JPH06349223A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH06349223A JPH06349223A JP15794193A JP15794193A JPH06349223A JP H06349223 A JPH06349223 A JP H06349223A JP 15794193 A JP15794193 A JP 15794193A JP 15794193 A JP15794193 A JP 15794193A JP H06349223 A JPH06349223 A JP H06349223A
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- protective film
- bearing surface
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ポール部にダメージを与えることなく空気ベア
リング面に微細加工を施し得る磁気ヘッドの製造方法を
提供する。 【構成】磁気変換素子２を支持したスライダ１の空気ベ
アリング面に加工を施す工程を含む磁気ヘッドの製造方
法である。磁気変換素子２はポール部の端面が空気ベア
リング面の表面に現れている。まず、空気ベアリング面
の表面に、少なくともポール部の端面を覆うように、無
機質保護膜５を付着させる。次に、無機質保護膜５の上
に有機質レジスト６を付着させる。次に有機質レジスト
６を加工に必要なパターンとなるようにパターニングす
る。次に無機質保護膜５の上からスライダの空気ベアリ
ング面に前記加工を施す。次に、有機質レジスト６を除
去する。次に無機質保護膜５を除去する。
リング面に微細加工を施し得る磁気ヘッドの製造方法を
提供する。 【構成】磁気変換素子２を支持したスライダ１の空気ベ
アリング面に加工を施す工程を含む磁気ヘッドの製造方
法である。磁気変換素子２はポール部の端面が空気ベア
リング面の表面に現れている。まず、空気ベアリング面
の表面に、少なくともポール部の端面を覆うように、無
機質保護膜５を付着させる。次に、無機質保護膜５の上
に有機質レジスト６を付着させる。次に有機質レジスト
６を加工に必要なパターンとなるようにパターニングす
る。次に無機質保護膜５の上からスライダの空気ベアリ
ング面に前記加工を施す。次に、有機質レジスト６を除
去する。次に無機質保護膜５を除去する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドの製造方法
に関し、更に詳しくは、空気ベアリング面の微細加工に
適した磁気ヘッドの製造方法に係る。
に関し、更に詳しくは、空気ベアリング面の微細加工に
適した磁気ヘッドの製造方法に係る。
【０００２】
【従来の技術】この種の磁気ヘッドでは、ポール部のト
ラック方向幅設定、電磁変換特性改善または浮上姿勢改
善等のために、空気ベアリング面に微細加工を施す必要
を生じることがある。例えば、特開平４ー２７４０１４
号、４ー２７４００８号公報では、空気ベアリング面に
ポール部の幅方向または厚み（長さ）方向の端部に微小
深さの凹部を設け、ポール部のトラック方向幅を高精度
で設定し、または電磁変換特性を改善する技術を開示し
ている。
ラック方向幅設定、電磁変換特性改善または浮上姿勢改
善等のために、空気ベアリング面に微細加工を施す必要
を生じることがある。例えば、特開平４ー２７４０１４
号、４ー２７４００８号公報では、空気ベアリング面に
ポール部の幅方向または厚み（長さ）方向の端部に微小
深さの凹部を設け、ポール部のトラック方向幅を高精度
で設定し、または電磁変換特性を改善する技術を開示し
ている。
【０００３】また、特開昭６１ー２７８０８７号公報、
実開昭５７ー１２２０６３号（実願昭５６ー５８１８
号）、米国特許第４，６７３，９９６号明細書、米国特
許第４、８７０、５１９号明細書等に開示されたＴＰＣ
（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｃｏｎｔ
ｏｕｒ 横方向加圧形状）型スライダでは、レール部の
側部に微小ステップ部を設け、ロータリ・アクチュエー
タ式磁気ディスク装置に組み込んだ場合、スキュー角の
