JPS62230762A

JPS62230762A - ウレタン（メタ）アクリレ−トおよびその製造法

Info

Publication number: JPS62230762A
Application number: JP61070883A
Authority: JP
Inventors: Shuzo Fukuchi; 福地　修三; Shigeru Yamaguchi; 繁山口
Original assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Current assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date: 1986-03-31
Filing date: 1986-03-31
Publication date: 1987-10-09

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は新規なウレタンアクリレートまたはメタクリレ
ート（以下、ウレタン（メタ）アクリレートと略記する
。）およびその製造法に関する。

更に詳しくは、分子中に少なくとも１個のアルケニル基
を含有する新規なウレタン（メタ）アクリレート、およ
び分子中にヒドロキシル基と少なくとも１個のアルケニ
ル基とを含有する（メタ）アクリレートを原料とする該
ウレタン（メタ）アクリレートの製造法に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

ウレタン（メタ）アクリレートは熱硬化性樹脂あるいは
光硬化性樹脂の製造に重要な成分であり、塗料、接着剤
、インキ、ハードコート、レジスト等広範囲な用途に使
用されている。ウレタン（メタ）アクリレートは、一般
にポリオール、ポリイソシアネートおよびヒドロキシア
ルキル（メタ）アクリレートを反応させることにより製
造され、これまでにこれら原料の種類および分子量、原
料比、反応順序等を変えることにより膨大な種類のウレ
タン（メタ）アクリレートが合成されてきた。

しかしながら、これまでに公知のウレタン（メタ）アク
リレートの大部分が非常に高粘度かまたは固体状のもの
であシ、大量の反応性希釈剤を添加して使用する必要が
あった。

更に、これらウレタン（メタ）アクリレートの硬化速度
、得られる硬化物の硬度や密着性等の硬化物性のすべて
において優れたものは得られていない。また、通常のウ
レタン（メタ）アクリレートをポリチオールとの反応に
使用しても、得られる硬化物の物性は優れたものとはな
らなかった。

従って、低粘度で硬化速度が速いだけでなく、ポリチオ
ールとの反応性にも優れ、しかも硬化物の硬度や密着性
等の硬化物性の優れたウレタン（メタ）アクリレートの
開発が要望されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明者らは上記事情に鑑み種々検討した結果、本発明
に到達した。従って、本発明の目的は種々の用途に利用
され得る特定の構造を有する新規なウレタン（メタ）ア
クリレートおよびその製造法を提供することにある。

この新規な構造を有するウレタン（メタ）アクリレート
は、分子中に（メタ）アクリロイル基とアルケニル基の
二種類の反応性基を有するので、単独重合もしくは他の
ビニルモノマーと共重合させて供）重合体としたυ、あ
るいはアルケニル基をチオール類と反応させる等によシ
、塗料、接着剤、繊維改質剤、放射線硬化型樹脂、注型
品製造、防錆剤等に広い用途を有するものである。

〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明は、（１）　一般式（”Ｉ）〔ただし式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基であり、
Ｚは炭素数２〜８の二価の有機基を表わし、（Ａ）は下
記の一般式（ＩＩ）で示されるアルケニルグリシジルエ
ーテル類の開環基、（Ｂ）は下記の一般式［ｎ）で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化合物
の開環基を表わし、ｌは１〜２０の整数、ｍはＯまたは
１〜２０の整数を表わし、しかも（Ａ）、（Ｂ）で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類または環状化合物
の開環基の配列は任意であシ、Ｒ２はヒドロキシル基含
有有機化合物（ただし下記一般式〔１ｌｌ）で表わされ
るヒドロキシル基末端（メタ）アクリレートは除く。）
の残基であυ、ｐは１〜６の整数でちゃ、ｑはＯまたは
１〜５の整数であシ、ｒはＯまたは１〜５の整数であり
、ｐ＋ｑ＋ｒは１〜６の整数であり、Ｙは（ｐ＋ｑ＋ｒ
　）価のインシアネート基含有有機化合物残基である。

〕で表わされるウレタン（メタ）アクリレート。

（記）〔ただし式中、Ｈｓは水素原子または炭素数２０以下の
（ハロ置換）炭化水素基であり、Ｒ４は炭素数２０以下
のアルケニル基である。〕ＣＨ，＝Ｃ−Ｃ−０−Ｚ−０子Ａ３−ｅＢ−）−Ｈ〔ｌ
［ｌ）１ｍ〔ただし式中、Ｒ１、Ｚ、　Ａ、　Ｂ、　ｌおよびｍは
上記と同じである。〕（２）一般式（ＬＩＲ’　０ＣＨ２＝Ｃ−Ｃ−０−Ｚ−０咲Ａ　）（Ｂ升ＨＣＩ［Ｉ
）１ｍ〔ただし式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基であり、
Ｚは炭素数２〜８の二価の有機基を表わし、（Ａ）は下
記の一般式〔■〕で示されるアルケニルグリシジルエー
テル類の開環基、（Ｂ）は下記の一般式〔■〕で示され
るアルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化合物の
開環基を表わし、ｌは１〜２０の整数、ｍは０または１
〜２０の整数を表わし、しかも（Ａ）、（Ｂ）で示され
るアルケニルグリシジルエーテル類または環状化合物の
開環基の配列は任意である。〕で表わされるヒドロキシ
ル基末端（メタ）アクリレート（Ｅ）、〔ただし式中、Ｙは（ｐ＋ｑ＋ｒ　）価のイソシアネー
ト基含有有機化合物残基であり、ｐ＋ｑ＋ｒは１〜６の
整数である。〕　で表わされるイソシアネート基含有有
機化合物（Ｇ）および要すれば前記一般式〔■〕で表わ
されるヒドロキシル基末端（メタ）アクリレ−）　（Ｅ
）以外のヒドロキシル基含有有機化合物（Ｋ）を反応さ
せることを特徴とする一般式〔Ｉ）〔ただし式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基であシ、
２は炭素数２〜８の二価の有機基を表わし、（Ａ）は下
記の一般式（ＩＩ）で示されるアルケニルグリシジルエ
ーテル類の開環基、（Ｂ）は下記の一般式［”Ｉ［）で
示されるアルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化
合物の開環基を表わし、ｌは１〜２０の整数、ｍは０ま
たは１〜２０の整数を表わし、しかも（Ａ）、（Ｂ）で
示されるアルケニルグリシジルエーテル類または環状化
合物の開環基の配列は任意であり、Ｒ２はヒドロキシル
基含有有機化合物（ただし前記一般式（ＩＩＩ）で表わ
されるヒドロキシル基末端（メタ）アクリレートは除く
。）の残基であり、ｐは１〜６の整数であシ、ｑは０ま
たは１〜５の整数であり、ｒはＯまたは１〜５の整数で
あり、ｐ＋ｑ＋ｒは１〜６の整数であり、Ｙは（ｐ＋ｑ
＋ｒ）価のインシアネート基含有有機化合物残基である
。〕で表わされるウレタン（メタ）アクリレートの製造
法。

