JPS62217246A - レチクル収納ケ−ス - Google Patents
レチクル収納ケ−スInfo
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- JPS62217246A JPS62217246A JP61059474A JP5947486A JPS62217246A JP S62217246 A JPS62217246 A JP S62217246A JP 61059474 A JP61059474 A JP 61059474A JP 5947486 A JP5947486 A JP 5947486A JP S62217246 A JPS62217246 A JP S62217246A
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［概 要〕
レチクル収納ケースであって、レチクルを収納するケー
スにペリクルを取り付けることにより該ケースとレチク
ルを分離せずに一体にしてレチクルをケースに収容した
状態で露光装置まで運搬しかつ露光装置上に載置できる
ようにしたものである。
スにペリクルを取り付けることにより該ケースとレチク
ルを分離せずに一体にしてレチクルをケースに収容した
状態で露光装置まで運搬しかつ露光装置上に載置できる
ようにしたものである。
本発明は、半導体装置のパターン原板収納ケースに関す
る。−最に、基板上のレジストにデバイスの微細パター
ンを作る原板に相当するものをレチクルという。このレ
チクルを使用してパターンを作る場合には、第４図に示
すように、レチクル３の上面と下面に各面を保護するペ
リクル３１ 、３２を貼布したものの両側を、露光装置
の鏡筒４の突起部４１ 、４２上に載置する。その後、
レチクル３の上方に設けた光源１から破線で示す光を凸
レンズ２を介して投影しりダクションレンズ５の下方に
設けたウェハ（又は石英マスク、ソーダマスク）６上に
露光することにより、レチクル３に形成された原配線図
形等をウェハ６に転写し、レジストパターンを形成する
。
る。−最に、基板上のレジストにデバイスの微細パター
ンを作る原板に相当するものをレチクルという。このレ
チクルを使用してパターンを作る場合には、第４図に示
すように、レチクル３の上面と下面に各面を保護するペ
リクル３１ 、３２を貼布したものの両側を、露光装置
の鏡筒４の突起部４１ 、４２上に載置する。その後、
レチクル３の上方に設けた光源１から破線で示す光を凸
レンズ２を介して投影しりダクションレンズ５の下方に
設けたウェハ（又は石英マスク、ソーダマスク）６上に
露光することにより、レチクル３に形成された原配線図
形等をウェハ６に転写し、レジストパターンを形成する
。
本発明はかかるパターン原板を収容するケースに関する
。
。
従来、レチクルはその専用ケースから出して露光装置に
装着していた。即ち、第３図（Ａ）に示すように、レチ
クルｌ′の上面と下面にペリクル１に’と１２′を貼布
したものをケース２′に収容して保管しておく。そして
このレチクル１′を用いてレジストパターンを形成する
場合には、このケース２′から矢印で示すようにレチク
ル１′を取り出して、直接に、露光装置に装着していた
（第３図（Ｂ））。
装着していた。即ち、第３図（Ａ）に示すように、レチ
クルｌ′の上面と下面にペリクル１に’と１２′を貼布
したものをケース２′に収容して保管しておく。そして
このレチクル１′を用いてレジストパターンを形成する
場合には、このケース２′から矢印で示すようにレチク
ル１′を取り出して、直接に、露光装置に装着していた
（第３図（Ｂ））。
ペリクルは通常高価なもの（１セントで１０万円以上）
であり、レチクル上（又はマスク上）に貼り付ける際に
、レチクルとペリクル枠の内部にゴミが誤って入ってい
た場合、ペリクルをはがし、再び新しいペリクルを貼り
直さねばならない。一度貼り付けてから、はがしたペリ
クルは、接着面の劣化等で使用できなくなる。よって、
ペリクルによる損失は大きい。
であり、レチクル上（又はマスク上）に貼り付ける際に
、レチクルとペリクル枠の内部にゴミが誤って入ってい
た場合、ペリクルをはがし、再び新しいペリクルを貼り
直さねばならない。一度貼り付けてから、はがしたペリ
クルは、接着面の劣化等で使用できなくなる。よって、
ペリクルによる損失は大きい。
本発明の収納ケースを用いれば、ペリクルとレチクルの
間にゴミの進入があっても、ケースを開閉しゴミを、随
時取る事が可能であり、ペリクルをムダにする事が無い
。
間にゴミの進入があっても、ケースを開閉しゴミを、随
時取る事が可能であり、ペリクルをムダにする事が無い
。
また、ペリクル１１’、１２’をレチクル１′に直接貼
布していたので、そのペリクルを貼り付けする際に破損
し再使用ができないと共にペリクルの交換に多大の時間
を要するという問題点があった。
布していたので、そのペリクルを貼り付けする際に破損
し再使用ができないと共にペリクルの交換に多大の時間
を要するという問題点があった。
