JPH0586770B2 - - Google Patents
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- -1 fluorine organic compound Chemical class 0.000 claims description 58
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 16
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- UWDCUCCPBLHLTI-UHFFFAOYSA-N 1-fluoropyridin-1-ium Chemical class F[N+]1=CC=CC=C1 UWDCUCCPBLHLTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- IEARPTNIYZTWOZ-UHFFFAOYSA-N ethene Chemical compound [CH-]=C IEARPTNIYZTWOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 8
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-Trimethylpyridine Chemical compound CC1=CC(C)=NC(C)=C1 BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 3
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BANWBNLRSDINSG-UHFFFAOYSA-N 1-fluoropyridin-2-one Chemical compound FN1C=CC=CC1=O BANWBNLRSDINSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002690 malonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- XGPOMXSYOKFBHS-UHFFFAOYSA-M sodium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F XGPOMXSYOKFBHS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOWIYNWMROWVDG-UHFFFAOYSA-N 1-dimethoxyphosphorylpropan-2-one Chemical compound COP(=O)(OC)CC(C)=O UOWIYNWMROWVDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRIGFEJKMMRJSF-UHFFFAOYSA-M 1-fluoro-2,4,6-trimethylpyridin-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CC1=CC(C)=[N+](F)C(C)=C1 PRIGFEJKMMRJSF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JFZMMCYRTJBQQI-UHFFFAOYSA-M 1-fluoropyridin-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound F[N+]1=CC=CC=C1.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F JFZMMCYRTJBQQI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYNQJEDEUVQGLP-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)O.C(CCC)[Li] Chemical compound C(C)(=O)O.C(CCC)[Li] XYNQJEDEUVQGLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DATDZAZLXPKXBF-UHFFFAOYSA-L C(CC(=O)[O-])(=O)[O-].C(C)C([N+](C)(C)C)CC.C(C)C(CC)[N+](C)(C)C Chemical compound C(CC(=O)[O-])(=O)[O-].C(C)C([N+](C)(C)C)CC.C(C)C(CC)[N+](C)(C)C DATDZAZLXPKXBF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QXJAACKBSCULPH-UHFFFAOYSA-N C=1C=CC=CC=1[Mg]C1=CC=CC=C1 Chemical class C=1C=CC=CC=1[Mg]C1=CC=CC=C1 QXJAACKBSCULPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229910018287 SbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CKCYDFVZAPRMBQ-UHFFFAOYSA-M [Cl-].CCCCCCCCCC[Mg+] Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[Mg+] CKCYDFVZAPRMBQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGZLJRBPCAVYPR-UHFFFAOYSA-N [Li].C#CC1=CC=CC=C1 Chemical compound [Li].C#CC1=CC=CC=C1 WGZLJRBPCAVYPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHZBRYQYYSXMPN-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)([O-])C(C)[N+](=O)[O-].[Na] Chemical compound [N+](=O)([O-])C(C)[N+](=O)[O-].[Na] SHZBRYQYYSXMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJKOYHIJFXXCBB-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)([O-])CC.[Na] Chemical compound [N+](=O)([O-])CC.[Na] CJKOYHIJFXXCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHFOXWHMSQRJBS-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)([O-])C[N+](=O)[O-].[Na] Chemical compound [N+](=O)([O-])C[N+](=O)[O-].[Na] DHFOXWHMSQRJBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFHUXXJLWQEQEU-UHFFFAOYSA-N [Na].C1(=CC=CC=C1)C#C Chemical compound [Na].C1(=CC=CC=C1)C#C QFHUXXJLWQEQEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHRNWLQQVSYTDD-UHFFFAOYSA-N [Na].C[N+]([O-])=O Chemical compound [Na].C[N+]([O-])=O XHRNWLQQVSYTDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAFKCLFWELPONH-UHFFFAOYSA-N acetonitrile;dichloromethane Chemical compound CC#N.ClCCl RAFKCLFWELPONH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000476 acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 description 1
