JPS6220116A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6220116A JPS6220116A JP15822485A JP15822485A JPS6220116A JP S6220116 A JPS6220116 A JP S6220116A JP 15822485 A JP15822485 A JP 15822485A JP 15822485 A JP15822485 A JP 15822485A JP S6220116 A JPS6220116 A JP S6220116A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film magnetic
- symbol
- wafer
- elements
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/10—Indicating arrangements; Warning arrangements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は薄膜磁気ヘッドに係り、ウエノ・上に一括形成
される薄膜磁気素子、ウェハが加工されて完成する多数
の薄膜磁気ヘッドを識別するのに好適な薄膜磁気ヘッド
に関する。
される薄膜磁気素子、ウェハが加工されて完成する多数
の薄膜磁気ヘッドを識別するのに好適な薄膜磁気ヘッド
に関する。
薄膜磁気ヘッドは、フォトリソ技術を利用し。
例えば特開昭５５−８４０１９号公報に示されるような
薄膜磁気素子をウェハ上に多数個一括形成し。
薄膜磁気素子をウェハ上に多数個一括形成し。
このウェハを薄膜磁気素子列毎に切断、そして例えば特
開昭５６−１５３５３１号公報に示されているようなス
ライダー形状に機械加工によって仕上げられる。
開昭５６−１５３５３１号公報に示されているようなス
ライダー形状に機械加工によって仕上げられる。
薄膜磁気ヘッドは、一度に多数個生産され。
中には不良品がまぎれこんだりもする。また。
ウェハ単位、又はウェハ内において、電気特性に差が現
れたりもする。これらを防止５あるいは管理するために
、スライダー（薄膜磁気ヘッド）単位毎に、スライダー
を各々識別する記号（例えば、スライダー毎に異なる数
字）を入れることが必要である。
れたりもする。これらを防止５あるいは管理するために
、スライダー（薄膜磁気ヘッド）単位毎に、スライダー
を各々識別する記号（例えば、スライダー毎に異なる数
字）を入れることが必要である。
この方法として第３図に示すように、スライダーの空気
流入端面５に、レーザー等を用いて数子３を描画する方
法がある。一般には、ウェハを切断するまでにウニへ表
面に形成された薄膜磁気素子の真裏に数字を描画しなげ
ればならず、描画位置設定、精度を出すのが難しい。又
。
流入端面５に、レーザー等を用いて数子３を描画する方
法がある。一般には、ウェハを切断するまでにウニへ表
面に形成された薄膜磁気素子の真裏に数字を描画しなげ
ればならず、描画位置設定、精度を出すのが難しい。又
。
ウェハ単位に数字を描画するのであるが、１枚のウェハ
内に薄膜磁気ヘッドが数百個形成されるので、レーザー
での描画時間も長くなる。さらに、ウェハの裏面に数字
が描画されているので、ウェハ表面に形成された素子の
検査時に。
内に薄膜磁気ヘッドが数百個形成されるので、レーザー
での描画時間も長くなる。さらに、ウェハの裏面に数字
が描画されているので、ウェハ表面に形成された素子の
検査時に。
裏面に描かれた数字が見えず不便である。
本発明の目的は、ヘッドを識別するための記号（数字等
）が短時間で、ウェハ表面（素子形成面）に描画された
薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
）が短時間で、ウェハ表面（素子形成面）に描画された
薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
本発明は、前述した不都合点を改良するために、ウェハ
表面に形成する素子の工程の一つと同一工程でフオリソ
技術を用い、薄膜ヘッドを識別する記号（数字等）を一
括して形成するものである。
表面に形成する素子の工程の一つと同一工程でフオリソ
技術を用い、薄膜ヘッドを識別する記号（数字等）を一
括して形成するものである。
〔発明の実施例〕
以下１本発明の一実施例を第１図を用いて説明する。ウ
ェハ１上に薄膜磁気素子列４が形成され、素子形成面と
ロー面上に薄膜ヘッドを識別する記号３が形成されてい
る（第１図）。第２図は、ウェハ１を機械加工によりス
ライダー２に仕トげた状態を示すものであり、薄膜ヘッ
ド（スライダー）か識別する記号３が０Ｍ膜素子形成面
と同一面（スライダーの空気流出端面６）に形成されて
いる。次に、薄膜ヘッドを識別する上記記号３の形成方
法を示す。フオ） ＩＪソ技術で薄膜素子を形成する際
、使用するフォトマスクの１枚に素子毎に異なる記号（
数子等）が描画されたものを使う。このようにすること
により、素子部と記号部が同一フォトマスクで露光され
、素子部の形成と同時に記号部も形成される。
ェハ１上に薄膜磁気素子列４が形成され、素子形成面と
ロー面上に薄膜ヘッドを識別する記号３が形成されてい
る（第１図）。第２図は、ウェハ１を機械加工によりス
ライダー２に仕トげた状態を示すものであり、薄膜ヘッ
ド（スライダー）か識別する記号３が０Ｍ膜素子形成面
と同一面（スライダーの空気流出端面６）に形成されて
いる。次に、薄膜ヘッドを識別する上記記号３の形成方
法を示す。フオ） ＩＪソ技術で薄膜素子を形成する際
、使用するフォトマスクの１枚に素子毎に異なる記号（
数子等）が描画されたものを使う。このようにすること
により、素子部と記号部が同一フォトマスクで露光され
、素子部の形成と同時に記号部も形成される。
記号部が描画されたフォトマスクは、素子部の形成に用
いる第１層めのフォトマスクと等しいことが好ましい。
いる第１層めのフォトマスクと等しいことが好ましい。
（このようにすることにより第２層め以降の形成時には
、すでに薄膜ヘッドを識別する記号が形成されているた
め）。
、すでに薄膜ヘッドを識別する記号が形成されているた
め）。
以上は本発明の一実施例であり、薄膜ヘッドを認識する
記号３は数字・文字等で良く、記号３の位置はスライダ
ー加工後も記号が残る位置であれば良い。また０本発明
と従来方式のレーザー等での記号描画を組み合わせ、レ
ーザー描画時間の短縮を計るのも本発明の範浬内である
。
記号３は数字・文字等で良く、記号３の位置はスライダ
ー加工後も記号が残る位置であれば良い。また０本発明
と従来方式のレーザー等での記号描画を組み合わせ、レ
ーザー描画時間の短縮を計るのも本発明の範浬内である
。
本発明によれば、素子工程の一つと同一工程で薄膜磁気
ヘッドを識別する記号が形成されるので、工程数をふや
すことなく、短時間で記号が形成出来、また素子形成面
と同一面内に記号が形成されるので、素子と記号を一度
に見ることが出来素子の検査環、管理が簡単になる。
ヘッドを識別する記号が形成されるので、工程数をふや
すことなく、短時間で記号が形成出来、また素子形成面
と同一面内に記号が形成されるので、素子と記号を一度
に見ることが出来素子の検査環、管理が簡単になる。
