JPS62217246A - レチクル収納ケ−ス - Google Patents

レチクル収納ケ−ス

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JPS62217246A
JPS62217246A JP61059474A JP5947486A JPS62217246A JP S62217246 A JPS62217246 A JP S62217246A JP 61059474 A JP61059474 A JP 61059474A JP 5947486 A JP5947486 A JP 5947486A JP S62217246 A JPS62217246 A JP S62217246A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
case
reticle
parts
pellicle
storing
Prior art date
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Pending
Application number
JP61059474A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Miyai
宮井 啓行
Masahiro Kashimura
樫村 正博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP61059474A priority Critical patent/JPS62217246A/ja
Publication of JPS62217246A publication Critical patent/JPS62217246A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [概 要〕 レチクル収納ケースであって、レチクルを収納するケー
スにペリクルを取り付けることにより該ケースとレチク
ルを分離せずに一体にしてレチクルをケースに収容した
状態で露光装置まで運搬しかつ露光装置上に載置できる
ようにしたものである。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置のパターン原板収納ケースに関す
る。−最に、基板上のレジストにデバイスの微細パター
ンを作る原板に相当するものをレチクルという。このレ
チクルを使用してパターンを作る場合には、第4図に示
すように、レチクル3の上面と下面に各面を保護するペ
リクル31 、32を貼布したものの両側を、露光装置
の鏡筒4の突起部41 、42上に載置する。その後、
レチクル3の上方に設けた光源1から破線で示す光を凸
レンズ2を介して投影しりダクションレンズ5の下方に
設けたウェハ(又は石英マスク、ソーダマスク)6上に
露光することにより、レチクル3に形成された原配線図
形等をウェハ6に転写し、レジストパターンを形成する
本発明はかかるパターン原板を収容するケースに関する
〔従来の技術〕
従来、レチクルはその専用ケースから出して露光装置に
装着していた。即ち、第3図(A)に示すように、レチ
クルl′の上面と下面にペリクル1に’と12′を貼布
したものをケース2′に収容して保管しておく。そして
このレチクル1′を用いてレジストパターンを形成する
場合には、このケース2′から矢印で示すようにレチク
ル1′を取り出して、直接に、露光装置に装着していた
(第3図(B))。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ペリクルは通常高価なもの(1セントで10万円以上)
であり、レチクル上(又はマスク上)に貼り付ける際に
、レチクルとペリクル枠の内部にゴミが誤って入ってい
た場合、ペリクルをはがし、再び新しいペリクルを貼り
直さねばならない。一度貼り付けてから、はがしたペリ
クルは、接着面の劣化等で使用できなくなる。よって、
ペリクルによる損失は大きい。
本発明の収納ケースを用いれば、ペリクルとレチクルの
間にゴミの進入があっても、ケースを開閉しゴミを、随
時取る事が可能であり、ペリクルをムダにする事が無い
また、ペリクル11’、12’をレチクル1′に直接貼
布していたので、そのペリクルを貼り付けする際に破損
し再使用ができないと共にペリクルの交換に多大の時間
を要するという問題点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の目的は、上記問題点を解決しレチクルをペリク
ル付ケースに収容した状態で露光装置に装着できるよう
にすることにより、ケースからの出し入れがなくなるの
でケース自体から発生するゴミ及びケースとレチクルと
の磨擦によるゴミのJlが減少し、ペリクル膜へのゴミ
の付着を減少させると共にペリクルの再利用を図りかつ
ペリクルの取替交換作業を容易に行うことにある。
そのための手段は、第1図に示すように、レチクル2を
収容するケース1を上部ケース11と下部ケース12と
から構成すると共にそれぞれにペリクル部111,12
1 、密封挟持部112.122を設け、更に下部ケー
ス12には装着用開口部123,124を形成せしめた
ものである。
〔作 用〕
上記のとおり、本発明によればケースl自体にペリクル
部111.121を設けると共にレチクル2の周縁を密
封挟持部112. i22により密封しかつ把持するこ
とができ、かつこのケース1内にレチクル2を収納した