- 150000001780 cephalosporins Chemical class 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- KYIBHFNJISEQRB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dione;sodium Chemical compound [Na].O=C1CCCC(=O)C1 KYIBHFNJISEQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZVPJZDHSABXOZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-dione;sodium Chemical compound [Na].O=C1CCC(=O)C1 QZVPJZDHSABXOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDITHVDEPPNIL-UHFFFAOYSA-L dipotassium;propanedioate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)CC([O-])=O HCDITHVDEPPNIL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- PTZFYJUFLYSVIV-UHFFFAOYSA-N ethyl 1-fluoro-2-oxocyclopentane-1-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1(F)CCCC1=O PTZFYJUFLYSVIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHZPNBKZPAWCJD-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxocyclopentane-1-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CCCC1=O JHZPNBKZPAWCJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl formate Chemical compound CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004340 exo-2-norbornyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])[C@@]2([H])C([H])([H])[C@]1([H])C([H])([H])[C@]2([H])* 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 description 1
- AXCBHWGTRNNXKG-UHFFFAOYSA-N fluorochlorane oxide Chemical compound FCl=O AXCBHWGTRNNXKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- XHEHDQPARIPMRX-UHFFFAOYSA-N lithium;dioxido(propan-2-ylidene)azanium Chemical compound [Li+].CC(C)=[N+]([O-])[O-] XHEHDQPARIPMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M magnesium;benzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C1=CC=[C-]C=C1 IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;chloride Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Cl-] CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IJMWREDHKRHWQI-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH-]=C IJMWREDHKRHWQI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OFUICLLNJWZMHW-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethenylbenzene;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH-]=CC1=CC=CC=C1 OFUICLLNJWZMHW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SCEZYJKGDJPHQO-UHFFFAOYSA-M magnesium;methanidylbenzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH2-]C1=CC=CC=C1 SCEZYJKGDJPHQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IOOQQIVFCFWSIU-UHFFFAOYSA-M magnesium;octane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CCCCCCC[CH2-] IOOQQIVFCFWSIU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CYSFUFRXDOAOMP-UHFFFAOYSA-M magnesium;prop-1-ene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH2-]C=C CYSFUFRXDOAOMP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- HZOAWXQTMQXJBS-UHFFFAOYSA-N methyl 2-cyanoacetate;sodium Chemical compound [Na].COC(=O)CC#N HZOAWXQTMQXJBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N methylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(O)=O ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940094443 oxytocics prostaglandins Drugs 0.000 description 1
- ZWNKCUAWCADLQC-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-dione;potassium Chemical compound [K].CC(=O)CC(C)=O ZWNKCUAWCADLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001766 physiological effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 150000003180 prostaglandins Chemical class 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- YPPQYORGOMWNMX-UHFFFAOYSA-L sodium phosphonate pentahydrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]P([O-])=O YPPQYORGOMWNMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- UAKCMIIOSJFOTD-UHFFFAOYSA-M sodium;3-oxobutanoate Chemical compound [Na+].CC(=O)CC([O-])=O UAKCMIIOSJFOTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は含フツ素有機化合物の製法に関する。
含フツ素有機化合物は、農薬、医薬品又はそれら
の製造のための有用中間体であることが知られて
いる。たとえばフルオロマロン酸エステル誘導体
は抗菌剤であるセフアロスポリンや含フツ素ヘテ
ロ環化合物の製造の有用中間体であり、またフル
オロジケトンは著しい生理活性を有する含フツ素
プロスタグランデインの製造中間体である。 〔Il Farmaco−Ed.Sc.39、fasc.12、1050;
Chem.Lett.、1981、107;J.Am.Chem.Soc.、
106、452(1984);石川延男、小林義郎著“フツ素
の化合物−その化学と応用”講談社サイエンテイ
フイク、pp202−232(1979年);R&Dレポート
No.6、“フツ素化合物の化学と工業”、シーエムシ
ー(1977)、pp415−473; 有合化、42、786(1984)、42、794(1984)、42、
809(1984)、43、1073(1985);Chem.Lett.、
1984、1811;J.Med.Chem.、28、1555(1985)参
照〕。 〔従来技術〕 一般に含フツ素有機化合物を製造する際のフツ
素源としては次のものが知られている。 (1) F2〔たとえばJ.Org.Chem.47、1107(1982)参
照〕 (2) HF〔たとえばJ.Org.Chem.、3、26(1938)
参照〕 (3) KF、AgF等の金属塩〔たとえばJ.Am.
Chem.Soc.、77、915(1955)、78、2658(1956)
参照〕 (4) SbF5〔たとえばJ.Am.Chem.Soc.、60、492
(1938)参照〕 (5) SF4〔たとえばOrg.Reactions、21、1(1974)
参照〕 (6) Et2NSF3〔たとえばJ.Am.Chem.Soc.、40、
574(1975)参照〕 (7) CHClFCF2NEt2又はCF3CHFCF2NEt2〔たと
えばZh.Obsh.Khim.、29、2159(1959):CA54
−9724h(1960)、Bul.Chem.Soc.Jpn.、52、
3377(1979)参照〕 (8) XeF2〔たとえばJ.Chem.Soc.Chem.Comm.、
1980、759参照〕 (9) CF3OF〔たとえばJ.Am.Chem.Soc.、102、
4845(1980)参照〕 (10) CF3CF2OF〔Tetrahedron Lett.、725(1979)
参照〕 (11) FClO3〔たとえばChem.Ber.、102、1944
(1969)参照〕 (12) CF3COOF〔J.Fluorine Chem.、16、19
(1980)参照〕 (13) CH3COOF〔Synthesis、665(1985)参照〕 (14) ArSO2NFR6〔J.Am.Chem.Soc.、106、452
(1984)参照〕 (14) 1−フルオロ−2−ピリドン〔J.Org.
