−18770号公報に開示された式(III )(式
中、nは前記に同じ、、)で表わされるトロンボキサン
A2産生抑制物質の合成中間体として重要な化合物であ
る。
〈従来の技術〉 式(I)の化合物の製造法としては以下に示す製造法か
知られている。
(ffl           (7+(■1    
      (、W) しかしながら、上記製造法は以下のような欠点を有する
1)反応工程数が多い。
2)取扱いに問題のある水素化リチウムアルミニウム及
び重金属を使用する。
3)工業的製造法として好ましくないグリニヤール反応
を利用している。
4) 設備面、操作面及び公害面等から工業的製造V去
として満足できるものではない。
一般に、エステル類を低級アルコールの存在下水素化ホ
ウ素ナトリウムと反応させる方法としては、サ ジャー
ナル オブ オーガニック ケミストリー(J、Org
、Chem、) 28巻3261頁(196:1年)、
カナディアン ジャーナル 才ブ ゲミス1〜り一((
:an、、1.Chem、) 47を20!l!]頁(
19G’l1年)、シンセティック コミュニケーショ
ンズ(5ynth、Commun、)12=iJ 46
3頁(1982年)、シノセシス (Synthesi
s)605頁(1984年)、ブレティン ケミカル 
ソザエティー ジャパン(Ilull、Chem、So
c、Jpn、) 57を1948頁(1984年)等に
記載されているものが、又、エステル類をナトリウム以
外の水素化ホウ素金属塩と反応させる方法としては、カ
ーボハイドレイト リサーチ (Carbohydra
te Res、) 4巻504頁(1967年)、ケミ
カル アンド ファーマシューティカルブレテイン (
(:hem、Pharm、Bull、) 18巻190
8頁(1!170年)等に記載されている方法があげら
れる。しかしながら、これらの方法においては、分子内
に二つのエステル基を有する化合物の一方のエステル基
だけを選択的に還元する方法は知られていない。
従来、分子内の二つのエステルのうち一方のみを選択的
に還元するには、特別な還元剤が用いられ、簡便な還元
剤を使用して目的物を製造した例は殆ど知られていない
〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明者らは式(1)の化合物の製造法について上記欠
点を解決すべく鋭意検討した結果、本発明を完成した。
〈発明の構成〉 本発明は式(IN)の化合物を適当な溶媒中、低級アル
コールの存在下水素化ホウ素ナトリウムと反応させるか
、又はナトリウム以外の水素化ホウ素金属塩と反応させ
ることからなる式(I)の化合物の製造法に関する。
溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン又は1
,2−ジメトキシエタン等のエーテル類及び第三級ブタ
ノール、2−メチル−2−ブタノール等の第三級アルコ
ール順が常用されるが、特にこれらに限定されるもので
はない。これらの溶媒は通常式(II)の化合物1重量
部に対しIO容量部使用される。
低級アルコールとしては、メタノール、エタノール、1
−プロパツール、2−プロパツール、1−ブタノール等
かあげられる。低級アルコールは式(II )の化合物
に対し 1.5−3倍モル使用され、場合によっては反
応溶媒を兼ねてもよい。
水素化ホウ素ナトリウムの使用量は、通常式(II )
の化合物に対し 1.5〜3倍モル使用される。
ナトリウム以外の水素化ホウ素金属塩としては、リチウ
ム、カルシウム等の水素化ホウ素金属塩があげられる。
これらの金属塩は通常式(II)の化合物に対し2〜5
倍モル使用される。該金属塩は通常水素化ホウ素ナトリ
ウムと各金属の塩化物より製造されるが、本発明におい
ては製された水素化ホウ素金属塩を車路することなくそ
のまま使用してもよい。
反応温度は使用する溶媒の沸点以下であれば特に制限が
ないが、通常20〜50℃の範囲が用いられる。反応時
間は溶媒及び反応試剤の種類、モル比1反応温度等によ
って異なるが、通常は1〜20時間である0反応終了後
、反応溶媒を留去12、金属コンプレックスの残(資)
先分解せしめた後、抽出等の常用分離手段を用いること
により容易に高純度の式(I)の目的化合物を取得する
ことかできる。なお、反応溶媒の留去は金属コンプレッ
クス分解後に行ってもよい。
得られた式(I)の化合物を以下に示す方法で反応させ
ることにより目的とする式(III )の化合物を製造
することができる。
