JPS62207228A

JPS62207228A - フツ素置換カルボニル化合物の製法

Info

Publication number: JPS62207228A
Application number: JP4845186A
Authority: JP
Inventors: Teruo Umemoto; 照雄梅本; Kyoichi Tomita; 冨田　恭一; Tsunesuke Kawada; 恒佐河田
Original assignee: Onoda Cement Co Ltd; Sagami Chemical Research Institute
Current assignee: Onoda Cement Co Ltd; Sagami Chemical Research Institute
Priority date: 1986-03-07
Filing date: 1986-03-07
Publication date: 1987-09-11
Also published as: JPH0586768B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明はα−位にフッ素原子を有するカルボニル化合物
又はｒ−位にフッ素原子を有するα、β−、β−カルボ
ニル化合物の製造方法に関する。

上記のフッ素原子を有するカルボニル化合物は、農薬、
医薬品、又はそれらの製造のための有用中間体であるこ
とが知られている。なかでもフッ素置換カルボニル構造
をもつ含フツ素ステロイド系化合物はすぐれた抗炎症、
鉱質代謝、糖代謝等の薬理作用を有していることが知ら
れている〔石川延男、小林義部著”７ツ素の化合物−七
の化学と応用″講談社すイエンティフイク、　　ｐｐ　
２０２−２３２（１９７９年）；Ｒ＆Ｄレボ−）４６．　　＠フッ素化合物の化学と工業
”、シーエムシー（１９７７）　、　ｐｐ４１５−４７
３　；有合化、Ｃ１７９４（１９８４）　；　有合化、
４３．１ｏ７３（１９８５）　；特開昭６０−６７００
　；特開昭５９−１３９３９８　；Ｔａｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎ　Ｌｅｔｔ、２１．３５９１．３５９３　　（１９
８０）参照〕。

〔従来技術〕

一般にα−又はｒ−位にフッ素原子を有するカルボニル
又はα、β−不飽和不飽和ニルボニル化合物する際のフ
ッ素源としては次のものが知られている。

（１１Ｆ２（Ｊ、Ｏｒｇ　Ｃｈｅｍ、４７．１１０７　
（１９８２）参照〕（２）次に示すフッ素化剤Ｘ６Ｆ２　（九とえばＪ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、　Ｃｈｅ
ｍ、　Ｃｏｍｍ。

旦堕、７５９参照〕ＣＦ３０１′（たとえばＪ、　ＡｘＱ、Ｃｈｅｍ、　Ｓ
ｏｃ、　、　１０２ｅ　４８４５（１９８０）参照〕ＣＰ’、ＣＦ’、ＯＦ　（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌ
ｅｔｔ、　７２５　（１９７９）参照〕ＦＣＩＯ３（たとえばＣｈｅｗ　Ｂｅｒ、、　１０２．
１９４４（１９６９）参照〕ＣＦ’３ＧＯＯＦ　（Ｊ、　Ｆｌｕｏｒｉｎｅ　Ｃｈｅ
ｍ、、　１６　＊　１９　（１９８０）参照〕０Ｍ３Ｃｏｏｌ’　（５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　、　６６５
　（１９８５）参照〕Ａｒ５Ｏ□ＮＦ’Ｒ（Ｊ、Ａｍ、
Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、、　４並、４５２（１９８４）参
照〕１−フルオロ−２−ピリドン（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、
、４８゜７６１　（１９８３）参照〕（３１ＫＦ　−？　ＡｇＦ等に代表されるＦｅを有する
塩〔たとえばＪ、Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　３７８６　（
１９５３）、Ｊ、ＡｍＣｈｅｗ　Ｓｏｃ、　７８．２６
５８　（１９５６）　　参照〕（４）トリフルオロエチ
レンやヘキサフルオロプロペン等のフルオロオレフィン
（Ｃｈｅｍ、　Ｌｅｔｔ、、　１９８０ｓ　１１０７を
坦鉦、１０７　　参照〕〔発明が解決しようとする問題点〕しかしながら（１）のＦ２を用いる方法はＦ２の漱しい
反応性によプ制御が困難で使用値開が非常に制限される
こと、（２）のフッ素化試剤を用いる方法では、高価な
試剤を用いること、爆発性や毒性の強い試剤を用いるこ
と、不安定な試剤を用いるためたとえば反応に極低温を
必要とすること、フッ素化試剤の合成が困難であること
、またフッ素化反応の収率あるいは選択性の低いこと等
のいずれかの欠点を有している。また（３）の方法では
、Ｆｅは水素原子を！換することはできないため、カル
ボニル化合物をＦｏｏと置換しうる脱離基をもつ化合物
へ変換しなければならないので、使用範囲に制限を受け
ること、さらにＦｅとの反応では望む置換反応はかシで
なく、副反応である脱離反応が起こる〔たとえばＪ、　
Ｆ’１ｕｏｒｉｎｅ　Ｃｈｅｍ、、　２７．３５　（１
９８５）参照〕等の欠点がある。また銀塩は高価である
。

