JPS6221209B2 - - Google Patents
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- JPS6221209B2 JPS6221209B2 JP11961078A JP11961078A JPS6221209B2 JP S6221209 B2 JPS6221209 B2 JP S6221209B2 JP 11961078 A JP11961078 A JP 11961078A JP 11961078 A JP11961078 A JP 11961078A JP S6221209 B2 JPS6221209 B2 JP S6221209B2
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Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光電子増倍器に係わり、特に2次電
子増倍器の金属導電層を被着した一方の面上に直
接光電面を形成するようにした光電子増倍器に関
する。
子増倍器の金属導電層を被着した一方の面上に直
接光電面を形成するようにした光電子増倍器に関
する。
一般に、薄い基板の両面に導電層を被着し、こ
れらの導電層を連結するように多数の平行する貫
通孔を設け、該貫通孔の内壁を連続した2次電子
放出面として形成した2次電子増倍器は、暗視管
や撮像管に組込んで光電面より放出する2次元情
報を含む電子ビームを増倍するため、映像信号の
増幅用に用いられている。
れらの導電層を連結するように多数の平行する貫
通孔を設け、該貫通孔の内壁を連続した2次電子
放出面として形成した2次電子増倍器は、暗視管
や撮像管に組込んで光電面より放出する2次元情
報を含む電子ビームを増倍するため、映像信号の
増幅用に用いられている。
このような2次電子増倍器は、従来光電面と別
個に形成し、2次電子増倍器の導電層を被着した
一方の面に対して光電面を平行に配置して気密容
器内に組込むようにしていたが、このように2次
電子増倍器を光電面と別個に形成する場合には、
通常ガラス板または必要に応じて光の透過を妨げ
ない程度の金属を被着したガラス板上に光電面を
形成し、少なくとも50マイクロ・アンペア/ルー
メン、通常100マイクロ・アンペア/ルーメンの
光電感度が得られる。
個に形成し、2次電子増倍器の導電層を被着した
一方の面に対して光電面を平行に配置して気密容
器内に組込むようにしていたが、このように2次
電子増倍器を光電面と別個に形成する場合には、
通常ガラス板または必要に応じて光の透過を妨げ
ない程度の金属を被着したガラス板上に光電面を
形成し、少なくとも50マイクロ・アンペア/ルー
メン、通常100マイクロ・アンペア/ルーメンの
光電感度が得られる。
しかしながら、このような2次電子増倍器と光
電面とを別個に形成する装置の場合は、製造工程
が複雑となるため、2次電子増倍器の金属導電層
を被着した一方の面上に直接光電面を形成する光
電子増倍器が提案されている(特公昭43−3044
号)。
電面とを別個に形成する装置の場合は、製造工程
が複雑となるため、2次電子増倍器の金属導電層
を被着した一方の面上に直接光電面を形成する光
電子増倍器が提案されている(特公昭43−3044
号)。
ところで、2次電子増倍器の基板材質は、ほと
んどが酸化鉛含有ガラスを用い、加熱および還元
処理によつて、表面即ち基板の両面と貫通孔の内
壁に、鉛の薄膜層を析出して所望の高抵抗を付与
することにより電位勾配を形成可能にし、また析
出した鉛が酸化して酸化鉛層を形成して2次電子
放出面として機能している。
んどが酸化鉛含有ガラスを用い、加熱および還元
処理によつて、表面即ち基板の両面と貫通孔の内
壁に、鉛の薄膜層を析出して所望の高抵抗を付与
することにより電位勾配を形成可能にし、また析
出した鉛が酸化して酸化鉛層を形成して2次電子
放出面として機能している。
このように基板表面には析出した鉛が比較的高
濃度に含まれるため、2次電子増倍器の金属導電
層を被着した一方の面上に直接光電面を形成する
と、表面拡散のため、金属導電層の表面にも実際
には数%の鉛が含まれ、これが酸化して酸化鉛を
成し、例えばアンチモンセシウム光電面を用いた
場合、セシウムと金属導電層表面の酸化鉛とが反
応して、 Pbo+2Cs→Pb+Cs2O なる化学変化を生じ、その結果光電感度を低下さ