(式中、Tsはトシル基を示し、R及びnは前記に同じ
、) 即ち、式(1)の化合物をピリジン中バラトルエンスル
ホニルクロリドと反応させると式(■)の化合物が生成
する。これをジメチルホルムアミド中水素化ナトリウム
及びイミダゾールと反応させ、次いで所望により通常の
方法で加水分解させることにより目的とする式(Ill
 )の化合物を製造することができる。
〈発明の効果〉 本発明の製造法により、緩和な条件下、安価な試剤を用
い、かつ簡便な操作法により、収率よく高純度の式(I
)の目的化合物を製造することかできる。従って、本発
明の製造法は経済的及び工業的な製造法として優れたも
のである。
以下、本発明を更に実施例により説明するが、本発明は
これらによフて限定されるものではない。
実施例1 1.2,3.4−テトラヒドロ−2,6−ナフタレンジ
カルボン酸ジメチル(以下、化合ガムと称す。) 2.
OQgをテトラヒドロフラン40m1とメタノール8m
lの混液に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム613Bを
加え室温にて16時間攪拌した。反応液に昂塩酸を加え
液性を中性にした後減圧濃縮し、残渣をクロロポルム3
(1mlにて抽出した。抽出液を水洗、乾燥後、減圧乾
固して得た残漬中に存在する6−ヒドロキシメチル−5
,6,7,8−テトラヒドロ−2−ナフタレンカルボン
酸メチル(以下、化合物Bと称す。)を高速液体クロマ
トグラフィーによって定量した。定量はセンシュー科学
5SC−43iA型高速液体クロマトグラフィーを使用
し下記の条件下行った。
カラム: tlnisil QCN (シアンタイプ)
4.61X20cm 温 度:室温 移動相:クロロホルム 流]t: 1ml/min 検 出: uV 254nm その結果、化合物Bの生成率は92ネであった。
更に、上記残渣をシリカゲルカラムクロマトにて精製し
、標記化合物の無色結晶を得た。融点75〜77℃。
元素分析 C+5l(tao*ヒして 実測値 C70,77、H7,26 計算値 C70,89,H7J2 ’H−NMR(CDCL+)  δ: 1.20〜3.12(8H,m) 3.64 (21(、d、−C!12Q)l)3.89
 (311、S 、−(:0201b)7.13(IH
,d、ナフタレン1位水素)7.60〜7.84(2H
,m、ナフタレン1位、3位水素)実施例2 化合物A 2.OOgと水素化ホウ素すトリウム920
Bを第三級ブタノール40m1に感温させ、加熱還流下
メタノール8mlを 1時間かけて滴下した。反応液を
冷却後実施例1と同様に処理し、定1を行ったところ、
化合物Bの生成率は7鶴であった。
実施例3 化合物A 2.00gをメタノール4011111に溶
解1ノ、水素化ホウ素ナトリウム 3.811gを加え
て室温にて4.5時間攪拌した。反応液を実施例1と同
様に処理し、定量を行ったところ、化合物Bの生成率は
90′4であった。
実施例4 水素化ホウ素ナトリウム 450mgをテトラヒドロフ
ラン20II+1に感温させ、これに無水塩化カルシウ
ム640mgを加え室温で1時間攪拌した。この反応液
に化合ガム1.00gをテトラヒドロフラン20m1に
溶解させた液を加え、同温にて更に21時間攪拌した。
実施例1と同様に処理し定量した結果、化合物Bの生成
率は70!¥であフた。
実施例5 水素化ホウ素ナトリウム 460mgをテトラヒドロフ
ラン20m1に懸濁させ、これに無水塩化リチウム50
8+ngを加え室温で1時間攪拌した。この反応液に化
合ガム1.OOgをテトラヒドロフラン20m1に溶解
させた液を加え、同温にて更に90時間攪拌した。実施
例1と同様に処理し定t1ノた結果、化合物Bの生成率
は7禽であった。
実施例6 1.2.3.4−テトラヒドロ−2,6−ナフタレンジ
カルボン酸ジエチル(以下、化合物Cと称す。) i、
o。
gと水素化ホウ素ナトリウム460mgをテトラヒドロ
フラン20m1に懸濁させ、加熱還流下エタノール4+
nlを1時間かけて滴下し、更に5.5時間加熱還流し
た。反応液を冷却後実施例1と同様に処理し、定量を行
ったところ、6−ヒドロキシメチル−5゜6.7.8−
テトラヒドロ−2−ナフタレンカルボン酸エチル(以下
、化合物りと称す)の生成率は86tであった。更に上
記処理液をシリカゲルカラムクロマトにて精製し、化合
物りの淡黄色油状物を得た。
’ H−NMR(CDCl2)  δ41J8(3H,
t、−CO2(:H2C)I:+)1.21  =3.