（記）〔ただし式中、Ｒ３は水素原子または炭素数２０以下の
（ハ１ロ置換）炭化水素基であり、では炭素数２０以下
のアルケニル基である。〕に関するものである。

更に簡潔に説明すると、本発明はインシアネート基含有
化合物とヒドロキシル基および不飽和基を含有する化合
物とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレー
トにおいて、ヒドロキシル基および不飽和基を含有する
化合物として、前記の一般式（ＩＩ［）で表わされる特
定のヒドロキシル基末端（メタ）アクリレート（Ｅ）を
用いてなることを特徴とする新規なウレタン（メタ）ア
クリレートおよびその製造法に関するものである。

本発明に用いる一般式（Ｉ［［）で表わされるヒドロキ
シル基末端（メタ）アクリレート（Ｅ）は、例えば一般
式〔■〕〔ただし式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基、Ｚは炭
素数２〜８の二価の有機基である。〕で表わされるヒド
ロキシ（メタ）アクリレートのヒドロキシル基に、前記
一般式（ｎ）で表わされるアルケニルグリシジルエーテ
ル類および必要により前記一般式（ＩＩ）で表わされる
アルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化合物を付
加反応させる方法によυ得られる。

一般式（ＩＶ）で表わされるヒドロキシ（メタ）アクリ
レートの具体例としては、ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート
、ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシブチルメ
タクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート
、ジエチレングリコールモノメタクリレート、ヒドロキ
シシクロへキシルアクリレート、ヒドロキシシクロへキ
シルメタクリレート等が挙げられる。これらは単独でも
、あるいは混合物としても用いられる。前記ヒドロキシ
（メタ）アクリレートへ付加反応させる化合物は、前記
一般式（Ｉｔ）で表わされるアルケニルグリシジルエー
テル類（ａ）および要すれば前記一般式（ＩＩ）で表わ
されるアルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化合
物（ｂ）から選ばれる。

前記一般式で表わされるアルケニルグリシジルエーテル
類（ａ）における（）・口置換）炭化水素基としては、
例えば炭素数２０以下のアルキル基、アルケニル基、ア
リール基、水添アリール基、アラルキル基等の炭化水素
基あるいはそれらの炭化水素基の水素原子の少なくとも
１個が７１０ゲン原子で置換されたハロ置換炭化水素基
が挙げられ、もちろんすべての水素原子が７％ロゲン原
子で置換された基であってもよい。

アルケニルグリシジルエーテル類（ａ）の例としては、
ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル
、ブテニルグリシジルエーテル等カ挙げられる。

アルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化合物（ｂ
）（以下、これを環状化合物（ｂ）と略記する。）の例
としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、１
，２−ブチレンオキシド、１，２−エポキシデカン、１
，２−エポキシヘキサデカン等のようなアルキレンオキ
シド類；ブタジェンモノキシド、１．２−エポキシ−５
−ヘキセ／等のようなアルケニルオキシド類；スチレン
オキシド等のようなフェニルアルキレンオキシド類；１
，５−シクロドデカジエン−９−１０−エポキシド、１
．２−１−ボキシシクロドデカン等のような水添アリー
ルアルキレンオキシド類；ｅ−カプロ２クトン、メチル
−ｅ−カプロラクトン等のようなε−カプロラクトン類
；テトラヒドロフラン；メチルグリシジルエーテル、プ
ロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル
等のようなアルキルグリシジルエーテル類；フェニルグ
リシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル等のよ
うなアリールグリシジルエーテル類：エピクロルヒドリ
ン、エビブロモヒドリン等のようなエビブロモドリン類
が挙げられる。

前記一般式（ＩＩ）で表わされるヒドロキシル基末端（
メタ）アクリレ−）　（Ｅ）、前記一般式で表わされる
インシアネート基含有有機化合物（Ｇ）および要すれば
前記一般式（１）で表わされるヒドロキシル基末端（メ
タ）アクリレート（Ｅ）以外のヒドロキシル基含有有機
化合物（Ｋ）を反応させることにより、本発明のウレタ
ン（メタ）アクリレートが得られる。

本発明に用いるインシアネート基含有有機化合物（Ｇ）
としては、以下に列記するモノインシアネート類（Ｇ１
）、ポリイソシアネート類（Ｇ２）および末端イソシア
ネート基含有プレポリマー類（Ｇ３）を挙げることがで
き、これら化合物は単独で、または混合物として使用す
ることができる。更にこれらインシアネート基含有有機
化合物（Ｇ）のうち−分子中に二個以上のインシアネー
ト基を含有する化合物を総称してポリイソシアネート基
含有有機化合物（Ｇ４）と呼ぶ。