せてしまい、光電感度はたかだか10マイクロ・ア
ンペア/ルーメン程度しか得られないのが実情で
ある。
濃度に含まれるため、2次電子増倍器の金属導電
層を被着した一方の面上に直接光電面を形成する
と、表面拡散のため、金属導電層の表面にも実際
には数%の鉛が含まれ、これが酸化して酸化鉛を
成し、例えばアンチモンセシウム光電面を用いた
場合、セシウムと金属導電層表面の酸化鉛とが反
応して、 Pbo+2Cs→Pb+Cs2O なる化学変化を生じ、その結果光電感度を低下さ
せてしまい、光電感度はたかだか10マイクロ・ア
ンペア/ルーメン程度しか得られないのが実情で
ある。
本発明は上記問題点を解決するためのもので、
2次電子増倍器の導電層を被着した一方の面上に
直接光電面を形成し、しかも光電感度を改善する
ことの可能な光電子増倍器を提供することを目的
とする。
2次電子増倍器の導電層を被着した一方の面上に
直接光電面を形成し、しかも光電感度を改善する
ことの可能な光電子増倍器を提供することを目的
とする。
そのために本発明の光電子増倍器は、両面に導
電層が被着されると共に、表面に鉛が析出されて
2次電子放出面を形成する該導電層間に並列して
設けられた多数の細い貫通孔を有する鉛ガラスか
らなる基板と、該基板の一方の面における導電層
の上に臭化カリウムの薄膜層を介在させて形成さ
れたアンチモンアルカリ光電面とを有することを
特徴とする。
電層が被着されると共に、表面に鉛が析出されて
2次電子放出面を形成する該導電層間に並列して
設けられた多数の細い貫通孔を有する鉛ガラスか
らなる基板と、該基板の一方の面における導電層
の上に臭化カリウムの薄膜層を介在させて形成さ
れたアンチモンアルカリ光電面とを有することを
特徴とする。
本発明の光電子増倍器は、両面に導電層が被着
されると共に、表面に鉛が析出されて2次電子放
出面を形成する該導電層間に並列して設けられた
多数の細い貫通孔を有する鉛ガラスからなる基板
の一方の面における導電層の上に臭化カリウムの
薄膜層を介在させてアンチモンアルカリ光電面が
形成されているので、表面拡散のために導電層表
面に含まれる鉛が酸化して形成される酸化鉛と光
電面のアルカリ金属成分が反応するのが防止さ
れ、光電感度を改善することが可能となる。
されると共に、表面に鉛が析出されて2次電子放
出面を形成する該導電層間に並列して設けられた
多数の細い貫通孔を有する鉛ガラスからなる基板
の一方の面における導電層の上に臭化カリウムの
薄膜層を介在させてアンチモンアルカリ光電面が
形成されているので、表面拡散のために導電層表
面に含まれる鉛が酸化して形成される酸化鉛と光
電面のアルカリ金属成分が反応するのが防止さ
れ、光電感度を改善することが可能となる。
以下、実施例を図面に基づき説明する。
次に、本発明の光電子増倍器の実施例をその製
造方法と共に説明する。
造方法と共に説明する。
第1図は本発明の光電子増倍器の断面図、第2
図は第1図に示した光電子増倍器のA−B部分の
拡大図である。図中、1は鉛ガラスからなる基
板、2は貫通孔、3,4は基板の両面、5は貫通
孔表面、6,7は金属導電層、8は臭化カリウム
薄膜層、9は光電面である。
図は第1図に示した光電子増倍器のA−B部分の
拡大図である。図中、1は鉛ガラスからなる基
板、2は貫通孔、3,4は基板の両面、5は貫通
孔表面、6,7は金属導電層、8は臭化カリウム
薄膜層、9は光電面である。
図において、薄い板状の基体部材である基板1
には、面3,4と垂直な方向に対してわずかに傾
斜した断面ほぼ円形の貫通孔2が平行に多数設け
られている。また面3,4に、貫通孔2の両端を
除いて一様にニツケル・クロム合金のような金属
導電層6,7が被着してある。貫通孔2の表面5
は、基板1が酸化鉛を含有しているので、加熱お
よび還元処理によつて析出された鉛が比較的高濃
度に含まれ、該鉛の一部が酸化されているから適
当な電気抵抗と、2次電子放出比を有する。面
3,4の表面には、前述のようにニツケル・クロ
ム合金を被着した金属導電層6,7が切断される
ことなく形成されていて、2次電子増倍器として
動作するときに必要な電圧を加えるための電極と
して用いられる。この場合、前述したように貫通
孔2の表面5は適当な電気抵抗を有しているの
で、電位勾配が形成される。さらに例えば一方の
面3に臭化カリウム薄膜層8を少なくとも金属導
電層6を完全に被覆するように、望ましくは表面
3より適当な距離の範囲にわたつて貫通孔2の側