（４）の方法はフルオロオレフィンを鍵中間体として、
α−フルオロ−β−ケトエステルやフルオロマロン酸ジ
エステルを製造する方法であるが、この方法は高価な原
料及び多数の反応工程を必要とする。

以上、いずれの方法も工業的製法としては不十分なもの
である。

本発明者らは、これらの欠点を克服すべく鋭意研究を行
なった結果、従来の反応とは全く異なるすぐれたフッ素
化反応を見い出し本発明を完成するに至った。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の製法は、一般式〔式中、Ｍｄ水嵩原子、アルキル基、アリール基、アシ
ル基、又は５ＩＲ１１Ｒ１２Ｒ１３であシ（なおＲ１１
，Ｒ１２，及びＲ１３はアルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子であり、
種々の組み合わせでヘテロ原子を介在して又は非介在で
環状構造をとってもよい）、Ｒ１は水素原子、アルキル
基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、アリールオと同じであり、ＭとＭは同一であっ
ても異なってもよい）であシ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及び
Ｒ５は水素原子、ＭとＭは同一であっても異なってもよ
い）、アルコキシ基、アリールオキシ基、シアノ基、ニ
トロ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルホニル
基、アミド基、カルバモイル基、ハロゲン原子、ルキル
基、又はアリール基であり、ｍはＯ又は１である）であ
シ、ｎはＯ又は１である。Ｒ１、Ｒ２゜Ｒ３、Ｒ４及び
Ｒ５は種々の組み合わせで、ヘテロ原子を介在して又は
非介在で環状構造をとってもよい】で表わされるエノール化合物と、一般式％式％シアノ基、アルケニル基、アルキニル基、アル；キシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミド９基
、カルバモイル基、アル中ルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、アル；キシスルホニル基、アリールオキシ
スルホニル基、アルカンスルホニルオキシ基、７レーン
スルホニルオキシ基又はハロゲン原子であシ、Ｘ−はブ
レンステッド酸の共役塩基である。Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、
Ｒ９及びＲＩＧは種々の組み合わせでヘテロ原子を介在
して又は非介在で環状構造を有してもよい。またＸ−は
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲＩＧと檀々の組み合わせ
でヘテロ原子を介在して又は非介在で結合していてもよ
い）で表わされるＮ−フルオロピリジニウム塩とを反応
させることを特徴とする、一般式（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は前記同様の
意味を表わす。）で表わされるフッ素置換カルボニル化合物を製造するも
のである。

一般式（Ｉ）で表わされる化合物でＭが水素原子のもの
は入手容易な又は容易に製造できる化合物であシ、Ｍが
水素原子以外のものは一般に次の方法で製造される。

（１１Ｍが３１Ｒ１ｌ　Ｒ１２Ｒ１３の場合。

相当するカルボニル化合物〔前記一般式（Ｉ）。

ＭＨ）を塩基の存在下ｃｉ３ｔＲ１ＩＲ１２Ｒ１３又は
ＣＦ３５ｏ２０ＳｔＲ”Ｒ１２Ｒ１３で処理する方法（
Ｊ、　Ｏｒｇ。

Ｃｈｅｍ、、　３４．２３２４　（１９６９）　；Ｓｙ
ｎｔｈｅｓｉｇ、　１９７５゜２５９参照〕（２１Ｍがアシル基の場合。

相当するカルボニル化合物を酸無水物又は２−アシルオ
キシ−１−プロペン等で処理する方法（Ｆｉｅｓｅｒ　
＆　Ｆｉｅａｅｒ、　”Ｒｅａｇｅｎｔｓ　ｆａｔ　Ｏ
ｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ、”　Ｊｏｈｎ　Ｗｉ
ｌｅｙ　ａｎｄ　５ｏｎｓ、　Ｉｎｃ、。