モノイソシアネート類（Ｇ１）としては、例えばメチル
イソシアネート、エチルイソシアネート、プロピルイソ
シアネート、ブチルイソシアネート、ヘキシルイソシア
ネート、クロルエテルイソシアネート、インシアナトエ
チルメタクリレート、オクタデシルイソシアネート、フ
ェニルイソシアネート、エトキシフェニルイソシアネー
ト、クロロフェニルインシアネート、ベンジルイソシア
ネート、ナフチルイソシアネート、ジクロロフェニルイ
ソシアネートなど；ポリイソシアネート類（Ｇ２）とし
ては、例えばエチレンジイソシアネート、トリメチレン
ジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジインシア
ネート、１，６−へキサメチレンジイソシアネート、ト
リメチルへキサメチレンジイソシアネート、１．１０−
デカメチレンジインシアネート、オクタデカメチレンジ
イソシアネート、リジンジイソシアネート、ｏ−、ｍ−
もしくはｐ−フェニレンジイソシアネート、４−イソプ
ロピル−１，３−フェニレンジイソシア＄−）、４−メ
）キシ−１，３−フェニレンジイソシアネー）、２，４
−もしくは２．６−）リレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート、ｍ−もしくはｐ−テトラメチル
キシリレンジイソシアネー）、１．５−ナフチレンジイ
ンシアネー）、４．４’−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、３．３’−ジメチル−４，４′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、２，４−ジイソシアネートジフ
ェニルエーテル、３．３’−ジメチル−４，４′−ビフ
ェニレンジイソシアネート、３゜３′−ジクロル−４，
４′−ビフェニレンジイソシアネート、トリフェニルメ
タントリインシアネート、トリス−（ｐ−インシアナー
トフェニル）チオホスファイト、ポリメチレンポリフェ
ニルイソシアネート（ノボラック型ポリイソシアネート
）、１゜４−シクロヘキシレンジイソシアネート、水素
化トリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソ
シアネート、水素化４，４′−ジフェニルメタンジイン
シアネー）、１．５−テトラヒドロナフタレンジイソシ
アネート、インホロンジイソシアネート、ジフェニルス
ルホンジイソシアネート、１．６−ヘキサメチレンシイ
ソシアネートニ量体や２，４−トリメンジイソシアネー
トニ量体のようなインシアネート多量体、トリレンジイ
ソシアネートや４゜４′−ジフェニルメタンジイソシア
ネートの粗製物など；末端インシアネート基含有プレポ
リマー類（Ｇ３）としては、前記のポリイソシアネート
類（Ｇ２）と以下に列記するポリオール類（Ｋ１）、ポ
リエーテルポリオール類（Ｋ２）、ポリエステルポリオ
ールｍ（Ｋ３　）、エステルジオール類（Ｋ４）、ポリ
オレフィンポリオール類（Ｋ５）、ポリカーボネートポ
リオール類（Ｋ６）等のヒドロキシル基含有有機化合物
とを、インシアネート基数／ヒドロキシル基数の比率が
１．０より大なる比率で反応させて得られる末端にイン
シアネート基を含有するプレポリマーを挙げることがで
きる。

末端イソシアネート基含有プレポリマー類（Ｇ３）の合
成に使用されるポリオール類（Ｋ１）の例としては、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレ
ングリコール、１，２−１１゜３−もしくは１，４−ブ
タンジオール、１，５−ベンタンジオール、ヘキサンジ
オール、ネオペンチルクリコール、シフロムネオペンチ
ルグリコール、トリメチルベンタンジオール、トリメチ
ロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトール、シクロヘキサンジ
オール、シクロヘキサンジメタツール、グリセリン、ジ
グリセリン、ンルビトール、トリスヒドロキシエチルイ
ソシアヌレート、ビスフェノールＡ、　２．２’−ジ（
４−ヒドロキシグロボキシフェニル）プロパン、水素化
ビスフェノールＡ、）！Ｊエタノールアミン、Ｎ、Ｎ、
Ｎ１Ｎ′−テトラキス（β−ヒドロキシエチル）エチレ
ンジアミンなど；ポリエーテルポリオール類（Ｋ２）の
例としては、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、テトラエチレングリコール、ポリエチレンクリ
コール、ジプロピレングリコールなど；ポリエステルポ
リオール類（Ｋ３）の例としては、上記ポリオール類（
Ｋ１）および／またはポリエーテルポリオール類（Ｋ２
）と多価カルボン酸（例えば無水フタル酸、無水マレイ
ン酸、無水コハク酸、ドデシエル無水コハク酸、無水シ
トラコン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸
、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水
ハイミック酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水ヘット
酸、オルソフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マ
レイン酸、フマルＭ、＝ｒ）ｚａ、アジピン酸、アゼラ
イン酸、セパチン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸
等）とを、ヒドロキシル基数／カルボキシル基数の比率
が１．０より大なる比率で反応させて得られるポリエス
テルポリオール、例えばビス（２−ヒドロキシエチル）
テレフタレートなどが挙げられる。また、エステルジオ
ール類（Ｋｌ１４　）の例としては、２，２−ジメチル
−３−ヒドロキシプロピル−２，２−ジメチル−３−ヒ
ドロキシプロピオネート（ヒドロキシピバリルヒドロキ
シヒパレート）、２．２−ジメチル−４−ヒドロキシブ
チル−２，２−ジメチル−４−ヒドロキシブチレート、
２−エチル−２−メチル−３−ヒドロキシプロピル２−
エチル−２−メチル−３−ヒドロキシプロピオネートな
ど；ポリオレフィンポリオール類（Ｋ５）の例としては
、ポリブタジェンポリオールなど；ポリカーボネートポ
リオール類（Ｋ６）の例としては、１，６−ヘキサンジ
オールとエチレンカーボネートとの反応生成物などが挙
げられる。更に前記ポリオール類（Ｋ１）、ポリエーテ
ルポリオール類（Ｋ２　）、ポリエステルポリオールＭ
（Ｋ３　：）、エステルジオール類（Ｋ４　）、ポリオ
レフィンポリオール類（Ｋ５）あるいはポリカーボネー
トポリオール類（Ｋ６）にエチレンオキシド、プロピレ
ンオキシド、ブチレンオキシド、スチレンオキシド、高
級脂肪酸モノエポキシド、エピクロルヒドリン、アリル
グリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、グリ
シドール、フェニルグリシジルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ｅ−カプロラクトン等の環状化合物の単独ある
いは混合物を開環付加反応させて得られるヒドロキシル
基含有化合物、例えばトリメチロールプはパンへのエチ
レンオキシド付加反応物、ネオペンチルグリコールへの
ｅ−カプロラクトン付加反応物、ブチレングリコール、
アゼライン酸およびイソフタル酸から製造した末端ヒド
ロキシル基含有ポリエステルポリオールへのブチルグリ
シジルエーテル付加反応物、ヒドロキシビバリルヒドロ
キシビパレートへのｅ−カプロラクトン付加反応物、ポ
リブタジェンジオールへのプロピレンオキシド付加反応
物、　１．６−ヘ＃”ｊ７ジオールおよびエチレンカー
ボネー）（１：１）反応物へのエチレンオキシド付加反
応物等もポリイソシアネート類（Ｇ２　）゛と反応させ
て末端インシアネート基含有プレポリマー類（Ｇ３）と
することができる。環状化合物の開環付加反応は公知の
方法で実施でき、一般に触媒の存在下に実施することが
望ましいが、そのような触媒として、ルイス酸、有機チ
タン化合物、有機スズ化合物等が使用できる。

