JPS6361405A - 薄膜積層型磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜積層型磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6361405A JPS6361405A JP20405786A JP20405786A JPS6361405A JP S6361405 A JPS6361405 A JP S6361405A JP 20405786 A JP20405786 A JP 20405786A JP 20405786 A JP20405786 A JP 20405786A JP S6361405 A JPS6361405 A JP S6361405A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この考案は、メタルテープ等の高保持力媒体に高密度記
録を行うVTR装置等に使用される薄膜積層型磁気ヘッ
ドに関する。
録を行うVTR装置等に使用される薄膜積層型磁気ヘッ
ドに関する。
[従来の技術]
メタルテープ等の高保磁力媒体に高密度記録を行うため
には、磁気ヘッドの発生する磁界が強力でなければなら
ないが、この上うな高保磁力媒体に適した磁気ヘッドと
して、従来、tlrJ10図に示すごとく、高飽和磁束
密度の軟磁性合金膜を磁気へ?ドコアとする薄膜積層型
磁気ヘッドがある。
には、磁気ヘッドの発生する磁界が強力でなければなら
ないが、この上うな高保磁力媒体に適した磁気ヘッドと
して、従来、tlrJ10図に示すごとく、高飽和磁束
密度の軟磁性合金膜を磁気へ?ドコアとする薄膜積層型
磁気ヘッドがある。
この薄膜積層型磁気ヘッド1は、非磁性基板2aの上に
パーマロイ、センダスト等の軟磁性合金と二酸化珪素等
の非磁性材とを交互に多層に積層させて軟磁性合金膜3
を形成し、これに同じ非磁性基板2bを接合して半体4
aを形成し、巻IQ窓5をあけた1肖記と同様な半体4
bをガラスボンディング等により互いに接合して製造し
ていた。この構造では軟磁性膜/に膜3自体がコアとな
る。6はギヤ71部を示す。
パーマロイ、センダスト等の軟磁性合金と二酸化珪素等
の非磁性材とを交互に多層に積層させて軟磁性合金膜3
を形成し、これに同じ非磁性基板2bを接合して半体4
aを形成し、巻IQ窓5をあけた1肖記と同様な半体4
bをガラスボンディング等により互いに接合して製造し
ていた。この構造では軟磁性膜/に膜3自体がコアとな
る。6はギヤ71部を示す。
[2!案が解決しようとする問題点1
上記従来の薄膜積層型磁気ヘッドの製造方法は、必ずし
も工程が簡単でなく、かつ、量産化に適していなかった
1例えば、2つの牛体4 a、 4 bをそれぞれの軟
磁性合金膜3,3が正確に一致するように突き合わせる
ことが必要であるが、その正確な突き合わせ作業自体が
繁雑であるし、また、多数個取りを行うために、左側の
半体4aを複数個重ね合わせたものと、右側の半体4b
を同じく多数個重ね合わせたものとを相互に対向させ接
合して、多数個分を同時に加工しようとしても、半体の
重ね合わせによるトラック幅位置のずれのために、せい
ぜい2〜3個の半体の重ね合わせしかできず、多数個取
りには不向きで量産性に劣り、かつ、歩留りも低い。ま
た、2つの半体を突き合わせ接合rる繁雑な作業が必要
である点等から、信頼性が必ずしも充分高いとは言えな
かった。
も工程が簡単でなく、かつ、量産化に適していなかった
1例えば、2つの牛体4 a、 4 bをそれぞれの軟
磁性合金膜3,3が正確に一致するように突き合わせる
ことが必要であるが、その正確な突き合わせ作業自体が
繁雑であるし、また、多数個取りを行うために、左側の
半体4aを複数個重ね合わせたものと、右側の半体4b
を同じく多数個重ね合わせたものとを相互に対向させ接
合して、多数個分を同時に加工しようとしても、半体の
重ね合わせによるトラック幅位置のずれのために、せい
ぜい2〜3個の半体の重ね合わせしかできず、多数個取
りには不向きで量産性に劣り、かつ、歩留りも低い。ま
た、2つの半体を突き合わせ接合rる繁雑な作業が必要
である点等から、信頼性が必ずしも充分高いとは言えな
かった。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、多数個取
りが可能で量産性に優れ、歩留りが高く、また、製造工
