JPS62201756A - 半導体ウエハの移送反転装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【発明の属する技術分野】

この発明は、半導体製品の製造工程に組み込んで使用さ
れる半導体ウェハの移送反転装置に関する。

【従来技術とその問題点】

昨今では半導体製品の製造工程は殆ど自動化されており
、半導体ウェハ（以下単に「ウェハ」と呼称する）に種
々な処理、加工を施す各工程の間でのウェハの移送を自
動搬送機構によって行っている。一方、ウェハはその処
理、加工工程をウェハの表、裏画面に付いて行う必要が
あり、このためにウェハの移送経路の途中には搬送機構
にｒ６ｉｉして移送されて来たウェハの搭載姿勢を裏返
しに反転させるウェハ反転機構が装備されている。 次に前記のウェハ反転機構の従来構成を第５図ないし第
７図に示して説明すると、図においてｌは半導体ウェハ
、２はウェハ１を搭載して矢印Ｐ方向に移送する３本の
搬送ベルトからなる搬送機構、３がウェハ移送経路の途
中に設置したウェハ反転機構である。このウェハ反転機
構３は駆動モータ機構３１と、該機構の出力軸上に連結
して搬送機構２の各ベルトの間に介装配備したウェハす
くい上げ用の回転爪３２とから成る。 かかるウェハ反転機構３の動作を第６図、第７図で説明
すると、搬送ベルト上を矢印Ｐ方向に移送されて来たウ
ェハ１が回転爪３２の上に到達するとこの状態がセンサ
により検知され、その信号により駆動モータ機構３１が
始動し、ウェハ１をすくい上げた回転爪３２を第６図の
待機位置から第７図の回転位置に向けて矢印Ａ方向に回
転操作する。 ここで回転爪３２の回転角が９０度を超えるようになる
と、ウェハｌは自重により下端部を支点として矢印Ｂ方
向へ倒れ込み、鎖線で示すように裏返しになって搬送ベ
ルトの上に着地する。また着地後は搬送機構２によりさ
らに後段の工程へ移送される。なお回転爪３２は逆回転
して再び元の位置に復帰し、次の動作に備えて待機する
。 ところで上記した従来のウェハ反転機構では、ウェハｌ
の反転過程でウェハは何等の拘束を受けることなく自重
で前方に倒れ込んで搬送ベルトの上に着地する。このた
めにウェハｌには大きな着地ショックが加わり、この衝
撃力によりウエノ１に亀裂が生じたり、破損してしまう
トラブルがしばしば発生することがあり、このことが半
導体製品の不良品発生の原因の一つになっている。

【発明の目的】

この発明は上記の点にかんがみなされたものであり、前
記した従来装置を改良してウェハの反転着地ショックを
緩和させ、ウェハの亀裂、破損の発生を安全に防止でき
るようにした半導体ウェハの移送反転装置を提供するこ
とを目的とする。

【発明の要点】

上記目的を達成するために、この発明はウェハ移送経路
の途中に設置して移送されて来た半導体ウェハをす（い
上げてその向きを裏返し操作する回転式ウェハ反転機構
に対し、そのウェハの反転着地側には下方からウェハ板
面へ向けて空気ないし不活性ガスを吹付ける例えば気体
吹付はノズルとしての気体吹付は手段を配備し、ウェハ
の反転時に気体を下方から吹付けて制動し、ウェハの着
地ショックを緩和するようにしたものである。