1(8H,m) 3.84 (2H,d、−(:且20 H)4.35 
(2)1.Q、 −GO2C社2C83)7.22(L
)t、d、ナフタレン4位水素)7.7〜7.84 (
2H,m、ナフタレン 1位、3位水素)実施例7 化合物A 1.00gと水素化ホウ素ナトリウム460
mgをイソプロピルアルコール24m1K:、懸濁させ
 1時間加熱還流した。実施例1と同様に後処理を行い
高速液体クロマト・グラフィーによって定量したところ
、生成物は化合物Bど6−ヒドロキシメチル−5,6,
7,8−テトラヒドロ−2−ナフタレンカルボン酸イソ
プロピルの混合物で、両者を合した生成率は70’lf
であワた。
実施例8 化合物(: t、−oogをテトラヒドロフラン2On
+1とメタノール4mlの混液に溶解し、水素化ホウ素
ナトリウム411mgを加え、30〜40℃にて9時間
攪拌した。反応液を実施例1と同様に処理し、高速液体
クロマトグラフィーによって定量したところ、生成物は
化合物りと化合物Bの混合物であり、両者を合した生成
率は9596であった。
実施例9 化合物^2 、00gをテトラヒドロフラン40m1と
メタノール8011の混液に溶解し、水素化ホウ素ナト
リウム920mgを加え、室温にて15時間攪拌した。
反応液を実施例1と同様に処理し定量した結果、化合物
Bの生成率は9096であった。
実施例10 化合物A 2.00gをテトラヒドロフラン20m1と
メタノール4mlの混液に溶解し、水素化ホウ素ナトリ
ウム460mgを加え、室温にて2時間攪拌した。
反応液を実施例1と同様に処理し定量した結果、化合物
Bの生成率は88*であった。
実施例11 1.2,3.4−テトラヒドロ−2,6−ナフタレンジ
カルボン酸ジメチル2.OOgと水素化ホウ素ナトリウ
ム920mgをテトラヒドロフラン40m1に懸濁させ
、加熱還流下メタノール8mlを 1時間かけて滴下し
た。反応液を冷却後実施例1と同様に処理し定量を行っ
た結果、化合物Bの生成率は81亀であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2は同じ又は異って低級アルキ
    ル基を、nは1〜5の整数を意味する。)で表わされる
    化合物を低級アルコールの存在下水素化ホウ素ナトリウ
    ムと反応させるか、又はナトリウム以外の水素化ホウ素
    金属塩と反応させることを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは低級アルキル基を意味し、nは前記に同じ
    である。)で表わされる化合物の製造法
JP7953586A 1986-04-07 1986-04-07 テトラヒドロナフタレン誘導体の製造法 Granted JPS62238240A (ja)

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JPH0572900B2 JPH0572900B2 (ja) 1993-10-13

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