Ｖｏｌ　１．　ｐｐ５２４−５２６（１９６７）参照〕
（３１Ｍがアルキル基又はアリール基の場合。

相当するカルボニル化合物をオルト酸エステル等で処理
する方法。

鋺記一般式（１）で表わされる化合物で、Ｍが水素原子
である化合物は、次式に示すようなケト−エノール平衡
の状態にあることはよく知られている（　ＨｏＯ，Ｈｏ
ｕｓｅ、　＠Ｍｏｄｅｒｎ　５ｙｎｔｈｅｔｉｃ　Ｒｅ
ａｃｔｉｏｎｓ　”２ｎｄ、、　Ｗ、　Ａ、　Ｂｅｎｊ
ａｍｉｎ、　Ｉｎｃ、、　Ｃａ１ｉｆｏｒｎｉａ　（１
９７２）。

ｐｐ　４９２〜４９７参照〕。

ＯＨＲ４Ｒ５Ｒ２前記一般式（Ｉ）で表わされるエノール化合物としては
、たとえば２−トリメチルシリルオキシ−２−ト９デセン、２−メ
トキシ−２−ドデセン。

２−　）　ジメチルシリルオキシ−１−フェニル−１−
ブロイに３−トリメチルシリルオキシ−１−ウンデセ−
１−イン、３−トリメチルシリルオキシ−７−メチル−
４６−オクタジエン、２−トリメチルシリルオキシ−Ｌ３−ブタジェン、１−
フェニル−３−トリメチルシリルオギシーＬ３−７’タ
ジエン。

１−フェニル−１−）リフチルシリルオキシ−１−プロ
ペン、２−トリメチルシリルオキシー：％３−：）メチ
ル−１−ブテン、１−トリメチルシリルオキシ−１−シ
クロヘキセン、１−トリメチルシリルオキシ−１−シク
ロインタン、１−ジメチルフェニルシリルオキシ−１−
シクロヘキセン、１−クロルジフェニルシリルオキシ−
１−シクロヘキセン、ｌ−トリエトキシシリルオキシ−
１−シクロヘキセン。

１−メトキシ−１−シクロヘキセン、１−７二ノキシーｌ−シクロヘキセン、ｌ−７セチルオ
キシー１−シクロヘキセン、１−プロピオニルオキシ−
１−シクロヘキセン、１−ホルミルオキシ−１−シクロ
ヘキセン、１−）　ジメチルシリルオキシ−１−シクロ
オクタセン、１−メトキシ−１−シクロノネン、１−メトキシ−１−シクロデセン、２−トリメチルシリルオキシ−１−メトキシ−ａ３−ジ
メチル−１−ブテン、２−トリメチルシリルオキシ−１−７二ノキシーａ３−
ジメチル−１−ブテン、フェニルアセトン、アセチルアセトン、ヘンソイル酢酸エチルエステル、ホルミルアセトン、アセト酢酸メチルエステル、２−メチルアセト酢酸エチルエステル、３−トリメチル
シリルオキシ−Ｚ３−ジメチル−２−ブテン酸メチルエ
ステル、３−トリメチルシリルオキシ−３−メトキシ−２−プロ
にン酸メチルエステル、シアノアセトン。

（メチルスルフィニル）アセトン、（フェニルスルホニル）アセトン。

ニトロ酢酸フェニルエステル、（Ｎ−メチル−Ｎ　−、＜ンゾイル）アミノアセトン、
アセチルアセトアミド、２−メトキシカルボニルシフ四ペンタノン、２−メチル
−シクロインタン−１，３−ジオン。

２−フルオロアセチルアセトン、２−り算ロアセチルアセトン。

１−　）　ジメチルシリルオキシ−１−エトキシエテン
、１−トリメチルシリルオキシ−１−メトキシ−１−オ
クテン、１−トリメチルシリルオキシ−１−フェノキシ
−２−フェニルエテン、１−トリメチルシリルオキシ−１−フェニルチオ−２−
フェニルエテン。