大きい位置において、横方向から流入する空気流によ
り、ステップ部に揚力動圧を発生させ、これによってス
キュー角の大きい位置での浮上量低下を防ぎ、全体とし
て一定の浮上量を確保すると共に、浮上姿勢を安定化で
きるようにしてある。
実開昭５７ー１２２０６３号（実願昭５６ー５８１８
号）、米国特許第４，６７３，９９６号明細書、米国特
許第４、８７０、５１９号明細書等に開示されたＴＰＣ
（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｃｏｎｔ
ｏｕｒ 横方向加圧形状）型スライダでは、レール部の
側部に微小ステップ部を設け、ロータリ・アクチュエー
タ式磁気ディスク装置に組み込んだ場合、スキュー角の
大きい位置において、横方向から流入する空気流によ
り、ステップ部に揚力動圧を発生させ、これによってス
キュー角の大きい位置での浮上量低下を防ぎ、全体とし
て一定の浮上量を確保すると共に、浮上姿勢を安定化で
きるようにしてある。
【０００４】空気ベアリング面に上述のような微細加工
を施す手段として、空気ベアリング面に、有機質レジス
トを付着させ、この有機質レジストを、微細加工に対応
したパターンとなるようにパターンニングし、次にパタ
ーンニングされて残った有機質レジストを保護膜とし
て、例えばイオンミリング等による微細加工を施す手段
がとられている。保護膜として残っていた有機質レジス
トは化学的エッチングによって微細加工終了後に除去さ
れる。
を施す手段として、空気ベアリング面に、有機質レジス
トを付着させ、この有機質レジストを、微細加工に対応
したパターンとなるようにパターンニングし、次にパタ
ーンニングされて残った有機質レジストを保護膜とし
て、例えばイオンミリング等による微細加工を施す手段
がとられている。保護膜として残っていた有機質レジス
トは化学的エッチングによって微細加工終了後に除去さ
れる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した加工方法の問
題点は、保護膜として残っていた有機質レジストを、化
学的エッチングによって除去するときに、空気ベアリン
グ面に現れているポール部の端面が、有機質レジストを
除去する化学的エッチング液によるダメージを受けてし
まうことである。ポール部に対するダメージは、電磁変
換特性の劣化、変動を招く。
題点は、保護膜として残っていた有機質レジストを、化
学的エッチングによって除去するときに、空気ベアリン
グ面に現れているポール部の端面が、有機質レジストを
除去する化学的エッチング液によるダメージを受けてし
まうことである。ポール部に対するダメージは、電磁変
換特性の劣化、変動を招く。
【０００６】また、ミリングに伴って、治具材もしくは
スライダ材等の周辺材料から発生する微小飛散物が、空
気ベアリング面の側面に付着し、有機質レジストを除去
した後も、空気ベアリング面より上方に突出する付着物
として残る。この付着物を除去するため、空気ベアリン
グ面の再研磨が必要であった。
スライダ材等の周辺材料から発生する微小飛散物が、空
気ベアリング面の側面に付着し、有機質レジストを除去
した後も、空気ベアリング面より上方に突出する付着物
として残る。この付着物を除去するため、空気ベアリン
グ面の再研磨が必要であった。
【０００７】そこで、本発明の課題は、ポール部にダメ
ージを与えることなく空気ベアリング面に微細加工を施
し得る磁気ヘッドの製造方法を提供することである。
ージを与えることなく空気ベアリング面に微細加工を施
し得る磁気ヘッドの製造方法を提供することである。
【０００８】本発明のもう１つの課題は、ミリングに伴
って発生する微小飛散物付着を確実に除去でき、従って
空気ベアリング面の再研磨の不要な磁気ヘッドの製造
方法を提供することである。
って発生する微小飛散物付着を確実に除去でき、従って
空気ベアリング面の再研磨の不要な磁気ヘッドの製造
方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述した課題解決のた
め、本発明は、磁気変換素子を支持したスライダの空気
ベアリング面に加工を施す工程を含む磁気ヘッドの製造
方法であって、前記磁気変換素子は、ポール部を含み、
前記ポール部の端面が前記空気ベアリング面の表面に現