本発明の目的は、上記問題点を解決しレチクルをペリク
ル付ケースに収容した状態で露光装置に装着できるよう
にすることにより、ケースからの出し入れがなくなるの
でケース自体から発生するゴミ及びケースとレチクルと
の磨擦によるゴミのＪｌが減少し、ペリクル膜へのゴミ
の付着を減少させると共にペリクルの再利用を図りかつ
ペリクルの取替交換作業を容易に行うことにある。
ル付ケースに収容した状態で露光装置に装着できるよう
にすることにより、ケースからの出し入れがなくなるの
でケース自体から発生するゴミ及びケースとレチクルと
の磨擦によるゴミのＪｌが減少し、ペリクル膜へのゴミ
の付着を減少させると共にペリクルの再利用を図りかつ
ペリクルの取替交換作業を容易に行うことにある。
そのための手段は、第１図に示すように、レチクル２を
収容するケース１を上部ケース１１と下部ケース１２と
から構成すると共にそれぞれにペリクル部１１１，１２
１ 、密封挟持部１１２．１２２を設け、更に下部ケー
ス１２には装着用開口部１２３，１２４を形成せしめた
ものである。
収容するケース１を上部ケース１１と下部ケース１２と
から構成すると共にそれぞれにペリクル部１１１，１２
１ 、密封挟持部１１２．１２２を設け、更に下部ケー
ス１２には装着用開口部１２３，１２４を形成せしめた
ものである。
上記のとおり、本発明によればケースｌ自体にペリクル
部１１１．１２１を設けると共にレチクル２の周縁を密
封挟持部１１２． ｉ２２により密封しかつ把持するこ
とができ、かつこのケース１内にレチクル２を収納した
ままで露光装置まで運搬しかつ開口部１２３．１２４を
介して露光装置に直接に装置できる。
部１１１．１２１を設けると共にレチクル２の周縁を密
封挟持部１１２． ｉ２２により密封しかつ把持するこ
とができ、かつこのケース１内にレチクル２を収納した
ままで露光装置まで運搬しかつ開口部１２３．１２４を
介して露光装置に直接に装置できる。
従って、この間にケース１からレチクル２を出さなくて
済むのでレチクル２にごみが付着せず、またペリクル部
１１１．Ｉ２１はレチクル２には貼付しないのでペリク
ルの再利用が可能となりかつその取替交換も容易となっ
た。
済むのでレチクル２にごみが付着せず、またペリクル部
１１１．Ｉ２１はレチクル２には貼付しないのでペリク
ルの再利用が可能となりかつその取替交換も容易となっ
た。
以下、本発明を、実施例により添付図面を参照して、説
明する。
明する。
第２図は本発明の実施例を示す図であり、その（Ａ）は
断面図、ＣＢ）は斜視図、（Ｃ）は裏面図である。第２
図（Ａ）は、同図（Ｂ）の線Ａ−Ａ′から縦断したもの
である。
断面図、ＣＢ）は斜視図、（Ｃ）は裏面図である。第２
図（Ａ）は、同図（Ｂ）の線Ａ−Ａ′から縦断したもの
である。
第２図のレチクル収納ケースエの実施例は、全体として
矩形状を有し、上部ケース１１と下部ケース１２から成
り、両ケースはそれぞれペリクル部ｉｌｌ、１２１及び
密封挟持部１１２．１２２を有し更に下部ケース１２に
は装着用開口部１２３．１２４が形成されている。
矩形状を有し、上部ケース１１と下部ケース１２から成
り、両ケースはそれぞれペリクル部ｉｌｌ、１２１及び
密封挟持部１１２．１２２を有し更に下部ケース１２に
は装着用開口部１２３．１２４が形成されている。
ペリクル部１１１．１２１は各ケース１１ 、１２から
それと一体となって突出しており、レチクル２を外部の
ごみ等から保護する機能を存し、それぞれペリクル枠１
１！Ａ 、 １２１Ａと帰脂にトロセルロース）のペリ
クル１ｌＷ１１１Ｂ 、 １２１Ｂから構成されている
。
それと一体となって突出しており、レチクル２を外部の
ごみ等から保護する機能を存し、それぞれペリクル枠１
１！Ａ 、 １２１Ａと帰脂にトロセルロース）のペリ
クル１ｌＷ１１１Ｂ 、 １２１Ｂから構成されている
。
密封挟持部１１２，１２２は、その内面に耐磨耗性ゴム
製の内側スペーサ１３１．２３１ と外側スペーサ１３
２゜２３２とを存し、レチクル２の周縁をその上部と下
部から挟持すると共に密封する。
製の内側スペーサ１３１．２３１ と外側スペーサ１３
２゜２３２とを存し、レチクル２の周縁をその上部と下
部から挟持すると共に密封する。
また、下部ケース１２には長方形状の開口部１２３、１
２４が形成され（第２図（Ａ）、（Ｃ））、露光装置に
装着する場合には、第２図（Ａ）の想像線で示す鏡筒３
の対応突起部３１ 、３２に矢印の方向からこの開口部
１２３．１２４を近付けて適合させる。
２４が形成され（第２図（Ａ）、（Ｃ））、露光装置に
装着する場合には、第２図（Ａ）の想像線で示す鏡筒３
の対応突起部３１ 、３２に矢印の方向からこの開口部
１２３．１２４を近付けて適合させる。
レチクル２は、よく知られているように、ガラス板の上
下面にクロム金属を蒸着したものである。
下面にクロム金属を蒸着したものである。
上記構成を有するケース１に、このレチクル２を収納す
る場合には、上部ケース１１と、下部ケース１２とをレ
チクル２を挾むようにそれぞれ反対側から接近させる。