本発明で必要によシ使用するヒドロキシル基含有有機化
合物（Ｋ）としては、前記のヒドロキシル基末端（メタ
）アクリレート（Ｅ）以外の、イソシアネート基と反応
し得る少なくとも１個のヒドロキシル轟有する有機化合
物ならば、特に制限なく使用できる。ヒドロキシル基含
有有機化合物（Ｋ）を例示すれば、末端イソシアネート
基含有ブレポリマー類（Ｇ３）を得る際に用いる前記し
た如きポリオール類（Ｋｌ　）、ポリエーテルポリオー
ル類（Ｋ２）、ポリエステルポリオール類（Ｋ３）、エ
ステルジオール類（Ｋ４）、ポリオレフィンポリオール
類（Ｋ５）およびポリカーボネートポリオール類（Ｋ６
）やそれらの環状化合物付加反応物（以上、これらを総
称してポリオール化合物（Ｋｌ〜６）という。）；メタ
ノール、エタノール、プロパツール、ブタノール等の脂
肪族−価アルコール類；エチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノプチルエーｆル等
Ｏ（ボ＋Ｊ　）アルキレングリコールモノアルキルエー
テル類；エチレングリコールモノアセチルエステル等の
（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエステル類
等が挙げられる。また、ポリオール化合物（Ｋｌ〜６）
の不飽和酸部分エステル化物、例えば１，４−ブタンジ
オールモノ（メタ）アクリレ−）、　　１．６−ヘキサ
ンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグ
リコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールモ
ノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、
ジグリセリントリ（メタ）アクリレート、水素化ビスフ
ェノールＡモノ（メタ）アクリレート、エチレンオキシ
ド６モル付加トリメチロールプロパンのジ（メタ）アク
リレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒ
ドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレング
リコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリ
コールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ルモノ（メタ）アクリレート等；ε−カプロラクトン等
のラクトン類またはテトラヒドロフランのヒドロキシア
ルキル（メタ）アクリレートへの開環付加物例えばε−
カプロラクトン付加ヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
レートの場合にはε−カプロラクトン２モル付加ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート等；エポキシ基を有す
る化合物と不飽和酸との付加反応物、例えばブチルグリ
シジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、アリル
グリシジルエーテル、エピクロルヒドリン、グリシジル
（メタ）アクリレートのようなモノエポキシドと（メタ
）アクリル酸との付加反応物やエチレングリコールジグ
リシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジ
ルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、Ｎ
、Ｎ−ジグリシジルアニリンのようなポリエポキシドと
（メタ）アクリル酸との付加反応物等の如き分子中にヒ
ドロキシル基とエチレン性不飽和基とを含有する化合物
も、前記のヒドロキシル基末端（メタ）アクリレート（
Ｅ）以外のものであれば、ヒドロキシル基含有有機化合
物（Ｋ）として使用できるのは勿論である。ヒドロキシ
ル基含有有機化合物（Ｋ）は、前記したものの中から単
独で、または混合物として使用することができる。

本発明のウレタン（メタ）アクリレートの製造法は、公
知の製造法を使用することができる。

即ち、一般式（［１）で表わされるヒドロキシル基末端
（メタ）アクリレ−）（Ｅ）とインシアネート基含有有
機化合物（Ｇ）との反応、あるいは一般式（Ｉ［［）で
表わされるヒドロキシル基末端（メタ）アクリレート（
Ｅ）とヒドロキシル基含有有機化合物（Ｋ）とポリイソ
シアネート基含有有機化合物（Ｇ４）との反応によシ製
造できる。

これら原料の仕込割合は、得ようとするウレタン（メタ
）アクリレートに応じて仕込めばよいが、通常はインシ
アネート基数／ヒドロキシル基数の比率が１．０±０．
１の範囲の比率で仕込めばよい。

しかし、ヒドロキシル基含有有機化合物（Ｋ）を大過剰
に使用することも自由であり、その場合には、一般式（
１）で表わされるウレタン（メタ）アクリレート中のＲ
２で表示されるヒドロキシル基含有有機化合物残基には
ヒドロキシル基が含有されることになる。またインシア
ネート基含有有機化合物（Ｇ）としてイソシアネート基
以外にヒドロキシル基等の他の官能基を有するものを使
用することも自由であり、その場合には、一般式（１）
中のＹで表示されるインシアネート基含有有機化合物残
基には他の官能基が含有されることがある。