Chem.、48、761(1983)参照〕 (16) CF2=CFHやCF3CF=CF2〔Chem.Lett.、
1980、1107、及び1981、107参照〕 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながらF2を用いる方法はF2の激しい反
応性にり制御が困難で反応の選択性が乏しく使用
範囲が非常に制限されること、その他のフツ素化
試剤を用いる方法では、高価な試剤を用いるこ
と、爆発性や毒性の強い試剤を用いること、不安
定な試剤を用いるためたとえば反応に極低温を必
要とすること、フツ素化試剤の合成が困難である
こと、またフツ素化反応の収率および選択性が低
いこと等のいずれかの欠点を有している。また(3)
のKFを用いる方法では、一般に置換反応によつ
て他のハロゲン原子をF原子に置換するのである
が、望む置換反応ばかりでなく副反応の脱離反応
が起こる欠点がある〔たとえばJ.Fluorine
Chem.、27、35(1985)参照〕。 また(16)のトリフルオロエチレンやヘキサフルオ
ロプロペンを出発原料として用い、含フツ素有機
化合物を製造する方法は、高価な原料及び多数の
反応工程を必要とする。以上の述べた欠点からい
ずれの方法も工業的製法としては不満足なもので
ある。 求電子フツ素化反応はフツ素原子導入反応とし
て重要な反応であるが、F2によるフツ素化反応
に代表されるように、激しい発熱反応を伴なうた
めに、反応の選択性に乏しいのが大きな欠点であ
る。従つて選択性の高い求電子フツ素化反応は産
業界から非常に望まれているものである。選択性
の高いフツ素化反応として、合成化学上位置選択
的に発生できる炭酸陰イオンのフツ素化は重要な
反応と考えられている。 従来、炭素陰イオンをフツ素化する方法とし
て、次のようなフツ素化剤、CH3COOF、
ArSO2NFR6(R6=t−ブチル、exo−2−ノル
ボルニル又はネオペンチル)、及び1−フルオロ
−2−ピリドンを用いる方法が知られているが、
先に述べたようにこれらの方法は工業的見地から
何らかの欠点を有している。 本発明者らは、以上の欠点を克服すべく鋭意研
究を行なつた結果、炭素陰イオンのフツ素化反応
として従来の反応とは全く異なる新しい有用な反
応を見い出し、本発明を完成するに至つた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明の製法は、一般式 R-M+ −() で表わされる塩と 一般式 【化】 で表わされるN−フルオロピリジニウム塩とを反
応させることを特徴とする、一般式 R−F −() で表わされる含フツ素有機化合物を製造するもの
である。 (式中、R-は置換又は未置換の、アルキルアニ
オン、アリールアニオン、ビニルアニオン又はア
ルキニルアニオンを表わし、M+は対陽イオンを
表わす。またR1、R2、R3、R4、およびR5は水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又
はアリールオキシ基であり、X-はブレンステツ
ド酸の共役塩基である。なおR-部とM+部が結合
していてもよい。) 一般式()のR-は置換又は未置換の、アルキル
アニオン、アリールアニオン、ビニルアニオン又
はアルキニルアニオン等の炭素陰イオンであり、
M+は対陽イオンを表わし、たとえば、金属イオ
ン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、
スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン等であ
る。 一般式()で表わされる塩は一般に次の方法に
より容易に製造できる。RX′(X′=塩素原子、臭
素原子又は沃素原子)又はRHを金属、又は金属
水酸化物、金属水素化物、金属アルコキシド、金
属アルキル、金属アミド等の金属化合物で処理す
る方法、又はRX′又はRHをRLiへ変換した後、
ハロゲン化マグネシウム、トリアルキルクロロス
タンナン等のLi金属以外の金属化合物と処理する
方法、RHをアミン又は四級アンモニウム水酸化
物で処理する方法、RSi(CH3)3をKF等で処理す
る方法等がある。また一般式()で表わされる塩
でR-部とM+部とが結合している場合は、たとえ
ば活性水素原子をもつホスホニウム塩、スルホニ
ウム塩、オキソスルホニウム塩、アンモニウム塩
等を金属水素化物、金属水酸化物、金属アルキル
等の金属化合物で処理する方法によつて製造する
ことができる〔たとえば後藤俊夫、山田静之、山
村庄亮訳“ハウス最新有機合成反応”、広川書店
(1961);大塚斉之助、辻二郎、野崎一、野依良
治、向山光昭 編集 化学の領域 増刊117号”
金属の特性を活かした新しい有機合成反応”、南
江堂(1977)参照〕 前記一般式()で表わされる塩としては、たと
えば マロン酸ジメチルナトリウム塩、 マロン塩ジエチルリチウム塩、 マロン酸ジブチルカリウム塩、 マロン酸ジフエニルマグネシウム塩、 マロン酸ジエチルマグネシウムクロリド塩、 マロン酸ジエチルカルシウム塩、 マロン酸ジエチル亜鉛塩、 マロン酸ジエチルテトラメチルアンモニウム
塩、 マロン酸ジエチルベンジルトリメチルアンモニ
