JP3200326B2 - 円板状被処理物の移載方法及び移載装置 - Google Patents
円板状被処理物の移載方法及び移載装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウェーハ等の円板
状をなす被処理物を目的位置まで移送して載置する方法
に関する。
状をなす被処理物を目的位置まで移送して載置する方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハ等の円板状をなす被処理
物を所定の位置で受け取り、所定の位置まで搬送して受
け渡す装置として、搬送ベルトや移載ロボットが従来か
ら用いられている。
物を所定の位置で受け取り、所定の位置まで搬送して受
け渡す装置として、搬送ベルトや移載ロボットが従来か
ら用いられている。
【０００３】これら搬送ベルトや移載ロボットにあって
は、上流側または下流側にアライメントステーションを
配置し、被処理物の位置決めを正確に行うようにしてい
る。また、移載ロボットの中には円板状被処理物の外周
部を把持する構造のものがあり、このような構造の移載
ロボットにあっては把持した時点で機械的に円板状被処
理物の位置決めが済んでしまう。
は、上流側または下流側にアライメントステーションを
配置し、被処理物の位置決めを正確に行うようにしてい
る。また、移載ロボットの中には円板状被処理物の外周
部を把持する構造のものがあり、このような構造の移載
ロボットにあっては把持した時点で機械的に円板状被処
理物の位置決めが済んでしまう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、一般
的な移載装置にあってはアライメントステーションを設
けなければならないので、製造ライン全体が大掛りとな
り、またアライメントに要する時間も製造効率に悪影響
を与えている。
的な移載装置にあってはアライメントステーションを設
けなければならないので、製造ライン全体が大掛りとな
り、またアライメントに要する時間も製造効率に悪影響
を与えている。
【０００５】また、円板状被処理物の外周部を把持する
構造の移載ロボットを用いた場合には把持した時点で円
板状被処理物の中心点が決ってしまうので、アライメン
トステーションを省略することも可能である。しかしな
がら、このような構造のロボットは円板状被処理物の外
周部を把持するため、例えば表面に液体を塗布した状態
の半導体ウェーハ等を把持しようとすると、液体の部分
にロボットのフィンガーが触れてしまい、膜厚が不均一
になったり、フィンガーに塗布液が付着し、これが浮遊
異物になってスループットが低下する。
構造の移載ロボットを用いた場合には把持した時点で円
板状被処理物の中心点が決ってしまうので、アライメン
トステーションを省略することも可能である。しかしな
がら、このような構造のロボットは円板状被処理物の外
周部を把持するため、例えば表面に液体を塗布した状態
の半導体ウェーハ等を把持しようとすると、液体の部分
にロボットのフィンガーが触れてしまい、膜厚が不均一
になったり、フィンガーに塗布液が付着し、これが浮遊
異物になってスループットが低下する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、移載装置を中心としてその周囲に円板状被処理
物に対して異なる処理を行う複数の処理装置を配置し、
移載装置を用いて前記処理装置のうち１つの処理装置か
ら他の処理装置へ直接円板状被処理物を送り込む移載方
法であって、前記移載装置は回転可能なボックス状本体
と、このボックス状本体の長さ方向に進退動する支持部
材と、円板状被処理物の外周縁を検出する少なくとも２
つのセンサを備え、前記１つの処理装置から支持部材に
よって円板状被処理物を引き込む際に前記センサにて円
板状被処理物外周の３つの点を検出し、この検出した３
つの点を通る外接円の中心点を求め、移載装置によって
円板状被処理物を前記他の処理装置へ送り込む際に、前
記求めた中心点と他の処理装置における円板状被処理物
を受け取る部材の中心とが一致するように移載装置の回