原料の添加順序には特に制限はないが、ヒドロキシル基
含有有機化合物（Ｋ）として前記のポリオール化合物（
Ｋｌ〜６）を使用する場合には、あらかじめポリオール
化合物（Ｋｌ〜６）とポリインシアネート基含有有機化
合物（Ｇ４）とを反応させておくのが好都合である。本
発明の製造法の実施態様としては、例えばビ）　一般式（ＩＩＩ）で表わされるヒドロキシル基末
端（メタ）アクリレート（Ｅ）とイソシアネート基含有
有機化合物（Ｇ）とを反応させる方法。

（ロ）　一般式（ｎ［）で表わされるヒドロキシル基末
端（メタ）アクリレート（Ｅ）とポリイソシアート基含
有有機化合物（Ｇ４）とをインシアネート基が残存する
ような割合で用いて反応させたのち、ヒドロキシル基含
有有機化合物（Ｋ）を反応させる方法。

（ハ）　ヒドロキシル基含有有機化合物（Ｋ）とポリイ
ソシアネート基含有有機化合物（Ｇ４）とをインシアネ
ート基が残存するような割合で用いて反応させたのち、
一般式（ＩＩＩ）で表わされるヒドロキシル基末端（メ
タ）アクリレート（Ｅ）を反応させる方法。

に）一般式ＣＩＩＩ）で表わされるヒドロキシル基末端
（メタ）アクリレート（Ｅ）とヒドロキシル基含有有機
化合物（Ｋ）との混合物をポリインシアネ−ト基含有有
機化合物（Ｇ４）と反応させる方法。

（ホ）　ヒドロキシル基含有有機化合物（Ｋ）とポリイ
ソシアネート基含有有機化合物（Ｇ４）とを、インシア
ネート基が残存するような割合で用いて反応させたのち
、一般式（１）で表わされるヒドロキシル基末端（メタ
）アクリレート（棒）をイソシアネート基が残存するよ
うな割合で用いて反応させ、次いでヒドロキシル基含有
有機化合物（Ｋ）を反応させる方法。

（へ）　ヒドロキシル基含有有機化合物（Ｋ）とポリイ
ソシアネート基含有有機化合物（Ｇ４）とを、インシア
ネート基が残存するような割合で用すて反応させたのち
、一般式（ＤＩ）で表わされるヒドロキシル基末端（メ
タ）アクリレート（Ｅ）とヒドロキシル基含有有機化合
物（Ｋ）との混合物を反応させる方法。

（ト）　　一般式Ｃｕ１ｌ）で表わされるヒドロキシル
基末端（メタ）アクリレート（Ｅ）とポリイソシアネー
ト基含有有機化合物（Ｇ４）とを、インシアネート基が
残存するような割合で用いて反応させたのち、ヒドロキ
シル基含有有機化合物（Ｋ）をインシアネート基が残存
するような割合で用いて反応させ、次いで一般式〔ｌ［
Ｉ）で表わされるヒドロキシル基末端（メタ）アクリレ
ート（Ｅ）を反応させる方法。

（イ）一般式（ＩＩＩ）で表わされるヒドロキシル基末
端（メタ）アクリレート（Ｅ）とポリインシアネート基
含有有機化合物（Ｇ４）とを、インシアネート基が残存
するような割合で用いて反応させたのち、ポリインシア
ネート基含有有機化合物（Ｇ４）を配合し、次いでヒド
ロキシル基含有有機化合物（Ｋ）を反応させる方法。

（１月　一般式（Ｉｌｌ）で表わされるヒドロキシル基
末端（メタ）アクリレート（Ｅ）とポリイソシアネート
基含有有機化合物（Ｇ４）とを、イソシアネート基が残
存するような割合で用いて反応させたのち、ポリイソシ
アネート基含有有機化合物（Ｇ４）を配合し、次いで一
般式（１）で表わされるヒドロキシル基末端（メタ）ア
クリレート（Ｅ）を反応させる方法等が挙げられるが、
本発明はこれらの実施態様に限定されるものではない。

本発明における反応は１０〜１５０℃、特に３０〜１０
０℃の範囲で行うことが好ましい。反応温度が高いと原
料および反応生成物のビニル基の重合反応が起こり易く
なる。反応温度があまシにも低いと反応速度が小さくな
る。また原料および反応生成物のビニル基の重合を避け
るために重合防止剤の存在下に反応を行うのが好ましい
。重合防止剤の例としてハイドロキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、ｐ−ベンゾキノン、メチルハイ
ドロキノン、ｔ−ブチルハイドロキノン、ジ−ｔ−ブチ
ルハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、フェノチア
ジン、Ｎ、Ｎ’−ジー２−ナフチル−ｐ−フ二二レンジ
アミン、４．６−シ二トローＯ−クレゾール、Ｎ−ニト
ロソジフェニルアミン、α−ナフトール、銅塩等が挙げ
られる。その使用量は通常、原料に対してｏ、ｏｏｓ〜
１重量％である。

更に、本発明における反応忙おいては、イソシアネート
基とヒドロキシル基とのウレタン化反応を促進させるた
めに公知の触媒、例えばジプチルスズジラウレートやジ
オクチルスズジラウレートのような有機スズ化合物ある
いは第三級アミン等の存在下に実施することができる。

なお、必要に応じて適当な溶剤中で反応を実施してもよ
い。溶剤としては特釦限定されないが、例えばスチレン
、酢酸ビニル、メチル（メタ）アクリレート、エチレン
グリコールジ（メタ）アクリレ−）、１．６−ヘキサン
シオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（
メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレ
ート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラ
ヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等のような反応
性Ｈ剤やベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステ
ル類；インプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類；メチレンクロライド、クロロ
ホルム、トリクロロエチレン、エチレンジクロライド等
のハロゲン化炭化水素類等のような有機溶剤が使用でき
る。

このようにして合成された新規のウレタン（メタ）アク
リレートは、塗料、接着剤、繊維改質剤、放射線硬化型
樹脂、注型品製造、防錆剤、インキ、ハードコート、レ
ジスト等に使用され得る。