れており、前記工程は、前記空気ベアリング面の表面
に、少なくとも前記ポール部の端面を覆うように、無機
質保護膜を付着させた後、前記無機質保護膜の上に有機
質レジストを付着させ、次に前記有機質レジストを前記
加工に必要なパターンとなるようにパターニングし、次
に前記無機質保護膜の上から前記スライダの空気ベアリ
ング面に前記加工を施した後、前記有機質レジストを除
去し、次に必要により前記無機質保護膜を除去する工程
である。
め、本発明は、磁気変換素子を支持したスライダの空気
ベアリング面に加工を施す工程を含む磁気ヘッドの製造
方法であって、前記磁気変換素子は、ポール部を含み、
前記ポール部の端面が前記空気ベアリング面の表面に現
れており、前記工程は、前記空気ベアリング面の表面
に、少なくとも前記ポール部の端面を覆うように、無機
質保護膜を付着させた後、前記無機質保護膜の上に有機
質レジストを付着させ、次に前記有機質レジストを前記
加工に必要なパターンとなるようにパターニングし、次
に前記無機質保護膜の上から前記スライダの空気ベアリ
ング面に前記加工を施した後、前記有機質レジストを除
去し、次に必要により前記無機質保護膜を除去する工程
である。
【００１０】
【作用】空気ベアリング面の表面に、無機質保護膜を付
着させた後、無機質保護膜の上に有機質レジストを付着
させ、次に有機質レジストを加工に必要なパターンとな
るようにパターニングすることにより、微細加工に必要
な高精度のパターンが形成される。
着させた後、無機質保護膜の上に有機質レジストを付着
させ、次に有機質レジストを加工に必要なパターンとな
るようにパターニングすることにより、微細加工に必要
な高精度のパターンが形成される。
【００１１】次に、無機質保護膜の上からスライダの空
気ベアリング面に加工を施した後、有機質レジストを除
去する。ここで、空気ベアリング面の表面に、少なくと
もポール部の端面を覆うように、無機質保護膜を付着さ
せてあるから、ポール部の端面が有機質レジストを除去
する化学的エッチング液によってダメージを受けるの
を、無機質保護膜によって防止できる。
気ベアリング面に加工を施した後、有機質レジストを除
去する。ここで、空気ベアリング面の表面に、少なくと
もポール部の端面を覆うように、無機質保護膜を付着さ
せてあるから、ポール部の端面が有機質レジストを除去
する化学的エッチング液によってダメージを受けるの
を、無機質保護膜によって防止できる。
【００１２】この後、無機質保護膜を除去する。無機質
保護膜は、有機質レジストを異なって、化学的エッチン
グ液ではなく、例えばアッシング工程によって除去でき
る。このため、無機質保護膜除去時にポール部の端面が
化学的エッチング液によってダメージを受ける余地がな
い。
保護膜は、有機質レジストを異なって、化学的エッチン
グ液ではなく、例えばアッシング工程によって除去でき
る。このため、無機質保護膜除去時にポール部の端面が
化学的エッチング液によってダメージを受ける余地がな
い。
【００１３】また、ミリングに伴って、治具材もしくは
スライダ材等の周辺材料から発生した微小飛散物が、空
気ベアリング面の側面に付着したとしても、この再付着
物は無機質保護膜を除去する時に除去される。このた
め、ミリングに伴って発生する微小飛散物付着を確実に
除去でき、空気ベアリング面の再研磨が不要である。
スライダ材等の周辺材料から発生した微小飛散物が、空
気ベアリング面の側面に付着したとしても、この再付着
物は無機質保護膜を除去する時に除去される。このた
め、ミリングに伴って発生する微小飛散物付着を確実に
除去でき、空気ベアリング面の再研磨が不要である。
【００１４】無機質保護膜は必ず除去しなければならな
いものではない。磁気変換素子が誘導型のものである場
合は、スペーシングロスを減少させるため除去するが、
磁気変換素子が磁気抵抗効果素子である磁気ヘッドにお
いては、無機質保護膜は除去することなく保護膜として
残すことができる。
いものではない。磁気変換素子が誘導型のものである場
合は、スペーシングロスを減少させるため除去するが、
磁気変換素子が磁気抵抗効果素子である磁気ヘッドにお
いては、無機質保護膜は除去することなく保護膜として
残すことができる。
【００１５】