【発明の実施例］ 第１図はこの発明の実施例によろウェハの移送反転装置
の構成図、第２図ないし第４図はそれぞれ気体吹付はノ
ズルの配置を変えた各実施例の平面図を示すものであり
、第５図に対応する同一部材には同じ符号が付しである
。すなわちこの発明によりウェハ１の反転着地側、つま
りウェハ反転機構３の後部には符号４で示す気体吹付は
手段としての気体吹付はノズルがウェハ搬送機構２の下
方に配備されている。またこのノズル４はそのノズル噴
出口を上方に向けて設置してあり、かつ空気ないし不活
性ガスの気体圧力源５に配管接続されている。 なお第２図、第３図および第４図はそれぞれ前記した気
体吹付はノズル４の配置並びにノズルの噴出口形状を変
えた各実施例を示すものであり、第２図はノズル噴出口
を円形として搬送ベルト間に２個並べて配置したもの、
第３図は噴射口を偏平形とした２個のノズルをベルト間
に平行配置したもの、さらに第４図は噴出口を偏平形と
した４個のノズル４を十文字に配列したものを示し、か
つ各ノズル４はその噴出口の向き、吹出し気体の圧力が
調節できるように構成配置されている。 次に上記構成によるウェハの反転操作に付いて説明する
と、搬送機構２の上に搭載して移送されて来たウェハ１
は、第５図と同様にウェハ反転機構３の回転爪３２によ
りすくい上げられて裏返しに反転操作される。ここでウ
ェハ反転機構３が動作を開始すると、これにタイミング
を合わせて気体吹付はノズル４から圧縮空気ないしは不
活性ガスが吹き出す、これにより、ウェハ反転機構３の
回転爪３２にすくい上げられたウェハｌが図示のように
裏返し姿勢に反転して搬送機構２の方へ倒れ込む状態に
なると、ウェハ１の板面にはノズル４から、矢印Ｃのよ
うに吹き出す圧縮気体が当たり、ウェハ１は気体制動力
を受けてその倒れ込み落下が減速されるようになる。こ
こでノズル４の配置。 ノズルからの吹出す気体の風速、圧力、風量等をウェハ
１のサイズ、重量等に対応して適正に選定することによ
り、ウェハ１は殆どショック無しにかつ安定してウェハ
搬送機構２の搬送ベルト上に着地させることができる。 なお吹付は気体は、通常は空気が使用されるが、特にそ
の時のウェハ表面処理状態、処理工程によっては周囲雰
囲気維持のために不活性ガスが選択される。 【発明の効果】 以上述べたようにこの発明によれば、ウェハ移送経路の
途中に設置したウェハ反転機構に対し、半導体ウェハの
反転着地側に下方から半導体ウェハの板面へ気体を吹付
けてウェハの着地ショックを緩和させる気体吹付は手段
を配備して構成したことにより、半導体ウェハの反転着
地ショックを緩和して、その衝撃力によるウェハの亀裂
、破損等の搬送トラブルをなくして不良品の発生を防止
することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例による半導体ウェハの移送反
転装置の構成図、第２図ないし第４図は第１図における
気体吹付はノズルの噴出口形状並びにその配列を変えた
各実施例の配置平面図、第５図は従来装置の構成斜視図
、第６図、第７図は第５図による半導体ウェハの反転操
作の動作説明図である。各図において、 ｌ：半導体ウェハ、２：ウェハ搬送機構、３：ウェハ反
転機構、３１：駆動モータ機構、３２：回転爪、４：気
体吹付はノズル、５：気体圧力源、Ｐ：半導体ウェハの
移送方向、Ｂ：ウェハの反転方向、Ｃ：ノズルからの気
体吹出し方向、　　　　　　　−−＼゛ハ。 ・・′：、　、、、；’　：　ｊＩｉ ８さ゛、−示パ 、：−ハ、パ、７１口　・ 第４図 第７図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）ウェハ搬送機構に搭載して移送されて来た半導体ウ
   ェハの搭載姿勢をその移送経路の途中で裏返しに反転操
   作する半導体ウェハの移送反転装置であり、その移送経
   路の途中に半導体ウェハをすくい上げてその向きを裏返
   し操作する回転式のウェハ反転機構を設置したものにお
   いて、半導体ウェハの反転着地側に下方から半導体ウェ
   ハの板面へ気体を吹付けてウェハの着地ショックを緩和
   させる気体吹付け手段を配備したことを特徴とする半導
   体ウェハの移送反転装置。 ２）特許請求の範囲第１項記載の移送反転装置において
   、気体吹付け手段が回転式反転機構の後部に配置してそ
   のノズル噴出口より上方に向けて空気ないし不活性ガス
   の気体を噴出するノズルであることを特徴とする半導体
   ウェハの移送反転装置。