〔発明の効果〕

本発明の新規な構造を有するウレタン（メタ）アクリレ
ートは、重合させてウレタン結合を含有する（共）重合
体としたシ、あるいはアルケニル基をチオール類と反応
させたシすることによシ、塗料、接着剤、インキ、紫外
線または電子線硬化型樹脂、ハードコート、レジスト、
印刷配線板用保護膜、封止剤、バインダー、絶縁フェス
等の広い用途に利用できるものである。

〔実施例〕

以下本発明を実施例によシ説明するが、本発明はこれら
の例によって限定されるものではない。

なお、例中の部は重量部である。

参考例１温度計、撹拌機、滴下ロート、ガス導入管およびマノメ
ーターを備えた反応容器に、２−ヒドロキシエチルアク
リレ−）１３９部（１，２モル）、重合防止剤としてハ
イドロキノン０．３部、触媒としてタングストリン酸２
．７部を仕込み、酸素濃度３％のチッ素・酸素混合ガス
を吹込みながら撹拌下にアリルグリシジルエーテル４１
０部（３，６モル）を４時間を要して滴下した。なお、
アリルグリシジルエーテルの滴下中、反応容器を冷却し
内温を３０〜４０℃に保った。滴下終了後、更に１時間
撹拌下で４０℃に保って熟成し、反応を完了した。反応
終了後、吸着剤である粉末ケイ酸マグネシウム１１部を
添加し、４０℃で３０分間撹拌したのち加圧濾過して精
製を行い、無色透明液体の反応生成物（以下ヒドロキシ
ル基末端アクリレート（１）と呼ぶ。）５３９部（収率
９８．１％）を得た。水酸基価およびＩＲ，ＮＭＲの分
析結果から、反応生成物は下記構造のヒドロキク兎末端
アクリレートであった。

ＣＨ，＝ＣＨＣ００ＣＨ，ＣＨ，ＯイＣＨ，ＣＨＯ升Ｈ
ＣＨ。

ＣＨ，ＣＨ−ＣＨ。

参考例２参考例１と同様の反応容器に、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート１９５部（１，５モル）、重合防止剤とし
てハイドロキノンモノメチルエーテル０．２１部、触媒
としてタングストケイ酸２．８３部を仕込み、５０℃に
てアリルグリシジルエーテル５１３部（４，５モル）を
３時間を要して滴下したのち、更に５０℃にて１時間保
持して反応を完了した。つぎに吸着剤である粉末塩基性
マグネシウム・アルミニウム・ハイドロキシ・カーボネ
ート・ハイドレート２１部を添加し、６０℃で３０分間
撹拌したのち加圧濾過して精製を行い、無色透明液体の
反応生成物（以下ヒドロキシル基末端メタクリレート（
２）と呼ぶ。）６９４部（収率９８．Ｏチ）を得た。分
析の結果、反応生成物は下記構造のヒドロキシル基末端
メタクリレートであった。

ＣＨ。

ＣＨ，＝Ｃ−Ｃ００ＣＨ，ＣＨρ＋ＣＨ，ＣＨＯ汁ＨＣ
Ｈ。

ＣＨ。

ＣＨＣＨ。

参考例３参考例１と同様の反応容器に、２−ヒドロキシエチルア
クリレート１７４部（１，５モル）、重合゛　防止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０．２６部、触
媒としてタングストリン酸２．６部を仕込み、内温を３
０〜４０℃に保ちながら、アリルグリシジルエーテル１
７１部（１，５モル）を１時間で滴下した。滴下終了後
、更に１．５時間、４０℃に保って熟成した。つぎにプ
ロピレンオキシド１７４部（３，０モル）を３０〜４０
℃で２．５時間を要して滴下したのち、更に２時間、４
０℃に保って熟成し、反応を完了した。次いで粉末ケイ
酸マグネシウム１１部を添加したのち加圧濾過して精製
し、無色透明液体の反応生成物（以下ヒドロキシル基末
端アクリレート（３）と呼ぶ。）５１１部（収率９８．
５％）を得た。分析の結果、反応生成物は下記構造のヒ
ドロキシル基末端アクリレートであった。

ＣＨ。

ＣＨＣＨｌ実施例１温度計、滴下ロート、還流冷却管、撹拌機を備えた反応
容器に、参考例１で得たヒドロキシル基末端アクリレー
ト（１１２２９部（０，５当量）、重合防止剤としてハ
イドロキノンモノメチルエーテル０．０９５部、ウレタ
ン化反応触媒としてジブチルスズジラウレー）　０．１
６部を仕込み、次いで撹拌下Ｋ　２，４−　トリレンジ
イソシアネート８７部（１当量）を温度が６０℃以上に
ならないように冷却しながら２時間で滴下した。更に４
時間、６０〜６５℃に保持することによシ、反応生成物
（以下ウレタンアクリレート（１）と呼ぶ。）３１６部
を得た。

反応生成物の遊離インシアネート基含量（６，５％）お
よび赤外吸収スペクトルより、反応生成物は下記構造の
ウレタンアクリレートであることがわかネートの残基を
示す。）なお、反応生成物の赤外吸収スペクトルを第１図に示す
。

実施例２実施例１と同様の反応容器に、実施例１で得たウレタン
アクリレート（１１３１６部を仕込んだ後、撹拌下に２
−ヒドロキシエチルアクリレート５８部（０，５当量）
を温度が６０℃以上にならないようにしながら、２時間
で滴下した。更に４時間、７０℃に保持することによシ
、反応生成物（以下ウレタンアクリレート（２）と呼ぶ
。）３７４部を得た。反応生成物の遊離インシアネート
基含量（０，１チ以下）および赤外吸収スペクトルｚｂ
、反応生成物は下記構造のウレタンアクリレートである
ことがわかった。