程が簡単でイ3頼性の高い薄膜植l(η型磁気ヘッドの
製造方法を提供することを口約とする。
りが可能で量産性に優れ、歩留りが高く、また、製造工
程が簡単でイ3頼性の高い薄膜植l(η型磁気ヘッドの
製造方法を提供することを口約とする。
[間に、αを解決するための手段]
上記問題点を解決する本発明は、非磁性基板上に現数の
非磁性膜を点在するごとく形成する工程と、前記の各非
磁性膜をギャップスペーサ部および巻線窓位置部を残し
てエツチングする工程と、前記非磁性基板の前記非磁性
膜がわの面に磁気ヘッドコアとなる高飽和磁束密度の軟
磁性膜を形成する工程と、前記軟磁性膜の厚みが所定の
トラック幅となるまで前記軟磁性膜をエッチバックする
工程と、上記の加工を施した非磁性基板の軟磁性膜がわ
の面に、これと対となる巻!窓あきの非磁性基板を、そ
の巻線窓が非磁性基板の8#iI窓位置部に一致するよ
うに重ね合わせ、接着接合して接合ブロックを形成する
工程と、前記接合ブロックの一力の非磁性基板の巻線窓
と同位置で他方の非磁性基板に穴をあけて、「i?7記
接合ブロックに貫通した巻線Zを形成する工程と、前記
接合ブロックをスライスして、ヘッド単体を切り出し、
そのヘッド先端面を曲面状に研摩し、次いで、巻#iI
窓部分に巻線を施す工程と、からなる製造方法である。
非磁性膜を点在するごとく形成する工程と、前記の各非
磁性膜をギャップスペーサ部および巻線窓位置部を残し
てエツチングする工程と、前記非磁性基板の前記非磁性
膜がわの面に磁気ヘッドコアとなる高飽和磁束密度の軟
磁性膜を形成する工程と、前記軟磁性膜の厚みが所定の
トラック幅となるまで前記軟磁性膜をエッチバックする
工程と、上記の加工を施した非磁性基板の軟磁性膜がわ
の面に、これと対となる巻!窓あきの非磁性基板を、そ
の巻線窓が非磁性基板の8#iI窓位置部に一致するよ
うに重ね合わせ、接着接合して接合ブロックを形成する
工程と、前記接合ブロックの一力の非磁性基板の巻線窓
と同位置で他方の非磁性基板に穴をあけて、「i?7記
接合ブロックに貫通した巻線Zを形成する工程と、前記
接合ブロックをスライスして、ヘッド単体を切り出し、
そのヘッド先端面を曲面状に研摩し、次いで、巻#iI
窓部分に巻線を施す工程と、からなる製造方法である。
[作用1
上記製造方法においては、1枚の非磁性基板上に高飽和
磁束密度の軟磁性膜による磁気へ/ドコア、および、ギ
ャップスペーサを形成するものであるから、トラック幅
位置今わせの問題は生じない。したがって、容易に多数
個取りを行うことができ、また、歩留りも向上する。
磁束密度の軟磁性膜による磁気へ/ドコア、および、ギ
ャップスペーサを形成するものであるから、トラック幅
位置今わせの問題は生じない。したがって、容易に多数
個取りを行うことができ、また、歩留りも向上する。
また、接合作業が必要なのは、非磁性基板の広い面どう
しを接合する工程のみで、従来のような2つの半体を接
合させてヤヤンプ部を形成する繁雑な工程は不要であり
、製造工程が閣早である。
しを接合する工程のみで、従来のような2つの半体を接
合させてヤヤンプ部を形成する繁雑な工程は不要であり
、製造工程が閣早である。
[実施例]
以下、本発明の製造方法の一文施例を第1図〜第9図を
参照して説明する。
参照して説明する。
まず、第1図に示すように結晶化プラス、セラミック等
の非磁性基板10aを作り、その表面を研摩仕上げした
後、スパッタリング−・Fにより第2図に示すように、
二酸化珪1si02?pによる非磁性膜11を等間隔に
5α在するごと<Jfう成する。この場合、マスキング
を、電してスパッタリングするとよい。また、この非磁
1膜11の17みは、少なくともトラック幅寸法より厚
く形成する。
の非磁性基板10aを作り、その表面を研摩仕上げした
後、スパッタリング−・Fにより第2図に示すように、
二酸化珪1si02?pによる非磁性膜11を等間隔に
5α在するごと<Jfう成する。この場合、マスキング
を、電してスパッタリングするとよい。また、この非磁
1膜11の17みは、少なくともトラック幅寸法より厚
く形成する。
次いで、第3図に示すように、前記非磁性膜11をギャ
ップスペーサ部11a、および、巻線窓位置部11bが
残るようにエツチングする。なお、ギャップスペーサ部
11aの寸法1は例えば1μ以下等の狭い寸法であるか
ら、リアクティブ・イオン・エツチング(RIE)等の
高精度のエツチング法を採用する。