【実施例】図１は本発明に係る製造方法が適用され得る
磁気ヘッドの斜視図である。図はＴＰＣ型スライダを有
する磁気ヘッドを示している。図において、寸法は誇張
されている。図を参照すると、スライダ１は媒体対向面
側にレール部１０１、１０２を有している。レール部１
０１、１０２のそれぞれは、媒体対向面側に、空気ベア
リング面１０３と、第１のステップ部１０４と、第２の
ステップ部１０５とを有している。第１のステップ部１
０４は、空気ベアリング面１０３の幅方向の一端縁に、
空気ベアリング面１０３の長さ方向に沿って設けられて
おり、第２のステップ部１０５は空気ベアリング面１０
３の幅方向の他端縁に、空気ベアリング面１０３の長さ
方向に沿って設けられている。
磁気ヘッドの斜視図である。図はＴＰＣ型スライダを有
する磁気ヘッドを示している。図において、寸法は誇張
されている。図を参照すると、スライダ１は媒体対向面
側にレール部１０１、１０２を有している。レール部１
０１、１０２のそれぞれは、媒体対向面側に、空気ベア
リング面１０３と、第１のステップ部１０４と、第２の
ステップ部１０５とを有している。第１のステップ部１
０４は、空気ベアリング面１０３の幅方向の一端縁に、
空気ベアリング面１０３の長さ方向に沿って設けられて
おり、第２のステップ部１０５は空気ベアリング面１０
３の幅方向の他端縁に、空気ベアリング面１０３の長さ
方向に沿って設けられている。
【００１６】レール部１０１、１０２は、２本備えら
れ、それぞれが間隔を隔てて平行に設けられている。第
１のステップ部１０４は、レール部１０１、１０２が互
いに向き合う内側に設けられており、第２のステップ部
１０５は外側に設けられている。 第１のステップ部１
０４及び第２のステップ部１０５は、深さｄが１μｍ≧
ｄ≧０．６μｍを満たすような微小寸法に形成される。
本発明は、このような微小寸法を持つ第１のステップ部
１０４及び第２のステップ部１０５の形成に適用でき
る。
れ、それぞれが間隔を隔てて平行に設けられている。第
１のステップ部１０４は、レール部１０１、１０２が互
いに向き合う内側に設けられており、第２のステップ部
１０５は外側に設けられている。 第１のステップ部１
０４及び第２のステップ部１０５は、深さｄが１μｍ≧
ｄ≧０．６μｍを満たすような微小寸法に形成される。
本発明は、このような微小寸法を持つ第１のステップ部
１０４及び第２のステップ部１０５の形成に適用でき
る。
【００１７】磁気変換素子２は、誘導型、ＭＲ（磁気抵
抗効果）型もしくはそれらの組み合わせ等が用いられ
る。これらの素子は、ＩＣ製造テクノロジと同様のプロ
セスによって形成された薄膜素子によって構成できる。
また、面内記録方式に限らず、垂直記録方式のものであ
ってもよい。磁気変換素子２は、ポール部Ｐ１、Ｐ２を
含み、ポール部Ｐ１、Ｐ２の端面が空気ベアリング面１
０３の表面に現れている。２１、２２は取り出し電極で
ある。
抗効果）型もしくはそれらの組み合わせ等が用いられ
る。これらの素子は、ＩＣ製造テクノロジと同様のプロ
セスによって形成された薄膜素子によって構成できる。
また、面内記録方式に限らず、垂直記録方式のものであ
ってもよい。磁気変換素子２は、ポール部Ｐ１、Ｐ２を
含み、ポール部Ｐ１、Ｐ２の端面が空気ベアリング面１
０３の表面に現れている。２１、２２は取り出し電極で
ある。
【００１８】次に、図１に示した磁気ヘッドについて、
本発明を適用した具体例を、図２〜図１１を参照して説
明する。
本発明を適用した具体例を、図２〜図１１を参照して説
明する。
【００１９】まず、図２に示すように、治具３の上に磁
気ヘッド４を配置する。磁気ヘッド４のそれぞれは、治
具３の上に配列され、かつ、一面が接着等の手段によっ
て固定されている。接着面とは反対側に現れる空気ベア
リング面１０３は既に研磨工程の終了した平面度の高い
面となっている。治具３は後で述べるフォトリソグラフ
ィによるパターン形成の準備のために、露光治具（図示
しない）に取り付けておくことが望ましい。
気ヘッド４を配置する。磁気ヘッド４のそれぞれは、治
具３の上に配列され、かつ、一面が接着等の手段によっ
て固定されている。接着面とは反対側に現れる空気ベア
リング面１０３は既に研磨工程の終了した平面度の高い
面となっている。治具３は後で述べるフォトリソグラフ