（ただし、ＣｖＨａは２．４−）リレンジインシアネー
トの残基金示す。）なお、反応生成物の赤外吸収スペクトルを第２図に示す
。

実施例３実施例１と同様の反応容器に１参考例２で得たヒドロキ
シル基末端メタクリレート（２１２３６部（０，５当量
）、重合防止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテ
ル０．０８４部、ウレタン化反応触媒としてジブチルス
ズジラウレート０．１４部を仕込み、次いで撹拌下に２
．４−　）リレンジイソシアネ−）４３．５部（０，５
重量）を６０’Ｃ１７Ｃ保持しながら２時間で滴下した
。更に４時間、６０℃に保持することによシ、反応生成
物（以下ウレタンメタクリレート（３）と呼ぶ。）２７
９部を得た。反応生成物の遊離イソシアネート基含量（
０，１％以下）および赤外吸収スペクトルより、反応生
成物は下記構造のウレタンメタクリレートであることが
わかった。

（ただし、Ｃ？Ｈ１＋は２．４−）リレンジイソシアネ
ートの残基を示す。）なお、反応生成物の赤外吸収スペクトルを第３図に示す
。

実施例４実施例１と同様の反応容器に、参考例２で得たヒドロキ
シル基末端メタクリレ−）（２）２３６ｍ（０，５当量
）、重合防止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテ
ル０．１４部、ウレタン化反応触媒としてジブチルスズ
ジラウレー）　０．１４部を仕込み、次いで撹拌下にト
リメチルへキサメチレンジイソシアネート（ヒュルス社
ｊｌｉり５２．５部（０，５当量）を６５℃に保持しな
がら２時間で滴下した。

更に３時間６５℃に保持することによシ、反応生成物（
以下ウレタンメタクリレート（４）と呼ぶ。）２８８部
を得た。反応生成物の遊離インシアネート基含量（０，
１％以下）および赤外吸収スペクトルより、反応生成物
は下記構造のウレタンメタクリレートであることがわか
った。

（ただし、Ｃ・Ｈｌ・はトリメチルへキサメチレンジイ
ンシアネートの残基を示す。）なお、反応生成物の赤外吸収スペクトルを第４図に示す
。

実施例５実施例１と同様の反応容器に、参考例３で得たヒドロキ
シル基末端アクリレ−）　（３１１７３部（０，５当量
）、重合防止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテ
ル０．１１部、ウレタン化反応触媒としてジブチルスズ
ジラウレー）　０．１１部を仕込み、次いで撹拌下にト
リメチルへキサメチレンジイソシアネート（ヒュルス社
製）５２．５部（０，５当量）を６０℃に保持しながら
２時間で滴下した。更に３時間６０℃に保持することに
よシ、反応生成物（以下ウレタンアクリレート（５）と
呼ぶ。）２２５部を得た。反応生成物の遊離イソシアネ
ート基含量は０．１チ以下であった。

比較例１実施例１と同様の反応容器に、２−ヒドロキシエチルア
クリレート１１６部（１当量）、重合防止剤としてハイ
ドロキノンモノメチルエーテル０．０２９部、ウレタン
化触媒としてジブチルスズジラウレー）　０．１４部を
仕込んだ後、撹拌下に２，４トリレンジイソシアネ一ト
８７部（１当量）を６０℃に保持しながら２時間で滴下
した。更に８時間６０〜６５℃に保持することにより、
反応生成物（以下比較用ウレタンアクリレート（１）と
呼ぶ。）２０３部を得た。反応生成物の遊離インシアネ
ート基含量は０．１％以下であった。

実施例２および比較例１で得られたウレタンアクリレー
ト（２）および比較用ウレタンアクリレート（１）の粘
度（２５℃、Ｂ型粘度計）を以下に示すが、本発明のウ
レタン（メタ）アクリレートは低粘度であり、粘度特性
に優れていることがわかった。

比較参考例１参考例１と同様の反応容器に、２−ヒドロキシエチルア
クリレート１３９部（１，２モル）、ノーイドロキノン
０．３部、タングストリン酸３部を仕込み、３０〜４０
℃にてｎ−ブチルグリシジルエーテル４６８部（３，６
モル）を４時間を要して滴下したのち、更に４０℃にて
１時間保持して反応を完了した。つぎに吸着剤である粉
末ケイ酸マグネシウム１１部を添加し、４０℃で３０分
間撹拌したのち加圧濾過して精製を行い、無色透明液体
の反応生成物５９５部（収率９８．Ｏチ）を得た。分析
の結果、反応生成物は下記構造のヒドロキシル基末端ア
クリレートであった。

ＣＨ，＝ＣＨＣ００ＣＨ，ＣＨ，０−ｅＣＨ，ＣＨＯ）
ＴＨさＨＩＣ，Ｈ。

つぎに、実施例１と同様の反応容器に、上記で製造した
ヒドロキシル基末端アクリレート２５３部（０，５当量
）、重合防止剤としてノ・イドロキノンモノメチルエー
テル０．１５部、ウレタン化反応触媒としてジブチルス
ズジラウレート０．１５部を仕込み、次いで撹拌下に２
．４−）リレンジインシアネート４３．５部（０，５当
量）を６０℃に保持しながら２時間で滴下した。更に３
時間、６０℃に保持することによシ、反応生成物（以下
比較用ウレタンアクリレート（２）と呼ぶ。）２９６部
を得た。

分析の結果、反応生成物は下記構造のウレタンアクリレ
ートであった。

（ただし、　Ｃ，Ｈ，は２，４−）リレンジイソシアネ
ートの残基を示す。）実施例６実施例２で得たウレタンアクリレート（２１６７部ペン
タエリスリトールテトラ（３−メルカプトグロピオネー
））３３部およびベンジルジメチルケタール（チバガイ
ギー社製、イルガキュアー６５１　）３部を加え、樹脂
組成物を調製した。得られた樹脂組成物を鋼板パネル上
に１５μの厚さに塗布し、８０　Ｗ　／　ｃｍの高圧水
銀灯を用い、１０ｃ！ＩＬの高さの距離からコンベア速
度６ｍ／分で該パネルを移動させながら照射したところ
、１回の照射でタックフリーの硬化塗膜が得られた。得
られた硬化塗膜の性能をしらべたところ、鉛筆硬度５Ｈ
であった。