壁の部分に被覆する。これは蒸着処理の間、臭化
カリウムの蒸着源に対して、光電子増倍器の面3
の方向を連続的に繰返し変化することができる保
持器で光電子増倍器1を保持して蒸着することに
よつて形成可能である。
には、面3,4と垂直な方向に対してわずかに傾
斜した断面ほぼ円形の貫通孔2が平行に多数設け
られている。また面3,4に、貫通孔2の両端を
除いて一様にニツケル・クロム合金のような金属
導電層6,7が被着してある。貫通孔2の表面5
は、基板1が酸化鉛を含有しているので、加熱お
よび還元処理によつて析出された鉛が比較的高濃
度に含まれ、該鉛の一部が酸化されているから適
当な電気抵抗と、2次電子放出比を有する。面
3,4の表面には、前述のようにニツケル・クロ
ム合金を被着した金属導電層6,7が切断される
ことなく形成されていて、2次電子増倍器として
動作するときに必要な電圧を加えるための電極と
して用いられる。この場合、前述したように貫通
孔2の表面5は適当な電気抵抗を有しているの
で、電位勾配が形成される。さらに例えば一方の
面3に臭化カリウム薄膜層8を少なくとも金属導
電層6を完全に被覆するように、望ましくは表面
3より適当な距離の範囲にわたつて貫通孔2の側
壁の部分に被覆する。これは蒸着処理の間、臭化
カリウムの蒸着源に対して、光電子増倍器の面3
の方向を連続的に繰返し変化することができる保
持器で光電子増倍器1を保持して蒸着することに
よつて形成可能である。
次に、臭化カリウムの薄膜層8上の一部、特に
金属導電層6の部分、または表面3に相当する部
分にアンチモン薄膜を蒸着のような方法によつて
形成しセシウムを導入して、アンチモンセシウム
光電面を形成する。このようにして光電子増倍器
は完成するが、この後、図示しないが、公知の手
段によつて、光透過窓および信号電極および電圧
印加のための電極リードを設け、また目的に応じ
その他の電極が組込まれた気密容器に組込む。
金属導電層6の部分、または表面3に相当する部
分にアンチモン薄膜を蒸着のような方法によつて
形成しセシウムを導入して、アンチモンセシウム
光電面を形成する。このようにして光電子増倍器
は完成するが、この後、図示しないが、公知の手
段によつて、光透過窓および信号電極および電圧
印加のための電極リードを設け、また目的に応じ
その他の電極が組込まれた気密容器に組込む。
かかる構造の光電子増倍器においては、従来基
板の表面に高濃度に存在し、表面拡散によつて金
属導電層にも含まれる酸化鉛によつて Pbo+2Cs→Pb+Cs2O なる化学変化を生ずることによつて光電感度を低
下していたものが、該表面と光電面の間に臭化カ
リウム層を形成することにより、上記の化学変化
の発生を防ぐことが可能となり、光電感度の低下
を防止することが可能となる。また、光電子増倍
器に全く同様の反応を示すアンチモンとナトリウ
ム、カリウムまたは、それらとセシウムとの複合
体からなる光電面を形成するときにも、光電面の
アルカリ金属成分と酸化鉛との化学反応を防止す
ることにより同様に光電感度の低下を防止するこ
とが可能となる。
板の表面に高濃度に存在し、表面拡散によつて金
属導電層にも含まれる酸化鉛によつて Pbo+2Cs→Pb+Cs2O なる化学変化を生ずることによつて光電感度を低
下していたものが、該表面と光電面の間に臭化カ
リウム層を形成することにより、上記の化学変化
の発生を防ぐことが可能となり、光電感度の低下
を防止することが可能となる。また、光電子増倍
器に全く同様の反応を示すアンチモンとナトリウ
ム、カリウムまたは、それらとセシウムとの複合
体からなる光電面を形成するときにも、光電面の
アルカリ金属成分と酸化鉛との化学反応を防止す
ることにより同様に光電感度の低下を防止するこ
とが可能となる。
そして、かかる構造の光電子増倍器の光電面
は、臭化カリウム薄膜層の厚さが5ミリミクロン
〜20ミリミクロンの範囲の場合、25〜30マイク
ロ・アンペア/ルーメンの感度が得られる。一
方、臭化カリウムの薄膜層のない同様の構造の光
電子増倍器では、約10マイクロ・アンペア/ルー
メン以下の光電感度しか得られないから、2倍以
上に感度が改良され、上記光電子増倍器の貫通孔
の断面の面積の和に対する面3の面積の比率、す
なわち開孔率は60%であることを考慮すれば理想
的な光電面の感度に近いものである。
は、臭化カリウム薄膜層の厚さが5ミリミクロン
〜20ミリミクロンの範囲の場合、25〜30マイク