第１図、第２図は本発明の一実施例を示す斜視図、第３
図は従来例を示す斜視図である。 １…ウエハ。 ２・・・薄膜へ・ソドスライダー。 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 に
図は従来例を示す斜視図である。 １…ウエハ。 ２・・・薄膜へ・ソドスライダー。 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 に
Claims (1)
- １、基板上に薄膜磁気素子が形成され、後に所定の寸法
を持つスライダーとして該基板が切断加工されて完成す
る薄膜磁気ヘッドにおいて、少なくとも基板上の薄膜素
子形成面にフォトリソ技術を用いて、スライダーとして
加工される単位毎に異なる記号が形成され、スライダー
完成後の薄膜磁気素子が形成されている面内に、該記号
が残されいることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15822485A JPS6220116A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15822485A JPS6220116A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6220116A true JPS6220116A (ja) | 1987-01-28 |
Family
ID=15666992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15822485A Pending JPS6220116A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6220116A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04102214A (ja) * | 1990-08-17 | 1992-04-03 | Yamaha Corp | 薄膜磁気ヘッドの製造法 |
| JPH04356717A (ja) * | 1991-01-28 | 1992-12-10 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘッドおよび薄膜磁気ヘッドへの記号群の付与方法 |
| GB2303959A (en) * | 1995-08-02 | 1997-03-05 | Tdk Corp | Thin film magnetic head and head manufacturing method |
| US6731373B2 (en) | 2000-08-24 | 2004-05-04 | Tdk Corporation | Method for imprinting a wafer with identifying information, and exposing method and apparatus for imprinting a wafer with identifying information |
| US7114239B2 (en) | 2002-10-04 | 2006-10-03 | Neomax Co., Ltd. | Method for manufacturing a thin-film magnetic head wafer |
| US7820366B2 (en) | 2005-04-06 | 2010-10-26 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Method of writing identifying information on wafer |
| US7919231B2 (en) | 2007-09-04 | 2011-04-05 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Photolithographic method and mask devices utilized for multiple exposures in the field of a feature |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59129915A (ja) * | 1983-01-13 | 1984-07-26 | Seiko Epson Corp | 磁気記録装置 |
| JPS6052023A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-23 | Matsushita Electric Works Ltd | マスクアライナ− |
-
1985
- 1985-07-19 JP JP15822485A patent/JPS6220116A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59129915A (ja) * | 1983-01-13 | 1984-07-26 | Seiko Epson Corp | 磁気記録装置 |
| JPS6052023A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-23 | Matsushita Electric Works Ltd | マスクアライナ− |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5721651A (en) * | 1995-08-02 | 1998-02-24 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and manufacturing method of the same |
| US5837963A (en) * | 1995-08-02 | 1998-11-17 | Tdk Corporation | Method of manufacturing a thin film magnetic head with identification marks |
| US6731373B2 (en) | 2000-08-24 | 2004-05-04 | Tdk Corporation | Method for imprinting a wafer with identifying information, and exposing method and apparatus for imprinting a wafer with identifying information |
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| US8268517B2 (en) | 2007-09-04 | 2012-09-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Photolithographic method and mask devices utilized for multiple exposures in the field of a feature |
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