なお、硬化塗膜の鉛筆硬度は、ＪＩＳ　Ｋ　５４００の
方法で測定した。

比較例２比較参考例１で得た比較用ウレタンアクリレート（２）
　６７部、ペンタエリスリトールテトラ（３−メルカプ
トブロビオネート）３３部およびベンジルジメチルケタ
ール（チバガイギー社製、イルガキュアー６５１　）　
３部を加え、比較用の樹脂組成物を調製した。得られた
比較用の樹脂組成物を用いて、実施例６と同様の方法で
塗布膜の硬化性をしらべたところ、タックフリーの硬化
塗膜を得るのに３回の照射を要した。さらに得られ大便
化塗膜の性能をしらべたところ、鉛筆硬度はＢであった
。

実施例６および比較例２で得られた結果より、本発明の
ウレタン（メタ）アクリレートはチオール類と反応して
優れた硬化塗膜となることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例１で得たウレタンアクリレート（１）の
赤外吸収スペクトル図であり、第２図は実施例２で得た
ウレタンアクリレート（２）の赤外吸収スペクトル図で
あシ、第３図は実施例３で得たウレタンメタクリレート
（３）の赤外吸収スペクトル図であシ、第４図は実施例
４で得たウレタンメタクリレート（４）の赤外吸収スペ
クトル図である。特許出願人　　　　　日本触媒化学工業株式会社（−１
゛代理人　　　山　口　剛　男°゛、−１−１，−

Claims

【特許請求の範囲】１　一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕〔ただし式中、Ｒ＾１は水素原子またはメチル基であり
、Ｚは炭素数２〜８の二価の有機基を表わし、（Ａ）は
下記の一般式〔II〕で示されるアルケニルグリシジルエ
ーテル類の開環基、（Ｂ）は下記の一般式〔II〕で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化合物
の開環基を表わし、ｌは１〜２０の整数、ｍは０または
１〜２０の整数を表わし、しかも（Ａ）、（Ｂ）で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類または環状化合物
の開環基の配列は任意であり、Ｒ＾２はヒドロキシル基
含有有機化合物（ただし下記一般式〔III〕で表わされ
るヒドロキシル基末端（メタ）アクリレートは除く。）
の残基であり、ｐは１〜６の整数であり、ｑは０または
１〜５の整数であり、ｒは０または１〜５の整数であり
、ｐ＋ｑ＋ｒは１〜６の整数であり、Ｙは（ｐ＋ｑ＋ｒ
）価のイソシアネート基含有有機化合物残基である。〕
で表わされるウレタン（メタ）アクリレート。（記） ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕〔ただし式中、Ｒ＾３は水素原子または炭素数２０以下
の（ハロ置換）炭化水素基であり、Ｒ＾４は炭素数２０
以下のアルケニル基である。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕〔ただし式中、Ｒ＾１、Ｚ、Ａ、Ｂ、ｌおよびｍは上記
と同じである。〕２　ｑが０である特許請求の範囲第１項記載のウレタン
（メタ）アクリレート。３　アルケニルグリシジルエーテル類がアリルグリシジ
ルエーテルである特許請求の範囲第１項記載のウレタン
（メタ）アクリレート。４　アルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化合物
がアルキレンオキシド、ｅ−カプロラクトン類、テトラ
ヒドロフラン、アルキルグリシジルエーテル、アリール
グリシジルエーテルおよびエピハロヒドリンからなる群
から選ばれた１種または２種以上の化合物である特許請
求の範囲第１項または第２項または第３項記載のウレタ
ン（メタ）アクリレート。５　一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕〔ただし式中、Ｒ＾１は水素原子またはメチル基であり
、Ｚは炭素数２〜８の二価の有機基を表わし、（Ａ）は
下記の一般式〔II〕で示されるアルケニルグリシジルエ
ーテル類の開環基、（Ｂ）は下記の一般式〔II〕で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化合物
の開環基を表わし、ｌは１〜２０の整数、ｍは０または
１〜２０の整数を表わし、しかも（Ａ）、（Ｂ）で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類または環状化合物
の開環基の配列は任意である。〕で表わされるヒドロキ
シル基末端（メタ）アクリレート（Ｅ）、一般式　Ｙ−（ＮＣＯ）＿ｐ＿＋＿ｑ＿＋＿ｒ〔ただし式中、Ｙは（ｐ＋ｑ＋ｒ）価のイソシアネート
基含有有機化合物残基であり、ｐ＋ｑ＋ｒは１〜６の整
数である。〕で表わされるイソシアネート基含有有機化
合物（Ｇ）および要すれば前記一般式〔III〕で表わさ
れるヒドロキシル基末端（メタ）アクリレート（Ｅ）以
外のヒドロキシル基含有有機化合物（Ｋ）を反応させる
ことを特徴とする一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕〔ただし式中、Ｒ＾１は水素原子またはメチル基であり
、Ｚは炭素数２〜８の二価の有機基を表わし、（Ａ）は
下記の一般式〔II〕で示されるアルケニルグリシジルエ
ーテル類の開環基、（Ｂ）は下記の一般式〔II〕で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類を除く環状化合物
の開環基を表わし、ｌは１〜２０の整数、ｍは０または
１〜２０の整数を表わし、しかも（Ａ）、（Ｂ）で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類または環状化合物
の開環基の配列は任意であり、Ｒ＾２はヒドロキシル基
含有有機化合物（ただし前記一般式〔III〕で表わされ
るヒドロキシル基末端（メタ）アクリレートは除く。）
の残基であり、ｐは１〜６の整数であり、ｑは０または
１〜５の整数であり、ｒは０または１〜５の整数であり
、ｐ＋ｑ＋ｒは１〜６の整数であり、Ｙは（ｐ＋ｑ＋ｒ
）価のイソシアネート基含有有機化合物残基である。〕
で表わされるウレタン（メタ）アクリレートの製造法。（記） ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕〔ただし式中、Ｒ＾３は水素原子または炭素数２０以下
の（ハロ置換）炭化水素基であり、Ｒ＾４は炭素数２０
以下のアルケニル基である。〕