ロ・アンペア/ルーメンの感度が得られる。一
方、臭化カリウムの薄膜層のない同様の構造の光
電子増倍器では、約10マイクロ・アンペア/ルー
メン以下の光電感度しか得られないから、2倍以
上に感度が改良され、上記光電子増倍器の貫通孔
の断面の面積の和に対する面3の面積の比率、す
なわち開孔率は60%であることを考慮すれば理想
的な光電面の感度に近いものである。
以上のように本発明によれば、両面に導電層が
被着されると共に、表面に鉛が析出されて2次電
子放出面を形成する該導電層間に並列して設けら
れた多数の細い貫通孔を有する鉛ガラスからなる
基板と、該基板の一方の面における導電層の上に
臭化カリウムの薄膜層を介在させて形成されたア
ンチモンアルカリ光電面とを有する構造とするこ
とによつて、従来より2倍以上の光電感度を有す
る光電子増倍器を得ることが可能となる。
被着されると共に、表面に鉛が析出されて2次電
子放出面を形成する該導電層間に並列して設けら
れた多数の細い貫通孔を有する鉛ガラスからなる
基板と、該基板の一方の面における導電層の上に
臭化カリウムの薄膜層を介在させて形成されたア
ンチモンアルカリ光電面とを有する構造とするこ
とによつて、従来より2倍以上の光電感度を有す
る光電子増倍器を得ることが可能となる。
第1図は本発明の光電子増倍器の断面図、第2
図は第1図の光電子増倍器の断面図の一部拡大図
である。 1……基板、2……貫通孔、3,4……基板の
両面、5……貫通孔表面、6,7……金属導電
層、8……臭化カリウム薄膜層、9……光電面。
図は第1図の光電子増倍器の断面図の一部拡大図
である。 1……基板、2……貫通孔、3,4……基板の
両面、5……貫通孔表面、6,7……金属導電
層、8……臭化カリウム薄膜層、9……光電面。
Claims (1)
- 1 両面に導電層が被着されると共に、表面に鉛
が析出されて2次電子放出面を形成する該導電層
間に並列して設けられた多数の細い貫通孔を有す
る鉛ガラスからなる基板と、該基板の一方の面に
おける導電層の上に臭化カリウムの薄膜層を介在
させて形成されたアンチモンアルカリ光電面とを
有する光電子増倍器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11961078A JPS5546270A (en) | 1978-09-27 | 1978-09-27 | Photomultiplier tube |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11961078A JPS5546270A (en) | 1978-09-27 | 1978-09-27 | Photomultiplier tube |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5546270A JPS5546270A (en) | 1980-03-31 |
JPS6221209B2 true JPS6221209B2 (ja) | 1987-05-12 |
Family
ID=14765665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11961078A Granted JPS5546270A (en) | 1978-09-27 | 1978-09-27 | Photomultiplier tube |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5546270A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0740482B2 (ja) * | 1985-09-06 | 1995-05-01 | 浜松ホトニクス株式会社 | 電子増倍素子 |
JPS63108658A (ja) * | 1986-10-27 | 1988-05-13 | Hamamatsu Photonics Kk | 光電変換管 |
-
1978
- 1978-09-27 JP JP11961078A patent/JPS5546270A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5546270A (en) | 1980-03-31 |
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