る場合には、上部ケース１１と、下部ケース１２とをレ
チクル２を挾むようにそれぞれ反対側から接近させる。
そして、密封挟持部１１２と１２２を押圧すれば、例え
ばスナップ動作により、レチクル２はその周縁を固定さ
れかつ密封される。
ばスナップ動作により、レチクル２はその周縁を固定さ
れかつ密封される。
あるいは、上部と下部ケース１１ 、１２は枢着結合さ
せるようにしてもよい。
せるようにしてもよい。
このレチクル２を収納したままでケースｌを露光装置ま
で運搬し、下部ケース２２の装着用開口部１２３，１２
４内に鏡筒３の対応突起部３１ 、３２を挿入すれば、
突起部３１ 、３２の頂部は開口部１２３．１２４の上
方部分のレチクル２の周縁に突き当たるので、露光装置
に装着できる。
で運搬し、下部ケース２２の装着用開口部１２３，１２
４内に鏡筒３の対応突起部３１ 、３２を挿入すれば、
突起部３１ 、３２の頂部は開口部１２３．１２４の上
方部分のレチクル２の周縁に突き当たるので、露光装置
に装着できる。
Ｃ発明の効果〕
上記のとおり、本発明によればケースｌ自体にペリクル
部１１１，１２１を設けると共にレチクル２の周縁を密
封挟持部１１２，１２２により密封しかつ把持すること
ができ、かつこのケース１内にレチクル２を収納したま
まで露光装置まで運搬しかつ開口部１２３．１２４を介
して露光装置に直接に装置できる。
部１１１，１２１を設けると共にレチクル２の周縁を密
封挟持部１１２，１２２により密封しかつ把持すること
ができ、かつこのケース１内にレチクル２を収納したま
まで露光装置まで運搬しかつ開口部１２３．１２４を介
して露光装置に直接に装置できる。
従って、この間にケースｌからレチクル２を出さなくて
済むのでレチクル２にごみが付着せず、またペリクル部
１１１．１２１はレチクル２には貼付しないのでペリク
ルの再利用が可能となりかつその取替交換も容易となっ
た。
済むのでレチクル２にごみが付着せず、またペリクル部
１１１．１２１はレチクル２には貼付しないのでペリク
ルの再利用が可能となりかつその取替交換も容易となっ
た。
第１図は本発明の原理図、第２図は本発明の実施例を示
す図、第３図は従来技術の説明図、第４図は産業上の利
用分野の説明図である。 ｌ・・・レチクル収納ケース、 ２・・・レチクル、 １１・・・上部ケース、 １２・・・下部ケース、 １１１．１２１・・・ペリクル部、 １１２、１２１・・・密封挟持部、 １２３．１２４・・・装着用開口部。
す図、第３図は従来技術の説明図、第４図は産業上の利
用分野の説明図である。 ｌ・・・レチクル収納ケース、 ２・・・レチクル、 １１・・・上部ケース、 １２・・・下部ケース、 １１１．１２１・・・ペリクル部、 １１２、１２１・・・密封挟持部、 １２３．１２４・・・装着用開口部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体装置の基板のレジスト上に微細パターンを形成す
る原板を収納するケースにおいて、上記ケースが上部ケ
ースと下部ケースにより形成され、 各ケースには、それぞれ上記原板を保護するペリクル部
と該原板周縁を密封すると共に挟持する密封挟持部が設
けられ、 更に上記下部ケースには、上記原板周縁に相当する領域
に露光装置へ装着するための装着用開口部が形成されて
いることを特徴とする、 レチクル収納ケース。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61059474A JPS62217246A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | レチクル収納ケ−ス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61059474A JPS62217246A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | レチクル収納ケ−ス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62217246A true JPS62217246A (ja) | 1987-09-24 |
Family
ID=13114339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61059474A Pending JPS62217246A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | レチクル収納ケ−ス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62217246A (ja) |
-
1986
- 1986-03-19 JP JP61059474A patent/JPS62217246A/ja active Pending
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