ィによるパターン形成の準備のために、露光治具（図示
しない）に取り付けておくことが望ましい。
【００２０】次に、図３に示すように、空気ベアリング
面１０３の表面に、少なくともポール部Ｐ１、Ｐ２の端
面を覆うように、無機質保護膜５を付着させる。無機質
保護膜５の付着の様子は図１０にも図示されている。無
機質保護膜５はスパッタ等の薄膜形成技術によって付着
させることができる。無機質保護膜５としてはダイヤモ
ンド．ライク．カーボンＤ．Ｌ．Ｃ．が適している。
面１０３の表面に、少なくともポール部Ｐ１、Ｐ２の端
面を覆うように、無機質保護膜５を付着させる。無機質
保護膜５の付着の様子は図１０にも図示されている。無
機質保護膜５はスパッタ等の薄膜形成技術によって付着
させることができる。無機質保護膜５としてはダイヤモ
ンド．ライク．カーボンＤ．Ｌ．Ｃ．が適している。
【００２１】次に、図４に示すように、無機質保護膜５
の上に有機質レジスト６を付着させる。有機質レジスト
６の付着の様子は、図１１にも図示されている。有機質
レジスト６は一般には感光性レジストが用いられる。ネ
ガタイプ、ポジタイプの何れの感光性レジストを使用し
てもよいが、実施例ではネガタイプの感光性レジストを
用いた場合を例にとって説明する。ネガタイプの有機質
レジスト６としては、商品名４７０６（デュポン社製）
がある。これはフィルムの形で供給されるので、磁気ヘ
ッド４の上に配置した後、加熱等の手段によって付着さ
せる。
の上に有機質レジスト６を付着させる。有機質レジスト
６の付着の様子は、図１１にも図示されている。有機質
レジスト６は一般には感光性レジストが用いられる。ネ
ガタイプ、ポジタイプの何れの感光性レジストを使用し
てもよいが、実施例ではネガタイプの感光性レジストを
用いた場合を例にとって説明する。ネガタイプの有機質
レジスト６としては、商品名４７０６（デュポン社製）
がある。これはフィルムの形で供給されるので、磁気ヘ
ッド４の上に配置した後、加熱等の手段によって付着さ
せる。
【００２２】次に、図５に示すように、有機質レジスト
６の上に露光用マスク７を配置し、露光する。露光用マ
スク７は加工に必要なパターンを有する。この実施例で
は、有機質レジスト６として、ネガタイプの感光性レジ
ストを使用し、ＴＰＣ型スライダを得る具体例であるの
で、露光用マスク７は有機質レジスト６の上に配置され
たとき、ＴＰＣ型スライダの第１のステップ部及び第２
のステップ部（図１参照）によって挟まれた部分のみが
露光されるようなパターンを有する。
６の上に露光用マスク７を配置し、露光する。露光用マ
スク７は加工に必要なパターンを有する。この実施例で
は、有機質レジスト６として、ネガタイプの感光性レジ
ストを使用し、ＴＰＣ型スライダを得る具体例であるの
で、露光用マスク７は有機質レジスト６の上に配置され
たとき、ＴＰＣ型スライダの第１のステップ部及び第２
のステップ部（図１参照）によって挟まれた部分のみが
露光されるようなパターンを有する。
【００２３】露光工程の後、現像すると、図６に示すよ
うに、ＴＰＣ型スライダの第１のステップ部１０４及び
第２のステップ部１０５によって挟まれた部分のみに有
機質レジスト６０が残る。第１のステップ部及び第２の
ステップ部に対応する部分は、有機質レジスト６０が除
去され、無機質保護膜５が表面に現れている。このよう
にして、有機質レジスト６０は、ＴＰＣ型スライダの第
１のステップ部及び第２のステップ部の加工に必要なパ
ターンとなるようにパターニングされる。
うに、ＴＰＣ型スライダの第１のステップ部１０４及び
第２のステップ部１０５によって挟まれた部分のみに有
機質レジスト６０が残る。第１のステップ部及び第２の
ステップ部に対応する部分は、有機質レジスト６０が除
去され、無機質保護膜５が表面に現れている。このよう
にして、有機質レジスト６０は、ＴＰＣ型スライダの第
１のステップ部及び第２のステップ部の加工に必要なパ
ターンとなるようにパターニングされる。
【００２４】次に、図７に示すように、無機質保護膜５
の上からスライダ１の空気ベアリング面１０３に加工を
施す。この加工は、イオンミリング等の手段によって、
第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５を