１．１−ヒス（トリメチルシリルオキシ）−２−フェニ
ルエテン、Ｌｌ−ビス（トリメチルシリルオキシ）−２−（ｐ−イ
ソブチルフェニル）二テン。

Ｌｌ−ビス（トリメチルシリルオキシ）−２−（ｐ−シ
クロヘキシルフェニル）エテノ。

１−トリメチルシリルオキシ−１−メトキシ−２−（ｐ
−クロロフェニル）エテ／％１−トリメチルシリルオキシ−１−：）メチルアミノ−
２−フェニルエテン、１−トリメチルシリルオキシ−１−ジメチルアミノカル
ボニル−２−フェニルブテン、１−　）　ジメチルシリルオキシ−１−メトキシ−２−
（α−チェニル）エテノ、１−トリメチルシリルオキシ−１−エトキシ−２−（α
−フリル）エテノ、１−トリメチルシリルオキシ−１−メトキシ−２−（β
−ナフチル）二テン、１−トリメチルシリルオキシ−１−メトキシ−２−（α
−Ｎ−メチルピロリル〕エテン、２−　）　ＩＪメチルシリルオキシ−２−プロペン酸メ
チルエステル、オキザール酢酸（ｏｘａｌａｃｅｔｉｃ　ａｃｉ＋ｉ）
、オキザール酢酸ジエチルエステル、フェニルピルビン酸、フェニルヒリヒン酸メチルエステル、２−トリメチルシリルオキシ−３−フェニルプロペン酸
トリメチルシリルエステル、２−フェニルアセチル酢酸メチルエステル、２−フェニ
ル−３−トリメチルシリルオキシ−３−メトキシプロイ
ン酸エチルエステル、２−　（ｐ−メトキシフェニル）マロン酸ジエチルエス
テル、２−（フタルイミ）’）マロン酸ジエチルエステ
ル、１−シクロへキシル−１−シアノアセトン、５ｓ−
）メチルシクロヘキサン−Ｌ３−ジオン、２−　）　Ｉ
Ｊメチルシリルオキシ−Ｌ４−ジヒドロナフタレン。

２−アリルアセト酢酸メチルエステル、２−シアノ−３
−ブテン酸メチルエステル、２−ホルミルシクロヘキサ
ノン、 α−アセチル−δ−ラクトン、２−ベンゾイル−ｆｉ６−）メチルシクロヘキサノン、
２−シアノ−２−フェニルピルビン酸エチルエステル、
２−アセチルマロン酸ジエチルエステル、２−トリメチ
ルシリルオキシ−Ｌ３−シクロヘキサジエン。

６−ドリメチルシリルオキシーＮ、Ｎ−ジメチルウラシ
ル、６−オキソウラシル、２−トリメチルシリルオキシ−４５−ジヒドロフラン、
２−（トリメチルシリルオキシ）フラン、２−アセチル
オキシ−４５−ジヒドロフラン、６−ドリメチルシリル
オΦシー２Ｈ，３Ｈ，４Ｈ−ピラン、等を例示すること
ができる。

一方、一般式（■）で表わされるＮ−フルオロピリジニ
ウム塩はピリジンにＦ２を反応させることによｊ）　（
Ｚ、Ｃｈｅｍ、、　５　、６４　（１９６５）　）、又
ぎりジン又はピリジン誘導体にＦ２とＭ”Ｘ　（Ｍ“は
水素原子、金ｍ原子、アンモニウム残基、ビリジニクム
残基又は５ｉＲＩＲ”ＲＬ３である。）又はルイス酸と
を反応させることによシ（特願昭６０−１１８８８２参
照）製造することができる。

前記一般式（ｎ）で表わされるＮ−フルオロピリジニウ
ム塩としては、たとえば］ＬＩＨｓ６　　］”″　１゛δｃｏｃｒ、　　ＬＬＩ
ｒ−Ｈ２ＰＯ４（ｎ、ｍはＩＩ数）等を挙げることができる。

本発明の反応は、溶媒中で行なうのが好ましく、溶媒と
しては、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン
等のエーテル、ヘキサン、４ンタン、トルエン等の炭化
水素、アセトニトリル等又はこれらの混合溶媒を用いる
ことができる。

反応温度は一１００℃〜＋１５０℃を選ぶことができる
が１反応が効率よく進行する点で一８０℃〜＋１００℃
が好ましい。

前記一般式（Ｉ）で表わされるエノール化合物と前記一
般式（ＩＩ）で表わされるＮ−フルオロピリジニウム塩
との反応で、Ｍがアルキル基、又はアリール基の場合、
目的物である前記一般式側で表わされるフッ素置換カル
ボニル化合物を収率よく得るには、続いて加水分解を行
なうのが好ましい。