動角および支持部材の伸びストロークを設定するように
した。
発明は、移載装置を中心としてその周囲に円板状被処理
物に対して異なる処理を行う複数の処理装置を配置し、
移載装置を用いて前記処理装置のうち１つの処理装置か
ら他の処理装置へ直接円板状被処理物を送り込む移載方
法であって、前記移載装置は回転可能なボックス状本体
と、このボックス状本体の長さ方向に進退動する支持部
材と、円板状被処理物の外周縁を検出する少なくとも２
つのセンサを備え、前記１つの処理装置から支持部材に
よって円板状被処理物を引き込む際に前記センサにて円
板状被処理物外周の３つの点を検出し、この検出した３
つの点を通る外接円の中心点を求め、移載装置によって
円板状被処理物を前記他の処理装置へ送り込む際に、前
記求めた中心点と他の処理装置における円板状被処理物
を受け取る部材の中心とが一致するように移載装置の回
動角および支持部材の伸びストロークを設定するように
した。
【０００７】前記異なる処理を行う処理装置としては、
回転カップ型塗布装置、減圧乾燥装置およびエッジ洗浄
装置が挙げられる。
回転カップ型塗布装置、減圧乾燥装置およびエッジ洗浄
装置が挙げられる。
【０００８】上記の移載装置において、受け取り位置及
び受け渡し位置に対して進退動するアームを回動可能な
ブロックに取り付けることで、目的とする位置に正確に
円板状被処理物を移載することが可能になる。尚、アー
ムを上下２段にすることで、移載装置としての効率を向
上させることができる。
び受け渡し位置に対して進退動するアームを回動可能な
ブロックに取り付けることで、目的とする位置に正確に
円板状被処理物を移載することが可能になる。尚、アー
ムを上下２段にすることで、移載装置としての効率を向
上させることができる。
【０００９】ここで、円板状被処理物の例としては、外
周の一部に位置決め用の切欠（オリエンテーションフラ
ット）を形成した半導体ウェーハが挙げられ、この場合
には前記センサーは３つ設けることが好ましい。即ち、
センサーが２つであると、１つが前記切欠にかかってし
まった場合に、外接円が得られなくなる。
周の一部に位置決め用の切欠（オリエンテーションフラ
ット）を形成した半導体ウェーハが挙げられ、この場合
には前記センサーは３つ設けることが好ましい。即ち、
センサーが２つであると、１つが前記切欠にかかってし
まった場合に、外接円が得られなくなる。
【００１０】
【作用】半導体ウェーハ等の円板状被処理物の外周に非
接触のままで中心点を割り出すことができるので、被処
理物外周を破損したり、被処理物表面に塗布液を塗布し
ていても塗布液が付着することがない。また、一連の搬
送或いは移載の動きの途中で円板状被処理物の中心点を
割り出すので、アライメントのための特別なステーショ
ンを設ける必要がなくなる。
接触のままで中心点を割り出すことができるので、被処
理物外周を破損したり、被処理物表面に塗布液を塗布し
ていても塗布液が付着することがない。また、一連の搬
送或いは移載の動きの途中で円板状被処理物の中心点を
割り出すので、アライメントのための特別なステーショ
ンを設ける必要がなくなる。
【００１１】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図１乃至図３は本発明に係る移載装
置を組込んだ塗布−乾燥−洗浄ステーションの平面図、
図４は本発明に係る移載装置の斜視図、図５は本発明に
係る移載方法の原理を説明した図である。
説明する。ここで、図１乃至図３は本発明に係る移載装
置を組込んだ塗布−乾燥−洗浄ステーションの平面図、
図４は本発明に係る移載装置の斜視図、図５は本発明に
係る移載方法の原理を説明した図である。
【００１２】図１乃至図３に示す塗布−乾燥−洗浄ステ
ーションは、中心に本発明に係る移載装置１を配置し、
その周囲に受け渡し装置２０、回転カップ型塗布装置３
０、減圧乾燥装置４０及びエッジ洗浄装置５０を配置し
ている。
ーションは、中心に本発明に係る移載装置１を配置し、
その周囲に受け渡し装置２０、回転カップ型塗布装置３
０、減圧乾燥装置４０及びエッジ洗浄装置５０を配置し
ている。
【００１３】移載装置１は図４に示すように、ボックス