必要な深さとなるように加工する工程である。
の上からスライダ１の空気ベアリング面１０３に加工を
施す。この加工は、イオンミリング等の手段によって、
第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５を
必要な深さとなるように加工する工程である。
【００２５】次に、図８に示すように、有機質レジスト
６０を除去する。有機質レジスト６０の除去は化学的エ
ッチング液を用いて行う。ここで、空気ベアリング面１
０３の表面に、少なくともポール部Ｐ１、Ｐ２（図１参
照）の端面を覆うように、無機質保護膜５を付着させて
あるから、ポール部Ｐ１、Ｐ２の端面が有機質レジスト
６０を除去する化学的エッチング液によってダメージを
受けるのを、無機質保護膜５によって防止できる。
６０を除去する。有機質レジスト６０の除去は化学的エ
ッチング液を用いて行う。ここで、空気ベアリング面１
０３の表面に、少なくともポール部Ｐ１、Ｐ２（図１参
照）の端面を覆うように、無機質保護膜５を付着させて
あるから、ポール部Ｐ１、Ｐ２の端面が有機質レジスト
６０を除去する化学的エッチング液によってダメージを
受けるのを、無機質保護膜５によって防止できる。
【００２６】この後、図９に示すように、無機質保護膜
５を除去する。無機質保護膜５は、有機質レジストと異
なって、化学的エッチング液ではなく、例えばアッシン
グ工程によって除去できる。このため、無機質保護膜５
の除去時にポール部Ｐ１、Ｐ２（図１参照）の端面が化
学的エッチング液によってダメージを受ける余地がな
い。
５を除去する。無機質保護膜５は、有機質レジストと異
なって、化学的エッチング液ではなく、例えばアッシン
グ工程によって除去できる。このため、無機質保護膜５
の除去時にポール部Ｐ１、Ｐ２（図１参照）の端面が化
学的エッチング液によってダメージを受ける余地がな
い。
【００２７】また、仮に、ミリングに伴って、治具材も
しくはスライダ材等の周辺材料から発生した微小飛散物
が空気ベアリング面１０３の側面に付着したとしても、
この再付着物は無機質保護膜５を除去する時に除去され
る。このため、ミリングに伴って発生する微小飛散物付
着を確実に除去でき、空気ベアリング面１０３の再研磨
が不要である。
しくはスライダ材等の周辺材料から発生した微小飛散物
が空気ベアリング面１０３の側面に付着したとしても、
この再付着物は無機質保護膜５を除去する時に除去され
る。このため、ミリングに伴って発生する微小飛散物付
着を確実に除去でき、空気ベアリング面１０３の再研磨
が不要である。
【００２８】本実施例は、ＴＰＣ型スライダを得る場合
について、図面を参照して具体的に説明したが、空気ベ
アリング面１０３に微細加工を施す必要のある場合に広
く適用できる。例えば、ポール部のトラック方向幅を高
精度で設定する場合や電磁変換特性改善のために、ポー
ル部またはその付近に微小深さの凹部を加工を施す場合
等に用いることができる。
について、図面を参照して具体的に説明したが、空気ベ
アリング面１０３に微細加工を施す必要のある場合に広
く適用できる。例えば、ポール部のトラック方向幅を高
精度で設定する場合や電磁変換特性改善のために、ポー
ル部またはその付近に微小深さの凹部を加工を施す場合
等に用いることができる。
【００２９】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果を得ることができる。 （ａ）ポール部にダメージを与えることなく空気ベアリ
ング面に微細加工を施し得る磁気ヘッドの製造方法を提
供することができる。 （ｂ）ミリングに伴って発生する微小飛散物付着を確実
に除去でき、従って 空気ベアリング面の再研磨の不要
な磁気ヘッドの製造方法を提供することができる。
のような効果を得ることができる。 （ａ）ポール部にダメージを与えることなく空気ベアリ
ング面に微細加工を施し得る磁気ヘッドの製造方法を提
供することができる。 （ｂ）ミリングに伴って発生する微小飛散物付着を確実
に除去でき、従って 空気ベアリング面の再研磨の不要
な磁気ヘッドの製造方法を提供することができる。
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの斜視図である。