本発明の利点の一つとして、反応に選択性があることで
ある。後記する実施例１８及び１９に示すように、同一
分子内に二つ以上の反応点があるとき、反応条件を設定
することによシ、一つの反応点のみと反応を起こさせる
ことができる。反応の選択性は、反応点を多く持つ複雑
な化合物を合成する上で１重要力点であり１反応の選択
性が高ければ高いほど有益な反応といえる。

以下、参考例及び実施例によシ本発明を更に詳細に説明
する。

参考例　１ｋ。

（Ｔｒ＝　５ｏ２ＣＩ＋’３）ピリジ：／１０ｇ（０，１２６ｍＤＩ）の無水アセトニ
トリル−００ｍ１溶液に一４０℃に冷却下、激しく攪拌
しながら窒素ガスで１０％に希釈したフッ素ガスを９０
ｄ／分の流速で導入した。導入したフッ素の全量は０．
１８ＦＩｌＯ／であった。その後トリフルオロメタンス
ルホン酸ナトリウム２２９　（０，１２８ｍａｄ　）を
加え。

−４０℃で５時間攪拌した。その後生成した７フ化ナト
リウムを濾別し、溶媒を留去後残渣を塩化メチレンよシ
結晶化させＮ−フルオロピリジニウムトリフルオルメタ
ンスルホナート１７．５９（７１％）得喪。更精製は塩
化メチレン−アセトニトリルよシ再結晶することによっ
て行なった。物性値は表１に示した。

参考例　２２．４６−）リメチルピリジ７０．５７９　（４，６７
ｒｙａｎｏｌ）及ヒトリフルオロメタンスルホン酸ナト
リウム０．８０３９　（４，６７ｒｌｍＬｏｌ）を無水
アセトニトリル２〇−に溶解させ、−４０℃に冷却下激
しく攪拌しながら窒素ガスでｉｏ＊に希釈しもフッ素ガ
スを３９ｘｔ／ｍｎの流速で導入した。導入したフッ素
ガスの量はＢ、９３　ｍｅａｌであった。反応後、生成
したフッ化ナトリクムを濾別し、溶媒留去後　アセトニ
トリル−ジエチルエーテルよシ結晶させてＮ−フルオロ
−２，４６−）リメチルピリジニクムトリフルオロメタ
ンスルホナートを１．１１９（８２％）得た。物性値は
表１に示した。

参考例　３〜１０参考欝同様の操作で行ない、表１に示す１ｌｉ−１フル
オロぜリジニウム塩を５１〜８７９６の収率で得た。物
性値は表１に示した。

なお参考例９は出発原料として２−１−メントキシピリ
ジン（旋光度〔α〕っ＝−１１０，７（Ｃ＝０．９９４
））を用い、生成したＮ−フルオロ−２１−メントキシ
ピリジニウム　トリフラートの旋光度はＣＣＤ：　＝　
−７７，７３（Ｃ＝４．１６．　ＣＨ（Ｊ３）　テ、り
　ツ７ｔ。

参考例　１１一？　　０８０□Ｆ２．４６−ドリメチルピリジン０．６０５９Ｃ５ｒｌｒ
ｍ０１）の無水アセトニトリル１０ＴＩｌｌ溶液に、−
４０℃に冷却下激しく攪拌しながら７ツ累と窒素の混合
ガス（１：９）を４０ｄ／分の流速で導入した。導入は
７ツ累の全量は１５　ｒｗｎｏｌ　　であった。次いで
同温度下でフルオロスルホン酸０．５　ｄ　（＆７　＃
Ｊｌ’）を加えて１０分間攪拌した。反応後ジエチルエ
ーテル２０ｍ１を加え結晶化させ　Ｎ−フルオロ−２，
４６−）リメチルピリシニウムスルオロスルホナー）０
．６６５９（５６９６）を白色結晶として得た。物性値
は表１に示した。

実施例　１アルゴン雰囲気下、Ｎ−フルオロピリジニウムトリフラ
ート２４９　Ｗ　（Ｉ　Ｗｔｎｕ）ｌ）の乾燥塩化メチ
レン４ｄけん濁液に、トリメチルシロキクシクロヘキセ
７１７０　ｍｇ　（１ｒｒｒｍｏｌ　）を滴下し、室温
で７時間攪拌した。反応混合物に内部標準としてクロル
ベンゼンを加え、ガスクロマトグラフィーにより定量し
たところ２−フルオロシフ目ヘキサノンの収率ハ８７チ
であった。反応混合物を水中にあけ、エーテル抽出し、
エーテル層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去して得られる粗生成物をガスクロマトグラフ
ィーによシ精製して２−フルオロシクロヘキサノンの構
造をスペクトルよシ確認した。ＮＭＲデータを次に示す
。