ウム塩、 マロン酸ジエチルトリメチルスルホニウム塩、 メチルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 フルオロマロン酸ジメチルナトリウム塩、 フエニルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 チエニルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 フリルマロン酸ジエチルナトリウム塩、 ビニルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 アリルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 ベンジルマロン酸ジエチルナトリウム塩、 アセト酢酸ナトリウム塩、 2−メチルアセト酢酸リチウム塩、 アセチルアセトンカリウム塩、 アセチルアセトンアンモニウム塩、 シアノ酢酸メチルナトリウム塩、 マロンニトリルナトリウム塩、 フエニルマロンニトリルナトリウム塩、 フエニルスルホニル酢酸エチルナトリウム塩、 ニトロ酢酸メチルナトリウム塩、 メチルスルフイニル酢酸ナトリウム塩、 フエニルチオ酢酸メチルリチウム塩、 ニトロメタンナトリウム塩、 ニトロエタンナトリウム塩、 2−ニトロプロパンリチウム塩、 ジニトロメタンナトリウム塩、 トリニトロメタンピリジニウム塩、 1,1−ジニトロエタンナトリウム塩、 ジニトロエタンアンモニウム塩、 1,3−シクロペンタンジオンナトリウム塩、 2−メチル−1,3−シクロペンタンジオンリ
チウム塩、 1,3−シクロヘキサンジオンナトリウム塩、 5,5−ジメチル−1,3−シクロヘキサンジ
オンナトリウム塩、 2−フルオロ−1,3−シクロヘキサンジオン
ナトリウム塩、 4−ビニル−1,3−シクロペンタンジオンナ
トリウム塩、 4−アリル−1,3−シクロペンタンジオンカ
リウム塩、 4−アリル−2−フルオロ−1,3−シクロペ
ンタンジオンカリウム塩、 2−シクロペンタノン−1−カルボン酸エチル
ナトリウム塩、 2−ホルミル−1−シクロヘキサノンカリウム
塩、 酢酸ブチルリチウム塩、 酢酸メチル亜鉛クロリド塩、 (メチルチオメチル)トリルスルホンカリウム
塩、 (メチルスルフイニルメチル)メチルスルフイ
ドリチウム塩、 フエニルピルビン酸エチルリチウム塩、 2,4−ジオキソ−n−吉草酸エチルナトリウ
ム塩、 ジエチル(エタンスルホニルメチル)ホスホネ
ートナトリウム塩 ジメチル(2−オキソプロピル)ホスホネート
カリウム塩、 ジメチル(メトキシカルボニルメチル)ホスホ
ネートナトリウム塩、 フエニル酢酸エチルリチウム塩、 フエニル酢酸ジリチウム塩、 バルビツール酸カリウム塩、 N,N−ジメチルバルビツール酸ナトリウム
塩、 2−デカノントリブチル錫塩、 【式】 【式】 等の活性水素をもつ化合物の塩、 メチルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシ
ウムクロリド、オクチルマグネシウムブロミド、
デシルマグネシウムクロリド、アリルマグネシウ
ムクロリド、ベンジルマグネシウムクロリド、フ
エニルマグネシウムクロリド、ビニルマグネシウ
ムクロリド、スチリルマグネシウムブロミド、等
のグリニヤール試薬、フエニルアセチレンリチウ
ム塩、フエニルアセチレンナトリウム塩、1−オ
クチンナトリウム塩等のアセチリド、 Ph3+ P −- H HCOOEt、Ph3+ P −C- H Ph、 Ph3+ P −- C H(CH4)CO- O L+ 1 、 Bu3+ P −C- H COOMe、Et3+ N −- C HCOOMe、 (CH3)2+ S −C- H 2COOEt 等のイリド化合物を例示することができる。 一方、一般式()で表わされるN−フルオロピ
リジニウム塩はピリジンにF2を反応させること
により〔Z、Chem.、5、64(1965)参照〕、又は
ピリジン又はピリジン誘導体にF2とAX(Aは水
素原子、金属原子、アンモニウム残基、ピリジニ
ウム残基又はSiR′R″Rであり、Xは前記と同一
である。なおR′、R″、およびRはアルキル基、
アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシ
ルオキシ基、又はアリールオキシ基である)又は
ルイス酸とを反応させることにより(特願昭60−
118882参照〕製造することができる。 前記一般式()で表わされるN−フルオロピリ
ジニウム塩としては、たとえば 【化】 【化】 【式】 【化】 【化】 【化】 【化】 【化】 【化】 【化】 等を例示することができる。 本発明の反応は溶媒中で行なうのが好ましく、
溶媒としてはジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン(THF)、ジオキサン、ジメトキシエタン等
のエーテル、アセトニトリル、塩化メチレン、ク
ロロホルム、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等、
およびこれらの混合溶媒を例示することができ
る。 反応温度は−100℃〜+60℃を選ぶことができ
るが、反応が効率よく進行する点で−60℃〜室温
が好ましい。 以下実施例及び参考例により本発明を更に詳細
に説明する。 参考例 1 【化】 ピリジン10g(0.126mol)の無水アセトニト
リル100ml溶液を−40℃に冷却下、激しく撹拌し
ながら窒素ガスで10%に希釈したフツ素ガスを90
ml/分の流速で導入した。導入したフツ素の全量
は0.18molであつた。その後AMとしてトリフル
オロメタンスルホン酸ナトリウム22g
(0.128mol)を加え、−40℃で5時間撹拌した。
その後生成したフツ化ナトリウムを濾別し、溶媒
を留去後残渣を塩化メチレンを用いて結晶化させ
N−フルオロピリジニウムトリフルオロメタンス
ルホナート17.5g(71%)得た。再結晶は塩化メ
チレン−アセトニトリルによつて行なつた。物性
値は表1に示した。 参考例 2 【化】 2,4,6−トリメチルピリジン0.57
(4.67mmol)及びトリフルオロメタンスルホン酸
ナトリウム0.803g(4.67mmol)を無水アセトニ