【図２】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の一工程を
示す図である。
示す図である。
【図３】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の次工程を
示す図である。
示す図である。
【図４】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の次工程を
示す図である。
示す図である。
【図５】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の次工程を
示す図である。
示す図である。
【図６】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の次工程を
示す図である。
示す図である。
【図７】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の次工程を
示す図である。
示す図である。
【図８】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の次工程を
示す図である。
示す図である。
【図９】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の次工程を
示す図である。
示す図である。
【図１０】図３に示した本発明に係る磁気ヘッドの製造
方法の工程を示す斜視図である。
方法の工程を示す斜視図である。
【図１１】図４に示した本発明に係る磁気ヘッドの製造
方法の工程を示す斜視図である。
方法の工程を示す斜視図である。
１ スライダ １０１、１０２ レール部 １０３ 空気ベアリング面 １０５ 第１のステップ部 １０６ 第２のステップ部 ２ 磁気変換素子 ４ 磁気ヘッド ５ 無機質保護膜 ６ 有機質レジスト
Claims (3)
- 【請求項１】 磁気変換素子を支持したスライダの空気
ベアリング面に加工を施す工程を含む磁気ヘッドの製造
方法であって、 前記磁気変換素子は、ポール部を含み、前記ポール部の
端面が前記空気ベアリング面の表面に現れており、 前記工程は、前記空気ベアリング面の表面に、少なくと
も前記ポール部の端面を覆うように、無機質保護膜を付
着させた後、前記無機質保護膜の上に有機質レジストを
付着させ、次に前記有機質レジストを前記加工に必要な
パターンとなるようにパターニングし、次に前記無機質
保護膜の上から前記スライダの空気ベアリング面に前記
加工を施した後、前記有機質レジストを除去し、次に必
要により前記無機質保護膜を除去する工程である磁気ヘ
ッドの製造方法。 - 【請求項２】 前記無機質保護膜は、ダイヤモンド．ラ
イク．カーボンである請求項１に記載の磁気ヘッドの製
造方法。 - 【請求項３】 前記工程は、前記空気ベアリング面の幅
方向の少なくとも一端縁に、前記空気ベアリング面の長
さ方向に沿ってステップを形成する工程である請求項１
または２に記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15794193A JPH06349223A (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15794193A JPH06349223A (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06349223A true JPH06349223A (ja) | 1994-12-22 |
Family
ID=15660819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15794193A Pending JPH06349223A (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06349223A (ja) |
-
1993
- 1993-06-03 JP JP15794193A patent/JPH06349223A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020911 |