状本体２にアーム３，４を干渉しないように重ねて設
け、これらアーム３，４を本体２内に収納した駆動機構
によって本体の長さ方向に進退動させるようにしてい
る。
状本体２にアーム３，４を干渉しないように重ねて設
け、これらアーム３，４を本体２内に収納した駆動機構
によって本体の長さ方向に進退動させるようにしてい
る。
【００１４】また、ボックス状本体２の一端側には環状
の支持体５を設け、この支持体５に発光素子６ａ，７
ａ，８ａを取り付け、これら発光素子６ａ，７ａ，８ａ
と対向する本体２の上面に受光素子６ｂ，７ｂ，８ｂを
設け、発光素子６ａと受光素子６ｂでセンサー６を、発
光素子７ａと受光素子７ｂでセンサー７を、発光素子８
ａと受光素子８ｂでセンサー８を構成している。
の支持体５を設け、この支持体５に発光素子６ａ，７
ａ，８ａを取り付け、これら発光素子６ａ，７ａ，８ａ
と対向する本体２の上面に受光素子６ｂ，７ｂ，８ｂを
設け、発光素子６ａと受光素子６ｂでセンサー６を、発
光素子７ａと受光素子７ｂでセンサー７を、発光素子８
ａと受光素子８ｂでセンサー８を構成している。
【００１５】更に、ボックス状本体２は軸９（図１〜図
３参照）を中心として回動可能とされ、且つ上下動も可
能とされている。そして、ボックス状本体２内には制御
装置を組み込み、この制御装置からの信号によってボッ
クス状本体２の回動量、上下動及びアーム３，４の進退
動のストローク長さをコントロールするようにしてい
る。
３参照）を中心として回動可能とされ、且つ上下動も可
能とされている。そして、ボックス状本体２内には制御
装置を組み込み、この制御装置からの信号によってボッ
クス状本体２の回動量、上下動及びアーム３，４の進退
動のストローク長さをコントロールするようにしてい
る。
【００１６】また、受け渡し装置２０はベース２１にウ
ェーハＷの載置台２２を備え、その周囲に位置決めピン
２３…を配置し、載置台２２にウェーハＷを載置した状
態で載置台２２の中心に向かってピン２３…を移動する
ことでウェーハＷの中心と載置台２２の中心とが一致す
るように位置決めする。
ェーハＷの載置台２２を備え、その周囲に位置決めピン
２３…を配置し、載置台２２にウェーハＷを載置した状
態で載置台２２の中心に向かってピン２３…を移動する
ことでウェーハＷの中心と載置台２２の中心とが一致す
るように位置決めする。
【００１７】受け渡し装置２０において、位置決めピン
２３…を４本配置したのは、ウェーハＷの外周の一部に
他の工程で必要な位置決め用の切欠（オリエンテーショ
ンフラット）Ｗoがあり、ここにピンの１つが一致して
も残りの３本でアライメントができるようにするためで
ある。尚、位置決めピン２３の本数は４本以上であれば
よく５本，６本でもよい。
２３…を４本配置したのは、ウェーハＷの外周の一部に
他の工程で必要な位置決め用の切欠（オリエンテーショ
ンフラット）Ｗoがあり、ここにピンの１つが一致して
も残りの３本でアライメントができるようにするためで
ある。尚、位置決めピン２３の本数は４本以上であれば
よく５本，６本でもよい。
【００１８】また、本発明にあっては後述するように移
載装置１自体がウェーハＷのアライメント機能を備えて
いるので、受け渡し装置２０で正確にアライメントしな
くともよいので、位置決めピン２３…を省くことも可能
である。
載装置１自体がウェーハＷのアライメント機能を備えて
いるので、受け渡し装置２０で正確にアライメントしな
くともよいので、位置決めピン２３…を省くことも可能
である。
【００１９】回転カップ型塗布装置３０は、アウターカ
ップ３１内に回転せしめられるインナーカップを配置
し、インナーカップ内にウェーハＷをセットし、このセ
ットされたウェーハＷ表面に塗布液を滴下した後、アウ
ターカップ３１及びインナーカップの上面開口を蓋体で
閉塞した状態でインナーカップを回転せしめ、遠心力に
て塗布液をウェーハＷ上面に均一に拡散せしめる。
ップ３１内に回転せしめられるインナーカップを配置
し、インナーカップ内にウェーハＷをセットし、このセ
ットされたウェーハＷ表面に塗布液を滴下した後、アウ