トリル20mlに溶解させ、−40℃に冷却下激しく撹
拌しながら窒素ガスで10%に希釈したフツ素ガス
を30ml/分の流速で導入した。導入したフツ素ガ
スの量は8.93mmolであつた。反応後、生成した
フツ化ナトリウムを濾別し、溶媒留去後アセトニ
トリル−ジエチルエーテルを用いて結晶化させて
N−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニ
ウムトリフルオロメタンスルホナートを1.11g
(82%)得た。物性値は表1に示した。 参考例 3 【化】 25mlのナス型フラスコに2,4,6−トリメチ
ルピリジン1.21g(10mmol)、ホウフツ化ナトリ
ウム1.23g(10mmol)及び無水フツ化ナトリウ
ム2.1g(50mmol)を無水アセトニトリル15mlに
溶解させ、−40℃に冷却下激しく撹拌しながら窒
素ガスとフツ素ガス(9:1)の混合ガスを50
ml/分の流速で導入した。導入したフツ素ガスの
量は20mmolであつた。反応後沈澱物を澱別し、
溶媒留去後アセトニトリル−ジエチルエーテルを
用いて結晶化しN−フルオロ−2,4,6−トリ
メチルピリジニウムテトラフルオロボラートを
1.59g(70%)得た。再結晶は、アセトニトリル
によつて行なつた。物性値は表1に示した。 【表】 1)正値は高磁場側を示す。
実施例 1 【化】 フラスコに2−エトキシカルボニルシクロペン
タノン156mg(1mmol)と無水THF(2ml)を入
れアルゴン雰囲気下50%水素化ナトリウム48mg
(1mmol)を0℃で加えた後10分間撹拌を続けナ
トリウム塩を得た。つづいてN−フルオロ−2,
4,6−トリメチルピリジニウムトリフルオロメ
タンスルホナート288mg(1mmol)を一気に加え
10分間撹拌を続けた。反応液に希塩酸を加え、エ
ーテルで抽出後希炭酸水素ナトリウム水溶液、
水、飽和食塩水で洗滌したのち、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去後中圧カラムクロマト
グラフイー(シリカゲル、展開溶媒 塩化メチレ
ン/n−ヘキサン=1:1)で分離精製し、油状
の2−エトキシカルボニル−2−フルオロシクロ
ペンタノン136mg(78%)を得た。 スペクトルデータは下記に示す。 H1NMR(CDCl3):δ4.26(2H、四重線、J=7.5
Hz)2.8〜2.0(6H、多重線)、1.31(3H、三重線、
J=7.5Hz)19 FNMR(CDCl3、CFCl3内部標準);162.8(三重
線、J=20.0Hz)IR(neat);1780(エステルνC=
0)cm-11725(ケトンνC=0)cm-1 実施例 2〜9 実施例1と同様の操作で表2に示す条件下に反
応を行なつた。その結果を表2に示した。生成物
の構造確認は標準サンプルとの比較又はスペクト
ル解析より行なつた。 【表】 【表】
含フツ素有機化合物は、農薬、医薬品又はそれら
の製造のための有用中間体であることが知られて
いる。たとえばフルオロマロン酸エステル誘導体
は抗菌剤であるセフアロスポリンや含フツ素ヘテ
ロ環化合物の製造の有用中間体であり、またフル
オロジケトンは著しい生理活性を有する含フツ素
プロスタグランデインの製造中間体である。 〔Il Farmaco−Ed.Sc.39、fasc.12、1050;
Chem.Lett.、1981、107;J.Am.Chem.Soc.、
106、452(1984);石川延男、小林義郎著“フツ素
の化合物−その化学と応用”講談社サイエンテイ
フイク、pp202−232(1979年);R&Dレポート
No.6、“フツ素化合物の化学と工業”、シーエムシ
ー(1977)、pp415−473; 有合化、42、786(1984)、42、794(1984)、42、
809(1984)、43、1073(1985);Chem.Lett.、
1984、1811;J.Med.Chem.、28、1555(1985)参
照〕。 〔従来技術〕 一般に含フツ素有機化合物を製造する際のフツ
素源としては次のものが知られている。 (1) F2〔たとえばJ.Org.Chem.47、1107(1982)参
照〕 (2) HF〔たとえばJ.Org.Chem.、3、26(1938)
参照〕 (3) KF、AgF等の金属塩〔たとえばJ.Am.
Chem.Soc.、77、915(1955)、78、2658(1956)
参照〕 (4) SbF5〔たとえばJ.Am.Chem.Soc.、60、492
(1938)参照〕 (5) SF4〔たとえばOrg.Reactions、21、1(1974)
参照〕 (6) Et2NSF3〔たとえばJ.Am.Chem.Soc.、40、
574(1975)参照〕 (7) CHClFCF2NEt2又はCF3CHFCF2NEt2〔たと
えばZh.Obsh.Khim.、29、2159(1959):CA54
−9724h(1960)、Bul.Chem.Soc.Jpn.、52、
3377(1979)参照〕 (8) XeF2〔たとえばJ.Chem.Soc.Chem.Comm.、
1980、759参照〕 (9) CF3OF〔たとえばJ.Am.Chem.Soc.、102、
4845(1980)参照〕 (10) CF3CF2OF〔Tetrahedron Lett.、725(1979)
参照〕 (11) FClO3〔たとえばChem.Ber.、102、1944
(1969)参照〕 (12) CF3COOF〔J.Fluorine Chem.、16、19
(1980)参照〕 (13) CH3COOF〔Synthesis、665(1985)参照〕 (14) ArSO2NFR6〔J.Am.Chem.Soc.、106、452
(1984)参照〕 (14) 1−フルオロ−2−ピリドン〔J.Org.