ップスペーサ部11a、および、巻線窓位置部11bが
残るようにエツチングする。なお、ギャップスペーサ部
11aの寸法1は例えば1μ以下等の狭い寸法であるか
ら、リアクティブ・イオン・エツチング(RIE)等の
高精度のエツチング法を採用する。
次いで、第4図に示すように、前記非磁性基板10aの
非磁性膜11がわの面にパーマロイ、センダスト、ある
いは、軟磁性アモルファス合金等の高飽和磁束密度の軟
磁性膜12をスパッタリング等により形成する。なお、
磁気ヘッドコアとなるこの軟磁性膜12は、うず電流損
失を低減するために、非磁性材(例えば二酸化珪素5i
02等)と交互に多層に積層して形成することもできる
。
非磁性膜11がわの面にパーマロイ、センダスト、ある
いは、軟磁性アモルファス合金等の高飽和磁束密度の軟
磁性膜12をスパッタリング等により形成する。なお、
磁気ヘッドコアとなるこの軟磁性膜12は、うず電流損
失を低減するために、非磁性材(例えば二酸化珪素5i
02等)と交互に多層に積層して形成することもできる
。
次いで、前記軟磁性膜12の厚みが所定のトラック幅と
なるまでエッチバックする。これにより、第5図に示す
ように、非磁性膜11のギャップスペーサ部分11a、
および、8#i窓位置部分11bが軟磁性膜12と而−
となり、露出する。
なるまでエッチバックする。これにより、第5図に示す
ように、非磁性膜11のギャップスペーサ部分11a、
および、8#i窓位置部分11bが軟磁性膜12と而−
となり、露出する。
次いで、上記加工を施した非磁性基板10aの巻線窓位
置部11bと同じ位置に放電穴あけ加工等による巻線窓
13゛を持つ対となる非磁性基板10bを作り、非磁性
基板10aの巻線窓位置部11bと非磁性基板10bの
巻線窓13゛とが一致するように両弁磁性基板10a、
10bを重ね合わせ、接着剤により接合して、第7図の
ごとき接合ブロック14を形成する。
置部11bと同じ位置に放電穴あけ加工等による巻線窓
13゛を持つ対となる非磁性基板10bを作り、非磁性
基板10aの巻線窓位置部11bと非磁性基板10bの
巻線窓13゛とが一致するように両弁磁性基板10a、
10bを重ね合わせ、接着剤により接合して、第7図の
ごとき接合ブロック14を形成する。
次いで、前記接合ブロック14の一方の非磁性基板10
bの巻線窓13’と同位置、同形状で他力の非磁性基@
10 aに放電加工により穴をあけ、貫通した巻線窓
を形成する。その後、第7図に矢印で示すようにスライ
スして、第8図のごときヘッド単体15゛を得る。この
ヘッド単体15゛のヘッド先端面(図では上面)をR状
に研)?仕上げすれば、第9図に示すごとき薄膜積層型
磁気ヘッド15が得られる。なお、図示は省略したが、
巻線窓13の部分には巻線を施す。この藩B9.積層型
磁気ヘッド15においては、軟磁性膜12が磁気ヘッド
のコアとなり、非磁性膜11のギャップスペーサ部11
aが磁気へラドの作動ギャップとなる。なお、非磁性基
板10aに始めに形成した非磁性膜1コは、巻線窓位置
部分101)については、単に、巻ItQ:g位置を示
すマークとして代能し、放電加工による穴あけの際取り
除かれるので、最終的にはギヤ/ブスベーサllaとし
て残るのみである。また、始めに形成する非磁性膜11
の輪郭形状については、第2L21に示した円形に限ら
ず、ギャップスペーサ部、および、巻線窓位置部をカバ
ーでさる広さがあればよい。
bの巻線窓13’と同位置、同形状で他力の非磁性基@
10 aに放電加工により穴をあけ、貫通した巻線窓
を形成する。その後、第7図に矢印で示すようにスライ
スして、第8図のごときヘッド単体15゛を得る。この
ヘッド単体15゛のヘッド先端面(図では上面)をR状
に研)?仕上げすれば、第9図に示すごとき薄膜積層型
磁気ヘッド15が得られる。なお、図示は省略したが、
巻線窓13の部分には巻線を施す。この藩B9.積層型
磁気ヘッド15においては、軟磁性膜12が磁気ヘッド
のコアとなり、非磁性膜11のギャップスペーサ部11
aが磁気へラドの作動ギャップとなる。なお、非磁性基
板10aに始めに形成した非磁性膜1コは、巻線窓位置
部分101)については、単に、巻ItQ:g位置を示
すマークとして代能し、放電加工による穴あけの際取り
除かれるので、最終的にはギヤ/ブスベーサllaとし
て残るのみである。また、始めに形成する非磁性膜11
の輪郭形状については、第2L21に示した円形に限ら
ず、ギャップスペーサ部、および、巻線窓位置部をカバ