ターカップ３１及びインナーカップの上面開口を蓋体で
閉塞した状態でインナーカップを回転せしめ、遠心力に
て塗布液をウェーハＷ上面に均一に拡散せしめる。
【００２０】減圧乾燥装置４０は、ケース４１内にウェ
ーハ載置台を配置し、表面に塗布液が塗布されたウェー
ハＷをウェーハ載置台上にセットし、蓋体で閉塞した状
態でケース４１内を減圧し、塗布液中の溶媒を除去して
乾燥せしめる。尚、ウェーハ載置台を回転せしめてケー
ス４１内を減圧するようにしてもよく、このときの回転
速度は前記回転カップ型塗布装置３０よりも低速とす
る。
ーハ載置台を配置し、表面に塗布液が塗布されたウェー
ハＷをウェーハ載置台上にセットし、蓋体で閉塞した状
態でケース４１内を減圧し、塗布液中の溶媒を除去して
乾燥せしめる。尚、ウェーハ載置台を回転せしめてケー
ス４１内を減圧するようにしてもよく、このときの回転
速度は前記回転カップ型塗布装置３０よりも低速とす
る。
【００２１】エッジ洗浄装置５０は、ケース５１内にス
ピンナーを配置するとともに、ウェーハＷの周縁部に洗
浄液を噴出するノズル５２を備えている。
ピンナーを配置するとともに、ウェーハＷの周縁部に洗
浄液を噴出するノズル５２を備えている。
【００２２】次に塗布−乾燥−洗浄ステーションの作用
について説明する。先ず、図１に示すように移載装置１
を受け渡し装置２０に向け、アーム３を伸ばして受け渡
し装置２０の載置台２２上にセットされているウェーハ
Ｗの下方に差し入れ、次いで、移載装置１全体を上昇さ
せ、載置台２２上からウェーハＷをアーム３上に受け取
り、アーム３を引き込む。
について説明する。先ず、図１に示すように移載装置１
を受け渡し装置２０に向け、アーム３を伸ばして受け渡
し装置２０の載置台２２上にセットされているウェーハ
Ｗの下方に差し入れ、次いで、移載装置１全体を上昇さ
せ、載置台２２上からウェーハＷをアーム３上に受け取
り、アーム３を引き込む。
【００２３】アーム３を引き込むことによってウェーハ
Ｗは前記発光素子６ａ，７ａ，８ａと受光素子６ｂ，７
ｂ，８ｂとの間を通過することになり、以下に述べる原
理でセンサー６，７，８にてウェーハＷの中心が求めら
れる。
Ｗは前記発光素子６ａ，７ａ，８ａと受光素子６ｂ，７
ｂ，８ｂとの間を通過することになり、以下に述べる原
理でセンサー６，７，８にてウェーハＷの中心が求めら
れる。
【００２４】即ち、ウェーハＷが引き込まれると、その
引き込まれる速度に応じて図５の点線のウェーハで示す
ように、発光素子６ａと受光素子６ｂとを結ぶ線とウェ
ーハＷの外周との交点Ｐ１，Ｐ２、発光素子７ａと受光
素子７ｂとを結ぶ線とウェーハＷの外周との交点Ｐ３，
Ｐ４、発光素子８ａと受光素子８ｂとを結ぶ線とウェー
ハＷの外周との交点Ｐ５，Ｐ６の合計６点が与えられ
る。
引き込まれる速度に応じて図５の点線のウェーハで示す
ように、発光素子６ａと受光素子６ｂとを結ぶ線とウェ
ーハＷの外周との交点Ｐ１，Ｐ２、発光素子７ａと受光
素子７ｂとを結ぶ線とウェーハＷの外周との交点Ｐ３，
Ｐ４、発光素子８ａと受光素子８ｂとを結ぶ線とウェー
ハＷの外周との交点Ｐ５，Ｐ６の合計６点が与えられ
る。
【００２５】上記のＰ１〜Ｐ６の６点のうち例えば切欠
Ｗoにかかる点（Ｐ６）を除いた中から適当な３点を前
記制御装置が選択し、この３点を通る外接円の中心Ｏ1
を求める。この中心Ｏ1をウェーハＷの中心と見做す。
Ｗoにかかる点（Ｐ６）を除いた中から適当な３点を前
記制御装置が選択し、この３点を通る外接円の中心Ｏ1
を求める。この中心Ｏ1をウェーハＷの中心と見做す。
【００２６】次いで、図２に示すように、移載装置１
（ボックス状本体２）を回転させて回転カップ型塗布装
置３０に向け、アーム３を伸ばしウェーハＷを回転カッ
プ型塗布装置３０のスピンナー上にセットする。尚、効
率的な処理を行うため本実施例では、他方のアーム４も
使用してウェーハＷを移載するようにしている。
（ボックス状本体２）を回転させて回転カップ型塗布装
置３０に向け、アーム３を伸ばしウェーハＷを回転カッ
プ型塗布装置３０のスピンナー上にセットする。尚、効
率的な処理を行うため本実施例では、他方のアーム４も
使用してウェーハＷを移載するようにしている。