Chem.、48、761(1983)参照〕 (16) CF2=CFHやCF3CF=CF2〔Chem.Lett.、
1980、1107、及び1981、107参照〕 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながらF2を用いる方法はF2の激しい反
応性にり制御が困難で反応の選択性が乏しく使用
範囲が非常に制限されること、その他のフツ素化
試剤を用いる方法では、高価な試剤を用いるこ
と、爆発性や毒性の強い試剤を用いること、不安
定な試剤を用いるためたとえば反応に極低温を必
要とすること、フツ素化試剤の合成が困難である
こと、またフツ素化反応の収率および選択性が低
いこと等のいずれかの欠点を有している。また(3)
のKFを用いる方法では、一般に置換反応によつ
て他のハロゲン原子をF原子に置換するのである
が、望む置換反応ばかりでなく副反応の脱離反応
が起こる欠点がある〔たとえばJ.Fluorine
Chem.、27、35(1985)参照〕。 また(16)のトリフルオロエチレンやヘキサフルオ
ロプロペンを出発原料として用い、含フツ素有機
化合物を製造する方法は、高価な原料及び多数の
反応工程を必要とする。以上の述べた欠点からい
ずれの方法も工業的製法としては不満足なもので
ある。 求電子フツ素化反応はフツ素原子導入反応とし
て重要な反応であるが、F2によるフツ素化反応
に代表されるように、激しい発熱反応を伴なうた
めに、反応の選択性に乏しいのが大きな欠点であ
る。従つて選択性の高い求電子フツ素化反応は産
業界から非常に望まれているものである。選択性
の高いフツ素化反応として、合成化学上位置選択
的に発生できる炭酸陰イオンのフツ素化は重要な
反応と考えられている。 従来、炭素陰イオンをフツ素化する方法とし
て、次のようなフツ素化剤、CH3COOF、
ArSO2NFR6(R6=t−ブチル、exo−2−ノル
ボルニル又はネオペンチル)、及び1−フルオロ
−2−ピリドンを用いる方法が知られているが、
先に述べたようにこれらの方法は工業的見地から
何らかの欠点を有している。 本発明者らは、以上の欠点を克服すべく鋭意研
究を行なつた結果、炭素陰イオンのフツ素化反応
として従来の反応とは全く異なる新しい有用な反
応を見い出し、本発明を完成するに至つた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明の製法は、一般式 R-M+ −() で表わされる塩と 一般式 【化】 で表わされるN−フルオロピリジニウム塩とを反
応させることを特徴とする、一般式 R−F −() で表わされる含フツ素有機化合物を製造するもの
である。 (式中、R-は置換又は未置換の、アルキルアニ
オン、アリールアニオン、ビニルアニオン又はア
ルキニルアニオンを表わし、M+は対陽イオンを
表わす。またR1、R2、R3、R4、およびR5は水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又
はアリールオキシ基であり、X-はブレンステツ
ド酸の共役塩基である。なおR-部とM+部が結合
していてもよい。) 一般式()のR-は置換又は未置換の、アルキル
アニオン、アリールアニオン、ビニルアニオン又
はアルキニルアニオン等の炭素陰イオンであり、
M+は対陽イオンを表わし、たとえば、金属イオ
ン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、
スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン等であ
る。 一般式()で表わされる塩は一般に次の方法に
より容易に製造できる。RX′(X′=塩素原子、臭
素原子又は沃素原子)又はRHを金属、又は金属
水酸化物、金属水素化物、金属アルコキシド、金
属アルキル、金属アミド等の金属化合物で処理す
る方法、又はRX′又はRHをRLiへ変換した後、
ハロゲン化マグネシウム、トリアルキルクロロス
タンナン等のLi金属以外の金属化合物と処理する
方法、RHをアミン又は四級アンモニウム水酸化
物で処理する方法、RSi(CH3)3をKF等で処理す
る方法等がある。また一般式()で表わされる塩
でR-部とM+部とが結合している場合は、たとえ
ば活性水素原子をもつホスホニウム塩、スルホニ
ウム塩、オキソスルホニウム塩、アンモニウム塩
等を金属水素化物、金属水酸化物、金属アルキル
等の金属化合物で処理する方法によつて製造する
ことができる〔たとえば後藤俊夫、山田静之、山
村庄亮訳“ハウス最新有機合成反応”、広川書店
(1961);大塚斉之助、辻二郎、野崎一、野依良
治、向山光昭 編集 化学の領域 増刊117号”
金属の特性を活かした新しい有機合成反応”、南
江堂(1977)参照〕 前記一般式()で表わされる塩としては、たと
えば マロン酸ジメチルナトリウム塩、 マロン塩ジエチルリチウム塩、 マロン酸ジブチルカリウム塩、 マロン酸ジフエニルマグネシウム塩、 マロン酸ジエチルマグネシウムクロリド塩、 マロン酸ジエチルカルシウム塩、 マロン酸ジエチル亜鉛塩、 マロン酸ジエチルテトラメチルアンモニウム
塩、 マロン酸ジエチルベンジルトリメチルアンモニ