ーでさる広さがあればよい。
上記の製造方法においで、−枚の非磁性基板10a上に
高飽和磁束密度の軟磁性膜12による磁気ヘッドコア、
およプ、ギャップスペーサllaを形成するものである
から、トラック幅位置合わせは自動的に社なわれており
、別工程でトラック幅位置合わせを行う必要はない。し
rこがって、多数個取りを甘う場合、実施例では6個取
りであるが、その数をさらに多くしても、従来のように
トラック幅位置合わせ1こ伴う精度上の開花は発生せず
、数の多い多数個取りが可能となる。また、多数個取り
が可能となることにより、1体の接合ブロック14にお
ける不要部分が相対的に少なくなるので、歩留りが向上
する。
高飽和磁束密度の軟磁性膜12による磁気ヘッドコア、
およプ、ギャップスペーサllaを形成するものである
から、トラック幅位置合わせは自動的に社なわれており
、別工程でトラック幅位置合わせを行う必要はない。し
rこがって、多数個取りを甘う場合、実施例では6個取
りであるが、その数をさらに多くしても、従来のように
トラック幅位置合わせ1こ伴う精度上の開花は発生せず
、数の多い多数個取りが可能となる。また、多数個取り
が可能となることにより、1体の接合ブロック14にお
ける不要部分が相対的に少なくなるので、歩留りが向上
する。
また、接合作業が必要なのは、非磁性基板10a。
10bの広い面どうしを接着接合して第7図の接合ブロ
ック14を形成する工程のみであり、従来のような2つ
の半体を接合させてギャップ部を形成するごとき繁雑な
工程は不要であるから、工程が簡単であり、不良品発生
のおそれが少なく信頼性が向上する。また、…1記多数
個取りが可能であることと相まって、生産性が向上する
。
ック14を形成する工程のみであり、従来のような2つ
の半体を接合させてギャップ部を形成するごとき繁雑な
工程は不要であるから、工程が簡単であり、不良品発生
のおそれが少なく信頼性が向上する。また、…1記多数
個取りが可能であることと相まって、生産性が向上する
。
[発明の効果1
以上説明したように本発明の製造方法によれば、1枚の
非磁性基板上に高飽和磁束密度の軟磁性19りによる磁
気ヘッドコア、および、非磁性膜によるギャップスペー
サを形成するものであるから、トランク幅位置合わせは
自動的におこなわれ、トラ/り幅位置合わせに伴うも7
度」二の問題は生じない。
非磁性基板上に高飽和磁束密度の軟磁性19りによる磁
気ヘッドコア、および、非磁性膜によるギャップスペー
サを形成するものであるから、トランク幅位置合わせは
自動的におこなわれ、トラ/り幅位置合わせに伴うも7
度」二の問題は生じない。
したがって、容易に多数個取りを行うことかて゛さ、量
産化が可能である。また、歩留りも向上する。
産化が可能である。また、歩留りも向上する。
また、接合作業が必要なのは、非磁性基板の広い面どう
しを接合する工程のみで、従来のような2つの半体を接
合させてギヤツブ部を形成する繁雑な工程は不要である
から、製造工程が簡単であり、高い信頼性が得られる。
しを接合する工程のみで、従来のような2つの半体を接
合させてギヤツブ部を形成する繁雑な工程は不要である
から、製造工程が簡単であり、高い信頼性が得られる。
また、上記多数個数りが可能であることと相まって、生
産性が向上する。
産性が向上する。
第1図、第2図、第3図、第4図、第5図、第6図、第
7図、第8図、第9図は本発明の一実施例の製造方法を
説明するもので、その製造工程の各段階図、第10図は
従来例を示すもので薄膜積/[(型磁気ヘッドの斜視図
である。 10a、10b・・・非磁性基板、11・・・非磁性膜
、11a・・・ギャップスペーサ部、11.b・・・巻
線窓位置部、12・・・軟磁性112(磁気ヘッドコア
)、13’、13・・・巻線窓、15・・・薄膜積層型
磁気ヘッド。
7図、第8図、第9図は本発明の一実施例の製造方法を
説明するもので、その製造工程の各段階図、第10図は
従来例を示すもので薄膜積/[(型磁気ヘッドの斜視図
である。 10a、10b・・・非磁性基板、11・・・非磁性膜
、11a・・・ギャップスペーサ部、11.b・・・巻
線窓位置部、12・・・軟磁性112(磁気ヘッドコア
)、13’、13・・・巻線窓、15・・・薄膜積層型
磁気ヘッド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 非磁性基板上に形成された高飽和磁束密度の軟磁性膜に