【００２７】ここで、ウェーハＷを回転カップ型塗布装
置３０のスピンナー上にセットするにあたっては、前記
の方法にて求めたウェーハＷの中心Ｏ1と塗布装置３０
のスピンナー中心Ｏ2とが一致するように本体２内に組
み込んだ制御装置から駆動機構に信号を出力し、移載装
置１の回転角及びアームの伸びストロークを設定する。
置３０のスピンナー上にセットするにあたっては、前記
の方法にて求めたウェーハＷの中心Ｏ1と塗布装置３０
のスピンナー中心Ｏ2とが一致するように本体２内に組
み込んだ制御装置から駆動機構に信号を出力し、移載装
置１の回転角及びアームの伸びストロークを設定する。
【００２８】そして、回転カップ型塗布装置３０におけ
る塗布工程が終了したら、アーム３を伸ばしウェーハＷ
を受け取り、アーム３を引き込む。この引き込み動によ
って再びウェーハＷの中心を求める。
る塗布工程が終了したら、アーム３を伸ばしウェーハＷ
を受け取り、アーム３を引き込む。この引き込み動によ
って再びウェーハＷの中心を求める。
【００２９】即ち、図５の想像線で示すウェーハＷ’を
塗布工程が終了した後にアーム３で受け取ったウェーハ
とすると、このウェーハＷ’の中心Ｏ3を、点Ｐ７，Ｐ
８，Ｐ９，Ｐ１０，Ｐ１１，Ｐ１２のうちの３点を選択
して求め、求めた中心Ｏ3と減圧乾燥装置４０のスピン
ナー中心Ｏ4とが一致するように本体２内に組み込んだ
制御装置から駆動機構に信号を出力し、移載装置１の回
転角及びアームの伸びストロークを設定する。
塗布工程が終了した後にアーム３で受け取ったウェーハ
とすると、このウェーハＷ’の中心Ｏ3を、点Ｐ７，Ｐ
８，Ｐ９，Ｐ１０，Ｐ１１，Ｐ１２のうちの３点を選択
して求め、求めた中心Ｏ3と減圧乾燥装置４０のスピン
ナー中心Ｏ4とが一致するように本体２内に組み込んだ
制御装置から駆動機構に信号を出力し、移載装置１の回
転角及びアームの伸びストロークを設定する。
【００３０】同様にして、減圧乾燥装置４０にて乾燥工
程が終了したウェーハをエッジ洗浄装置５０に送り込む
場合も、ウェーハＷの中心と減圧乾燥装置４０の回転す
る載置台の中心とが一致するように駆動機構を制御す
る。
程が終了したウェーハをエッジ洗浄装置５０に送り込む
場合も、ウェーハＷの中心と減圧乾燥装置４０の回転す
る載置台の中心とが一致するように駆動機構を制御す
る。
【００３１】以上において本来であれば、塗布装置から
減圧乾燥装置、減圧乾燥装置からエッジ洗浄装置にウェ
ーハを移載するにあたり、各移載毎にアライメントする
必要があるが、本発明によれば特別なアライメント機構
を設けることなく、正確な位置決めができる。
減圧乾燥装置、減圧乾燥装置からエッジ洗浄装置にウェ
ーハを移載するにあたり、各移載毎にアライメントする
必要があるが、本発明によれば特別なアライメント機構
を設けることなく、正確な位置決めができる。
【００３２】尚、図示例にあってはアームによってウェ
ーハＷの下面を支持して移載する装置について説明した
が、ベルトによってウェーハＷの下面を支持する装置に
ついても本発明は適用することができる。
ーハＷの下面を支持して移載する装置について説明した
が、ベルトによってウェーハＷの下面を支持する装置に
ついても本発明は適用することができる。
【００３３】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
少なくとも２つのセンサーによって少なくとも円板状被
処理物外周の３つの点を検出し、検出した３つの点を通
る外接円の中心点を求め、この中心点を円板状被処理物
の中心点と見做し、この中心点を基準として円板状被処
理物を移送或いは受け渡すようにしたので、半導体ウェ
ーハ等の円板状被処理物の外周に接触することなく移載
が可能となる。したがって、被処理物外周を破損した
り、被処理物表面に塗布液を塗布していても塗布液が付
着することがない。
少なくとも２つのセンサーによって少なくとも円板状被
処理物外周の３つの点を検出し、検出した３つの点を通
る外接円の中心点を求め、この中心点を円板状被処理物
の中心点と見做し、この中心点を基準として円板状被処
理物を移送或いは受け渡すようにしたので、半導体ウェ