ウム塩、 マロン酸ジエチルトリメチルスルホニウム塩、 メチルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 フルオロマロン酸ジメチルナトリウム塩、 フエニルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 チエニルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 フリルマロン酸ジエチルナトリウム塩、 ビニルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 アリルマロン酸ジメチルナトリウム塩、 ベンジルマロン酸ジエチルナトリウム塩、 アセト酢酸ナトリウム塩、 2−メチルアセト酢酸リチウム塩、 アセチルアセトンカリウム塩、 アセチルアセトンアンモニウム塩、 シアノ酢酸メチルナトリウム塩、 マロンニトリルナトリウム塩、 フエニルマロンニトリルナトリウム塩、 フエニルスルホニル酢酸エチルナトリウム塩、 ニトロ酢酸メチルナトリウム塩、 メチルスルフイニル酢酸ナトリウム塩、 フエニルチオ酢酸メチルリチウム塩、 ニトロメタンナトリウム塩、 ニトロエタンナトリウム塩、 2−ニトロプロパンリチウム塩、 ジニトロメタンナトリウム塩、 トリニトロメタンピリジニウム塩、 1,1−ジニトロエタンナトリウム塩、 ジニトロエタンアンモニウム塩、 1,3−シクロペンタンジオンナトリウム塩、 2−メチル−1,3−シクロペンタンジオンリ
チウム塩、 1,3−シクロヘキサンジオンナトリウム塩、 5,5−ジメチル−1,3−シクロヘキサンジ
オンナトリウム塩、 2−フルオロ−1,3−シクロヘキサンジオン
ナトリウム塩、 4−ビニル−1,3−シクロペンタンジオンナ
トリウム塩、 4−アリル−1,3−シクロペンタンジオンカ
リウム塩、 4−アリル−2−フルオロ−1,3−シクロペ
ンタンジオンカリウム塩、 2−シクロペンタノン−1−カルボン酸エチル
ナトリウム塩、 2−ホルミル−1−シクロヘキサノンカリウム
塩、 酢酸ブチルリチウム塩、 酢酸メチル亜鉛クロリド塩、 (メチルチオメチル)トリルスルホンカリウム
塩、 (メチルスルフイニルメチル)メチルスルフイ
ドリチウム塩、 フエニルピルビン酸エチルリチウム塩、 2,4−ジオキソ−n−吉草酸エチルナトリウ
ム塩、 ジエチル(エタンスルホニルメチル)ホスホネ
ートナトリウム塩 ジメチル(2−オキソプロピル)ホスホネート
カリウム塩、 ジメチル(メトキシカルボニルメチル)ホスホ
ネートナトリウム塩、 フエニル酢酸エチルリチウム塩、 フエニル酢酸ジリチウム塩、 バルビツール酸カリウム塩、 N,N−ジメチルバルビツール酸ナトリウム
塩、 2−デカノントリブチル錫塩、 【式】 【式】 等の活性水素をもつ化合物の塩、 メチルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシ
ウムクロリド、オクチルマグネシウムブロミド、
デシルマグネシウムクロリド、アリルマグネシウ
ムクロリド、ベンジルマグネシウムクロリド、フ
エニルマグネシウムクロリド、ビニルマグネシウ
ムクロリド、スチリルマグネシウムブロミド、等
のグリニヤール試薬、フエニルアセチレンリチウ
ム塩、フエニルアセチレンナトリウム塩、1−オ
クチンナトリウム塩等のアセチリド、 Ph3+ P −- H HCOOEt、Ph3+ P −C- H Ph、 Ph3+ P −- C H(CH4)CO- O L+ 1 、 Bu3+ P −C- H COOMe、Et3+ N −- C HCOOMe、 (CH3)2+ S −C- H 2COOEt 等のイリド化合物を例示することができる。 一方、一般式()で表わされるN−フルオロピ
リジニウム塩はピリジンにF2を反応させること
により〔Z、Chem.、5、64(1965)参照〕、又は
ピリジン又はピリジン誘導体にF2とAX(Aは水
素原子、金属原子、アンモニウム残基、ピリジニ
ウム残基又はSiR′R″Rであり、Xは前記と同一
である。なおR′、R″、およびRはアルキル基、
アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシ
ルオキシ基、又はアリールオキシ基である)又は
ルイス酸とを反応させることにより(特願昭60−
118882参照〕製造することができる。 前記一般式()で表わされるN−フルオロピリ
ジニウム塩としては、たとえば 【化】 【化】 【式】 【化】 【化】 【化】 【化】 【化】 【化】 【化】 等を例示することができる。 本発明の反応は溶媒中で行なうのが好ましく、
溶媒としてはジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン(THF)、ジオキサン、ジメトキシエタン等
のエーテル、アセトニトリル、塩化メチレン、ク
ロロホルム、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等、
およびこれらの混合溶媒を例示することができ
る。 反応温度は−100℃〜+60℃を選ぶことができ
るが、反応が効率よく進行する点で−60℃〜室温
が好ましい。 以下実施例及び参考例により本発明を更に詳細
に説明する。 参考例 1 【化】 ピリジン10g(0.126mol)の無水アセトニト
リル100ml溶液を−40℃に冷却下、激しく撹拌し
ながら窒素ガスで10%に希釈したフツ素ガスを90
ml/分の流速で導入した。導入したフツ素の全量
は0.18molであつた。その後AMとしてトリフル
オロメタンスルホン酸ナトリウム22g
(0.128mol)を加え、−40℃で5時間撹拌した。
その後生成したフツ化ナトリウムを濾別し、溶媒
を留去後残渣を塩化メチレンを用いて結晶化させ
N−フルオロピリジニウムトリフルオロメタンス
ルホナート17.5g(71%)得た。再結晶は塩化メ
チレン−アセトニトリルによつて行なつた。物性
値は表1に示した。 参考例 2 【化】 2,4,6−トリメチルピリジン0.57
(4.67mmol)及びトリフルオロメタンスルホン酸
ナトリウム0.803g(4.67mmol)を無水アセトニ
トリル20mlに溶解させ、−40℃に冷却下激しく撹
拌しながら窒素ガスで10%に希釈したフツ素ガス
を30ml/分の流速で導入した。導入したフツ素ガ
スの量は8.93mmolであつた。反応後、生成した
フツ化ナトリウムを濾別し、溶媒留去後アセトニ
トリル−ジエチルエーテルを用いて結晶化させて