ままで露光装置まで運搬しかつ開口部123.124を
介して露光装置に直接に装置できる。
従って、この間にケース1からレチクル2を出さなくて
済むのでレチクル2にごみが付着せず、またペリクル部
111.I21はレチクル2には貼付しないのでペリク
ルの再利用が可能となりかつその取替交換も容易となっ
た。
〔実施例〕
以下、本発明を、実施例により添付図面を参照して、説
明する。
第2図は本発明の実施例を示す図であり、その(A)は
断面図、CB)は斜視図、(C)は裏面図である。第2
図(A)は、同図(B)の線A−A′から縦断したもの
である。
第2図のレチクル収納ケースエの実施例は、全体として
矩形状を有し、上部ケース11と下部ケース12から成
り、両ケースはそれぞれペリクル部ill、121及び
密封挟持部112.122を有し更に下部ケース12に
は装着用開口部123.124が形成されている。
ペリクル部111.121は各ケース11 、12から
それと一体となって突出しており、レチクル2を外部の
ごみ等から保護する機能を存し、それぞれペリクル枠1
1!A 、 121Aと帰脂にトロセルロース)のペリ
クル1lW111B 、 121Bから構成されている
密封挟持部112,122は、その内面に耐磨耗性ゴム
製の内側スペーサ131.231 と外側スペーサ13
2゜232とを存し、レチクル2の周縁をその上部と下
部から挟持すると共に密封する。
また、下部ケース12には長方形状の開口部123、1
24が形成され(第2図(A)、(C))、露光装置に
装着する場合には、第2図(A)の想像線で示す鏡筒3
の対応突起部31 、32に矢印の方向からこの開口部
123.124を近付けて適合させる。
レチクル2は、よく知られているように、ガラス板の上
下面にクロム金属を蒸着したものである。
上記構成を有するケース1に、このレチクル2を収納す
る場合には、上部ケース11と、下部ケース12とをレ
チクル2を挾むようにそれぞれ反対側から接近させる。
そして、密封挟持部112と122を押圧すれば、例え
ばスナップ動作により、レチクル2はその周縁を固定さ
れかつ密封される。
あるいは、上部と下部ケース11 、12は枢着結合さ
せるようにしてもよい。
このレチクル2を収納したままでケースlを露光装置ま
で運搬し、下部ケース22の装着用開口部123,12
4内に鏡筒3の対応突起部31 、32を挿入すれば、
突起部31 、32の頂部は開口部123.124の上
方部分のレチクル2の周縁に突き当たるので、露光装置
に装着できる。
C発明の効果〕 上記のとおり、本発明によればケースl自体にペリクル
部111,121を設けると共にレチクル2の周縁を密
封挟持部112,122により密封しかつ把持すること
ができ、かつこのケース1内にレチクル2を収納したま
まで露光装置まで運搬しかつ開口部123.124を介
して露光装置に直接に装置できる。
従って、この間にケースlからレチクル2を出さなくて
済むのでレチクル2にごみが付着せず、またペリクル部
111.121はレチクル2には貼付しないのでペリク
ルの再利用が可能となりかつその取替交換も容易となっ
た。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理図、第2図は本発明の実施例を示
す図、第3図は従来技術の説明図、第4図は産業上の利
用分野の説明図である。 l・・・レチクル収納ケース、 2・・・レチクル、 11・・・上部ケース、 12・・・下部ケース、 111.121・・・ペリクル部、 112、121・・・密封挟持部、 123.124・・・装着用開口部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 半導体装置の基板のレジスト上に微細パターンを形成す
    る原板を収納するケースにおいて、上記ケースが上部ケ
    ースと下部ケースにより形成され、 各ケースには、それぞれ上記原板を保護するペリクル部
    と該原板周縁を密封すると共に挟持する密封挟持部が設
    けられ、 更に上記下部ケースには、上記原板周縁に相当する領域
    に露光装置へ装着するための装着用開口部が形成されて
    いることを特徴とする、 レチクル収納ケース。
JP61059474A 1986-03-19 1986-03-19 レチクル収納ケ−ス Pending JPS62217246A (ja)

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JP61059474A JPS62217246A (ja) 1986-03-19 1986-03-19 レチクル収納ケ−ス

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JP61059474A JPS62217246A (ja) 1986-03-19 1986-03-19 レチクル収納ケ−ス

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JPS62217246A true JPS62217246A (ja) 1987-09-24

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JP61059474A Pending JPS62217246A (ja) 1986-03-19 1986-03-19 レチクル収納ケ−ス

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