ーハ等の円板状被処理物の外周に接触することなく移載
が可能となる。したがって、被処理物外周を破損した
り、被処理物表面に塗布液を塗布していても塗布液が付
着することがない。
【００３４】また、一連の搬送或いは移載の動きの途中
で円板状被処理物の中心点を割り出すので、アライメン
トのための特別なステーションを設ける必要がなくな
り、製造ラインの簡略化が図れる。
で円板状被処理物の中心点を割り出すので、アライメン
トのための特別なステーションを設ける必要がなくな
り、製造ラインの簡略化が図れる。
【図１】本発明に係る移載装置を組み込んだ塗布−乾燥
−洗浄ステーションの平面図
−洗浄ステーションの平面図
【図２】同塗布−乾燥−洗浄ステーションの平面図
【図３】同塗布−乾燥−洗浄ステーションの平面図
【図４】本発明に係る移載装置の斜視図
【図５】本発明に係る移載方法の原理を説明した図
１…移載装置、２…移載装置本体、３，４…アーム（支
持体）、６，７，８…センサー、６ａ，７ａ，８ａ…発
光素子、６ｂ，７ｂ，８ｂ…受光素子、２０…受け渡し
装置、３０…回転カップ式塗布装置、４０…減圧乾燥装
置、５０…エッジ洗浄装置、Ｐ１〜Ｐ６，Ｐ７〜Ｐ１２
…外接円を求めるための点 Ｏ1，Ｏ3…外接円の中心、
Ｏ2…回転カップ式塗布装置のスピンナーの中心、Ｏ4…
減圧乾燥装置のスピンナーの中心、Ｗ…半導体ウェー
ハ。
持体）、６，７，８…センサー、６ａ，７ａ，８ａ…発
光素子、６ｂ，７ｂ，８ｂ…受光素子、２０…受け渡し
装置、３０…回転カップ式塗布装置、４０…減圧乾燥装
置、５０…エッジ洗浄装置、Ｐ１〜Ｐ６，Ｐ７〜Ｐ１２
…外接円を求めるための点 Ｏ1，Ｏ3…外接円の中心、
Ｏ2…回転カップ式塗布装置のスピンナーの中心、Ｏ4…
減圧乾燥装置のスピンナーの中心、Ｗ…半導体ウェー
ハ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有川 徹 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東京応化工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−48443（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−226437（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−74699（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/68 B65G 49/07 H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 移載装置を中心としてその周囲に円板状
被処理物に対して異なる処理を行う複数の処理装置を配
置し、移載装置を用いて前記処理装置のうち１つの処理
装置から他の処理装置へ直接円板状被処理物を送り込む
移載方法であって、前記移載装置は回転可能なボックス
状本体と、このボックス状本体の長さ方向に進退動する
支持部材と、円板状被処理物の外周縁を検出する少なく
とも２つのセンサを備え、前記１つの処理装置から支持
部材によって円板状被処理物を引き込む際に前記センサ
にて円板状被処理物外周の３つの点を検出し、この検出
した３つの点を通る外接円の中心点を求め、移載装置に
よって円板状被処理物を前記他の処理装置へ送り込む際
に、前記求めた中心点と他の処理装置における円板状被
処理物を受け取る部材の中心とが一致するように移載装
置の回動角および支持部材の伸びストロークを設定する
ことを特徴とする円板状被処理物の移載方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の円板状被処理物の移載
方法において、前記異なる処理を行う処理装置は、回転
カップ型塗布装置、減圧乾燥装置およびエッジ洗浄装置
であることを特徴とする円板状被処理物の移載方法。
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