N−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニ
ウムトリフルオロメタンスルホナートを1.11g
(82%)得た。物性値は表1に示した。 参考例 3 【化】 25mlのナス型フラスコに2,4,6−トリメチ
ルピリジン1.21g(10mmol)、ホウフツ化ナトリ
ウム1.23g(10mmol)及び無水フツ化ナトリウ
ム2.1g(50mmol)を無水アセトニトリル15mlに
溶解させ、−40℃に冷却下激しく撹拌しながら窒
素ガスとフツ素ガス(9:1)の混合ガスを50
ml/分の流速で導入した。導入したフツ素ガスの
量は20mmolであつた。反応後沈澱物を澱別し、
溶媒留去後アセトニトリル−ジエチルエーテルを
用いて結晶化しN−フルオロ−2,4,6−トリ
メチルピリジニウムテトラフルオロボラートを
1.59g(70%)得た。再結晶は、アセトニトリル
によつて行なつた。物性値は表1に示した。 【表】 1)正値は高磁場側を示す。
実施例 1 【化】 フラスコに2−エトキシカルボニルシクロペン
タノン156mg(1mmol)と無水THF(2ml)を入
れアルゴン雰囲気下50%水素化ナトリウム48mg
(1mmol)を0℃で加えた後10分間撹拌を続けナ
トリウム塩を得た。つづいてN−フルオロ−2,
4,6−トリメチルピリジニウムトリフルオロメ
タンスルホナート288mg(1mmol)を一気に加え
10分間撹拌を続けた。反応液に希塩酸を加え、エ
ーテルで抽出後希炭酸水素ナトリウム水溶液、
水、飽和食塩水で洗滌したのち、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去後中圧カラムクロマト
グラフイー(シリカゲル、展開溶媒 塩化メチレ
ン/n−ヘキサン=1:1)で分離精製し、油状
の2−エトキシカルボニル−2−フルオロシクロ
ペンタノン136mg(78%)を得た。 スペクトルデータは下記に示す。 H1NMR(CDCl3):δ4.26(2H、四重線、J=7.5
Hz)2.8〜2.0(6H、多重線)、1.31(3H、三重線、
J=7.5Hz)19 FNMR(CDCl3、CFCl3内部標準);162.8(三重
線、J=20.0Hz)IR(neat);1780(エステルνC=
0)cm-11725(ケトンνC=0)cm-1 実施例 2〜9 実施例1と同様の操作で表2に示す条件下に反
応を行なつた。その結果を表2に示した。生成物
の構造確認は標準サンプルとの比較又はスペクト
ル解析より行なつた。 【表】 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 R-M+ で表わされる塩と一般式 【式】 で表わされるN−フルオロピリジニウム塩とを反
応させることを特徴とする、一般式 R−F で表わされる含フツ素有機化合物の製法 (式中、R-は置換又は未置換の、アルキルアニ
オン、アリールアニオン、ビニルアニオン又はア
ルキニルアニオンを表わし、M+は対陽イオンを
表わす。また、R1、R2、R3、R4及びR5は水素原
子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又は
アリールオキシ基であり、X-はブレンステツド
酸の共役塩基である。なお、R-部とM+が結合し
ていてもよい。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4845386A JPS62207230A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 含フツ素有機化合物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4845386A JPS62207230A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 含フツ素有機化合物の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62207230A JPS62207230A (ja) | 1987-09-11 |
JPH0586770B2 true JPH0586770B2 (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=12803766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4845386A Granted JPS62207230A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 含フツ素有機化合物の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62207230A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02290884A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-30 | Rikagaku Kenkyusho | 有機けい素化合物の製造方法 |
JPH07233097A (ja) * | 1994-02-23 | 1995-09-05 | Chichibu Onoda Cement Corp | 親電子型フッ素化剤の製造方法 |
-
1986
- 1986-03-07 JP JP4845386A patent/JPS62207230A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62207230A (ja) | 1987-09-11 |
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