”Ｈ−ｎｍｒ　（ＣＤＣｌ３　）δ；１．５５−２．８
０（ｍｔ８Ｈ）ｔ　４．９０（ａ、ｍ、Ｊ＝５０Ｈｚ、
ＩＨ）：　１９Ｆ−ｒｍｒ　（ＣＤＣＡ！３）１）ｐｍ
　ｐ＋　１８＆Ｏ（（１，Ｊ　＝　５０Ｈｚ　）。

実施例　２〜２３実施例１と同様の操作で表ａに示す東件下にエノール化
合物とＮ−フルオロピリジニウム塩トｔ−反応させた。

その結果を実施ガニも合わせて表１に示した。

なお実施例１０〜２３に記載された収率はシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーによる単離収率であ後、精製し
、メチルエステルとして単離した収率である。

実施例　２４アルゴン雰囲気下、Ｎ−フルオロピリジニウムトリフラ
ー）　２５０１１１７　（１，０１ｒｌｔ！ＩＬ６／　
）の乾燥塩化メチレン４ｄｌん濁液に、１−メトキシシ
クロヘキセン１１３！　Ｃ１，０１ＷＩＬＯＩ）を滴加
し、０．５時間加熱還流を行なった。その後、混合液に
水０．０５．ｄを加え室温で約４時間攪拌したところ、
２−フルオロシクロヘキサノンが６０チ（ガスクロマト
グラフィー収率）の収率で得られた。

特特出願人　財団法人相模中央化学研究所小野田セメン
ト株式会社

Claims

【特許請求の範囲】一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるエノール化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるＮ−フルオロピリジニウム塩とを反応させ
ることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるフッ素置換カルボニル化合物の製造方法。〔式中、Ｍは水素原子、アルキル基、アリール基、アシ
ル基、又はＳｉＲ＾１＾１Ｒ＾１＾２Ｒ＾１＾３であり
（なおＲ＾１＾１、Ｒ＾１＾２、及びＲ＾１＾３はアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、アシルオキシ基又はハロゲン原子であり、種々の組み
合わせでヘテロ原子を介在して又は非介在で環状構造を
とってもよい。）、Ｒ＾１は水素原子、アルキル基、ア
リール基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基
、アミノ基、アミド基、ＯＭ′又は▲数式、化学式、表
等があります▼（Ｍ′は上記のＭと同じであり、ＭとＭ
′は同一であっても異なってもよい。）であり、Ｒ＾２
、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＲ＾５は水素原子、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アシル基、
▲数式、化学式、表等があります▼（Ｍ′は上記に同じ
であり、ＭとＭ′は同一であっても異なってもよい。）
、アルコキシ基、アリールオキシ基、シアノ基、ニトロ
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルホニル基、
アミド基、カルバモイル基、ハロゲン原子、又は▲数式
、化学式、表等があります▼（Ｒ＾１＾４及びＲ＾１＾
５は水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、ｍ
は０又は１である）であり、ｎは０又は１である。Ｒ＾
１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＲ＾５は種々の組み合
わせで、ヘテロ原子を介在して又は非介在で環状構造を
とってもよい。Ｒ＾６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ｒ＾９及びＲ
＾１＾０は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、ヒドロキシ基、アリールオキシ基、アシル基、
アシルオキシ基、アシルチオ基、ニトロ基、シアノ基、
アルケニル基、アルキニル基、アルコキシカルボニル基
、アリールオキシカルボニル基、アミド基、カルバモイ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基
、アルカンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニルオ
キシ基、又はハロゲン原子であり、Ｘ＾−はブレンステ
ッド酸の共役塩基である。Ｒ＾６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ｒ
＾９及びＲ＾１＾０は種々の組み合わせでヘテロ原子を
介在して又は非介在で環状構造を有してもよい。またＸ＾−はＲ＾６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ｒ＾９及びＲ＾
１＾０と種々の組み合わせでヘテロ原子を介在して又は
非介在で結合していてもよい。〕