よる磁気ヘッドコアを持つ薄膜積層型磁気ヘッドを製造
する薄膜積層型磁気ヘッドの製造方法において、 非磁性基板10a上に複数の非磁性膜11を点在するご
とく形成する工程と、 前記の各非磁性膜11をギャップスペーサ部11aおよ
び巻線窓位置部11bを残してエッチングする工程と、 前記非磁性基板10aの前記非磁性膜11がわの面に磁
気ヘッドコアとなる高飽和磁束密度の軟磁性膜12を形
成する工程と、 前記軟磁性膜12の厚みが所定のトラック幅となるまで
前記軟磁性膜12をエッチバックする工程と、 上記の加工を施した非磁性基板10aの軟磁性膜12が
わの面に、これと対となる巻線窓13′あきの非磁性基
板10bを、その巻線窓13′が非磁性基板10aの巻
線窓位置部11bに一致するように重ね合わせ、接着接
合して接合ブロック14を形成する工程と、 前記接合ブロック14の一方の非磁性基板10bの巻線
窓13′と同位置で他方の非磁性基板10aに穴をあけ
て、前記接合ブロック14に貫通した巻線窓13を形成
する工程と、 前記接合ブロック14をスライスして、ヘッド単体15
′を切り出し、そのヘッド先端面を曲面状に研摩し、次
いで、巻線窓13部分に巻線を施す工程と、 からなることを特徴とする薄膜積層型磁気ヘッドの製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20405786A JPS6361405A (ja) | 1986-08-30 | 1986-08-30 | 薄膜積層型磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20405786A JPS6361405A (ja) | 1986-08-30 | 1986-08-30 | 薄膜積層型磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6361405A true JPS6361405A (ja) | 1988-03-17 |
Family
ID=16484034
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20405786A Pending JPS6361405A (ja) | 1986-08-30 | 1986-08-30 | 薄膜積層型磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6361405A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980015470A (ko) * | 1996-08-21 | 1998-05-25 | 김광호 | 하드디스크 드라이버에 사용되는 자기헤드의 제조공정 |
US6795339B2 (en) * | 2002-02-18 | 2004-09-21 | Renesas Technology Corp. | Thin film magnetic memory device having communication function, and distribution management system and manufacturing step management system each using thereof |
-
1986
- 1986-08-30 JP JP20405786A patent/JPS6361405A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980015470A (ko) * | 1996-08-21 | 1998-05-25 | 김광호 | 하드디스크 드라이버에 사용되는 자기헤드의 제조공정 |
US6795339B2 (en) * | 2002-02-18 | 2004-09-21 | Renesas Technology Corp. | Thin film magnetic memory device having communication function, and distribution management system and manufacturing step management system each using thereof |
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